JPH092995A - キラルα−ハロゲンカルボン酸の製造方法 - Google Patents
キラルα−ハロゲンカルボン酸の製造方法Info
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- JPH092995A JPH092995A JP8153663A JP15366396A JPH092995A JP H092995 A JPH092995 A JP H092995A JP 8153663 A JP8153663 A JP 8153663A JP 15366396 A JP15366396 A JP 15366396A JP H092995 A JPH092995 A JP H092995A
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】
【課題】 製薬学的活性物質の合成又は光学活性液晶の
合成のための 重要かつ用途の広い光学活性α−ブロモ
−及びα−クロロカルボン酸等の新規製造方法を提供す
ること。 【解決手段】 式（Ｉ）： 【化１７】 （Ｘは、臭素又は塩素；Ｍは、水素、ＮＲ1 4 + 又はアル
カリ若しくはアルカリ土類金属の陽イオン；Ｒ1 は、水
素又は低級アルキル；ｎは、０又は１；Ｒは、水素、Ｃ
1 〜Ｃ20アルキル（末端位で−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、
−ＯＲ3 で置換されていてもよい）又は遊離若しくは保
護−ＣＨＯ基、置換されていてもよい環Ａ；Ｒ2 は、水
素又は低級アルキル；Ｒ3 は、水素又は保護基；＊はキ
ラリティ中心）の光学活性化合物を、製造する方法であ
って、一般式（II）（Ｒ、ｎ、Ｘ、＊及びＭは、上記と
同義である）のα，β不飽和化合物を光学活性の、好ま
しくはアトロプ異性のジホスフィン配位子のルテニウム
錯体の存在下に、エナンチオ選択的に水素添加する方
法。
合成のための 重要かつ用途の広い光学活性α−ブロモ
−及びα−クロロカルボン酸等の新規製造方法を提供す
ること。 【解決手段】 式（Ｉ）： 【化１７】 （Ｘは、臭素又は塩素；Ｍは、水素、ＮＲ1 4 + 又はアル
カリ若しくはアルカリ土類金属の陽イオン；Ｒ1 は、水
素又は低級アルキル；ｎは、０又は１；Ｒは、水素、Ｃ
1 〜Ｃ20アルキル（末端位で−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、
−ＯＲ3 で置換されていてもよい）又は遊離若しくは保
護−ＣＨＯ基、置換されていてもよい環Ａ；Ｒ2 は、水
素又は低級アルキル；Ｒ3 は、水素又は保護基；＊はキ
ラリティ中心）の光学活性化合物を、製造する方法であ
って、一般式（II）（Ｒ、ｎ、Ｘ、＊及びＭは、上記と
同義である）のα，β不飽和化合物を光学活性の、好ま
しくはアトロプ異性のジホスフィン配位子のルテニウム
錯体の存在下に、エナンチオ選択的に水素添加する方
法。
Description
【０００１】本発明は、光学活性α−ブロモ−及びα−
クロロカルボン酸、並びにそれぞれそれらの塩及びエス
テルを製造する新規な方法であって、光学活性ルテニウ
ム錯体の存在下に、対応するα，β−不飽和α−ブロモ
−及びα−クロロカルボン酸誘導体をエナンチオ選択的
水素添加する方法に関する。
クロロカルボン酸、並びにそれぞれそれらの塩及びエス
テルを製造する新規な方法であって、光学活性ルテニウ
ム錯体の存在下に、対応するα，β−不飽和α−ブロモ
−及びα−クロロカルボン酸誘導体をエナンチオ選択的
水素添加する方法に関する。
【０００２】光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカル
ボン酸は、製薬学的活性物質の合成又は光学活性液晶の
合成のための、重要かつ用途の広い中間体である。
ボン酸は、製薬学的活性物質の合成又は光学活性液晶の
合成のための、重要かつ用途の広い中間体である。
【０００３】ルテニウム−Ｂｉｎａｐ錯体でのα，β−
不飽和α−フルオロカルボン酸のエナンチオ選択的水素
添加は、公知であり、Tetrahedron Letters 1992, 33,
7877中に記載されている。
不飽和α−フルオロカルボン酸のエナンチオ選択的水素
添加は、公知であり、Tetrahedron Letters 1992, 33,
7877中に記載されている。
【０００４】光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカル
ボン酸は、従来、光学活性アミノ酸又はα−ヒドロキシ
カルボン酸から製造されていた。これらの化合物は、簡
単な方法で、そして対応するＺ−α，β−不飽和抽出物
からエナンチオ選択的水素添加により、高い光学収量で
製造することができることが、現在では分かっている。
ボン酸は、従来、光学活性アミノ酸又はα−ヒドロキシ
カルボン酸から製造されていた。これらの化合物は、簡
単な方法で、そして対応するＺ−α，β−不飽和抽出物
からエナンチオ選択的水素添加により、高い光学収量で
製造することができることが、現在では分かっている。
【０００５】本発明は、したがって、式（Ｉ）：
【０００６】
【化８】
【０００７】（式中、Ｘは、臭素又は塩素を表し；Ｍ
は、水素、ＮＲ1 4 + 又はアルカリ若しくはアルカリ土類
金属の陽イオンを表し；Ｒ1 は、水素又は低級アルキル
を表し；ｎは、０又は１を表し；Ｒは、水素、１〜２０
個の炭素原子を有するアルキル（これは、場合により、
末端位で、−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 で置換さ
れている）又は遊離若しくは保護された−ＣＨＯ基、あ
るいは環Ａを表し；Ｒ2 は、水素又は低級アルキルを表
し；Ｒ3 は、水素又は保護基を表し；環Ａは、場合によ
り置換されている環を表し；そして＊はキラリティ中心
を表す）で示される、光学活性α−ブロモ−及びα−ク
ロロカルボン酸、並びにこれらの塩又はエステルを製造
する方法であって、一般式（II）：
は、水素、ＮＲ1 4 + 又はアルカリ若しくはアルカリ土類
金属の陽イオンを表し；Ｒ1 は、水素又は低級アルキル
を表し；ｎは、０又は１を表し；Ｒは、水素、１〜２０
個の炭素原子を有するアルキル（これは、場合により、
末端位で、−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 で置換さ
れている）又は遊離若しくは保護された−ＣＨＯ基、あ
るいは環Ａを表し；Ｒ2 は、水素又は低級アルキルを表
し；Ｒ3 は、水素又は保護基を表し；環Ａは、場合によ
り置換されている環を表し；そして＊はキラリティ中心
を表す）で示される、光学活性α−ブロモ−及びα−ク
ロロカルボン酸、並びにこれらの塩又はエステルを製造
する方法であって、一般式（II）：
【０００８】
【化９】
【０００９】（式中、Ｒ、ｎ、Ｘ、＊及びＭは、上記と
同義である）で示されるα，β不飽和化合物を光学活性
の、好ましくはアトロプ異性のジホスフィン配位子のル
テニウム錯体の存在下に、エナンチオ選択的に水素添加
することを含む方法に関する。
同義である）で示されるα，β不飽和化合物を光学活性
の、好ましくはアトロプ異性のジホスフィン配位子のル
テニウム錯体の存在下に、エナンチオ選択的に水素添加
することを含む方法に関する。
【００１０】本発明の範囲において、「低級アルキル」
とは、１〜５個の炭素原子を有する、直鎖又は分岐アル
キル基、例えばメチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピ
ル、ブチル、ｉ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ｉ
−ペンチル等を表す。
とは、１〜５個の炭素原子を有する、直鎖又は分岐アル
キル基、例えばメチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピ
ル、ブチル、ｉ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ｉ
−ペンチル等を表す。
【００１１】「１〜２０個の炭素原子を有するアルキ
ル」とは、本発明の範囲において、１〜２０個の炭素原
子を有する直鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシル、イソプロピル、２−
メチル−ブチル、２−メチル−ペンチル、２−メチル−
ヘキシル、２−メチル−ヘプチル、３−メチル−ブチ
ル、３−メチル−ペンチル、３−メチル−ヘキシル、３
−メチル−ヘプチル、４−メチル−ペンチル、４−メチ
ル−ヘキシル、５−メチル−ヘキシル等を含む。
ル」とは、本発明の範囲において、１〜２０個の炭素原
子を有する直鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシル、イソプロピル、２−
メチル−ブチル、２−メチル−ペンチル、２−メチル−
ヘキシル、２−メチル−ヘプチル、３−メチル−ブチ
ル、３−メチル−ペンチル、３−メチル−ヘキシル、３
−メチル−ヘプチル、４−メチル−ペンチル、４−メチ
ル−ヘキシル、５−メチル−ヘキシル等を含む。
【００１２】考慮される保護基Ｒ3 とは、通常、容易に
開裂可能であるアルコールのためのエーテル形成性保護
基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、
低級アルコキシメチル又は２−メトキシエトキシメチル
等である。
開裂可能であるアルコールのためのエーテル形成性保護
基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、
低級アルコキシメチル又は２−メトキシエトキシメチル
等である。
【００１３】「保護された−ＣＨＯ基」とは、例えばジ
エチルアセタール、１，３−ジオキサン、１，３−ジオ
キソラン等のアセタールを含む。
エチルアセタール、１，３−ジオキサン、１，３−ジオ
キソラン等のアセタールを含む。
【００１４】「場合により置換されていてもよい環」と
は、環Ａに関連して、モノ置換され得る飽和５−又は６
−員環、例えばシクロペンチル又はシクロヘキシル；不
飽和又はそれぞれモノ置換され得る芳香族５−若しくは
６−員環、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シ
クロヘキサジエン、フェニル、フラン、チオフェン、ピ
リジン、ピリミジン等；あるいは縮合環、例えばナフタ
レン、テトラヒドロナフタレン、インドール、ベンズイ
ミダゾール、キノリン、ベンゾピラン等を含む。前述の
環で考慮された置換基は、例えば低級アルキル、低級ア
ルコキシ（これらは、場合により、末端位にヒドロキ
シ、ＮＨ2 、臭素又はヨウ素を担持できる）、−Ｎ
Ｒ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 又は遊離若しくは保護さ
れた−ＣＨＯ基、及び芳香環上においてはハロゲンも意
味する。
は、環Ａに関連して、モノ置換され得る飽和５−又は６
−員環、例えばシクロペンチル又はシクロヘキシル；不
飽和又はそれぞれモノ置換され得る芳香族５−若しくは
６−員環、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シ
クロヘキサジエン、フェニル、フラン、チオフェン、ピ
リジン、ピリミジン等；あるいは縮合環、例えばナフタ
レン、テトラヒドロナフタレン、インドール、ベンズイ
ミダゾール、キノリン、ベンゾピラン等を含む。前述の
環で考慮された置換基は、例えば低級アルキル、低級ア
ルコキシ（これらは、場合により、末端位にヒドロキ
シ、ＮＨ2 、臭素又はヨウ素を担持できる）、−Ｎ
Ｒ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 又は遊離若しくは保護さ
れた−ＣＨＯ基、及び芳香環上においてはハロゲンも意
味する。
【００１５】本発明の範囲において、考慮されるアトロ
プ異性のジホスフィンのルテニウム錯体は、特に、一般
式（III)、（IV）又は（Ｖ）：
プ異性のジホスフィンのルテニウム錯体は、特に、一般
式（III)、（IV）又は（Ｖ）：
【００１６】
【化１０】
【００１７】（式中、Ｚは、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、Ｂ（フ
ェニル）4 -又はＰＦ6 -を表し；Ｚ1 は、ハロゲン、Ｙ−
ＣＯＯ- 基又はＹ−ＳＯ3 -基を表し；Ｙは、低級アルキ
ル、フェニル、ハロゲン化低級アルキル又はハロゲン化
フェニルを表し；Ｚ2 は、ハロゲンを表し；Ｘは、ベン
ゼン、ヘキサメチルベンゼン又はｐ−シメンを表し；ｍ
は、１又は２を表し；Ｚ3 は、ハロゲン、ＢＦ4 -、Ｃｌ
Ｏ4 -又はＢ（フェニル）4 -を表し；そしてＬは、光学的
に活性であり、アトロプ異性のジホスフィン配位子を表
す）で示される化合物である。
ェニル）4 -又はＰＦ6 -を表し；Ｚ1 は、ハロゲン、Ｙ−
ＣＯＯ- 基又はＹ−ＳＯ3 -基を表し；Ｙは、低級アルキ
ル、フェニル、ハロゲン化低級アルキル又はハロゲン化
フェニルを表し；Ｚ2 は、ハロゲンを表し；Ｘは、ベン
ゼン、ヘキサメチルベンゼン又はｐ−シメンを表し；ｍ
は、１又は２を表し；Ｚ3 は、ハロゲン、ＢＦ4 -、Ｃｌ
Ｏ4 -又はＢ（フェニル）4 -を表し；そしてＬは、光学的
に活性であり、アトロプ異性のジホスフィン配位子を表
す）で示される化合物である。
【００１８】好ましい光学活性アトロプ異性の配位子Ｌ
は、一般式（VI）及び（VII)：
は、一般式（VI）及び（VII)：
【００１９】
【化１１】
【００２０】（式中、Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ独立し
て、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ若しく
は保護ヒドロキシ、又は一緒になって、−Ｏ−ＣＨ2 −
若しくは−Ｏ−ＣＨ2 −Ｏ−を表し；Ｒ6 は、低級アル
キル又は低級アルコキシを表し；ｐは、０、１又は２を
表し；そしてＲ7 及びＲ8 は、それぞれ独立して、低級
アルキル、シクロアルキル、アリール若しくは５員ヘテ
ロ芳香族、又はリン原子と一緒になって、下記式：
て、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ若しく
は保護ヒドロキシ、又は一緒になって、−Ｏ−ＣＨ2 −
若しくは−Ｏ−ＣＨ2 −Ｏ−を表し；Ｒ6 は、低級アル
キル又は低級アルコキシを表し；ｐは、０、１又は２を
表し；そしてＲ7 及びＲ8 は、それぞれ独立して、低級
アルキル、シクロアルキル、アリール若しくは５員ヘテ
ロ芳香族、又はリン原子と一緒になって、下記式：
【化１２】 で示される基を表し；そして＊は、キラリティ中心を表
す）で示される化合物である。
す）で示される化合物である。
【００２１】式（VI）及び（VII)の化合物は、（Ｒ）−
又は（Ｓ）−形態で存在する。
又は（Ｓ）−形態で存在する。
【００２２】一般式（VIII）：
【００２３】
【化１３】
【００２４】（式中、Ｒ9 は、シクロアルキル又は低級
アルキルを表し；Ｒ10は、アリール又はヘテロアリール
を表し；Ｒ11は、アリール、ヘテロアリール又は低級ア
ルキルを表し；そして＊は、キラリティ中心を表す）で
示される化合物は、本発明による方法のため、光学活性
ジホスフィン配位子として適切でもある。
アルキルを表し；Ｒ10は、アリール又はヘテロアリール
を表し；Ｒ11は、アリール、ヘテロアリール又は低級ア
ルキルを表し；そして＊は、キラリティ中心を表す）で
示される化合物は、本発明による方法のため、光学活性
ジホスフィン配位子として適切でもある。
【００２５】式（III)〜（VIII）に関連して用いられる
「低級アルキル」とは、上記で定義した意味を有する。
「低級アルコキシ」とは、アルキル基が前述の意味を有
する基を表す。
「低級アルキル」とは、上記で定義した意味を有する。
「低級アルコキシ」とは、アルキル基が前述の意味を有
する基を表す。
【００２６】「ハロゲン化低級アルキル」とは、本発明
の範囲において、不定の数のハロゲン原子を有する低級
アルキル基、特に塩素、フッ素を表し、好ましくは少な
くとも１個のハロゲン原子が−ＣＯＯ基のα位に位置す
る。好ましいハロゲン化低級アルキル基は、過フッ素化
及び過塩素化低級アルキル基、例えばトリフルオロメチ
ル、ペンタフルオロエチル等である。
の範囲において、不定の数のハロゲン原子を有する低級
アルキル基、特に塩素、フッ素を表し、好ましくは少な
くとも１個のハロゲン原子が−ＣＯＯ基のα位に位置す
る。好ましいハロゲン化低級アルキル基は、過フッ素化
及び過塩素化低級アルキル基、例えばトリフルオロメチ
ル、ペンタフルオロエチル等である。
【００２７】「ハロゲン化フェニル」とは、フッ素、塩
素、臭素又はヨウ素でモノ置換又は複数置換されている
フェニルを含む。
素、臭素又はヨウ素でモノ置換又は複数置換されている
フェニルを含む。
【００２８】「ハロゲン」とは、本発明の範囲におい
て、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表す。
て、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表す。
【００２９】式（III)〜（VIII）の化合物に関連して、
ヒドロキシ基のための保護基として、通常のエーテル形
成性基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチ
ル、低級アルコキシメチル又は２−メトキシルエトキシ
メチル等を特に用いる。
ヒドロキシ基のための保護基として、通常のエーテル形
成性基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチ
ル、低級アルコキシメチル又は２−メトキシルエトキシ
メチル等を特に用いる。
【００３０】「シクロアルキル」とは、３〜８個の炭素
原子を有する環、例えばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロヘプチ
ルを環を意味する。
原子を有する環、例えばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロヘプチ
ルを環を意味する。
【００３１】「アリール」とは、本発明の範囲におい
て、特にフェニル基を表し、これは、非置換のみなら
ず、オルト−、メタ−又はパラ位でモノ置換又は複数置
換されていてもよい。適切な置換基は、フェニル、低級
アルキル基又は低級アルコキシ基であり、好ましくはメ
チル基、メトキシ基、ジ−低級アルキルアミノ、好まし
くはジメチルアミノ、フッ素、トリアルキルシリル、例
えばトリメチルシリル、スルファモイル、例えばＮ，Ｎ
−ジメチルアミノスルファモイル、スルホニル又はスル
ホニル塩等を表す。更に、アリールは、ナフチルを表す
こともできる。「ハロゲン化フェニル」とは、好ましく
はペルフルオロフェニル又はペルフルオロビフェニルを
表す。
て、特にフェニル基を表し、これは、非置換のみなら
ず、オルト−、メタ−又はパラ位でモノ置換又は複数置
換されていてもよい。適切な置換基は、フェニル、低級
アルキル基又は低級アルコキシ基であり、好ましくはメ
チル基、メトキシ基、ジ−低級アルキルアミノ、好まし
くはジメチルアミノ、フッ素、トリアルキルシリル、例
えばトリメチルシリル、スルファモイル、例えばＮ，Ｎ
−ジメチルアミノスルファモイル、スルホニル又はスル
ホニル塩等を表す。更に、アリールは、ナフチルを表す
こともできる。「ハロゲン化フェニル」とは、好ましく
はペルフルオロフェニル又はペルフルオロビフェニルを
表す。
【００３２】本発明の範囲において、「５員ヘテロ芳香
族」とは、一般式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）又は（ｄ）：
族」とは、一般式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）又は（ｄ）：
【００３３】
【化１４】
【００３４】の置換基を表す。
【００３５】式（ａ）〜（ｄ）の置換基において、Ａ
は、酸素、硫黄又は−ＮＲ13 2 を表し、Ｒ12は、水素、
低級アルキル、特にメチル又は低級アルコキシ、特にメ
トキシを表し、そしてＲ13は、低級アルキル、好ましく
はメチルを表す。
は、酸素、硫黄又は−ＮＲ13 2 を表し、Ｒ12は、水素、
低級アルキル、特にメチル又は低級アルコキシ、特にメ
トキシを表し、そしてＲ13は、低級アルキル、好ましく
はメチルを表す。
【００３６】記号（＊）は、問題のＣ原子が不斉Ｃ原子
であることを表す。
であることを表す。
【００３７】本発明に関連して用いられる式（VI）、
（VII)及び（VIII）のジホスフィン配位子は、公知の化
合物又は公知の化合物の類似体である。
（VII)及び（VIII）のジホスフィン配位子は、公知の化
合物又は公知の化合物の類似体である。
【００３８】式（III)の錯体は、公知であるか又は公知
の化合物の類似体であり、それ自体公知の方法、例えば
Takaya et al. J. Org. Chem. 1987, 52, 3174-3177 に
記載の方法により調製することができる。
の化合物の類似体であり、それ自体公知の方法、例えば
Takaya et al. J. Org. Chem. 1987, 52, 3174-3177 に
記載の方法により調製することができる。
【００３９】式（IV）及び（Ｖ）の錯体も、公知の化合
物又は公知の化合物の類似体であり、例えばＥＰ ３９
７ ０４２に記載のように調製することができる。
物又は公知の化合物の類似体であり、例えばＥＰ ３９
７ ０４２に記載のように調製することができる。
【００４０】本発明による不斉水素添加は、反応状態で
不活性な有機溶媒中又は水中で行われるのが好都合であ
る。こうして、例えば、適切な溶媒は、メタノール、エ
タノール、プロパノール等の低級アルコール；ジクロロ
メタン、クロロホルム、ヘキサフルオロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル；アセトン、ジエチルケトン、メチルエチル
ケトン等のケトン；酢酸等の酸；酢酸エチル等のエステ
ル；ペンタン、ヘキサン等の炭化水素；又は上記の溶媒
の互いの混合物若しくは水との混合物である。
不活性な有機溶媒中又は水中で行われるのが好都合であ
る。こうして、例えば、適切な溶媒は、メタノール、エ
タノール、プロパノール等の低級アルコール；ジクロロ
メタン、クロロホルム、ヘキサフルオロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル；アセトン、ジエチルケトン、メチルエチル
ケトン等のケトン；酢酸等の酸；酢酸エチル等のエステ
ル；ペンタン、ヘキサン等の炭化水素；又は上記の溶媒
の互いの混合物若しくは水との混合物である。
【００４１】式（III)、（IV）及び（Ｖ）の錯体中の配
位子Ｌに対するルテニウムの割合は、配位子の１mol に
対し約０．５〜約２mol のルテニウムが好都合であり、
好ましくは約１mol である。基質／触媒の割合（Ｓ／
Ｃ；mol/mol)は、約２０〜約３０，０００が好都合であ
り、好ましくは約１００〜５，０００である。
位子Ｌに対するルテニウムの割合は、配位子の１mol に
対し約０．５〜約２mol のルテニウムが好都合であり、
好ましくは約１mol である。基質／触媒の割合（Ｓ／
Ｃ；mol/mol)は、約２０〜約３０，０００が好都合であ
り、好ましくは約１００〜５，０００である。
【００４２】式（III)、（IV）及び（Ｖ）の錯体を用い
る不斉水素添加は、約１０℃〜約１００℃の温度で好都
合に行われ、好ましくは約２０℃〜６０℃で行われる。
水素添加は、圧力下で行われるのが好都合であり、好ま
しくは約１〜約１００バールの圧力、特に約２〜約８０
バールで行われる。
る不斉水素添加は、約１０℃〜約１００℃の温度で好都
合に行われ、好ましくは約２０℃〜６０℃で行われる。
水素添加は、圧力下で行われるのが好都合であり、好ま
しくは約１〜約１００バールの圧力、特に約２〜約８０
バールで行われる。
【００４３】本発明による方法は、Ｒが、水素、１〜１
２個の炭素原子を有する直鎖のアルキル基、又は直鎖の
アルキル基（これは、末端位でヒドロキシ基又は式（Ｃ
Ｈ3Ｏ)2ＣＨ−若しくは（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ)2ＣＨ−の基、あ
るいは下記式：
２個の炭素原子を有する直鎖のアルキル基、又は直鎖の
アルキル基（これは、末端位でヒドロキシ基又は式（Ｃ
Ｈ3Ｏ)2ＣＨ−若しくは（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ)2ＣＨ−の基、あ
るいは下記式：
【００４４】
【化１５】
【００４５】で示される環の一つ（これは、場合により
で置換されていてもよい）で置換されている）を表す式
（Ｉ）の化合物の製造に極めて適切である。
で置換されていてもよい）で置換されている）を表す式
（Ｉ）の化合物の製造に極めて適切である。
【００４６】上述の環上で考慮される置換基は、末端位
において場合によりヒドロキシ、ＮＨ2 、臭素若しくは
ヨウ素を担持できる低級アルキル又は低級アルコキシ基
であり；６員環は、好ましくは４位で置換され、５員環
は、好ましくは３位で置換され、そして縮合環は、好ま
しくは６位で置換されている。
において場合によりヒドロキシ、ＮＨ2 、臭素若しくは
ヨウ素を担持できる低級アルキル又は低級アルコキシ基
であり；６員環は、好ましくは４位で置換され、５員環
は、好ましくは３位で置換され、そして縮合環は、好ま
しくは６位で置換されている。
【００４７】本発明による方法は、簡易な方法で、一連
の目的の中間生成物、例えば反応スキーム１に記述のよ
うに、光学活性α−フルオロ−（１）、α−ヒドロキシ
−（２）及びα−アミノカルボン酸、並びにそれぞれそ
れらの塩又はエステル（３）の入手方法を提供する。
の目的の中間生成物、例えば反応スキーム１に記述のよ
うに、光学活性α−フルオロ−（１）、α−ヒドロキシ
−（２）及びα−アミノカルボン酸、並びにそれぞれそ
れらの塩又はエステル（３）の入手方法を提供する。
【００４８】
【化１６】
【００４９】対応するα−ヒドロキシ誘導体（２）への
式（Ｉ）の化合物の変換は、遊離の酸又は塩から直接行
われる。対応するα−フルオロ−（１）又はα−アミノ
カルボン酸（３）への式（Ｉ）の化合物の変換のため
に、後で問題なく開裂し得るエステルを、まず形成させ
るのが好都合である。式（Ｉ）の化合物は、還元、例え
ばＢＨ3 ・ＴＨＦ錯体により、対応するアルコール
（４）に変換することができる。
式（Ｉ）の化合物の変換は、遊離の酸又は塩から直接行
われる。対応するα−フルオロ−（１）又はα−アミノ
カルボン酸（３）への式（Ｉ）の化合物の変換のため
に、後で問題なく開裂し得るエステルを、まず形成させ
るのが好都合である。式（Ｉ）の化合物は、還元、例え
ばＢＨ3 ・ＴＨＦ錯体により、対応するアルコール
（４）に変換することができる。
【００５０】遊離物として用いられる式（II）の化合物
は、公知の化合物又は公知の化合物の類似体であり、そ
れ自体、公知の方法で調製することができる。
は、公知の化合物又は公知の化合物の類似体であり、そ
れ自体、公知の方法で調製することができる。
【００５１】以下の実施例は、本発明を例証しており、
いかなる制限を表すものでもない。使用されている略語
を、下記に説明する：
いかなる制限を表すものでもない。使用されている略語
を、下記に説明する：
【００５２】ＧＣ面積％は、ガスクロマトグラフィー、
面積％を表し；ｅｅは、鏡像異性体の収率を表し；ＢＩ
ＰＨＥＭＰは、（６，６′−ジメチルビフェニル−２，
２′−ジイル）ビス−（ジフェニルホスフィン）を表
し；ＢＩＮＡＰは、〔（１，１′−ビナフチル）−２，
２′−ジイル〕ビス（ジフェニル−ホスフィン）を表
し；Ｃｙ2 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−Ｐ２，Ｐ
２−ジシクロヘキシル−６，６′−ジメトキシ−Ｐ
２′，Ｐ２′−ジフェニル−ビフェニル−２，２′−ビ
ス−ホスフィンを表し；２−Ｆｕｒｙｌ2 −ＢＩＰＨＥ
ＭＰは、Ｐ，Ｐ−ジフェニル−Ｐ′，Ｐ′−ジ−２−フ
リルフェニル）−（６，６′−ジメチル−ビフェニル−
２，２′−ジイル）ジホスフィンを表し；Ｃｙ4 −Ｍｅ
ＯＢＩＰＨＥＰは、（６，６′−ジメトキシビフェニル
−２，２′−ジイル）ビス−（ジシクロヘキシル−ホス
フィン）を表し；（Ｓ）−（３，５−ｌｐｒ，４−Ｍｅ
Ｏ）−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−６，６′−ジメ
チル−Ｐ，Ｐ，Ｐ′，Ｐ′−テトラキス−（ジイソプロ
ピル−４−メトキシ−フェニル）ビフェニル−２，２′
−ビスホスフィンを表し；ｌｐｒ4 −ＭｅＯＢＩＰＨＥ
Ｐは、（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−
ジイル）ビス−（ジイソプロピル−ホスフィン）を表
し；（Ｒ）−（Ｓ）−ＰＰＦ−Ｐ（ｔＢｕ）2 は、
｛（Ｒ）−１−〔（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィ
ノ）フェロセニル〕｝エチル−ジ−tert−ブチルホスフ
ィンを表し；ＭｅＰＨＯＳ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、
〔｛２，５−ジメチル−ホスホラン−１−イル｝−６，
６′−ジメトキシ−ビフェニル−２−イル〕−２，５−
ジメチル−ホスホランを表し；ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ−Ｔ
Ｓ−Ｎａは、６，６′−ジメトキシビフェニル−２，
２′−ビス（４，４′−ホスフィン−ジイル）−ジベン
ゼンスルホン酸ナトリウム塩を表す。
面積％を表し；ｅｅは、鏡像異性体の収率を表し；ＢＩ
ＰＨＥＭＰは、（６，６′−ジメチルビフェニル−２，
２′−ジイル）ビス−（ジフェニルホスフィン）を表
し；ＢＩＮＡＰは、〔（１，１′−ビナフチル）−２，
２′−ジイル〕ビス（ジフェニル−ホスフィン）を表
し；Ｃｙ2 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−Ｐ２，Ｐ
２−ジシクロヘキシル−６，６′−ジメトキシ−Ｐ
２′，Ｐ２′−ジフェニル−ビフェニル−２，２′−ビ
ス−ホスフィンを表し；２−Ｆｕｒｙｌ2 −ＢＩＰＨＥ
ＭＰは、Ｐ，Ｐ−ジフェニル−Ｐ′，Ｐ′−ジ−２−フ
リルフェニル）−（６，６′−ジメチル−ビフェニル−
２，２′−ジイル）ジホスフィンを表し；Ｃｙ4 −Ｍｅ
ＯＢＩＰＨＥＰは、（６，６′−ジメトキシビフェニル
−２，２′−ジイル）ビス−（ジシクロヘキシル−ホス
フィン）を表し；（Ｓ）−（３，５−ｌｐｒ，４−Ｍｅ
Ｏ）−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−６，６′−ジメ
チル−Ｐ，Ｐ，Ｐ′，Ｐ′−テトラキス−（ジイソプロ
ピル−４−メトキシ−フェニル）ビフェニル−２，２′
−ビスホスフィンを表し；ｌｐｒ4 −ＭｅＯＢＩＰＨＥ
Ｐは、（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−
ジイル）ビス−（ジイソプロピル−ホスフィン）を表
し；（Ｒ）−（Ｓ）−ＰＰＦ−Ｐ（ｔＢｕ）2 は、
｛（Ｒ）−１−〔（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィ
ノ）フェロセニル〕｝エチル−ジ−tert−ブチルホスフ
ィンを表し；ＭｅＰＨＯＳ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、
〔｛２，５−ジメチル−ホスホラン−１−イル｝−６，
６′−ジメトキシ−ビフェニル−２−イル〕−２，５−
ジメチル−ホスホランを表し；ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ−Ｔ
Ｓ−Ｎａは、６，６′−ジメトキシビフェニル−２，
２′−ビス（４，４′−ホスフィン−ジイル）−ジベン
ゼンスルホン酸ナトリウム塩を表す。
【００５３】
実施例１ グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、ジエチ
ルエーテル６ml及びテトラヒドロフラン２mlの混合物中
に、ビス（η2 −アセタート）（η4 −シクロオクタ−
１，５−ジエン）ルテニウム（II）７．４mg（０．０２
２６mmol）及び（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ１２．５mg
（０．０２２６mmol）を溶解し、４０℃で１．５時間撹
拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸
０．５g （２．２６mmol）及びメタノール６０mlを、グ
ローブボックス中で、１８５mlオートクレーブ中に入
れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレ
ーブを密閉し、５０bar の一定した圧力下で撹拌しなが
ら２０℃で水素添加を行った。水素添加は、１７時間後
に中断した。変換は９３％であった。水素添加溶液は、
５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオ
ーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−
２−ブロモ−オクタン酸（９４．３％ｅｅ）９３％及び
抽出物７％よりなる混合物０．４ｇ（８０％）を、無色
油状物として得た。ｅｅ測定のために、生成物の試料
は、ジアゾメタンでエステル化し、キラル相（ＯＶ−６
１と混合したペルメチル化シクロデキストリン）上でガ
スクロマトグラフィーにより分析した。
ルエーテル６ml及びテトラヒドロフラン２mlの混合物中
に、ビス（η2 −アセタート）（η4 −シクロオクタ−
１，５−ジエン）ルテニウム（II）７．４mg（０．０２
２６mmol）及び（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ１２．５mg
（０．０２２６mmol）を溶解し、４０℃で１．５時間撹
拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸
０．５g （２．２６mmol）及びメタノール６０mlを、グ
ローブボックス中で、１８５mlオートクレーブ中に入
れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレ
ーブを密閉し、５０bar の一定した圧力下で撹拌しなが
ら２０℃で水素添加を行った。水素添加は、１７時間後
に中断した。変換は９３％であった。水素添加溶液は、
５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオ
ーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−
２−ブロモ−オクタン酸（９４．３％ｅｅ）９３％及び
抽出物７％よりなる混合物０．４ｇ（８０％）を、無色
油状物として得た。ｅｅ測定のために、生成物の試料
は、ジアゾメタンでエステル化し、キラル相（ＯＶ−６
１と混合したペルメチル化シクロデキストリン）上でガ
スクロマトグラフィーにより分析した。
【００５４】実施例２ 触媒溶液を、グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）
中でメタノール２０mlにＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩ
ＰＨＥＭＰ〕０．３５ｇ（０．４５mmol）を溶解するこ
とによって調製し、２０℃で１５分間撹拌した。次い
で、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１０．０ｇ
（４５．２mmol）及びメタノール９４mlを１８５mlオー
トクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加
えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の一
定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。３時
間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、５０
℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブ
ン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−
ブロモ−オクタン酸（９３．８％ｅｅ）９８．６％及び
抽出物１．４％よりなる混合物９．４ｇ（９４％）を無
色油状物として得た。
中でメタノール２０mlにＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩ
ＰＨＥＭＰ〕０．３５ｇ（０．４５mmol）を溶解するこ
とによって調製し、２０℃で１５分間撹拌した。次い
で、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１０．０ｇ
（４５．２mmol）及びメタノール９４mlを１８５mlオー
トクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加
えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の一
定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。３時
間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、５０
℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブ
ン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−
ブロモ−オクタン酸（９３．８％ｅｅ）９８．６％及び
抽出物１．４％よりなる混合物９．４ｇ（９４％）を無
色油状物として得た。
【００５５】実施例３ グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶
液を水２０mlにＲｕ（ＣＦ3 ＣＯＯ)2〔（Ｓ）−ＭｅＯ
ＢＩＰＨＥＰ−ＴＳ−Ｎａ〕５９．６mg（０．０４５mm
ol）を溶解することによって調製し、２０℃で１５分間
撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン
酸１．０g （４．５２mmol）、水３０ml及びトリエチル
アミン０．４６ｇ（４．５２mmol）を１８５mlオートク
レーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液２０mlを
加えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の
一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。４
時間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、１
N ＨＣｌ溶液でpH１の酸性とし、ジエチルエーテルで抽
出した。エーテル抽出物（４０℃／２０mbar）を乾燥及
び蒸発させた後、残渣をバルブチューブオーブン中で１
１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｓ）−２−ブロモ−
オクタン酸０．９ｇ（９０％）を無色油状物として得
た。化学的純度９８．９ＧＣ面積％；９３．０％ｅｅ
液を水２０mlにＲｕ（ＣＦ3 ＣＯＯ)2〔（Ｓ）−ＭｅＯ
ＢＩＰＨＥＰ−ＴＳ−Ｎａ〕５９．６mg（０．０４５mm
ol）を溶解することによって調製し、２０℃で１５分間
撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン
酸１．０g （４．５２mmol）、水３０ml及びトリエチル
アミン０．４６ｇ（４．５２mmol）を１８５mlオートク
レーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液２０mlを
加えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の
一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。４
時間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、１
N ＨＣｌ溶液でpH１の酸性とし、ジエチルエーテルで抽
出した。エーテル抽出物（４０℃／２０mbar）を乾燥及
び蒸発させた後、残渣をバルブチューブオーブン中で１
１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｓ）−２−ブロモ−
オクタン酸０．９ｇ（９０％）を無色油状物として得
た。化学的純度９８．９ＧＣ面積％；９３．０％ｅｅ
【００５６】実施例４〜２６ 第１表に記載の水素添加は、実施例１又は２と同様の方
法で行った。
法で行った。
【００５７】
【表１】
【００５８】
【表２】
【００５９】１）触媒調製：実施例２と同じ ２）触媒調製：実施例１と同じ ３）M. Scalone, Abstract; 9th International Sympos
ium on Homogeneous Catalysis, August 21-26, 1994に
より調製
ium on Homogeneous Catalysis, August 21-26, 1994に
より調製
【００６０】実施例２７ グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶
液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−Ｂ
ＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．００４５mmol）及び
８５％エーテル性ＨＢＦ4 溶液１７．２mg（０．０９０
５mmol）を溶解することにより調製し、２０℃で１．５
時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オク
テン酸１．０ｇ（４．５２mmol）及びメタノール１０５
mlを１８５mlオートクレーブに中に入れ、上記により調
製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５
０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素
添加を行った。２１時間後、変換は９８％であった。水
素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバ
ルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留
した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸０．６g を無色
油状物として得た。化学的純度９７．３ＧＣ面積％；８
６．０％ｅｅ
液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−Ｂ
ＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．００４５mmol）及び
８５％エーテル性ＨＢＦ4 溶液１７．２mg（０．０９０
５mmol）を溶解することにより調製し、２０℃で１．５
時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オク
テン酸１．０ｇ（４．５２mmol）及びメタノール１０５
mlを１８５mlオートクレーブに中に入れ、上記により調
製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５
０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素
添加を行った。２１時間後、変換は９８％であった。水
素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバ
ルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留
した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸０．６g を無色
油状物として得た。化学的純度９７．３ＧＣ面積％；８
６．０％ｅｅ
【００６１】実施例２８ グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶
液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−Ｂ
ＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．０４５mmol）及びメ
タノール性ＨＣｌ溶液０．０９mol １mlを溶解すること
により調製し、２０℃で１．５時間撹拌した。次いで、
（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０ｇ（４．５
２mmol）及びメタノール１０５mlを１８５mlオートクレ
ーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。
オートクレーブを密閉し、５０℃で５０bar の一定した
圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。２１時間
後、変換は８７％であった。水素添加溶液は、５０℃／
２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中
で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロ
モ−オクタン酸（８５．４％ｅｅ）８６％及び抽出物１
４％の混合物０．６ｇを無色油状物として得た。
液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−Ｂ
ＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．０４５mmol）及びメ
タノール性ＨＣｌ溶液０．０９mol １mlを溶解すること
により調製し、２０℃で１．５時間撹拌した。次いで、
（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０ｇ（４．５
２mmol）及びメタノール１０５mlを１８５mlオートクレ
ーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。
オートクレーブを密閉し、５０℃で５０bar の一定した
圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。２１時間
後、変換は８７％であった。水素添加溶液は、５０℃／
２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中
で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロ
モ−オクタン酸（８５．４％ｅｅ）８６％及び抽出物１
４％の混合物０．６ｇを無色油状物として得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 59/147 9450−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 59/147 227/14 9450−4Ｈ 227/14 229/20 9450−4Ｈ 229/20 Ｃ０７Ｆ 15/00 9450−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 15/00 Ａ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 リヒャルト・ブヘッケル スイス国、ツェーハー−8008 チューリッ ヒ、フェルゼンシュトラーセ 12アー (72)発明者 イボ・クラメリ スイス国、ツェーハー−4104 オーベルヴ ィル、ホーエシュトラーセ 103 (72)発明者 テオドール・ルカック スイス国、ツェーハー−4123 アルシュヴ ィル、バーゼルマットヴェーク 36
Claims (8)
- 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 （式中、 Ｘは、臭素又は塩素を表し；Ｍは、水素、ＮＲ1 4 + 又は
アルカリ若しくはアルカリ土類金属の陽イオンを表し；
Ｒ1 は、水素又は低級アルキルを表し；ｎは、０又は１
を表し；Ｒは、水素、１〜２０個の炭素原子を有するア
ルキル（これは、場合により、末端位で、−ＮＲ2 2、−
ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 で置換されていてもよい）又は遊
離若しくは保護された−ＣＨＯ基、あるいは環Ａを表
し；Ｒ2 は、水素又は低級アルキルを表し；Ｒ3 は、水
素又は保護基を表し；環Ａは、場合により置換されてい
てもよい環を表し；そして＊はキラリティ中心を表す）
で示される光学活性α−ブロモ−若しくはα−クロロカ
ルボン酸、又はそれぞれ、これらの塩若しくはエステル
を、製造する方法であって、 一般式（II）： 【化２】 （式中、 Ｒ、ｎ、Ｘ及びＭは、上記と同義である）で示される
α，β不飽和化合物を、光学活性の、好ましくはアトロ
プ異性のジホスフィン配位子のルテニウム錯体の存在下
に、エナンチオ選択的に水素添加することを特徴とする
方法。 - 【請求項２】 式（III)、（IV）又は（Ｖ）： 【化３】 （式中、 Ｚは、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、Ｂ（フェニル）4 -又はＰＦ6 -
を表し；Ｚ1 は、ハロゲン、Ｙ−ＣＯＯ- 基又はＹ−Ｓ
Ｏ3 -基を表し；Ｙは、低級アルキル、フェニル、ハロゲ
ン化低級アルキル又はハロゲン化フェニルを表し；Ｚ2
は、ハロゲンを表し；Ｘは、ベンゼン、ヘキサメチルベ
ンゼン又はｐ−シメンを表し；ｍは、１又は２を表し；
Ｚ3 は、ハロゲン、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -又はＢ（フェニ
ル）4 -を表し；そしてＬは、光学的に活性であり、アト
ロプ異性のジホスフィン配位子を表す）で示されるルテ
ニウム錯体が用いられる、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 アトロプ異性の配位子Ｌが、一般式（V
I）又は（VII)： 【化４】 （式中、 Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ独立して、低級アルキル、低
級アルコキシ、ヒドロキシ若しくは保護されたヒドロキ
シを表すか、又は一緒になって、−Ｏ−ＣＨ2−若しく
は−Ｏ−ＣＨ2 −Ｏ−を表し；Ｒ6 は、低級アルキル又
は低級アルコキシを表し；ｐは、０、１又は２を表し；
そしてＲ7 及びＲ8 は、それぞれ独立して、低級アルキ
ル、シクロアルキル、アリール若しくは５員ヘテロ芳香
族を表すか、又はリン原子と一緒になって、下記式： 【化５】 で示される基を表し；そして＊は、キラリティ中心を表
す）で示され、（Ｒ）−又は（Ｓ）−形態で存在する化
合物である、請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 アトロプ異性の配位子Ｌが、一般式（VI
II）： 【化６】 （式中、 Ｒ9 は、シクロアルキル又は低級アルキルを表し；Ｒ10
は、アリール又はヘテロアリールを表し；Ｒ11は、アリ
ール、ヘテロアリール又は低級アルキルを表し；そして
＊は、キラリティ中心を表す）で示される化合物であ
る、請求項２記載の方法。 - 【請求項５】 式（III)、（IV）又は（Ｖ）の錯体中の
配位子Ｌに対するルテニウムの割合が、約０．５〜約２
mol である、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項６】 基質／触媒の割合：（Ｓ／Ｃ；mol/mol)
が、約２０〜約３０，０００である、請求項１〜４のい
ずれか１項記載の方法 - 【請求項７】 反応が、約２０℃〜約６０℃の温度、及
び約２〜約８０バールの圧力で実施される、請求項１〜
４のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項８】 Ｒが、水素、１〜１２個の炭素原子を有
する直鎖のアルキル基、又は、直鎖のアルキル基（これ
は、末端位でヒドロキシ基又は式：（ＣＨ3Ｏ)2ＣＨ−
若しくは（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ)2ＣＨ−の基、あるいは下記式： 【化７】 で示される環の一つ（これは、場合により置換されてい
てもよい）で置換されている）を表す式（II）の化合物
が、水素化される、請求項１〜４のいずれか１項記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH182095 | 1995-06-21 | ||
| CH01820/95-8 | 1995-06-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH092995A true JPH092995A (ja) | 1997-01-07 |
| JP3912818B2 JP3912818B2 (ja) | 2007-05-09 |
Family
ID=4219368
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