JPH09504545A - アミノホスホン酸類の非−アルカリ性精製 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 非−アルカリ性条件下でのアミノホスホン酸類の精製法が記載されている。詳細には、アミノホスホン酸類を中性又は酸性の水中にスラリー化し、加熱して還流し、冷却し、次いで、濾過する。こうして、１００％に到達する生成物純度が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】 アミノホスホン酸類の非−アルカリ性精製技術分野 本発明は、中性又は酸性溶液中のアミノホスホン酸類の精製に向けられている 。更に具体的には、本発明は、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸） （ＥＤＴＭＰ）、１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７， １０−テトラ（メチレンホスホン酸）（ＤＯＴＭＰ）、ジエチレントリアミンペ ンタ（メチレンホスホン酸）（ＤＴＰＭＰ）、ニトリロトリ（メチレンホスホン 酸）（ＮＴＭＰ）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン 酸）（ＨＥＥＤＴＭＰ）、トリス（２−アミノエチル）アミンヘキサ（メチレン ホスホン酸）（ＴＴＨＭＰ）等のようなアミノホスホン酸化合物類の精製に関し 、当該精製は、粗製の、未精製アミノホスホン酸を中性又は酸性ｐＨの水に加え 、スラリーを形成し、次いで、加熱して還流し、約８０℃に冷却しそして濾過す ることによる。背景技術 アミノホスホン酸類及びそれらの塩類は金属イオンに対する周知のキレート化 剤である。錯体が形成される金属イオンの特性に依存して、得られる金属−アミ ノホスホン酸錯体は、腫瘍を治療したり、磁気共鳴映像、モノグラフ映像及びＸ 線映像を増める等に使用できる。 勿論、アミノホスホン酸キレート化剤は、スケール除去、硬水軟化、鉱石浸出 、繊維加工、食品防腐、鉛中毒の治療、化学分析等のような一層伝統的なキレー ト技術にも有用である。 アミノホスホン酸類の製造及び使用は説明されてきた。例えば、Ｋｒｕｅｇｅ ｒ 氏等は、アルキレングリコールクロロ亜リン酸エステル類をアルデヒド若しく はケトン及びアミン又はその酸付加塩又は低級モノ若しくはジカルボン酸の酸ア ミドとを反応させることによるアミノアルキレンホスホン酸類の製造方法を記載 す る（米国特許第３，８３２，３９３号を参照、本明細書に参照として含める）。Ｇａｒｌｉｃｈ氏等 は医療用のアミノメチレンホスホン酸の精製法を開示する。 当該方法は、アミノメチレンホスホン酸を水性塩基に溶解し、当該溶液を高温に 維持した酸溶液に加え、アミノホスホン酸を沈殿させる（米国特許第４，９３７ ，３３３号を参照、参照のため本願明細書に含める）。 上述したように、アミノホスホン酸類は治療用又は医療用製剤に使用できる。 従って、ヒトの投与に適するようなアミノホスホン酸の精製をしなければならな い。医療用等級の製品の製造は医療業界で発展中で且つ周知の問題であり、治療 用又は医療用品（製剤を含む）から不純物を減少させ及び／又は排除は不変の関 心事である。発明の開示 従って、本発明の目的はアミノホスホン酸類の新規な精製法を提供することで ある。 本発明の別の目的は、本発明の方法により精製したアミノホスホン酸類を用い て製造したアミノホスホン酸−金属イオン錯体類を提供することである。 本発明のその他の目的とその多くの追加の利点は、好適な実施態様についての 、下記の詳細な記述にへの言及により容易に明らかになるであろう。本発明を実施するための最適な態様 本発明は、特に、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）（ＥＤＴＭ Ｐ）、１，４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７，１０−テト ラ（メチレンホスホン酸）（ＤＯＴＭＰ）、ジエチレントリアミンペンタ （メ チレンホスホン酸）（ＤＴＰＭＰ）、ニトリロトリ （メチレンホスホン酸）（ ＮＴＭＰ）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）（ ＨＥＥＤＴＭＰ）、トリス（２−アミノエチル）アミンヘキサ（メチレンホスホ ン酸）（ＴＴＨＭＰ）等のようなアミノホスホン酸類の新規な非−アルカリ性精 製法に関し、当該精製法は、粗製の、未精製アミノホスホン酸を水に加え、スラ リーを形成し、次いで、加熱して還流し、約８０℃に冷却しそして濾過すること である。 本発明の方法では、反応容器中で粗製アミノホスホン酸をアミノホスホン酸の 量の２〜４倍の量の水（ｗ／ｖ）に加えてスラリーを形成する。このスラリーを 加熱して還流し、還流温度で１〜４８時間撹拌する。還流後、スラリーを約７０ 〜９０℃、好ましくは８０℃に冷却する。次いで、冷却したスラリーを約７０〜 ９０℃、好ましくは８０℃で濾過する。次いで、生成物を乾燥し、所望の場合、 アミノホスホン酸のスラリー化に用いた水性媒体は酸性であり得る。スラリーの ｐＨは約１未満〜７、好ましくは、１〜２、最も好ましくは１．５の範囲内には いることができる。 本発明の方法で精製できるアミノホスホン酸類は、それらの製造法と同様、当 業界ですべて周知である。例えば、米国特許第４，９３７，３３３号及び米国特 許第３，８３２，３９３号は、ＥＤＴＭＰ、ＤＯＴＭＰ、ＮＴＭＰ等を含むアミ ノホスホン酸類の製造を記載する。本発明では、ＥＤＴＭＰの好適な製造法は、 まず、反応容器に３７％塩酸溶液と亜リン酸とを加え、次いで、均一な溶液が得 られるまで撹拌を続けることにより行う。この均一な溶液にエチレンジアミン二 塩酸塩を加え、得られた混合物を加熱して還流する。還流している反応混合物に 約２１時間にわたってホルムアルデヒドを加え、同時に沈殿としてＥＤＴＭＰの 生成を生じる。沈殿を生じない場合、種結晶を加えるか、その他の沈殿を促進す るための慣用的な方法を使用できる。ホルムアルデヒドを加え沈殿が生じ始めた 後、反応混合物を還流温度でさらに４８時間撹拌する。次いで、反応混合物を周 囲温度（約２０〜２５℃）に冷却する。得られたスラリーをさらに２４時間室温 で撹拌し、室温で濾過する。得られた粗製の固体ＥＤＴＭＰを水洗し、風乾する 。 本発明の精製法では、粗製アミノホスホン酸を加える水の量は、粗製アミノホ スホン酸の量の約１〜約６倍の量（ｗ／ｖ）、好ましくは２〜４倍の量に変動す る。水は中性（ｐＨ＝７）か又は酸性（ｐＨ＜７）のいずれかである。蒸留水及 び／又は脱イオン水が好適である。 粗製アミノホスホン酸−水スラリーは、当業界で公知の方法のいずれかにより 、例えば、撹拌又は振盪により製造する。いったんスラリーを形成したなら、撹 拌下加熱して還流する（還流温度は中性ｐＨの水を使用すると約１００℃であり 、酸性ｐＨの水を使用するともっと高くできる）。次いで、還流中のスラリーを 、 約１〜約９６時間、好ましくは、２４〜７２時間、最も好ましくは４８〜７２時 間の間継続して撹拌する。 還流温度で撹拌した後、アミノホスホン酸−水スラリーを冷却する。好ましく は、スラリーを７０〜９０℃の間、より好ましくは７５〜８５℃、最も好ましく は８０℃に冷却する。次に、スラリーを、概ね、冷却して精製アミノホスホン酸 を得る温度で濾過をする。しかし、スラリーは還流温度で濾過をしてもよく、又 はスラリーを室温に冷却し、室温で濾過をしてもよい。 スラリーの濾過は当業界で公知のいずれの手段で行ってもよい。例えば、ブフ ナー漏斗等による濾過を使用できる。濾過した精製アミノホスホン酸の乾燥も同 様に公知のいずれの技術によっても行うことができる。例えば、精製アミノホス ホン酸は、真空オーブン中で、水流アスピレーターに取り付けたブフナー漏斗上 で、又はその他の方法で乾燥できる。 本発明の方法により精製したアミノホスホン酸の純度は、³¹Ｐ ＮＭＲ、ＨＰ ＬＣ（例えば、屈折率検出器を使用）等を含む多くの慣用技術のいずれかにより 監視又は決定できる。本発明の方法を用いて得られた典型的な純度は１００％に 達し、通常９８％を超える。本発明の方法は、常に、出発粗製アミノホスホン酸 よりもより純度の高い生成物を与える。 好適な実施態様についての上述の記載は本発明を十分に記載したが、本発明を さらに次の限定しない実施例により例証する。実施例 １ ＥＤＴＭＰの製造 ３３１．２ｍｌの３７％塩酸及び２０８．５ｇの亜リン酸を２０００ｍｌの反 応容器に加えた。この酸混合物を均一な溶液が得られるまで撹拌し、次いで、約 ７３．１５ｇのエチレンジアミンニ塩酸塩をそれに加えた。混合物を加熱して還 流させ、２６２．６ｇの３７％ホルムアルデヒドを２１時間にわたって加えた。 ホルムアルデヒドの添加が完了し沈殿が析出し始めた後、反応混合物をさらに４ ８時間還流温度で撹拌し、次いで、周囲温度（２０〜２５℃）に冷却した。次い で、室温のスラリーをさらに２３時間室温で撹拌した。スラリーを濾過し、フイ ルターケーキを５００ｍｌの水で水洗した。水流アスピレーターを使用してフイ ルターケーキを２４時間風乾した。粗製ＥＤＴＭＰの収量＝１９３．７ｇ（７７ ．６％）であった。得られた物質は屈折率（Ｒ．Ｉ．）検出器を使用するＨＰＬ Ｃにより９６．６％と決定した。³¹Ｐ ＮＭＲは、この物質が９６．４％ＥＤＴ ＭＰであることを示した。ＨＰＬＣ分析はＡｎｉｏｎ Ｅｘｃｈａｎｇｅ Ｃｈ ｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙカラム（１００ｍｍ×４．６ｍｍ）を使用して行った 。移動相は８ｍＭの硫酸溶液であり、流速は２ｍｌ／分であった。Ｗａｔｅｒｓ ４１０屈折率検出器を使用した。³¹Ｐ ＮＭＲスペクトルを３６０ＭＨｚスペク トロメーターでＤ₂Ｏ／Ｈ₂Ｏ／ＮａＯＨの混合物中で行った。実施例 ２ ＥＤＴＭＰの精製 上で製造した２５グラムの粗製ＥＤＴＭＰを２５０ｍｌの反応容器に加え、１ ００ｍｌの水（ｐＨ５．５）をそれに加えスラリーを得た。次いで、スラリーを 還流に達するまで撹拌下加熱した。還流下１時間加熱を続けた。次いで、加熱し た、還流中のスラリーを８０℃に冷却し、反応フラスコ中に存在する固体をこの 温度で濾過した。次いで、沈殿をブフナー漏斗上で２．５時間風乾し、収量１４ ．７６ｇ（５９％）の精製ＥＤＴＭＰを得た。物質の純度はＲ．Ｉ．検出器を使 用するＨＰＬＣにより９８．９％と決定した。³¹Ｐ ＮＭＲは、この物質が９９ ．０％ＥＤＴＭＰであることを示した。実施例 ３ ＥＤＴＭＰの精製 実施例１の方法により製造した２０グラムの粗製ＥＤＴＭＰを２５０ｍｌの反 応容器に加え、水（７８．２ｍｌ、ｐＨ＝５．５）をそれに加えスラリーを得た 。次いで、スラリーを還流に達するまで撹拌下加熱し、還流を４８時間続けた。 加 熱した、還流中のスラリーを８０℃に冷却し、この温度で濾過した。次いで、固 体沈殿を水流アスピレーターを使用するブフナー漏斗上で２時間風乾した。収量 １２．４ｇのＥＤＴＭＰを得た（６２％）。この物質の純度はＲ．Ｉ．検出器を 使用するＨＰＬＣにより９９．１％と決定した。³¹Ｐ ＮＭＲは、この物質が９ ８．９％ＥＤＴＭＰであることを示した。実施例 ４ ＥＤＴＭＰの精製 上記、実施例１で示した通りに調製した２０ｇの粗製ＥＤＴＭＰを２５０ｍｌ の反応容器に加え、それに７５ｍｌの４．６Ｎ ＨＣｌを加えスラリーを形成し た。このスラリーを、還流に達するまで撹拌下加熱し、還流を約２時間続けた。 次いで、この加熱した、還流溶液を８０℃に冷却し、０．１ｇのＥＤＴＭＰの純 品試料を種つけし、８０℃でさらに２時間撹拌する。次いで、得られた沈殿を濾 過（８０℃で）し、水流アスピレーターを使用してブフナー漏斗上で２時間乾燥 した。ＥＤＴＭＰフイルターケーキの収量は８．８５ｇ（４４％）であった。純 度はＲ．Ｉ．検出器を使用するＨＰＬＣにより９９．１％³¹Ｐ ＮＭＲと決定し た。³¹Ｐ ＮＭＲは、この物質が９９．３％ＥＤＴＭＰであることを示した。実施例 ５ ＤＯＴＭＰの精製 Ｇａｒｌｉｃｈ，Ｊ．Ｒ．氏等の米国特許第４，９３７，３３３号の方法によ り調製した粗製ＤＯＴＭＰ２０ｇをｐＨ５．５の水７８．２ｍｌと合わせ、水性 スラリーを形成した。この混合物を撹拌下で加熱して還流し、還流温度で４８時 間撹拌した。その後、この混合物を約８０℃に冷却し、その温度で濾過し、水性 アスピレーターを使用するブフナー漏斗上で乾燥させた。得られたＤＯＴＭＰは³¹ Ｐ ＮＭＲ及びＨＰＬＣ分析により出発粗製物質よりも純度が高かった。 同様に、ＤＴＰＭＰ、ＮＴＭＰ、ＨＥＥＤＴＭＰ、及びＴＴＨＭＰを上述した 方法により行い同様の結果を得た。実施例 ６ ＥＤＴＭＰの製造 ３３１．２ｍｌの３７％塩酸及び２０８．５ｇの亜リン酸を２０００ｍｌの反 応容器に加えた。この酸混合物を均一な溶液が得られるまで撹拌し、次いで、約 ７３．１５ｇのエチレンジアミンニ塩酸塩をそれに加えた。混合物を加熱して還 流させ、２６２．６ｇの３７％ホルムアルデヒドを５時間にわたって加えた。ホ ルムアルデヒドの添加が完了し沈殿が析出し始めた後、反応混合物をさらに２０ 時間還流温度で撹拌し、次いで、７８℃に冷却した。次いで、熱スラリーを濾過 し、フイルターケーキを２５０ｍｌの水で水洗した。次いで、得られた白色の顆 粒状生成物を真空下で乾燥し１６５ｇの粗製ＥＤＴＭＰを得た。粗製ＥＤＴＭＰ の収量は６６．１％であった。得られた物質は屈折率（Ｒ．Ｉ．）検出器を使用 するＨＰＬＣにより９６．０％純度であった。³¹Ｐ ＮＭＲは、この物質が９７ ．０％ＥＤＴＭＰであることを示した。実施例 ７ ＥＤＴＭＰの精製 上述、実施例６に準じて調製した粗製ＥＤＴＭＰ１０ｇを２５０ｍｌの反応容 器に加え、それに３７．５ｍｌの４．６Ｎ塩酸を加え、スラリーを得た。次いで 、このスラリーを撹拌下還流に達するまで加熱した。還流下の加熱を２時間続け た。次いで、加熱した還流スラリーを２５〜３０℃に冷却し、この温度で反応フ ラスコ中に存在する固体を濾過した。沈殿を、水流アスピレーターを使用するブ フナー漏斗上で１．５時間乾燥し、７．５２ｇ（７５．２％）の精製したＥＤＴ ＭＰを得た。この物質の純度はＲ．Ｉ．検出器を使用するＨＰＬＣにより９９． １％と決定した。³¹Ｐ ＮＭＲは、この物質が９９．１％ＥＤＴＭＰであること を示した。 明らかに、本発明の多くの修正及び変動が上述の教示に照らして可能である。 従って、本発明は、請求の範囲内で本明細書で具体的に記載したと別の態様を実 施できることを了解すべきである。

【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９５年１０月２７日 【補正内容】 英文明細書第１頁第１行〜２頁第５行迄 （翻訳文明細書第１頁第１行〜第２頁第１行迄） 明細書 アミノホスホン酸類の非−アルカリ性精製技術分野 本発明は、アミノホスホン酸類の精製に向けられている。更に具体的には、本 発明は、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）（ＥＤＴＭＰ）、１， ４，７，１０−テトラアザシクロドデカン−１，４，７，１０−テトラ（メチレ ンホスホン酸）（ＤＯＴＭＰ）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホ ン酸）（ＤＴＰＭＰ）、ニトリロトリ（メチレンホスホン酸）（ＮＴＭＰ）、ヒ ドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）（ＨＥＥＤＴＭＰ ）、トリス（２−アミノエチル）アミンヘキサ（メチレンホスホン酸）（ＴＴＨ ＭＰ）等のようなアミノホスホン酸化合物類の精製に関し、当該精製は、粗製の 、未精製アミノホスホン酸を中性又は酸性ｐＨの水に加え、スラリーを形成し、 次いで、加熱して還流し、約８０℃に冷却しそして濾過することによる。背景技術 アミノホスホン酸類及びそれらの塩類は金属イオンに対する周知のキレート化 剤である。錯体が形成される金属イオンの特性に依存して、得られる金属−アミ ノホスホン酸錯体は、腫瘍を治療したり、磁気共鳴映像、モノグラフ映像及びＸ 線映像を増める等に使用できる。 勿論、アミノホスホン酸キレート化剤は、スケール除去、硬水軟化、鉱石浸出 、繊維加工、食品防腐、鉛中毒の治療、化学分析等のような一層伝統的なキレー ト技術にも有用である。 アミノホスホン酸類の製造及び使用は説明されてきた。例えば、Ｋｒｕｅｇｅ ｒ 氏等は、アルキレングリコールクロロ亜リン酸エステル類をアルデヒド若しく はケトン及びアミン又はその酸付加塩又は低級モノ若しくはジカルボン酸の酸ア ミ ドとを反応させることによるアミノアルキレンホスホン酸類の製造方法を記載す る（米国特許第３，８３２，３９３号を参照、本明細書に参照として含める）。 （請求の範囲第１項〜第３項、第９項、及び第１２項〜第１９項を補正し、第２ １項〜第２９項を追加した。残りの請求の範囲には変更なし。） 請求の範囲 １．アミノホスホン酸化合物の非−アルカリ性精製法であって、 ａ）一定の純度の予め調製したアミノホスホン酸化合物と中性ｐＨ又は酸性ｐＨ であるがアルカリ性ｐＨでない水とを合わせ、スラリーを形成し、； ｂ）前記スラリーを加熱して還流させ； ｃ）約１時間〜約９６時間の範囲の間にわたって還流温度に前記スラリーを維持 し；そして ｄ）工程ｃ）の前記スラリーを還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、前記予め 調製したアミノホスホン酸化合物よりも純度の高いアミノホスホン酸化合物を得 る、前記精製法。 ２．前記スラリーが中性のｐＨである、請求の範囲第１項に記載の方 法。 ３．前記スラリーが酸性のｐＨである、請求の範囲第１項に記載の方 法。 ４．前記アミノホスホン酸化合物がＥＤＴＭＰ、ＤＯＴＭＰ、ＤＴＰ ＭＰ、ＮＴＭＰ、ＨＥＥＤＴＭＰ、及びTＴＨＭＰからなる群から選択される請 求の範囲第１項に記載の方法。 ５．アミノホスホン酸化合物がＤＴＰＭＰである、請求の範囲第１項 に記載の方法。 ６．アミノホスホン酸化合物がＮＴＭＰである、請求の範囲第１項に 記載の方法。 ７．アミノホスホン酸化合物がＨＥＥＤＴＭＰである、請求の範囲第 １項に記載の方法。 ８．アミノホスホン酸化合物がＴＴＨＭＰである、請求の範囲第１項 に記載の方法。 ９．前記工程ｃ）の前記スラリーを、工程ｄ）を実施する前に、還流 以下の温度に冷却する、請求の範囲第１項に記載の方法。 １０．還流以下の温度が約７０〜約９０℃の範囲内である、請求の範 囲第９項に記載の方法。 １１．還流以下の温度が約８０℃である、請求の範囲第１０項に記載 の方法。 １２．前記スラリーの濾過を約７０〜約９０℃の範囲内の温度で行う 、請求の範囲第１項に記載の方法。 １３．前記スラリーの濾過を約８０℃の温度で行う、請求の範囲第１ ２項に記載の方法。 １４．ａ）一定の純度の予め調製したＥＤＴＭＰと中性ｐＨ又は酸性 ｐＨであるがアルカリ性ｐＨでない水とを合わせてスラリーを形成し； ｂ）前記スラリーを加熱して還流させ； ｃ）約１時間〜約９６時間の範囲の間にわたって還流温度に前記スラリーを維持 し；そして ｄ）前記工程ｃ）の前記スラリーを還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、前記 予め調製したＥＤＴＭＰよりも純度の高いＥＤＴＭＰを得る、ＥＤＴＭＰの非− アルカリ性精製法。 １５．ａ）一定の純度の予め調製したＤＯＴＭＰと中性ｐＨ又は酸性 ｐＨであるがアルカリ性ｐＨでない水とを合わせてスラリーを形成し、； ｂ）前記スラリーを加熱して還流させ； ｃ）約１時間〜約９６時間の範囲の間にわたって還流温度に前記スラリーを維持 し；そして ｄ）前記工程ｃ）の前記スラリーを還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、前記 予め調製したＤＯＴＭＰよりも純度の高いＤＯＴＭＰを得る、ＤＯＴＭＰの非− アルカリ性精製法。 １６．工程ｃ）を最高約７２時間の間維持する、請求の範囲第１項に 記載の方法。 １７．工程ｃ）を最高約４８時間の間維持する、請求の範囲第１項に 記載の方法。 １８．工程ｃ）を最高約２４時間の間維持する、請求の範囲第１項に 記載の方法。 １９．工程ｃ）を最高約４８時間の間維持する、請求の範囲第１４項 に記載の方法。 ２０．工程ｃ）を最高４８時間の間維持する、請求の範囲第１５項に 記載の方法。 ２１．アミノホスホン酸化合物の非−アルカリ性精製法であって、 ａ）一定の純度の予め調製したアミノホスホン酸化合物と酸性ｐＨであるがアル カリ性ｐＨでない水とを合わせてスラリーを形成し； ｂ）前記スラリーを加熱して還流させ； ｃ）約１時間〜約９６時間の範囲の間にわたって還流温度に前記スラリーを維持 し；そして ｄ）工程ｃ）の前記スラリーを還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、前記予め 調製したアミノホスホン酸化合物よりも純度の高いアミノホスホン酸化合物を得 る、前記精製法。 ２２．アミノホスホン酸化合物の非−アルカリ性精製法であって、 ａ）一定の純度の予め調製したアミノホスホン酸化合物と中性ｐＨ又は酸性ｐＨ であるがアルカリ性ｐＨでない水とを合わせてスラリーを形成し； ｂ）前記スラリーを加熱して還流させ；そして ｃ）工程ｂ）の前記スラリーを還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、前記予め 調製したアミノホスホン酸化合物よりも純度の高いアミノホスホン酸化合物を得 る、前記精製法。 ２３．前記濾過工程の前に前記スラリーを還流温度で撹拌する工程を さらに含む、請求の範囲第２２項に記載の方法。 ２４．前記スラリーを約１時間撹拌する、請求の範囲第２３項に記載 の方法。 ２５．前記スラリーを約２４時間撹拌する、請求の範囲第２３項に記 載の方法。 ２６．前記アミノホスホン酸化合物がＥＤＴＭＰ、ＤＯＴＭＰ、ＤＴ ＰＭＰ、ＮＴＭＰ、ＨＥＥＤＴＭＰ、及びＴＴＨＭＰからなる群から選択される 請求の範囲第２２項に記載の方法。 ２７．前記アミノホスホン酸化合物がＥＤＴＭＰである、請求の範囲 第２２項に記載の方法。 ２８．前記アミノホスホン酸化合物がＥＤＴＭＰである、請求の範囲 第２３項に記載の方法。 ２９．前記水が酸性ｐＨである、請求の範囲第２２項に記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＭＷ，ＳＤ)，ＡＭ，ＡＴ， ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｚ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ， ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＮＬ，Ｎ Ｏ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＩ ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．アミノホスホン酸化合物の非−アルカリ性精製法であって、 ａ）アミノホスホン酸化合物と水とを含む水性混合物を準備し、ここで、当該水 性混合物は中性又は酸性ｐＨである； ｂ）前記水性混合物を加熱して還流させ； ｃ）約１時間〜約９６時間の範囲の間の時間にわたって還流温度に前記水性混合 物を維持し；そして ｄ）工程ｃ）の水性混合物を還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、精製したア ミノホスホン酸化合物を得る、前記精製法。 ２．前記水性混合物が中性のｐＨである、請求の範囲第１項に記載の 方法。 ３．前記水性混合物が酸性のｐＨである、請求の範囲第１項に記載の 方法。 ４．前記アミノホスホン酸化合物がＥＤＴＭＰ、ＤＯＴＭＰ、ＤＴＰ ＭＰ、ＮＴＭＰ、ＨＥＥＤＴＭＰ、及びＴＴＨＭＰからなる群から選択される請 求の範囲第１項に記載の方法。 ５．アミノホスホン酸化合物がＤＴＰＭＰである、請求の範囲第１項 に記載の方法。 ６．アミノホスホン酸化合物がＮＴＭＰである、請求の範囲第１項に 記載の方法。 ７．アミノホスホン酸化合物がＨＥＥＤＴＭＰである、請求の範囲第 １項に記載の方法。 ８．アミノホスホン酸化合物がＴＴＨＭＰである、請求の範囲第１項 に記載の方法。 ９．前記工程ｃ）の水性混合物を、工程ｄ）を実施する前に、還流以 下の温度に冷却する、請求の範囲第１項に記載の方法。 １０．還流以下の温度が約７０〜約９０℃の範囲内である、請求の範 囲第９項に記載の方法。 １１．還流以下の温度が約８０℃である、請求の範囲第１０項に記載 の方法。 １２．前記水性混合物の濾過を約７０〜約９０℃の範囲内の温度で行 う、請求の範囲第１項に記載の方法。 １３．前記水性混合物の濾過を約８０℃の温度で行う、請求の範囲第 １２項に記載の方法。 １４．ａ）ＥＤＴＭＰと水とを含む水性混合物を準備し、ここで、当 該水性混合物は中性又は酸性ｐＨである； ｂ）前記水性混合物を加熱して還流させ； ｃ）約１時間〜約９６時間の範囲の間の時間にわたって還流温度に前記水性混合 物を維持し；そして ｄ）前記工程ｃ）の水性混合物を還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、精製し たＥＤＴＭＰを得る、ＥＤＴＭＰの非−アルカリ性精製法。 １５．ａ）ＤＯＴＭＰと水とを含む水性混合物を準備し、ここで、当 該水性混合物は中性又は酸性ｐＨである； ｂ）前記水性混合物を加熱して還流させ； ｃ）約１時間〜約９６時間の範囲の間の時間にわたって還流温度に前記水性混合 物を維持し；そして ｄ）前記工程ｃ）の水性混合物を還流温度又はそれ以下の温度で濾過し、精製し たＤＯＴＭＰを得る、ＤＯＴＭＰの非−アルカリ性精製法。 １６．工程ｃ）を最高７２時間の間維持する、請求の範囲第１項に記 載の方法。 １７．工程ｃ）を最高４８時間の間維持する、請求の範囲第１項に記 載の方法。 １８．工程ｃ）を最高２４時間の間維持する、請求の範囲第１項に記 載の方法。 １９．工程ｃ）を最高４８時間の間維持する、請求の範囲第１４項に 記載の方法。 ２０．工程ｃ）を最高４８時間の間維持する、請求の範囲第１５項に 記載の方法。