JP3000314B2 - 光学活性２−フルオロアルカン酸の製造方法 - Google Patents
光学活性２−フルオロアルカン酸の製造方法Info
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、α，β−不飽和−α−
フルオロカルボン酸類を、ルテニウム−光学活性ホスフ
ィン錯体を触媒として用いて不斉水素化することによ
り、強誘電性液晶の合成中間体として有用な光学活性２
−フルオロアルカン酸を製造する方法に関する。
フルオロカルボン酸類を、ルテニウム−光学活性ホスフ
ィン錯体を触媒として用いて不斉水素化することによ
り、強誘電性液晶の合成中間体として有用な光学活性２
−フルオロアルカン酸を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光学活
性２−フルオロアルカン酸は、強誘電性液晶性化合物の
不斉炭素部として有用であることが知られている（特開
平１−１１８５９３号公報）。その製造方法のうち、光
学活性なα−アミノ酸を出発原料とする方法（特開平１
−１１８５９３号公報）としては、フッ化水素酸−ピリ
ジン中で光学活性α−アミノ酸に亜硝酸ナトリウムを作
用させて光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法、
及び光学活性α−アミノ酸をα−ヒドロキシ酸エステル
に誘導した後、水酸基をメタンスルホネートに変換し、
次いでフッ化テトラブチルアンモニウムを作用させてα
−フルオロアルカン酸エステルとし、最後にケン化、中
和して光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法があ
る。
性２−フルオロアルカン酸は、強誘電性液晶性化合物の
不斉炭素部として有用であることが知られている（特開
平１−１１８５９３号公報）。その製造方法のうち、光
学活性なα−アミノ酸を出発原料とする方法（特開平１
−１１８５９３号公報）としては、フッ化水素酸−ピリ
ジン中で光学活性α−アミノ酸に亜硝酸ナトリウムを作
用させて光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法、
及び光学活性α−アミノ酸をα−ヒドロキシ酸エステル
に誘導した後、水酸基をメタンスルホネートに変換し、
次いでフッ化テトラブチルアンモニウムを作用させてα
−フルオロアルカン酸エステルとし、最後にケン化、中
和して光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法があ
る。
【０００３】しかしながら、このような光学活性α−ア
ミノ酸を出発原料とする場合には、天然に存在するアミ
ノ酸を用いることになり、利用できるアミノ酸の種類が
限定され、しかも利用できる光学活性体の絶体配置も限
定されるという問題があった。また、フッ化水素酸−ピ
リジン中で亜硝酸ナトリウムを作用させる方法は、工程
数は短いものの、収率が非常に低く、さらにヒドロキシ
酸を経由する方法は、工程数が多く、特殊な試薬を必要
とするため、経済的な方法とは云い難かった。
ミノ酸を出発原料とする場合には、天然に存在するアミ
ノ酸を用いることになり、利用できるアミノ酸の種類が
限定され、しかも利用できる光学活性体の絶体配置も限
定されるという問題があった。また、フッ化水素酸−ピ
リジン中で亜硝酸ナトリウムを作用させる方法は、工程
数は短いものの、収率が非常に低く、さらにヒドロキシ
酸を経由する方法は、工程数が多く、特殊な試薬を必要
とするため、経済的な方法とは云い難かった。
【０００４】また、光学活性エポキシドを出発原料とす
る方法としては、ピリジニウム−フッ化水素酸塩の水溶
液中に光学活性エポキシドを加えて２−フルオロアルカ
ノールとした後、これに無水酢酸を作用させて２−フル
オロアルカノール酢酸エステルとし、次いで硝酸酸化し
て光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法〔Ｈ．Ｎ
ＯＨＩＲＡら、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓ
ｔ．，１８０Ｂ，３７９〜３８８頁（１９９０）〕、２
−フルオロアルカノールを過マンガン酸カリウムを用い
て酸化して光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法
（特開平１−１１８５９３号公報）等が知られている。
る方法としては、ピリジニウム−フッ化水素酸塩の水溶
液中に光学活性エポキシドを加えて２−フルオロアルカ
ノールとした後、これに無水酢酸を作用させて２−フル
オロアルカノール酢酸エステルとし、次いで硝酸酸化し
て光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法〔Ｈ．Ｎ
ＯＨＩＲＡら、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓ
ｔ．，１８０Ｂ，３７９〜３８８頁（１９９０）〕、２
−フルオロアルカノールを過マンガン酸カリウムを用い
て酸化して光学活性２−フルオロアルカン酸とする方法
（特開平１−１１８５９３号公報）等が知られている。
【０００５】しかしながら、これらの方法においても、
出発原料となる光学活性エポキシドの入手が困難であ
り、また２−フルオロアルカン酸に至る工程が複雑であ
ったり、収率が低いなどの問題があった。
出発原料となる光学活性エポキシドの入手が困難であ
り、また２−フルオロアルカン酸に至る工程が複雑であ
ったり、収率が低いなどの問題があった。
【０００６】従って、簡便で応用性が高く、しかも経済
的な光学活性２−フルオロアルカン酸の製造方法の開発
が望まれていた。
的な光学活性２−フルオロアルカン酸の製造方法の開発
が望まれていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、触媒として比較的安
価なルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を用い、特定
のα，β−不飽和カルボン酸を不斉水素化すれば、簡便
でかつ経済的に２−フルオロアルカン酸を製造すること
ができることを見出し、本発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を行った結果、触媒として比較的安
価なルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を用い、特定
のα，β−不飽和カルボン酸を不斉水素化すれば、簡便
でかつ経済的に２−フルオロアルカン酸を製造すること
ができることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】すなわち、本発明は、一般式（１）
【０００９】
【化４】
【００１０】（式中、波線はシス位及び／又はトランス
位を示し、Ｒ1 は低級アルコキシ基で置換されていても
よい炭素数１〜１２のアルキル基を示す。但し、低級ア
ルコキシ基はさらに低級アルコキシ基で置換されていて
もよい）で表わされるα，β−不飽和カルボン酸を、一
般式（２）〜（４） Ru2Cl4(L)2(NEt3) （２） 〔式中、Ｅｔはエチル基を示し、Ｌは式（５）
位を示し、Ｒ1 は低級アルコキシ基で置換されていても
よい炭素数１〜１２のアルキル基を示す。但し、低級ア
ルコキシ基はさらに低級アルコキシ基で置換されていて
もよい）で表わされるα，β−不飽和カルボン酸を、一
般式（２）〜（４） Ru2Cl4(L)2(NEt3) （２） 〔式中、Ｅｔはエチル基を示し、Ｌは式（５）
【００１１】
【化５】
【００１２】（式中、Ｒ2 は水素原子、メチル基又はｔ
ｅｒｔ−ブチル基を示す）を示す〕 Ru(OCOR3)2L （３） （式中、Ｒ3は低級アルキル基又はトリフルオロメチル
基を示し、Ｌは前記と同じ意味を有する） RuX2L （４） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｌは前記と同じ意味
を有する）で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィ
ン錯体の少なくとも１種を触媒として不斉水素化するこ
とを特徴とする一般式（６）
ｅｒｔ−ブチル基を示す）を示す〕 Ru(OCOR3)2L （３） （式中、Ｒ3は低級アルキル基又はトリフルオロメチル
基を示し、Ｌは前記と同じ意味を有する） RuX2L （４） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｌは前記と同じ意味
を有する）で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィ
ン錯体の少なくとも１種を触媒として不斉水素化するこ
とを特徴とする一般式（６）
【００１３】
【化６】
【００１４】（式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を有し、＊
は不斉炭素であることを示す）で表わされる光学活性２
−フルオロアルカン酸の製造方法を提供するものであ
る。
は不斉炭素であることを示す）で表わされる光学活性２
−フルオロアルカン酸の製造方法を提供するものであ
る。
【００１５】本発明において、低級アルコキシ基とは、
炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖を有するアルコキシ基を
意味する。またアルキル基には、直鎖、分岐鎖のいずれ
も含まれる。原料として用いられるα，β−不飽和カル
ボン酸（１）としては、例えば（Ｚ）−２−フルオロ−
２−ヘキセン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ブテン
酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ヘプテン酸、（Ｚ）−
２−フルオロ−２−ノネン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−
２−ドデセン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ウンデセ
ン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−オクテン酸、（Ｚ）
−１１−メトキシ−２−フルオロ−２−ウンデセン酸、
（Ｚ）−６−メトキシ−２−フルオロ−２−ヘキセン
酸、（Ｚ）−８−メトキシエトキシ−２−フルオロ−２
−オクテン酸、（Ｚ）−６−メトキシエトキシ−２−フ
ルオロ−２−ヘキセン酸、（Ｅ）−２−フルオロ−２−
ヘキセン酸、（Ｅ）−２−フルオロ−２−ブテン酸、
（Ｅ）−２−フルオロ−２−ヘプテン酸等が挙げられ
る。これらの化合物は、例えばＴａｋａｓｈｉ Ｉｓｈ
ｉｈａｒａらの方法〔Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１１４５
〜１１４８頁（１９８７）〕や、Ａ．Ｇｏｏｓｅｎらの
方法〔Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４０３３頁（１９６
１）〕等に従って製造することができる。
炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖を有するアルコキシ基を
意味する。またアルキル基には、直鎖、分岐鎖のいずれ
も含まれる。原料として用いられるα，β−不飽和カル
ボン酸（１）としては、例えば（Ｚ）−２−フルオロ−
２−ヘキセン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ブテン
酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ヘプテン酸、（Ｚ）−
２−フルオロ−２−ノネン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−
２−ドデセン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ウンデセ
ン酸、（Ｚ）−２−フルオロ−２−オクテン酸、（Ｚ）
−１１−メトキシ−２−フルオロ−２−ウンデセン酸、
（Ｚ）−６−メトキシ−２−フルオロ−２−ヘキセン
酸、（Ｚ）−８−メトキシエトキシ−２−フルオロ−２
−オクテン酸、（Ｚ）−６−メトキシエトキシ−２−フ
ルオロ−２−ヘキセン酸、（Ｅ）−２−フルオロ−２−
ヘキセン酸、（Ｅ）−２−フルオロ−２−ブテン酸、
（Ｅ）−２−フルオロ−２−ヘプテン酸等が挙げられ
る。これらの化合物は、例えばＴａｋａｓｈｉ Ｉｓｈ
ｉｈａｒａらの方法〔Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１１４５
〜１１４８頁（１９８７）〕や、Ａ．Ｇｏｏｓｅｎらの
方法〔Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４０３３頁（１９６
１）〕等に従って製造することができる。
【００１６】本発明で用いられる触媒のルテニウム−光
学活性ホスフィン錯体のうち、前記一般式（２）で表わ
される錯体は、例えばＴ．Ｉｋａｒｉｙａらの方法
〔Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，９２２〜９２４頁（１９８５）〕、特開昭６１−
６３６９０号公報に記載されている方法等により製造す
ることができる。すなわち、例えばルテニウムクロリド
とシクロオクタ−１，５−ジエン（以下、ＣＯＤと略
す）をエタノール溶媒中で反応させることにより得られ
る［ＲｕＣｌ2（ＣＯＤ）］n １モルと、一般式（５）
で表わされる２，２′−ビス〔ジ（ｐ−置換フェニル）
ホスフィノ〕−１，１′−ビナフチル１．２モルを、ト
リエチルアミン４モルの存在下で、トルエン、エタノー
ル等の溶媒中で加熱反応させることにより得ることがで
きる。
学活性ホスフィン錯体のうち、前記一般式（２）で表わ
される錯体は、例えばＴ．Ｉｋａｒｉｙａらの方法
〔Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，９２２〜９２４頁（１９８５）〕、特開昭６１−
６３６９０号公報に記載されている方法等により製造す
ることができる。すなわち、例えばルテニウムクロリド
とシクロオクタ−１，５−ジエン（以下、ＣＯＤと略
す）をエタノール溶媒中で反応させることにより得られ
る［ＲｕＣｌ2（ＣＯＤ）］n １モルと、一般式（５）
で表わされる２，２′−ビス〔ジ（ｐ−置換フェニル）
ホスフィノ〕−１，１′−ビナフチル１．２モルを、ト
リエチルアミン４モルの存在下で、トルエン、エタノー
ル等の溶媒中で加熱反応させることにより得ることがで
きる。
【００１７】また、一般式（３）で表わされる錯体は、
例えば特開昭６２−２６５２９３号公報に記載されてい
る方法により製造することができる。すなわち、前記一
般式（２）で表わされる錯体と、カルボン酸塩をメタノ
ール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコー
ル溶媒中で反応させた後、溶媒を留去し、次いでエーテ
ル、エタノール等の溶媒で抽出して錯体を得る。また、
一般式（３）において、Ｒ3がトリフルオロメチル基の
ものは、例えば上記の如くして得たＲｕ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2（Ｌ）に、塩化メチレンを溶媒としてトリフルオ
ロ酢酸を反応させることにより得ることができる。
例えば特開昭６２−２６５２９３号公報に記載されてい
る方法により製造することができる。すなわち、前記一
般式（２）で表わされる錯体と、カルボン酸塩をメタノ
ール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコー
ル溶媒中で反応させた後、溶媒を留去し、次いでエーテ
ル、エタノール等の溶媒で抽出して錯体を得る。また、
一般式（３）において、Ｒ3がトリフルオロメチル基の
ものは、例えば上記の如くして得たＲｕ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2（Ｌ）に、塩化メチレンを溶媒としてトリフルオ
ロ酢酸を反応させることにより得ることができる。
【００１８】さらに、一般式（４）で表わされる錯体
は、例えばＲ．Ｎｏｙｏｒｉらの方法〔Ｊ．Ａｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，１０９，５８５６（１９８７）〕等に
より製造することができる。すなわち、例えばメタノー
ル中で一般式（４）で表わされる錯体を、塩化水素又は
臭化水素と１：２のモル比で反応させた後、溶媒を減圧
留去して得ることができる。
は、例えばＲ．Ｎｏｙｏｒｉらの方法〔Ｊ．Ａｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，１０９，５８５６（１９８７）〕等に
より製造することができる。すなわち、例えばメタノー
ル中で一般式（４）で表わされる錯体を、塩化水素又は
臭化水素と１：２のモル比で反応させた後、溶媒を減圧
留去して得ることができる。
【００１９】これらのルテニウム−光学活性ホスフィン
錯体の例としては、次のものが挙げられる。なお、これ
ら錯体中のホスフィン誘導体は、それぞれ鏡像体を有し
ているが、それらの表示は省略した。 Ｒｕ2Ｃｌ4（ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3） 〔ＢＩＮＡＰは、２，２′−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）−１，１′−ビナフチルを示す。以下同じ〕 Ｒｕ2Ｃｌ4（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3） 〔Ｔ−ＢＩＮＡＰは、２，２′−ビス〔ジ（ｐ−トリ
ル）ホスフィノ〕−１，１′−ビナフチルを示す。以下
同じ〕 Ｒｕ2Ｃｌ4（ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3） 〔ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰは、２，２′−ビス〔ジ（ｐ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１′−
ビナフチルを示す。以下同じ〕 Ｒｕ（ＯＣＯＣＨ3）2（ＢＩＮＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣＨ3）2（ｔ
−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣＦ3）2（ＢＩＮ
ＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣＦ3）2（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒ
ｕ（ＯＣＯＣＦ3）2（ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰ）、ＲｕＣ
ｌ2（ＢＩＮＡＰ）、ＲｕＣｌ2（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒ
ｕＢｒ2（ＢＩＮＡＰ）、ＲｕＢｒ2（ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮ
ＡＰ）
錯体の例としては、次のものが挙げられる。なお、これ
ら錯体中のホスフィン誘導体は、それぞれ鏡像体を有し
ているが、それらの表示は省略した。 Ｒｕ2Ｃｌ4（ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3） 〔ＢＩＮＡＰは、２，２′−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）−１，１′−ビナフチルを示す。以下同じ〕 Ｒｕ2Ｃｌ4（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3） 〔Ｔ−ＢＩＮＡＰは、２，２′−ビス〔ジ（ｐ−トリ
ル）ホスフィノ〕−１，１′−ビナフチルを示す。以下
同じ〕 Ｒｕ2Ｃｌ4（ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3） 〔ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰは、２，２′−ビス〔ジ（ｐ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１′−
ビナフチルを示す。以下同じ〕 Ｒｕ（ＯＣＯＣＨ3）2（ＢＩＮＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣ
Ｈ3）2（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣＨ3）2（ｔ
−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣＦ3）2（ＢＩＮ
ＡＰ）、Ｒｕ（ＯＣＯＣＦ3）2（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒ
ｕ（ＯＣＯＣＦ3）2（ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮＡＰ）、ＲｕＣ
ｌ2（ＢＩＮＡＰ）、ＲｕＣｌ2（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）、Ｒ
ｕＢｒ2（ＢＩＮＡＰ）、ＲｕＢｒ2（ｔ−Ｂｕ−ＢＩＮ
ＡＰ）
【００２０】反応は、まずα，β−不飽和カルボン酸
（１）を溶媒に溶解してオートクレーブに仕込み、これ
にルテニウム−光学活性ホスフィン錯体（２）、（３）
又は（４）を加え、水素圧５〜５０atm 、好ましくは５
〜１０atm 、４０〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃で
１０〜２４時間撹拌することにより行われる。ここで用
いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のプロテック溶媒の単独又はこ
れらとテトラヒドロフラン、塩化メチレン、トルエン等
の混合溶媒が挙げられる。また、ルテニウム−光学活性
ホスフィン錯体は、α，β−不飽和カルボン酸に対して
１／１００〜１／１０００倍モル用いるのが好ましい。
（１）を溶媒に溶解してオートクレーブに仕込み、これ
にルテニウム−光学活性ホスフィン錯体（２）、（３）
又は（４）を加え、水素圧５〜５０atm 、好ましくは５
〜１０atm 、４０〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃で
１０〜２４時間撹拌することにより行われる。ここで用
いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のプロテック溶媒の単独又はこ
れらとテトラヒドロフラン、塩化メチレン、トルエン等
の混合溶媒が挙げられる。また、ルテニウム−光学活性
ホスフィン錯体は、α，β−不飽和カルボン酸に対して
１／１００〜１／１０００倍モル用いるのが好ましい。
【００２１】本発明を行うに際し、トリエチルアミンを
添加すると収率が向上するので好ましい。トリエチルア
ミンの添加量は基質であるα，β−不飽和カルボン酸
（１）に対して０．５〜１．５倍モル、好ましくは０．
８〜１．２倍モルである。
添加すると収率が向上するので好ましい。トリエチルア
ミンの添加量は基質であるα，β−不飽和カルボン酸
（１）に対して０．５〜１．５倍モル、好ましくは０．
８〜１．２倍モルである。
【００２２】反応終了後、生成物を精製するには、例え
ば反応混合物から溶媒を留去して残留物を１０％水酸化
ナトリウム等で中和した後、トルエン、塩化メチレン、
クロロホルム等の溶媒を加えて充分撹拌した後に分液
し、水層に１０％塩酸等を加えて酸性とし、次いで塩化
メチレン等を用いて分離する。油層を抽出し、硫酸マグ
ネシウム等の乾燥剤で乾燥した後、溶媒を留去して、目
的の２−フルオロアルカン酸を得ることができる。
ば反応混合物から溶媒を留去して残留物を１０％水酸化
ナトリウム等で中和した後、トルエン、塩化メチレン、
クロロホルム等の溶媒を加えて充分撹拌した後に分液
し、水層に１０％塩酸等を加えて酸性とし、次いで塩化
メチレン等を用いて分離する。油層を抽出し、硫酸マグ
ネシウム等の乾燥剤で乾燥した後、溶媒を留去して、目
的の２−フルオロアルカン酸を得ることができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、強誘電性液晶の合成中
間体として有用な光学活性２−フルオロアルカン酸を、
簡便でかつ経済的に、効率良く製造することができる。
間体として有用な光学活性２−フルオロアルカン酸を、
簡便でかつ経済的に、効率良く製造することができる。
【００２４】
【実施例】次に、実施例を挙げ、本発明をさらに説明す
る。なお、実施例中の分析値は次の分析機器を用いて分
析を行ったものである。 高速液体クロマトグラフィー：日立液体クロマトグラフ
ィー ６６５Ａ−１１（株式会社日立製作所製） カラム：光学活性カラム キラルセル ＯＤ（ダイセル化学株式会社製） ４．６mm×２５０mm 展開溶媒：ヘキサン：プロパノール（容量比９：１） 検出器：ＵＶ検出器６３５Ｍ（ＵＶ２５４nm） （株式会社日立製作所製）1 Ｈ 核磁気共鳴スペクトル（以下、1Ｈ−ＮＭＲと略
す） ＢＲＵＫＥＲ−ＡＭ４００型（４００ＭＨＺ）（ＢＲＵ
ＫＥＲ社製） 化学シフトはテトラメチルケイ素を内部標準として測定
した。
る。なお、実施例中の分析値は次の分析機器を用いて分
析を行ったものである。 高速液体クロマトグラフィー：日立液体クロマトグラフ
ィー ６６５Ａ−１１（株式会社日立製作所製） カラム：光学活性カラム キラルセル ＯＤ（ダイセル化学株式会社製） ４．６mm×２５０mm 展開溶媒：ヘキサン：プロパノール（容量比９：１） 検出器：ＵＶ検出器６３５Ｍ（ＵＶ２５４nm） （株式会社日立製作所製）1 Ｈ 核磁気共鳴スペクトル（以下、1Ｈ−ＮＭＲと略
す） ＢＲＵＫＥＲ−ＡＭ４００型（４００ＭＨＺ）（ＢＲＵ
ＫＥＲ社製） 化学シフトはテトラメチルケイ素を内部標準として測定
した。
【００２５】実施例１ （Ｒ）−２−フルオロヘキサン酸の合成：あらかじめ窒
素置換を行った２００mlのステンレスオートクレーブ
に、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ヘキセン酸１．０３ｇ
（７．８mmol）とＲｕ2Ｃｌ4（（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ）2
（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ６５mg（０．０３８mmol）を入れ、トリ
エチルアミン１．２ml（８．６mmol）、エタノール２５
ml及びテトラヒドロフラン２５mlを加えた。水素圧５at
m で５０℃、２４時間撹拌した。反応液を減圧下（２０
mmHg）、４０℃で濃縮し、これに１０％水酸化ナトリウ
ム１０mlを加え、続いて塩化メチレン３０mlで２回洗っ
た。次いで、１０％塩酸でpH２とし、酢酸エチル１０ml
で２回抽出した。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過後、濃縮して２−フルオロヘキサン酸１．０３ｇを
得た。（収率９９％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ）： 0.90(t,3H), 1.35-1.45(m,4H), 1.90(m,2H), 4.95(dt,1
H),9.50(s,1H) 〔α〕D 25 ＋９．１°（ｃ＝１．４９，ＣＨＣｌ3）
素置換を行った２００mlのステンレスオートクレーブ
に、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ヘキセン酸１．０３ｇ
（７．８mmol）とＲｕ2Ｃｌ4（（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ）2
（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ６５mg（０．０３８mmol）を入れ、トリ
エチルアミン１．２ml（８．６mmol）、エタノール２５
ml及びテトラヒドロフラン２５mlを加えた。水素圧５at
m で５０℃、２４時間撹拌した。反応液を減圧下（２０
mmHg）、４０℃で濃縮し、これに１０％水酸化ナトリウ
ム１０mlを加え、続いて塩化メチレン３０mlで２回洗っ
た。次いで、１０％塩酸でpH２とし、酢酸エチル１０ml
で２回抽出した。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過後、濃縮して２−フルオロヘキサン酸１．０３ｇを
得た。（収率９９％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ）： 0.90(t,3H), 1.35-1.45(m,4H), 1.90(m,2H), 4.95(dt,1
H),9.50(s,1H) 〔α〕D 25 ＋９．１°（ｃ＝１．４９，ＣＨＣｌ3）
【００２６】得られた２−フルオロヘキサン酸０．０６
９ｇ（０．５１mmol）、４−ジメチルアミノピリジン２
mg、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド０．１２
１ｇ（０．５９mmol）及びアニリン０．０５ml（０．５
５mmol）をフラスコに入れた。次に、乾燥テトラヒドロ
フラン５ml及びアセトニトリル５mlを加え、１５時間撹
拌した。不溶物を濾別した後、濾液を濃縮した。粗生成
物をクロロホルムに溶解し、１０％塩酸１５ml、水１５
mlで順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し
た後、濃縮し、溶離液（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／
１（容量比））を用いてシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、高速液体クロマトグラフィーで光学純
度を決定したところ、８２％ｅｅであった。
９ｇ（０．５１mmol）、４−ジメチルアミノピリジン２
mg、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド０．１２
１ｇ（０．５９mmol）及びアニリン０．０５ml（０．５
５mmol）をフラスコに入れた。次に、乾燥テトラヒドロ
フラン５ml及びアセトニトリル５mlを加え、１５時間撹
拌した。不溶物を濾別した後、濾液を濃縮した。粗生成
物をクロロホルムに溶解し、１０％塩酸１５ml、水１５
mlで順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し
た後、濃縮し、溶離液（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／
１（容量比））を用いてシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、高速液体クロマトグラフィーで光学純
度を決定したところ、８２％ｅｅであった。
【００２７】実施例２ （Ｓ）−２−フルオロヘキサン酸の合成： あらかじめ窒素置換を行った２００mlのステンレスオー
トクレーブに、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ヘキセン酸
１．０３ｇ（７．８mmol）とＲｕ2Ｃｌ4（（Ｓ）−ＢＩ
ＮＡＰ）2（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ６５mg（０．０３８mmol）を入
れ、トリエチルアミン１．２ml（８．６mmol）及びメタ
ノール５０mlを加えた。水素圧１０atm、５０℃で２０
時間攪拌した。後は実施例１と同様にして、２−フルオ
ロヘキサン酸１．０２ｇ（収率９８％）を得た。このも
のの光学純度は９０％ｅｅであった。
トクレーブに、（Ｚ）−２−フルオロ−２−ヘキセン酸
１．０３ｇ（７．８mmol）とＲｕ2Ｃｌ4（（Ｓ）−ＢＩ
ＮＡＰ）2（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ６５mg（０．０３８mmol）を入
れ、トリエチルアミン１．２ml（８．６mmol）及びメタ
ノール５０mlを加えた。水素圧１０atm、５０℃で２０
時間攪拌した。後は実施例１と同様にして、２−フルオ
ロヘキサン酸１．０２ｇ（収率９８％）を得た。このも
のの光学純度は９０％ｅｅであった。
【００２８】実施例３ 触媒としてＲｕＢｒ2（（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ）を用いる
以外は実施例２と同様にして、収率９９％で光学純度９
２％ｅｅの（Ｒ）−２−フルオロヘキサン酸を得た。
以外は実施例２と同様にして、収率９９％で光学純度９
２％ｅｅの（Ｒ）−２−フルオロヘキサン酸を得た。
【００２９】実施例４ 触媒としてＲｕ（ＯＣＯＣＦ3）2（（Ｒ）−ＢＩＮＡ
Ｐ）を用いる以外は実施例１と同様にして、収率９７％
で光学純度８７％ｅｅの（Ｒ）−２−フルオロヘキサン
酸を得た。
Ｐ）を用いる以外は実施例１と同様にして、収率９７％
で光学純度８７％ｅｅの（Ｒ）−２−フルオロヘキサン
酸を得た。
【００３０】実施例５ （Ｓ）−２−フルオロオクタン酸の合成：あらかじめ窒
素置換を行った２００mlのステンレスオートクレーブ
に、（Ｚ）−２−フルオロ−２−オクテン酸１．６１ｇ
（１０mmol）とＲｕ2Ｃｌ4（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）
2（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ６５mg（０．０３８mmol）を入れ、トリ
エチルアミン１．２ml（８．６mmol）、エタノール２５
ml及びテトラヒドロフラン２５mlを加えた。水素圧６at
m 、５０℃で２０時間攪拌した。反応液を減圧下（２０
mmHg）、４０℃で濃縮し、これに１０％水酸化ナトリウ
ム１０mlを加え、続いて塩化メチレン３０mlで２回洗浄
した。次いで１０％塩酸でpH２とし、酢酸エチル１０ml
で２回抽出した。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾液を濃縮して（Ｓ）−２−フルオロオクタン酸１．６
ｇ（収率９８％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ）： 0.90(t,3H), 1.30-1.50(m,6H), 1.90(m,2H), 4.95(dt,1
H),9.15(s,1H) 実施例１と同様にして光学純度を決定したところ９０％
eeであった。 〔α〕D 25 −８．７６°（ｃ＝１．２５，ＣＨＣｌ3 ）
素置換を行った２００mlのステンレスオートクレーブ
に、（Ｚ）−２−フルオロ−２−オクテン酸１．６１ｇ
（１０mmol）とＲｕ2Ｃｌ4（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）
2（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ６５mg（０．０３８mmol）を入れ、トリ
エチルアミン１．２ml（８．６mmol）、エタノール２５
ml及びテトラヒドロフラン２５mlを加えた。水素圧６at
m 、５０℃で２０時間攪拌した。反応液を減圧下（２０
mmHg）、４０℃で濃縮し、これに１０％水酸化ナトリウ
ム１０mlを加え、続いて塩化メチレン３０mlで２回洗浄
した。次いで１０％塩酸でpH２とし、酢酸エチル１０ml
で２回抽出した。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾液を濃縮して（Ｓ）−２−フルオロオクタン酸１．６
ｇ（収率９８％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ）： 0.90(t,3H), 1.30-1.50(m,6H), 1.90(m,2H), 4.95(dt,1
H),9.15(s,1H) 実施例１と同様にして光学純度を決定したところ９０％
eeであった。 〔α〕D 25 −８．７６°（ｃ＝１．２５，ＣＨＣｌ3 ）
【００３１】実施例６ （Ｓ）−６−メトキシ−２−フルオロヘキサン酸の合
成： （Ｚ）−２−フルオロ−２−オクテン酸の代わりに
（Ｚ）−６−メトキシ−２−フルオロヘキセン酸を用い
る以外は実施例５と同様にして、（Ｓ）−６−メトキシ
−２−フルオロヘキサン酸（収率９０％）を得た。光学
純度８５％ee。 〔α〕D 25 −１０．５°（ｃ＝１．５，ＣＨＣｌ3 ）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ）： 1.30-1.52(m,4H), 1.97(m,2H), 3.65(s,3H), 4.23(t,2
H),4.95(dt,1H), 9.45(s,1H)
成： （Ｚ）−２−フルオロ−２−オクテン酸の代わりに
（Ｚ）−６−メトキシ−２−フルオロヘキセン酸を用い
る以外は実施例５と同様にして、（Ｓ）−６−メトキシ
−２−フルオロヘキサン酸（収率９０％）を得た。光学
純度８５％ee。 〔α〕D 25 −１０．５°（ｃ＝１．５，ＣＨＣｌ3 ）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 , δ）： 1.30-1.52(m,4H), 1.97(m,2H), 3.65(s,3H), 4.23(t,2
H),4.95(dt,1H), 9.45(s,1H)
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−243059（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−111740（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−239245（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−152337（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−48634（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−2152（ＪＰ，Ａ) 特表 平４−500370（ＪＰ，Ａ) Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（1975）（２) ｐ．122−125 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 51/36 B01J 31/24 C07C 53/21 C07B 61/00
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、波線はシス位及び／又はトランス位を示し、Ｒ
1 は低級アルコキシ基で置換されていてもよい炭素数１
〜１２のアルキル基を示す。但し、低級アルコキシ基は
さらに低級アルコキシ基で置換されていてもよい）で表
わされるα，β−不飽和カルボン酸を、一般式（２）〜
（４） Ru2Cl4(L)2(NEt3) （２） 〔式中、Ｅｔはエチル基を示し、Ｌは式（５） 【化２】 （式中、Ｒ2 は水素原子、メチル基又はｔｅｒｔ−ブチ
ル基を示す）を示す〕 Ru(OCOR3)2L （３） （式中、Ｒ3 は低級アルキル基又はトリフルオロメチル
基を示し、Ｌは前記と同じ意味を有する） RuX2L （４） （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｌは前記と同じ意味
を有する）で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィ
ン錯体の少なくとも１種を触媒として不斉水素化するこ
とを特徴とする一般式（６） 【化３】 （式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を有し、＊は不斉炭素で
あることを示す）で表わされる光学活性２−フルオロア
ルカン酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4055186A JP3000314B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 光学活性２−フルオロアルカン酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4055186A JP3000314B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 光学活性２−フルオロアルカン酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255177A JPH05255177A (ja) | 1993-10-05 |
| JP3000314B2 true JP3000314B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=12991684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4055186A Expired - Fee Related JP3000314B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 光学活性２−フルオロアルカン酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3000314B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE59603655D1 (de) * | 1995-06-21 | 1999-12-23 | Rolic Ag Zug | Herstellung von chiralen alpha-Halogencarbonsäuren |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP4055186A patent/JP3000314B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１９７５）（２）ｐ．１２２−１２５ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05255177A (ja) | 1993-10-05 |
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