JPH11109372A - 液晶表示素子用基板の製造方法、液晶表示素子の製造方法、液晶表示素子用基板及び液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スペ−サ機能としての機械的強度が十分に得
られるようにし、スペ−サの欠け、剥がれなどが生じな
いようにすることにある。 【解決手段】 透明基板２０上にテーパ角度が８５゜以
下のスペ−サ３を形成し、これらを覆うように配向膜９
を形成し、ラビング処理する。これにより、スペ−サ３
はスペ−サ機能としての機械的強度が十分に得られ、ス
ペ−サの欠け、剥がれなどが生じないようにすることが
できる。る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶を挟持する基
板間の距離を一定に保つためのスペーサを備えた液晶表
示素子用基板の製造方法、液晶表示素子の製造方法、液
晶表示素子用基板及び液晶表示素子液晶表示素子に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示素子は、例えば電極を
有する２枚のガラス基板の間に液晶を挟持し、２枚の基
板の周囲を液晶封入口を除いて接着剤で固定し、その液
晶封入口を封止材で封止して構成される。

【０００３】この２枚の基板間の距離を一定に保つため
のスペーサには、例えば粒径の均一なプラスティックビ
ーズ等を基板間に散在させたものがある。この中でカラ
ー表示用の液晶表示素子は、２枚のガラス基板の内、１
枚にＲＧＢの着色層から構成されたカラーフィルタが形
成されている。

【０００４】例えば、カラーの単純マトリックス型液晶
表示素子では、横（Ｙ）方向に帯状にパタ−ニングされ
たＹ基板を有するＹ基板と縦（Ｘ）方向に帯状にパタ−
ニングされたＸ電極の下に着色層を有するＸ基板とを、
Ｙ電極とＸ電極がほぼ直交するように対向配置し、その
間に液晶組成物を挟持した構成からなる。

【０００５】液晶表示素子の表示方式には、例えばＴＮ
型、ＳＴ型、ＧＨ型、あるいはＥＣＢ型や強誘電性液晶
などが用いられる。また封止材としては，例えば熱また
は、紫外線硬化型のアクリル系またはエポキシ系の接着
剤などが用いられる。

【０００６】一方、カラーのアクティブマトリックス型
液晶表示素子には、例えばアモルファスシリコン（ａ−
Ｓi)を半導体層とした薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）とそ
れに接続された画素電極、信号線および走査線が形成さ
れたアクティブマトリックス基板であるＴＦＴアレイ基
板と、それに対向配置された対向電極とを有し、ＲＧＢ
カラーフィルタを対向基板上に形成し、ＴＦＴアレイ基
板上から対向基板へ電圧を印加する電極転移材（トラン
スファ）として銀ペースト等を画面の周辺に配置し、こ
の電極転移材で２枚の基板を電気的に接続し、この２枚
の基板間に液晶組成物を挟持した構成からなるものがあ
る。

【０００７】この種の液晶表示素子では、２枚の基板の
液晶と隣接しない側に偏光板を貼設し、光シャッタとし
て機能させることにより、カラー画像を表示することが
できる。

【０００８】以上に説明した液晶表示素子では、基板間
を１〜１０μｍ程度の距離に制御するために、表示画面
の面内に樹脂やガラスあるいはグラスファイバーなどか
らなるスペーサ粒子を分散分布するのが−般的である。

【０００９】しかしながら、従来の液晶表示装置ではス
ペーサ粒子が液晶とは異なる光学異方性を示し、画素上
のスペーサ粒子から光が漏れ、また、スぺーサ粒子の周
辺の液晶がスペーサ粒子の影響により配向等が歪むた
め、同様に光が漏れることがあり問題になる。

【００１０】また、従来の液晶表示装置では、スペーサ
粒子は非常に微細なため、スペーサ粒子の密度を−定に
分散散布することは技術的に難しく、密度のばらつきに
より基板間距離が部分的にばらつきが生じてしまい、複
数個の粒子が凝集することにより表示不良になるという
問題も生じることがある。

【００１１】さらに従来の液晶表示装置では、基板上よ
り外的圧力が加わる際に粒子が移動することにより、基
板表面の配向膜や画素電極などを傷つけ表示不能となっ
たり、その際スペーサ粒子が移動してスペーサ粒子密度
が疎となり板間距離が縮小することにより、液晶による
表示が著しく乱れる等の問題が生じることもある。

【００１２】これらの点を解決する方法として、例えば
特開平４−９３９２４号公報に記載されているもので
は、スペーサを分散分布する方法によらず、スペーサを
基板に直接形成する液晶表装置が開示されている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スペー
サを基板に直接形成した場合であってもスペーサの形状
によって様々な問題が発生する。

【００１４】例えば、テーパ角度が９０゜の場合には、
配向膜をラビング処理する際、スペーサ上部の配向膜が
剥がれ、いわゆる異物不良が発生するという問題が生じ
る。一方、スペーサの断面形状が逆テーパ形状の場合に
は以下のような問題が生じる。なお、逆テーパ形状と
は、図４に示すように、基板１に対して平行な方向のス
ペーサ３の幅が、基板１からの距離が離れるにつれ大き
くなる形状をいう。

【００１５】（１）逆テーパ形状故、スペーサの剥がれ
や変形が起こり易くなる。

【００１６】（２）液晶を一定方向に配向させるための
配向膜塗布の際には、逆テーパ部に空気が入り込み、焼
成中に空気が膨張し配向膜材料が破裂し飛び散り、これ
による配向不良を起こす。

【００１７】（３）配向膜塗布の際には、配向膜材料が
逆テーパ部に入り込むことにより、逆テーパ部の配向膜
材料の厚さが厚くなり、焼成中に配向膜材料の表面が先
に固まり、未硬化部分の溶剤が熱により気化・膨張して
配向膜材料が破裂または飛び散り、配向不良をひき起こ
す。

【００１８】（４）配向膜をラビング処理する際は、基
板に直接形成したスペーサに邪魔されて、ラビング処理
するための部材がスペーサの影になる部分、すなわちス
ペーサの周囲に接触できないことになり、ラビング処理
されなかった部分において液晶分子が所定方向に配向で
きなくなるという問題が生じる。

【００１９】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであって、信頼性が高く、歩留まりがよく、し
かも高品位な画像表示が可能な液晶表示素子用基板の製
造方法、液晶表示素子の製造方法、液晶表示素子用基板
及び液晶表示素子を提供することを目的とする。

【００２０】本発明のさらに他の目的は、工程を増やさ
ずに上記目的を達成できる液晶表示素子用基板の製造方
法、液晶表示素子の製造方法、液晶表示素子用基板及び
液晶表示素子を提供することを目的とする。

【００２１】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、請求項１記載に係る本発明の液晶表示素子用基板の
製造方法は、基板上にテーパ形状のスペーサを形成する
工程と、前記スペーサが形成された基板上に配向膜を形
成する工程と、前記基板上に形成された配向膜表面をラ
ビングする工程とを具備する。

【００２２】請求項２記載に係る本発明では、請求項１
記載の液晶表示素子用基板の製造方法であって、前記ス
ペ−サのテ−パ角度が、８５゜より小さいことを特徴と
する。 請求項３記載に係る本発明では、請求項１また
は２記載の液晶表示素子用基板の製造方法であって、前
記スペ−サが、前記基板上に形成されたカラ−フイルタ
と同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に形成
されることを特徴とする。 請求項４記載に係る本発明
では、請求項１または２記載の液晶表示素子用基板の製
造方法であって、前記スペーサが、前記基板上に形成さ
れた遮光層と同一材料で、かつ、当該遮光層と同時に形
成されることを特徴とする。

【００２３】請求項５記載に係る本発明の液晶表示素子
の製造方法は、第１の基板上にテーパ形状のスペーサを
形成する工程と、前記スペーサが形成された第１の基板
上に配向膜を形成する工程と、前記第１の基板上に形成
された配向膜表面をラビングする工程と、前記スペーサ
の形成された第１の基板上に第２の基板を対向配置する
工程と、対向配置された前記第１の基板と前記第２の基
板間に液晶を封入する工程とを具備する。

【００２４】請求項６記載に係る本発明では、請求項５
記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記スペ−サ
のテ−パ角度が、８５゜より小さいことを特徴とする。

【００２５】請求項７記載に係る本発明では、請求項５
または６記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記
スペ−サが、前記第１の基板上に形成されたカラ−フイ
ルタと同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に
形成されることを特徴とする。 請求項８記載に係る本
発明では、請求項５または６記載の液晶表示素子の製造
方法であって、前記スペーサが、前記基板上に形成され
た遮光層と同一材料で、かつ、当該遮光層と同時に形成
されることを特徴とする。

【００２６】請求項９記載に係る本発明の液晶表示素子
用基板は、基板と、前記基板上に形成されたテーパ形状
のスペーサと、前記基板及び前記スペーサを覆うように
形成され、表面がラビング処理された配向膜とを具備す
る。

【００２７】請求項１０記載に係る本発明では、請求項
９記載の液晶表示素子用基板であって、前記スペ−サの
テ−パ角度が、８５゜より小さいことを特徴とする。

【００２８】請求項１１記載に係る本発明では、請求項
９または１０記載の液晶表示素子用基板であって、前記
スペ−サが、前記基板上に形成されたカラ−フイルタと
同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に形成さ
れていることを特徴とする。請求項１２記載に係る本発
明では、請求項９または１０記載の液晶表示素子用基板
であって、前記スペーサが、前記基板上に形成された遮
光層と同一材料で、かつ、当該遮光層と同時に形成され
ていることを特徴とする。

【００２９】請求項１３記載に係る本発明の液晶表示素
子は、第１の基板と、前記第１の基板上に形成されたテ
ーパ形状のスペーサと、前記基板及び前記スペーサを覆
うように形成され、表面がラビング処理された配向膜
と、前記スペーサの形成された第１の基板上に対向配置
された第２の基板と、前記対向配置された前記第１の基
板と前記第２の基板間との間に封入された液晶とを具備
する。

【００３０】請求項１４記載に係る本発明では、請求項
１３記載の液晶表示素子であって、前記スペ−サのテ−
パ角度が、８５゜より小さいことを特徴とする。

【００３１】請求項１５記載に係る本発明では、請求項
１３または１４記載の液晶表示素子であって、前記スペ
−サが、前記基板上に形成されたカラ−フイルタと同一
材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に形成されて
いることを特徴とする。

【００３２】請求項１６記載に係る本発明では、請求項
１３または１４記載の液晶表示素子であって、前記スペ
ーサが、前記基板上に形成された遮光層と同一材料で、
かつ、当該遮光層と同時に形成されていることを特徴と
する。

【００３３】本発明にいうテーパ形状とは、図２に示す
ように、いわゆる順テーパ形状、すなわち基板１に対し
て平行な方向のスペーサ３の幅が、基板１からの距離が
離れるにつれ小さくなる形状をいう。

【００３４】本発明では、スペーサがテーパ形状である
ので、スペ−サ機能としての機械的強度が十分得られ、
スペ−サの最も機械的強度が要求される配向膜の配向処
理としてのラビング処理においてもスペ−サの欠け、剥
がれの発生しない十分な強度が得られるようになる。

【００３５】また液晶を一定方向に配向させるための配
向膜塗布の際には、スペ−サの断面形状が順テ−パにな
っているため、テ−パ部に空気が入り込むことにより、
焼成中に空気が膨脹して配向膜材料が破裂して飛び散る
ことによる配向不良が起こらない。

【００３６】また、配向膜をラビング処理する際、影と
なる領域を小さくすることができる。また、順テーパと
なっているためラビングの際の応力がかかりにくくなる
ので、ラビング処理の際の配向膜剥がれが発生しないよ
うにすることができる。

【００３７】従って、本発明によれば、信頼性が高く、
歩留まりがよく、しかも高品位な画像表示が可能な液晶
表示素子を実現できる。

【００３８】また、本発明では、当該スペーサをカラー
フィルタや遮光層と同一材料で、しかも同時に形成する
ことで、従来の製造工程に必要であったスペ−サの分散
散布工程を少なくすることができ、製造工程をより軽減
することができる。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。

【００４０】図１は本発明に係る一実施形態の液晶表示
素子の断面図である。

【００４１】まず、透明基板２０上にゲート線１１を形
成する。これは、例えば透明基板２０上にモリブデンを
膜厚約０．３μｍとなるようにスパッタリングにより成
膜し、フォトリソグラフィにより所定の形状にパターン
ニングすることにより形成される。

【００４２】次に、ゲート線１１を覆うように、ゲート
絶縁膜１２を形成する。ゲート絶縁膜１２は、例えば二
酸化珪素あるいは窒化珪素を膜厚０．１５μｍで形成し
てなる。

【００４３】次に、ゲート絶縁膜１２上に例えばａ−Ｓ
i からなる半導体層２９を形成する。 次に、半導体層
２９上にｎ+ −ａ−Ｓi からなるコンタクト層３０を形
成する。 次に、これらの上に信号線３１とソース電極
３２を形成する。信号線３１とソース電極３２は、例え
ば膜厚０．３μｍでＩＴＯからなる。

【００４４】そして、これらの覆うように絶縁膜３３を
形成する。絶縁膜３３は、感光性樹脂をフォトリソグラ
フィでパターンニング（例えば後述のスルーホールの形
成）して形成される。この絶縁膜３３は、各画素におい
て赤・青・緑のいずれか一色のカラーフィルタを構成す
る。

【００４５】次に、この絶縁膜３３上に画素電極３４を
形成する。画素電極３４は、例えば膜厚０．１μｍのＩ
ＴＯからなる。

【００４６】そして、ソース電極３２と画素電極３４と
をスルーホール３５で接続する。

【００４７】上記の絶縁膜３３は、例えば赤色の顔料を
分散させた感光性レジストＣＲ−２０００（富士ハント
エレクトロニクステクノロジー（株）製）をスピンナー
を用いて全面塗布し、９０℃ １０分の乾燥機、赤色の
着色層を形成する部分のみに紫外線が照射されるような
フォトマスクを介し露光量が２００mJ／cm² となるよう
に露光を行う。次に、水酸化カリウム１重量％水溶液で
２０秒間現像を行い、２００℃ ６０分焼成することに
より赤色の着色層を形成する。

【００４８】同様に、緑、青の着色層を繰り返し形成す
ることにより各着色層の膜厚が１．５μｍであるカラー
フィルタとしての絶縁膜３３が得られる。ここで、緑の
着色材料には、ＣＧ−２０００（富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー（株) 製）、青の着色材料にはＣＢ
−２０００（富士ハントエレクトロニクステクノロジー
（株）製）を用いることができる。

【００４９】次に、テーパ角度が８５°より小さくなる
ようにスペーサ３を形成する。スペーサ３は、例えば感
光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０℃
１０分間、乾燥した後、スペーサ３と表示エリア外周部
に幅３mmの遮光領域が形成されるようにフォトマスクを
介して紫外線を、３００mJ／cm² の露光量で照射した
後、ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶液で現像し、２０
０℃ ６０分焼成することによりスペーサ３と表示エリ
ア外周部に遮光領域を同時に形成する。スペーサ３のカ
ラ−フィルタとしての絶縁膜３３表面からの高さは例え
ば４．９μｍとなるように形成する。

【００５０】次に、これらを覆うように配向膜９を形成
する。配向膜９は、例えばポリイミドからなる。

【００５１】そして、配向膜９上をラビング処理する。
ラビング処理は、例えばダイヤモンドペーストなどで一
方向に擦ることによって行われる。

【００５２】次に、このように形成された透明基板２０
と、表面がラビング処理された配向膜６及び共通電極２
が形成された透明基板１とを対向配置する。

【００５３】そして、透明基板２０と透明基板１との間
隙に液晶２１を封入する。

【００５４】本実施形態の液晶表示素子のセルギャップ
は、平均値４．７０μｍで、最大値４．８０μｍ、最小
値４．６０μｍ、高精度に制御されている。また、スペ
ーサ３の欠損や配向不良は、認められず、コントラスト
比が高く、高品位の表示が得られる。

【００５５】また、図３は本発明の実施形態における液
晶表示素子のスペーサ３のテーパ角度と配向不良発生率
の関係を示すものである。図３からスペーサ３のテーパ
角度を８５°より小さくすることにより、配向不良率を
著しく下げることが出来ることが判る。

【００５６】なお、本発明は上述した実施形態に限定さ
れない。

【００５７】例えば、上記実施形態では、着色層上に遮
光層を重ねてスペーサ３を形成したが、赤・青・緑の着
色層を使用しても良く、形状が順テーパで、かつ、所望
のセルギャップが得られれば良い。

【００５８】また、スペーサ３は、着色層材料や遮光層
材料を使わず別の材料を使用してもよい。

【００５９】さらに、上記実施形態では、アレイ基板に
遮光層、カラーフィルタ４、スペーサ３などが配置され
ているが、対抗基板に遮光層、カラーフィルタ４、スペ
ーサ３などを配置してもよい。

【００６０】また、上記実施形態では、カラーフィルタ
を構成する絶縁層３３として顔料を分散させた感光性レ
ジストを用いたが、感光性レジストによらず、顔料を分
布させた着色樹脂を、公知のフォトリソグラフィー工程
を用いて、エッチングによりパタ−ニングしても良い。

【００６１】またさらに、上記実施形態では、遮光層の
材料として顔料を分散させた感光性レジストを用いた
が、感光性レジストによらず、顔料を分散させた着色樹
脂を、公知のフォトリソグラフィー工程を用いて、エッ
チングによりパタ−ニングしても良い。また、対向基板
上に形成する場合は、金属クロム（Ｃｒ）、酸化クロム
（ＣｒＯ）等の樹脂以外でも良い。さらに、遮光層を設
けなくても、非透光性部材が遮光層としての機能を兼ね
ていても良く、前記非透光性部材上にスペーサ３を設け
ても、本発明と同様の効果が得られる。

【００６２】また、上記実施形態では、アクティブマト
リックス型液晶表示素子を用いた例を挙げたが、これの
みに限定されず単純マトリックス型液晶表示素子などに
適用したものであって良い。

【００６３】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明で
は、基板上にスペーサがテーパ形状に形成されることに
より、スペーサ機能としての機緘的強度が十分得られ、
スペーサに最も機械的強度が要求される配向膜の配向処
理としてのラビング処理などにおいてもスペーサの欠
け、剥がれの発生しない十分な強度が得られる。

【００６４】また本発明によれば、液晶をー定方向に配
向させるための配向膜塗布の際、スペーサの断面形状が
順テーパとなっているため、テーパ部に空気が入り込み
焼成中に空気が膨張し、配向膜材料が破裂し飛び散り配
向不良を起こすことがないという効果が得られる。

【００６５】さらに、本発明によれば、配向膜の塗布の
際に、配向膜材料がテーパ部に入り込むことにより、テ
ーパ部の配向膜材料の厚さが厚くなり、焼成中に記向膜
材料の表面が先に詰まり、未硬化部分の溶剤が熱により
気化・膨張し配向膜材料が破裂し、飛び散り配向不良を
起こすことがないという効果が得られる。

【００６６】また、本発明によれば、配向膜をラビング
処理する際、影となる領域を小さくすることができ、ラ
ビング処理の際の配向膜剥がれが発生しない。

【００６７】さらに、本発明によれば、スペーサをカラ
ー液晶表示素子の構成材料であるカラーフィルタまたは
遮光層と同一材料であり、しかも同時に形成することで
工程を増やさずスペーサを配置することができるという
効果が得られる。以上の効果が得れらるので、従来の液
晶表示素子において必要であったスペーサの分散散布工
程をなくすことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施形態の液晶表示素子の断面図
である。

【図２】本発明の係るスペ−サの形状を模式的を示す図
である。

【図３】液晶表示素子のスペーサのテーパ角度と配向不
良発生率の関係をプロットした特性図である。

【図４】従来の逆テーパ形状のスペ−サを模式的を示す
図である。

【符号の説明】

１，２０ 透明基板 ３ スペーサ ６，９ 配向膜 ８ 画素電極 １０ 液晶 ３３ 絶縁層（カラーフィルタ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 秋吉 宗治 埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号 株式 会社東芝深谷電子工場内 (72)発明者 宮崎 大輔 埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号 株式 会社東芝深谷電子工場内

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上にテーパ形状のスペーサを形成す
   る工程と、 前記スペーサが形成された基板上に配向膜を形成する工
   程と、 前記基板上に形成された配向膜表面をラビングする工程
   とを具備することを特徴とする液晶表示素子用基板の製
   造方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の液晶表示素子用基板の製
   造方法であって、 前記スペ−サのテ−パ角度が、８５゜より小さいことを
   特徴とする液晶表示素子用基板の製造方法。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の液晶表示素子用
   基板の製造方法であって、 前記スペ−サが、前記基板上に形成されたカラ−フイル
   タと同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に形
   成されることを特徴とする液晶表示素子用基板の製造方
   法。
4. 【請求項４】 請求項１または２記載の液晶表示素子用
   基板の製造方法であって、 前記スペーサが、前記基板上に形成された遮光層と同一
   材料で、かつ、当該遮光層と同時に形成されることを特
   徴とする液晶表示素子用基板の製造方法。
5. 【請求項５】 第１の基板上にテーパ形状のスペーサを
   形成する工程と、 前記スペーサが形成された第１の基板上に配向膜を形成
   する工程と、 前記第１の基板上に形成された配向膜表面をラビングす
   る工程と、 前記スペーサの形成された第１の基板上に第２の基板を
   対向配置する工程と、 対向配置された前記第１の基板と前記第２の基板間に液
   晶を封入する工程と を具備することを特徴とする液晶表示素子の製造方法
6. 【請求項６】 請求項５記載の液晶表示素子の製造方法
   であって、 前記スペ−サのテ−パ角度が、８５゜より小さいことを
   特徴とする液晶表示素子の製造方法。
7. 【請求項７】 請求項５または６記載の液晶表示素子の
   製造方法であって、 前記スペ−サが、前記第１の基板上に形成されたカラ−
   フイルタと同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同
   時に形成されることを特徴とする液晶表示素子の製造方
   法。
8. 【請求項８】 請求項５または６記載の液晶表示素子の
   製造方法であって、 前記スペーサが、前記基板上に形成された遮光層と同一
   材料で、かつ、当該遮光層と同時に形成されることを特
   徴とする液晶表示素子の製造方法。
9. 【請求項９】 基板と、 前記基板上に形成されたテーパ形状のスペーサと、 前記基板及び前記スペーサを覆うように形成され、表面
   がラビング処理された配向膜とを具備することを特徴と
   する液晶表示素子用基板。
10. 【請求項１０】 請求項９記載の液晶表示素子用基板で
    あって、 前記スペ−サのテ−パ角度が、８５゜より小さいことを
    特徴とする液晶表示素子用基板。
11. 【請求項１１】 請求項９または１０記載の液晶表示素
    子用基板であって、 前記スペ−サが、前記基板上に形成されたカラ−フイル
    タと同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に形
    成されていることを特徴とする液晶表示素子用基板。
12. 【請求項１２】 請求項９または１０記載の液晶表示素
    子用基板であって、 前記スペーサが、前記基板上に形成された遮光層と同一
    材料で、かつ、当該遮光層と同時に形成されていること
    を特徴とする液晶表示素子用基板。
13. 【請求項１３】 第１の基板と、 前記第１の基板上に形成されたテーパ形状のスペーサ
    と、 前記基板及び前記スペーサを覆うように形成され、表面
    がラビング処理された配向膜と、 前記スペーサの形成された第１の基板上に対向配置され
    た第２の基板と、 前記対向配置された前記第１の基板と前記第２の基板間
    との間に封入された液晶とを具備することを特徴とする
    液晶表示素子。
14. 【請求項１４】 請求項１３記載の液晶表示素子であっ
    て、 前記スペ−サのテ−パ角度が、８５゜より小さいことを
    特徴とする液晶表示素子。
15. 【請求項１５】 請求項１３または１４記載の液晶表示
    素子であって、 前記スペ−サが、前記基板上に形成されたカラ−フイル
    タと同一材料で、かつ、当該カラ−フイルタと同時に形
    成されていることを特徴とする液晶表示素子。
16. 【請求項１６】 請求項１３または１４記載の液晶表示
    素子であって、 前記スペーサが、前記基板上に形成された遮光層と同一
    材料で、かつ、当該遮光層と同時に形成されていること
    を特徴とする液晶表示素子。