JP3912818B2 - キラルα−ハロゲンカルボン酸の製造方法 - Google Patents
キラルα−ハロゲンカルボン酸の製造方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
本発明は、光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸、並びにそれぞれそれらの塩及びエステルを製造する新規な方法であって、光学活性ルテニウム錯体の存在下に、対応するα，β−不飽和α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸誘導体をエナンチオ選択的水素添加する方法に関する。
【０００２】
光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸は、製薬学的活性物質の合成又は光学活性液晶の合成のための、重要かつ用途の広い中間体である。
【０００３】
ルテニウム−Ｂｉｎａｐ錯体でのα，β−不飽和α−フルオロカルボン酸のエナンチオ選択的水素添加は、公知であり、Tetrahedron Letters 1992, 33, 7877中に記載されている。
【０００４】
光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸は、従来、光学活性アミノ酸又はα−ヒドロキシカルボン酸から製造されていた。これらの化合物は、簡単な方法で、そして対応するＺ−α，β−不飽和抽出物からエナンチオ選択的水素添加により、高い光学収量で製造することができることが、現在では分かっている。
【０００５】
本発明は、したがって、式（Ｉ）：
【０００６】
【化８】
【０００７】
（式中、
Ｘは、臭素又は塩素を表し；
Ｍは、水素、ＮＲ1 4 + 又はアルカリ若しくはアルカリ土類金属の陽イオンを表し；
Ｒ1 は、水素又は低級アルキルを表し；
ｎは、０又は１を表し；
Ｒは、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル（これは、場合により、末端位で、−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 で置換されている）又は遊離若しくは保護された−ＣＨＯ基、あるいは環Ａを表し；
Ｒ2 は、水素又は低級アルキルを表し；
Ｒ3 は、水素又は保護基を表し；
環Ａは、場合により置換されている環を表し；そして
＊はキラリティ中心を表す）で示される、光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸、並びにこれらの塩又はエステルを製造する方法であって、
一般式（II）：
【０００８】
【化９】
【０００９】
（式中、
Ｒ、ｎ、Ｘ、＊及びＭは、上記と同義である）で示されるα，β不飽和化合物を光学活性の、好ましくはアトロプ異性のジホスフィン配位子のルテニウム錯体の存在下に、エナンチオ選択的に水素添加することを含む方法に関する。
【００１０】
本発明の範囲において、「低級アルキル」とは、１〜５個の炭素原子を有する、直鎖又は分岐アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ｉ−ペンチル等を表す。
【００１１】
「１〜２０個の炭素原子を有するアルキル」とは、本発明の範囲において、１〜２０個の炭素原子を有する直鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、イソプロピル、２−メチル−ブチル、２−メチル−ペンチル、２−メチル−ヘキシル、２−メチル−ヘプチル、３−メチル−ブチル、３−メチル−ペンチル、３−メチル−ヘキシル、３−メチル−ヘプチル、４−メチル−ペンチル、４−メチル−ヘキシル、５−メチル−ヘキシル等を含む。
【００１２】
考慮される保護基Ｒ3 とは、通常、容易に開裂可能であるアルコールのためのエーテル形成性保護基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、低級アルコキシメチル又は２−メトキシエトキシメチル等である。
【００１３】
「保護された−ＣＨＯ基」とは、例えばジエチルアセタール、１，３−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のアセタールを含む。
【００１４】
「場合により置換されていてもよい環」とは、環Ａに関連して、モノ置換され得る飽和５−又は６−員環、例えばシクロペンチル又はシクロヘキシル；不飽和又はそれぞれモノ置換され得る芳香族５−若しくは６−員環、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、フェニル、フラン、チオフェン、ピリジン、ピリミジン等；あるいは縮合環、例えばナフタレン、テトラヒドロナフタレン、インドール、ベンズイミダゾール、キノリン、ベンゾピラン等を含む。前述の環で考慮された置換基は、例えば低級アルキル、低級アルコキシ（これらは、場合により、末端位にヒドロキシ、ＮＨ2 、臭素又はヨウ素を担持できる）、−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 又は遊離若しくは保護された−ＣＨＯ基、及び芳香環上においてはハロゲンも意味する。
【００１５】
本発明の範囲において、考慮されるアトロプ異性のジホスフィンのルテニウム錯体は、特に、一般式（III)、（IV）又は（Ｖ）：
【００１６】
【化１０】
【００１７】
（式中、
Ｚは、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、Ｂ（フェニル）4 -又はＰＦ6 -を表し；
Ｚ1 は、ハロゲン、Ｙ−ＣＯＯ- 基又はＹ−ＳＯ3 -基を表し；
Ｙは、低級アルキル、フェニル、ハロゲン化低級アルキル又はハロゲン化フェニルを表し；
Ｚ2 は、ハロゲンを表し；
Ｘは、ベンゼン、ヘキサメチルベンゼン又はｐ−シメンを表し；
ｍは、１又は２を表し；
Ｚ3 は、ハロゲン、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -又はＢ（フェニル）4 -を表し；そして
Ｌは、光学的に活性であり、アトロプ異性のジホスフィン配位子を表す）で示される化合物である。
【００１８】
好ましい光学活性アトロプ異性の配位子Ｌは、一般式（VI）及び（VII)：
【００１９】
【化１１】
【００２０】
（式中、
Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ独立して、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ若しくは保護ヒドロキシ、又は一緒になって、−Ｏ−ＣＨ2 −若しくは−Ｏ−ＣＨ2 −Ｏ−を表し；
Ｒ6 は、低級アルキル又は低級アルコキシを表し；
ｐは、０、１又は２を表し；そして
Ｒ7 及びＲ8 は、それぞれ独立して、低級アルキル、シクロアルキル、アリール若しくは５員ヘテロ芳香族、又はリン原子と一緒になって、下記式：
【化１２】
で示される基を表し；そして
＊は、キラリティ中心を表す）で示される化合物である。
【００２１】
式（VI）及び（VII)の化合物は、（Ｒ）−又は（Ｓ）−形態で存在する。
【００２２】
一般式（VIII）：
【００２３】
【化１３】
【００２４】
（式中、
Ｒ9 は、シクロアルキル又は低級アルキルを表し；
Ｒ10は、アリール又はヘテロアリールを表し；
Ｒ11は、アリール、ヘテロアリール又は低級アルキルを表し；そして
＊は、キラリティ中心を表す）で示される化合物は、本発明による方法のため、光学活性ジホスフィン配位子として適切でもある。
【００２５】
式（III)〜（VIII）に関連して用いられる「低級アルキル」とは、上記で定義した意味を有する。「低級アルコキシ」とは、アルキル基が前述の意味を有する基を表す。
【００２６】
「ハロゲン化低級アルキル」とは、本発明の範囲において、不定の数のハロゲン原子を有する低級アルキル基、特に塩素、フッ素を表し、好ましくは少なくとも１個のハロゲン原子が−ＣＯＯ基のα位に位置する。好ましいハロゲン化低級アルキル基は、過フッ素化及び過塩素化低級アルキル基、例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル等である。
【００２７】
「ハロゲン化フェニル」とは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素でモノ置換又は複数置換されているフェニルを含む。
【００２８】
「ハロゲン」とは、本発明の範囲において、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表す。
【００２９】
式（III)〜（VIII）の化合物に関連して、ヒドロキシ基のための保護基として、通常のエーテル形成性基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、低級アルコキシメチル又は２−メトキシルエトキシメチル等を特に用いる。
【００３０】
「シクロアルキル」とは、３〜８個の炭素原子を有する環、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロヘプチルを環を意味する。
【００３１】
「アリール」とは、本発明の範囲において、特にフェニル基を表し、これは、非置換のみならず、オルト−、メタ−又はパラ位でモノ置換又は複数置換されていてもよい。適切な置換基は、フェニル、低級アルキル基又は低級アルコキシ基であり、好ましくはメチル基、メトキシ基、ジ−低級アルキルアミノ、好ましくはジメチルアミノ、フッ素、トリアルキルシリル、例えばトリメチルシリル、スルファモイル、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノスルファモイル、スルホニル又はスルホニル塩等を表す。更に、アリールは、ナフチルを表すこともできる。「ハロゲン化フェニル」とは、好ましくはペルフルオロフェニル又はペルフルオロビフェニルを表す。
【００３２】
本発明の範囲において、「５員ヘテロ芳香族」とは、一般式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）又は（ｄ）：
【００３３】
【化１４】
【００３４】
の置換基を表す。
【００３５】
式（ａ）〜（ｄ）の置換基において、Ａは、酸素、硫黄又は−ＮＲ13 2 を表し、Ｒ12は、水素、低級アルキル、特にメチル又は低級アルコキシ、特にメトキシを表し、そしてＲ13は、低級アルキル、好ましくはメチルを表す。
【００３６】
記号（＊）は、問題のＣ原子が不斉Ｃ原子であることを表す。
【００３７】
本発明に関連して用いられる式（VI）、（VII)及び（VIII）のジホスフィン配位子は、公知の化合物又は公知の化合物の類似体である。
【００３８】
式（III)の錯体は、公知であるか又は公知の化合物の類似体であり、それ自体公知の方法、例えばTakaya et al. J. Org. Chem. 1987, 52, 3174-3177 に記載の方法により調製することができる。
【００３９】
式（IV）及び（Ｖ）の錯体も、公知の化合物又は公知の化合物の類似体であり、例えばＥＰ ３９７ ０４２に記載のように調製することができる。
【００４０】
本発明による不斉水素添加は、反応状態で不活性な有機溶媒中又は水中で行われるのが好都合である。こうして、例えば、適切な溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール等の低級アルコール；ジクロロメタン、クロロホルム、ヘキサフルオロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル；アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン；酢酸等の酸；酢酸エチル等のエステル；ペンタン、ヘキサン等の炭化水素；又は上記の溶媒の互いの混合物若しくは水との混合物である。
【００４１】
式（III)、（IV）及び（Ｖ）の錯体中の配位子Ｌに対するルテニウムの割合は、配位子の１mol に対し約０．５〜約２mol のルテニウムが好都合であり、好ましくは約１mol である。基質／触媒の割合（Ｓ／Ｃ；mol/mol)は、約２０〜約３０，０００が好都合であり、好ましくは約１００〜５，０００である。
【００４２】
式（III)、（IV）及び（Ｖ）の錯体を用いる不斉水素添加は、約１０℃〜約１００℃の温度で好都合に行われ、好ましくは約２０℃〜６０℃で行われる。水素添加は、圧力下で行われるのが好都合であり、好ましくは約１〜約１００バールの圧力、特に約２〜約８０バールで行われる。
【００４３】
本発明による方法は、Ｒが、水素、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖のアルキル基、又は直鎖のアルキル基（これは、末端位でヒドロキシ基又は式（ＣＨ3 Ｏ)2ＣＨ−若しくは（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ)2ＣＨ−の基、あるいは下記式：
【００４４】
【化１５】
【００４５】
で示される環の一つ（これは、場合によりで置換されていてもよい）で置換されている）を表す式（Ｉ）の化合物の製造に極めて適切である。
【００４６】
上述の環上で考慮される置換基は、末端位において場合によりヒドロキシ、ＮＨ2 、臭素若しくはヨウ素を担持できる低級アルキル又は低級アルコキシ基であり；６員環は、好ましくは４位で置換され、５員環は、好ましくは３位で置換され、そして縮合環は、好ましくは６位で置換されている。
【００４７】
本発明による方法は、簡易な方法で、一連の目的の中間生成物、例えば反応スキーム１に記述のように、光学活性α−フルオロ−（１）、α−ヒドロキシ−（２）及びα−アミノカルボン酸、並びにそれぞれそれらの塩又はエステル（３）の入手方法を提供する。
【００４８】
【化１６】
【００４９】
対応するα−ヒドロキシ誘導体（２）への式（Ｉ）の化合物の変換は、遊離の酸又は塩から直接行われる。対応するα−フルオロ−（１）又はα−アミノカルボン酸（３）への式（Ｉ）の化合物の変換のために、後で問題なく開裂し得るエステルを、まず形成させるのが好都合である。式（Ｉ）の化合物は、還元、例えばＢＨ3 ・ＴＨＦ錯体により、対応するアルコール（４）に変換することができる。
【００５０】
遊離物として用いられる式（II）の化合物は、公知の化合物又は公知の化合物の類似体であり、それ自体、公知の方法で調製することができる。
【００５１】
以下の実施例は、本発明を例証しており、いかなる制限を表すものでもない。使用されている略語を、下記に説明する：
【００５２】
ＧＣ面積％は、ガスクロマトグラフィー、面積％を表し；
ｅｅは、鏡像異性体の収率を表し；
ＢＩＰＨＥＭＰは、（６，６′−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ビス−（ジフェニルホスフィン）を表し；
ＢＩＮＡＰは、〔（１，１′−ビナフチル）−２，２′−ジイル〕ビス（ジフェニル−ホスフィン）を表し；
Ｃｙ2 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−Ｐ２，Ｐ２−ジシクロヘキシル−６，６′−ジメトキシ−Ｐ２′，Ｐ２′−ジフェニル−ビフェニル−２，２′−ビス−ホスフィンを表し；
２−Ｆｕｒｙｌ2 −ＢＩＰＨＥＭＰは、Ｐ，Ｐ−ジフェニル−Ｐ′，Ｐ′−ジ−２−フリルフェニル）−（６，６′−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィンを表し；
Ｃｙ4 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス−（ジシクロヘキシル−ホスフィン）を表し；
（Ｓ）−（３，５−ｌｐｒ，４−ＭｅＯ）−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−６，６′−ジメチル−Ｐ，Ｐ，Ｐ′，Ｐ′−テトラキス−（ジイソプロピル−４−メトキシ−フェニル）ビフェニル−２，２′−ビスホスフィンを表し；
ｌｐｒ4 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス−（ジイソプロピル−ホスフィン）を表し；
（Ｒ）−（Ｓ）−ＰＰＦ−Ｐ（ｔＢｕ）2 は、｛（Ｒ）−１−〔（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル〕｝エチル−ジ−tert−ブチルホスフィンを表し；
ＭｅＰＨＯＳ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、〔｛２，５−ジメチル−ホスホラン−１−イル｝−６，６′−ジメトキシ−ビフェニル−２−イル〕−２，５−ジメチル−ホスホランを表し；
ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ−ＴＳ−Ｎａは、６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ビス（４，４′−ホスフィン−ジイル）−ジベンゼンスルホン酸ナトリウム塩を表す。
【００５３】
【実施例】
実施例１
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、ジエチルエーテル６ml及びテトラヒドロフラン２mlの混合物中に、ビス（η2 −アセタート）（η4 −シクロオクタ−１，５−ジエン）ルテニウム（II）７．４mg（０．０２２６mmol）及び（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ１２．５mg（０．０２２６mmol）を溶解し、４０℃で１．５時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸０．５g （２．２６mmol）及びメタノール６０mlを、グローブボックス中で、１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら２０℃で水素添加を行った。水素添加は、１７時間後に中断した。変換は９３％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸（９４．３％ｅｅ）９３％及び抽出物７％よりなる混合物０．４ｇ（８０％）を、無色油状物として得た。ｅｅ測定のために、生成物の試料は、ジアゾメタンでエステル化し、キラル相（ＯＶ−６１と混合したペルメチル化シクロデキストリン）上でガスクロマトグラフィーにより分析した。
【００５４】
実施例２
触媒溶液を、グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中でメタノール２０mlにＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ〕０．３５ｇ（０．４５mmol）を溶解することによって調製し、２０℃で１５分間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１０．０ｇ（４５．２mmol）及びメタノール９４mlを１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。３時間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸（９３．８％ｅｅ）９８．６％及び抽出物１．４％よりなる混合物９．４ｇ（９４％）を無色油状物として得た。
【００５５】
実施例３
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶液を水２０mlにＲｕ（ＣＦ3 ＣＯＯ)2〔（Ｓ）−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ−ＴＳ−Ｎａ〕５９．６mg（０．０４５mmol）を溶解することによって調製し、２０℃で１５分間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０g （４．５２mmol）、水３０ml及びトリエチルアミン０．４６ｇ（４．５２mmol）を１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液２０mlを加えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。４時間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、１N ＨＣｌ溶液でpH１の酸性とし、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出物（４０℃／２０mbar）を乾燥及び蒸発させた後、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｓ）−２−ブロモ−オクタン酸０．９ｇ（９０％）を無色油状物として得た。化学的純度９８．９ＧＣ面積％；９３．０％ｅｅ
【００５６】
実施例４〜２６
第１表に記載の水素添加は、実施例１又は２と同様の方法で行った。
【００５７】
【表１】
【００５８】
【表２】
【００５９】
１）触媒調製：実施例２と同じ
２）触媒調製：実施例１と同じ
３）M. Scalone, Abstract; 9th International Symposium on Homogeneous Catalysis, August 21-26, 1994により調製
【００６０】
実施例２７
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．００４５mmol）及び８５％エーテル性ＨＢＦ4 溶液１７．２mg（０．０９０５mmol）を溶解することにより調製し、２０℃で１．５時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０ｇ（４．５２mmol）及びメタノール１０５mlを１８５mlオートクレーブに中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。２１時間後、変換は９８％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸０．６g を無色油状物として得た。化学的純度９７．３ＧＣ面積％；８６．０％ｅｅ
【００６１】
実施例２８
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．０４５mmol）及びメタノール性ＨＣｌ溶液０．０９mol １mlを溶解することにより調製し、２０℃で１．５時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０ｇ（４．５２mmol）及びメタノール１０５mlを１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。２１時間後、変換は８７％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸（８５．４％ｅｅ）８６％及び抽出物１４％の混合物０．６ｇを無色油状物として得た。
本発明は、光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸、並びにそれぞれそれらの塩及びエステルを製造する新規な方法であって、光学活性ルテニウム錯体の存在下に、対応するα，β−不飽和α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸誘導体をエナンチオ選択的水素添加する方法に関する。
【０００２】
光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸は、製薬学的活性物質の合成又は光学活性液晶の合成のための、重要かつ用途の広い中間体である。
【０００３】
ルテニウム−Ｂｉｎａｐ錯体でのα，β−不飽和α−フルオロカルボン酸のエナンチオ選択的水素添加は、公知であり、Tetrahedron Letters 1992, 33, 7877中に記載されている。
【０００４】
光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸は、従来、光学活性アミノ酸又はα−ヒドロキシカルボン酸から製造されていた。これらの化合物は、簡単な方法で、そして対応するＺ−α，β−不飽和抽出物からエナンチオ選択的水素添加により、高い光学収量で製造することができることが、現在では分かっている。
【０００５】
本発明は、したがって、式（Ｉ）：
【０００６】
【化８】
（式中、
Ｘは、臭素又は塩素を表し；
Ｍは、水素、ＮＲ1 4 + 又はアルカリ若しくはアルカリ土類金属の陽イオンを表し；
Ｒ1 は、水素又は低級アルキルを表し；
ｎは、０又は１を表し；
Ｒは、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル（これは、場合により、末端位で、−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 で置換されている）又は遊離若しくは保護された−ＣＨＯ基、あるいは環Ａを表し；
Ｒ2 は、水素又は低級アルキルを表し；
Ｒ3 は、水素又は保護基を表し；
環Ａは、場合により置換されている環を表し；そして
＊はキラリティ中心を表す）で示される、光学活性α−ブロモ−及びα−クロロカルボン酸、並びにこれらの塩又はエステルを製造する方法であって、
一般式（II）：
【０００８】
【化９】
（式中、
Ｒ、ｎ、Ｘ、＊及びＭは、上記と同義である）で示されるα，β不飽和化合物を光学活性の、好ましくはアトロプ異性のジホスフィン配位子のルテニウム錯体の存在下に、エナンチオ選択的に水素添加することを含む方法に関する。
【００１０】
本発明の範囲において、「低級アルキル」とは、１〜５個の炭素原子を有する、直鎖又は分岐アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ｉ−ペンチル等を表す。
【００１１】
「１〜２０個の炭素原子を有するアルキル」とは、本発明の範囲において、１〜２０個の炭素原子を有する直鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、イソプロピル、２−メチル−ブチル、２−メチル−ペンチル、２−メチル−ヘキシル、２−メチル−ヘプチル、３−メチル−ブチル、３−メチル−ペンチル、３−メチル−ヘキシル、３−メチル−ヘプチル、４−メチル−ペンチル、４−メチル−ヘキシル、５−メチル−ヘキシル等を含む。
【００１２】
考慮される保護基Ｒ3 とは、通常、容易に開裂可能であるアルコールのためのエーテル形成性保護基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、低級アルコキシメチル又は２−メトキシエトキシメチル等である。
【００１３】
「保護された−ＣＨＯ基」とは、例えばジエチルアセタール、１，３−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のアセタールを含む。
【００１４】
「場合により置換されていてもよい環」とは、環Ａに関連して、モノ置換され得る飽和５−又は６−員環、例えばシクロペンチル又はシクロヘキシル；不飽和又はそれぞれモノ置換され得る芳香族５−若しくは６−員環、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、フェニル、フラン、チオフェン、ピリジン、ピリミジン等；あるいは縮合環、例えばナフタレン、テトラヒドロナフタレン、インドール、ベンズイミダゾール、キノリン、ベンゾピラン等を含む。前述の環で考慮された置換基は、例えば低級アルキル、低級アルコキシ（これらは、場合により、末端位にヒドロキシ、ＮＨ2 、臭素又はヨウ素を担持できる）、−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2 、−ＯＲ3 又は遊離若しくは保護された−ＣＨＯ基、及び芳香環上においてはハロゲンも意味する。
【００１５】
本発明の範囲において、考慮されるアトロプ異性のジホスフィンのルテニウム錯体は、特に、一般式（III)、（IV）又は（Ｖ）：
【００１６】
【化１０】
（式中、
Ｚは、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、Ｂ（フェニル）4 -又はＰＦ6 -を表し；
Ｚ1 は、ハロゲン、Ｙ−ＣＯＯ- 基又はＹ−ＳＯ3 -基を表し；
Ｙは、低級アルキル、フェニル、ハロゲン化低級アルキル又はハロゲン化フェニルを表し；
Ｚ2 は、ハロゲンを表し；
Ｘは、ベンゼン、ヘキサメチルベンゼン又はｐ−シメンを表し；
ｍは、１又は２を表し；
Ｚ3 は、ハロゲン、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -又はＢ（フェニル）4 -を表し；そして
Ｌは、光学的に活性であり、アトロプ異性のジホスフィン配位子を表す）で示される化合物である。
【００１８】
好ましい光学活性アトロプ異性の配位子Ｌは、一般式（VI）及び（VII)：
【００１９】
【化１１】
（式中、
Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ独立して、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ若しくは保護ヒドロキシ、又は一緒になって、−Ｏ−ＣＨ2 −若しくは−Ｏ−ＣＨ2 −Ｏ−を表し；
Ｒ6 は、低級アルキル又は低級アルコキシを表し；
ｐは、０、１又は２を表し；そして
Ｒ7 及びＲ8 は、それぞれ独立して、低級アルキル、シクロアルキル、アリール若しくは５員ヘテロ芳香族、又はリン原子と一緒になって、下記式：
【化１２】
＊は、キラリティ中心を表す）で示される化合物である。
【００２１】
式（VI）及び（VII)の化合物は、（Ｒ）−又は（Ｓ）−形態で存在する。
【００２２】
一般式（VIII）：
【００２３】
【化１３】
（式中、
Ｒ9 は、シクロアルキル又は低級アルキルを表し；
Ｒ10は、アリール又はヘテロアリールを表し；
Ｒ11は、アリール、ヘテロアリール又は低級アルキルを表し；そして
＊は、キラリティ中心を表す）で示される化合物は、本発明による方法のため、光学活性ジホスフィン配位子として適切でもある。
【００２５】
式（III)〜（VIII）に関連して用いられる「低級アルキル」とは、上記で定義した意味を有する。「低級アルコキシ」とは、アルキル基が前述の意味を有する基を表す。
【００２６】
「ハロゲン化低級アルキル」とは、本発明の範囲において、不定の数のハロゲン原子を有する低級アルキル基、特に塩素、フッ素を表し、好ましくは少なくとも１個のハロゲン原子が−ＣＯＯ基のα位に位置する。好ましいハロゲン化低級アルキル基は、過フッ素化及び過塩素化低級アルキル基、例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル等である。
【００２７】
「ハロゲン化フェニル」とは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素でモノ置換又は複数置換されているフェニルを含む。
【００２８】
「ハロゲン」とは、本発明の範囲において、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表す。
【００２９】
式（III)〜（VIII）の化合物に関連して、ヒドロキシ基のための保護基として、通常のエーテル形成性基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、低級アルコキシメチル又は２−メトキシルエトキシメチル等を特に用いる。
【００３０】
「シクロアルキル」とは、３〜８個の炭素原子を有する環、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロヘプチルを環を意味する。
【００３１】
「アリール」とは、本発明の範囲において、特にフェニル基を表し、これは、非置換のみならず、オルト−、メタ−又はパラ位でモノ置換又は複数置換されていてもよい。適切な置換基は、フェニル、低級アルキル基又は低級アルコキシ基であり、好ましくはメチル基、メトキシ基、ジ−低級アルキルアミノ、好ましくはジメチルアミノ、フッ素、トリアルキルシリル、例えばトリメチルシリル、スルファモイル、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノスルファモイル、スルホニル又はスルホニル塩等を表す。更に、アリールは、ナフチルを表すこともできる。「ハロゲン化フェニル」とは、好ましくはペルフルオロフェニル又はペルフルオロビフェニルを表す。
【００３２】
本発明の範囲において、「５員ヘテロ芳香族」とは、一般式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）又は（ｄ）：
【００３３】
【化１４】
の置換基を表す。
【００３５】
式（ａ）〜（ｄ）の置換基において、Ａは、酸素、硫黄又は−ＮＲ13 2 を表し、Ｒ12は、水素、低級アルキル、特にメチル又は低級アルコキシ、特にメトキシを表し、そしてＲ13は、低級アルキル、好ましくはメチルを表す。
【００３６】
記号（＊）は、問題のＣ原子が不斉Ｃ原子であることを表す。
【００３７】
本発明に関連して用いられる式（VI）、（VII)及び（VIII）のジホスフィン配位子は、公知の化合物又は公知の化合物の類似体である。
【００３８】
式（III)の錯体は、公知であるか又は公知の化合物の類似体であり、それ自体公知の方法、例えばTakaya et al. J. Org. Chem. 1987, 52, 3174-3177 に記載の方法により調製することができる。
【００３９】
式（IV）及び（Ｖ）の錯体も、公知の化合物又は公知の化合物の類似体であり、例えばＥＰ ３９７ ０４２に記載のように調製することができる。
【００４０】
本発明による不斉水素添加は、反応状態で不活性な有機溶媒中又は水中で行われるのが好都合である。こうして、例えば、適切な溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール等の低級アルコール；ジクロロメタン、クロロホルム、ヘキサフルオロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル；アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン；酢酸等の酸；酢酸エチル等のエステル；ペンタン、ヘキサン等の炭化水素；又は上記の溶媒の互いの混合物若しくは水との混合物である。
【００４１】
式（III)、（IV）及び（Ｖ）の錯体中の配位子Ｌに対するルテニウムの割合は、配位子の１mol に対し約０．５〜約２mol のルテニウムが好都合であり、好ましくは約１mol である。基質／触媒の割合（Ｓ／Ｃ；mol/mol)は、約２０〜約３０，０００が好都合であり、好ましくは約１００〜５，０００である。
【００４２】
式（III)、（IV）及び（Ｖ）の錯体を用いる不斉水素添加は、約１０℃〜約１００℃の温度で好都合に行われ、好ましくは約２０℃〜６０℃で行われる。水素添加は、圧力下で行われるのが好都合であり、好ましくは約１〜約１００バールの圧力、特に約２〜約８０バールで行われる。
【００４３】
本発明による方法は、Ｒが、水素、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖のアルキル基、又は直鎖のアルキル基（これは、末端位でヒドロキシ基又は式（ＣＨ3 Ｏ)2ＣＨ−若しくは（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ)2ＣＨ−の基、あるいは下記式：
【００４４】
【化１５】
で示される環の一つ（これは、場合によりで置換されていてもよい）で置換されている）を表す式（Ｉ）の化合物の製造に極めて適切である。
【００４６】
上述の環上で考慮される置換基は、末端位において場合によりヒドロキシ、ＮＨ2 、臭素若しくはヨウ素を担持できる低級アルキル又は低級アルコキシ基であり；６員環は、好ましくは４位で置換され、５員環は、好ましくは３位で置換され、そして縮合環は、好ましくは６位で置換されている。
【００４７】
本発明による方法は、簡易な方法で、一連の目的の中間生成物、例えば反応スキーム１に記述のように、光学活性α−フルオロ−（１）、α−ヒドロキシ−（２）及びα−アミノカルボン酸、並びにそれぞれそれらの塩又はエステル（３）の入手方法を提供する。
【００４８】
【化１６】
対応するα−ヒドロキシ誘導体（２）への式（Ｉ）の化合物の変換は、遊離の酸又は塩から直接行われる。対応するα−フルオロ−（１）又はα−アミノカルボン酸（３）への式（Ｉ）の化合物の変換のために、後で問題なく開裂し得るエステルを、まず形成させるのが好都合である。式（Ｉ）の化合物は、還元、例えばＢＨ3 ・ＴＨＦ錯体により、対応するアルコール（４）に変換することができる。
【００５０】
遊離物として用いられる式（II）の化合物は、公知の化合物又は公知の化合物の類似体であり、それ自体、公知の方法で調製することができる。
【００５１】
以下の実施例は、本発明を例証しており、いかなる制限を表すものでもない。使用されている略語を、下記に説明する：
【００５２】
ＧＣ面積％は、ガスクロマトグラフィー、面積％を表し；
ｅｅは、鏡像異性体の収率を表し；
ＢＩＰＨＥＭＰは、（６，６′−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ビス−（ジフェニルホスフィン）を表し；
ＢＩＮＡＰは、〔（１，１′−ビナフチル）−２，２′−ジイル〕ビス（ジフェニル−ホスフィン）を表し；
Ｃｙ2 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−Ｐ２，Ｐ２−ジシクロヘキシル−６，６′−ジメトキシ−Ｐ２′，Ｐ２′−ジフェニル−ビフェニル−２，２′−ビス−ホスフィンを表し；
２−Ｆｕｒｙｌ2 −ＢＩＰＨＥＭＰは、Ｐ，Ｐ−ジフェニル−Ｐ′，Ｐ′−ジ−２−フリルフェニル）−（６，６′−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィンを表し；
Ｃｙ4 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス−（ジシクロヘキシル−ホスフィン）を表し；
（Ｓ）−（３，５−ｌｐｒ，４−ＭｅＯ）−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（Ｓ）−６，６′−ジメチル−Ｐ，Ｐ，Ｐ′，Ｐ′−テトラキス−（ジイソプロピル−４−メトキシ−フェニル）ビフェニル−２，２′−ビスホスフィンを表し；
ｌｐｒ4 −ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス−（ジイソプロピル−ホスフィン）を表し；
（Ｒ）−（Ｓ）−ＰＰＦ−Ｐ（ｔＢｕ）2 は、｛（Ｒ）−１−〔（Ｓ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル〕｝エチル−ジ−tert−ブチルホスフィンを表し；
ＭｅＰＨＯＳ−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰは、〔｛２，５−ジメチル−ホスホラン−１−イル｝−６，６′−ジメトキシ−ビフェニル−２−イル〕−２，５−ジメチル−ホスホランを表し；
ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ−ＴＳ−Ｎａは、６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ビス（４，４′−ホスフィン−ジイル）−ジベンゼンスルホン酸ナトリウム塩を表す。
【００５３】
【実施例】
実施例１
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、ジエチルエーテル６ml及びテトラヒドロフラン２mlの混合物中に、ビス（η2 −アセタート）（η4 −シクロオクタ−１，５−ジエン）ルテニウム（II）７．４mg（０．０２２６mmol）及び（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ１２．５mg（０．０２２６mmol）を溶解し、４０℃で１．５時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸０．５g （２．２６mmol）及びメタノール６０mlを、グローブボックス中で、１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら２０℃で水素添加を行った。水素添加は、１７時間後に中断した。変換は９３％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸（９４．３％ｅｅ）９３％及び抽出物７％よりなる混合物０．４ｇ（８０％）を、無色油状物として得た。ｅｅ測定のために、生成物の試料は、ジアゾメタンでエステル化し、キラル相（ＯＶ−６１と混合したペルメチル化シクロデキストリン）上でガスクロマトグラフィーにより分析した。
【００５４】
実施例２
触媒溶液を、グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中でメタノール２０mlにＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ〕０．３５ｇ（０．４５mmol）を溶解することによって調製し、２０℃で１５分間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１０．０ｇ（４５．２mmol）及びメタノール９４mlを１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。３時間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸（９３．８％ｅｅ）９８．６％及び抽出物１．４％よりなる混合物９．４ｇ（９４％）を無色油状物として得た。
【００５５】
実施例３
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶液を水２０mlにＲｕ（ＣＦ3 ＣＯＯ)2〔（Ｓ）−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ−ＴＳ−Ｎａ〕５９．６mg（０．０４５mmol）を溶解することによって調製し、２０℃で１５分間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０g （４．５２mmol）、水３０ml及びトリエチルアミン０．４６ｇ（４．５２mmol）を１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液２０mlを加えた。オートクレーブを密閉し、２０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。４時間後、変換は１００％であった。水素添加溶液は、１N ＨＣｌ溶液でpH１の酸性とし、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出物（４０℃／２０mbar）を乾燥及び蒸発させた後、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｓ）−２−ブロモ−オクタン酸０．９ｇ（９０％）を無色油状物として得た。化学的純度９８．９ＧＣ面積％；９３．０％ｅｅ
【００５６】
実施例４〜２６
第１表に記載の水素添加は、実施例１又は２と同様の方法で行った。
【００５７】
【表１】
【表２】
１）触媒調製：実施例２と同じ
２）触媒調製：実施例１と同じ
３）M. Scalone, Abstract; 9th International Symposium on Homogeneous Catalysis, August 21-26, 1994により調製
【００６０】
実施例２７
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．００４５mmol）及び８５％エーテル性ＨＢＦ4 溶液１７．２mg（０．０９０５mmol）を溶解することにより調製し、２０℃で１．５時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０ｇ（４．５２mmol）及びメタノール１０５mlを１８５mlオートクレーブに中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。２１時間後、変換は９８％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸０．６g を無色油状物として得た。化学的純度９７．３ＧＣ面積％；８６．０％ｅｅ
【００６１】
実施例２８
グローブボックス（Ｏ2 含量１ppm 未満）中で、触媒溶液をメタノール２０ml中にＲｕ（ＯＡｃ)2〔（Ｒ）−ＢＩＰＨＥＭＰ〕０．０３５ｇ（０．０４５mmol）及びメタノール性ＨＣｌ溶液０．０９mol １mlを溶解することにより調製し、２０℃で１．５時間撹拌した。次いで、（Ｚ）−２−ブロモ−２−オクテン酸１．０ｇ（４．５２mmol）及びメタノール１０５mlを１８５mlオートクレーブ中に入れ、上記により調製した触媒溶液を加えた。オートクレーブを密閉し、５０℃で５０bar の一定した圧力下で撹拌しながら、水素添加を行った。２１時間後、変換は８７％であった。水素添加溶液は、５０℃／２０mbarで蒸発させ、残渣をバルブチューブオーブン中で１１５℃／０．２mbarで蒸留した。（Ｒ）−２−ブロモ−オクタン酸（８５．４％ｅｅ）８６％及び抽出物１４％の混合物０．６ｇを無色油状物として得た。
Claims (8)
- 式（Ｉ）：
Ｘは、臭素又は塩素を表し；
Ｍは、水素、ＮＲ1 4 +又はアルカリ若しくはアルカリ土類金属の陽イオンを表し；
Ｒ1は、水素又は低級アルキルを表し；
ｎは、０又は１を表し；
Ｒは、水素、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル（これは、場合により、末端位で、−ＮＲ2 2、−ＣＯＯＲ2、−ＯＲ3で置換されていてもよい）又は遊離若しくは保護された−ＣＨＯ基、あるいは環Ａを表し；
Ｒ2は、水素又は低級アルキルを表し；
Ｒ3は、水素又は保護基を表し；
環Ａは、場合により置換されていてもよい環を表し；そして
＊はキラリティ中心を表す）で示される光学活性α−ブロモ−若しくはα−クロロカルボン酸、又はそれぞれ、これらの塩若しくはエステルを、製造する方法であって、
一般式（II）：
Ｒ、ｎ、Ｘ及びＭは、上記と同義である）で示されるα，β不飽和化合物を、光学活性の、アトロプ異性のジホスフィン配位子のルテニウム錯体の存在下に、エナンチオ選択的に水素添加することを特徴とする方法。 - 式（III)、（IV）又は（Ｖ）：
Ｚは、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、Ｂ（フェニル）4 -又はＰＦ6 -を表し；
Ｚ1 は、ハロゲン、Ｙ−ＣＯＯ- 基又はＹ−ＳＯ3 -基を表し；
Ｙは、低級アルキル、フェニル、ハロゲン化低級アルキル又はハロゲン化フェニルを表し；
Ｚ2 は、ハロゲンを表し；
Ｘは、ベンゼン、ヘキサメチルベンゼン又はｐ−シメンを表し；
ｍは、１又は２を表し；
Ｚ3 は、ハロゲン、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -又はＢ（フェニル）4 -を表し；そして
Ｌは、光学的に活性であり、アトロプ異性のジホスフィン配位子を表す）で示されるルテニウム錯体が用いられる、請求項１記載の方法。 - アトロプ異性の配位子Ｌが、一般式（VI）又は（VII)：
Ｒ4 及びＲ5 は、それぞれ独立して、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ若しくは保護されたヒドロキシを表すか、又は一緒になって、−Ｏ−ＣＨ2 −若しくは−Ｏ−ＣＨ2 −Ｏ−を表し；
Ｒ6 は、低級アルキル又は低級アルコキシを表し；
ｐは、０、１又は２を表し；そして
Ｒ7 及びＲ8 は、それぞれ独立して、低級アルキル、シクロアルキル、アリール若しくは５員ヘテロ芳香族を表すか、又はリン原子と一緒になって、下記式：
＊は、キラリティ中心を表す）で示され、（Ｒ）−又は（Ｓ）−形態で存在する化合物である、請求項２記載の方法。 - アトロプ異性の配位子Ｌが、一般式（VIII）：
Ｒ9 は、シクロアルキル又は低級アルキルを表し；
Ｒ10は、アリール又はヘテロアリールを表し；
Ｒ11は、アリール、ヘテロアリール又は低級アルキルを表し；そして
＊は、キラリティ中心を表す）で示される化合物である、請求項２記載の方法。 - 式（III)、（IV）又は（Ｖ）の錯体中の配位子Ｌに対するルテニウムの割合が、約０．５〜約２mol である、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
- 基質／触媒の割合：（Ｓ／Ｃ；mol/mol)が、約２０〜約３０，０００である、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法
- 反応が、約２０℃〜約６０℃の温度、及び約２〜約８０バールの圧力で実施される、請求項１〜４のいずれか１項記載の方法。
- Ｒが、水素、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖のアルキル基、又は、直鎖のアルキル基（これは、末端位でヒドロキシ基又は式：（ＣＨ3 Ｏ)2ＣＨ−若しくは（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ)2ＣＨ−の基、あるいは下記式：
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