JPH09227498A - 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 - Google Patents
高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法Info
- Publication number
- JPH09227498A JPH09227498A JP8008783A JP878396A JPH09227498A JP H09227498 A JPH09227498 A JP H09227498A JP 8008783 A JP8008783 A JP 8008783A JP 878396 A JP878396 A JP 878396A JP H09227498 A JPH09227498 A JP H09227498A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- anhydride
- trifluoromethanesulfonic
- acid
- distillation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
レジストの光発生酸触媒として有用なフルオロアルキル
スルホン酸無水物の製造方法を提供する。 【解決手段】 五酸化二燐と一般式Cn F2n+1SO3 H
(n=1〜8)のフルオロアルキルスルホン酸との反応
から(Cn F2n+1SO2 )2 O(n=1〜8)のフルオ
ロアルキルスルホン酸無水物を得る際に、五酸化二燐を
フッ素系溶媒(フルオロアルキルスルホン酸無水物、一
般式Cn F2n+1SO2 ・OCn F2n+1のフルオロアルキ
ルスルホン酸エステル、一般式Cn F2n+2(n=4〜2
0)のペルフルオロアルカン等)中へ添加後、該スラリ
ー中へフルオロアルキルスルホン酸を供給し、−40〜
150℃で反応させ、また生成物を回収後の残渣へ燐酸
を添加し蒸留してフルオロアルキルスルホン酸無水物を
回収する。
Description
の触媒あるいは化学増幅型レジストの光発生酸触媒とし
て有用な物質であるフルオロアルキルスルホン酸無水物
の製造方法に関するものである。
五酸化二燐とフルオロアルキルスルホン酸との反応から
フルオロアルキルスルホン酸無水物を製造する際に、不
純物の少ないフルオロアルキルスルホン酸無水物を高収
率で製造する方法に関するものである。
るフルオロアルキルスルホン酸無水物、例えばトリフル
オロメタンスルホン酸無水物を製造する方法として、一
般に広く実施されている方法は、次式に示すように、ト
リフルオロメタンスルホン酸に五酸化二燐を添加反応
後、蒸留することにより粗トリフルオロメタンスルホン
酸無水物を得るものである。
純粋なトリフルオロメタンスルホン無水物を取得する方
法が知られている。 6CF3SO3H + P2O5 → 3(CF3SO2)2O + 2H3PO4 しかしながら、この方法においてはトリフルオロメタン
スルホン酸の脱水縮合反応において、トリフルオロメタ
ンスルホン酸中へ五酸化二燐を添加する為、モル比30
(P2 O5 /CF3 SO3 H)以上の過剰の五酸化二燐
を添加すると反応液が固結し、これ以上、五酸化二燐を
添加しても固液の撹拌が出来ないため、反応率は約70
%が上限となり、反応物中に約30%の未反応トリフル
オロメタンスルホン酸が残存する。更に、圧力,温度等
の蒸留条件によっては、蒸留残渣中に未回収のトリフル
オロメタンスルホン酸無水物が残留するため、蒸留回収
したトリフルオロメタンスルホン酸無水物のトリフルオ
ロメタンスルホン酸ベースの収率は、約60%の低収率
となることは避けられなかった。
にトリフルオロメタンスルホン酸無水物を蒸留回収した
後の蒸留残渣に、水または燐酸水溶液を添加させて未反
応のトリフルオロメタンスルホン酸を回収する方法を先
に提案した(特開平2−268148号)。
ルホン酸の脱水縮合反応後、反応物中には大過剰の未反
応トリフルオロメタンスルホン酸が残存する為、次式に
示すような 分解反応が進行し、蒸留回収したトリフルオロメタンス
ルホン酸無水物にトリフルオロメタンスルホン酸エステ
ルや原料酸であるトリフルオロメタンスルホン酸が多く
混入する為、品質を著しく低下させ、これら不純物を多
く含むものとなり、これらを精留した場合においても、
これら不純物は、ほぼ完全に除去されるものの分離効率
は非常に悪かった。
ルオロアルキルスルホン酸エステルおよびフルオロアル
キルスルホン酸等の不純物が非常に少ない高純度フルオ
ロアルキルスルホン酸無水物を容易にかつ収率よく得る
方法について、鋭意検討の結果、フッ素系溶媒に大過剰
の五酸化二燐を分散させた系でフルオロアルキルスルホ
ン酸を低温で反応させ、反応率をほぼ100%にするこ
とにより、フルオロアルキルスルホン酸エステル等の不
純物が非常に少ない高純度フルオロアルキルスルホン酸
無水物が得られること、更に、フルオロアルキルスルホ
ン酸無水物を回収した後の残渣へ燐酸を添加し、蒸留に
よりフルオロアルキルスルホン酸無水物を回収する事に
より、収率よく容易に高純度フルオロアルキルスルホン
酸無水物を得ることができることを見いだし本発明に到
達した。
ル等の不純物が多いフルオロアルキルスルホン酸無水物
が生成する原因としては、五酸化二燐とフルオロアルキ
ルスルホン酸の脱水縮合反応が低反応率であるがゆえ
に、原料酸であるフルオロアルキルスルホン酸が反応物
中へ多量に残存し、この未反応フルオロアルキルスルホ
ン酸が反応生成したフルオロアルキルスルホン酸無水物
を分解させる事によるものであるが、この脱水縮合反応
時、フッ素系溶媒を五酸化二燐の分散溶媒として用いる
事により、大過剰の五酸化二燐の供給が可能となり、更
に、低温反応させる事により、脱水縮合反応時、添加し
た五酸化二燐の固結防止を導き、固液反応時間を増加さ
せる結果、原料酸であるフルオロアルキルスルホン酸の
反応率は、ほぼ100%となり、フルオロアルキルスル
ホン酸無水物中の不純物は、飛躍的に減少できる。ま
た、フッ素系溶媒として反応生成物であるフルオロアル
キルスルホン酸無水物を用いた場合には、これら生成物
の回収時、その他のフッ素系溶媒等の不純物の混入によ
って生ずるフルオロアルキルスルホン酸無水物の純度低
下も避ける事ができる。
開平2−268148号)においては、トリフルオロメ
タンスルホン酸無水物を蒸留回収した後の蒸留残渣に対
し、水または燐酸水溶液を添加させるために蒸留による
分離の際、トリフルオロメタンスルホン酸無水物の加水
分解反応により、トリフルオロメタンスルホン酸の生成
が起こり易いものであったが、本発明においては、この
蒸留残渣にフリーの水を含まない100%燐酸を添加さ
せるものであって、このことよりフルオロアルキルスル
ホン酸無水物の蒸留回収時には極めて収率よく蒸留回収
できるものであり、本発明の目的を十分に達成すること
ができる。
系溶媒に対して、五酸化二燐の添加量としては、五酸化
二燐を含めた全体量の80wt%以下、好ましくは15
〜30wt%添加したものであれば良い。添加量の下限
については特に限定されないが、経済性の面から5wt
%以上が好ましい。一方、80wt%より多い場合は、
脱水縮合反応時、反応液スラリーが短時間に固結現象を
呈し、固液反応時間の低下を招くため、反応率に多大の
悪影響を与え好ましくない。
n F2n+1SO3 H)としては、12〜400、好ましく
はモル比48〜240の範囲が適する。モル比が12よ
り少ない場合、反応速度が非常に遅くなるとともにフル
オロアルキルスルホン酸エステル化反応を促進し、収率
の低下を招く。またこの範囲を越えても特に利点はな
く、経済的ではない。
40〜150℃の温度範囲が好ましく、最適には、0〜
10℃の範囲を保持する。150℃以上では、反応時、
短時間で五酸化二燐の固結現象が生じ、固液反応時間低
下のために収率の低下を起こし、また、−40℃以下で
は、反応速度が遅くかつ粘度も上昇し好ましくない。
気圧または減圧下で撹拌を続けながら30分以上、好ま
しくは8〜10時間反応させる。本発明に用いられる五
酸化二燐のフッ素系溶媒としては、脱水縮合反応後の生
成物の回収の面からは、反応生成するフルオロアルキル
スルホン酸無水物が最も適するが、原料および反応生成
物に不活性な溶媒で、たとえば、一般式Cn F2n +1SO
2 ・OCn F2n+1(n=1〜8)で示されるフルオロア
ルキルスルホン酸エステル、一般式Cn F2n+2(n=4
〜20)で示されるペルフルオロアルカン、一般式(C
n F2n+1)3 N(n=2〜6)で示されるペルフルオロ
アルキルアミン、およびペルフルオロポリエーテル等の
ペルフルオロ化合物が好適に用いられ、これらの混合物
でも本発明は十分に効果をあげることができる。
を回収した後の残渣中に含まれる未回収のフルオロアル
キルスルホン酸無水物を回収する場合には、フルオロア
ルキルスルホン酸無水物の加水分解を抑制するため、用
いる燐酸としては、フリーの水が可及的に少ないものを
用いるものであり、燐酸の濃度は、100%燐酸(P 2
O5 濃度:72.4%)以上が好ましい。上限について
は特に限定されないが、あまり高くても残渣の主成分で
ある五酸化二燐が未溶解分として反応容器に残るため、
回収後の残渣処理が困難となり、通常はP2O5濃度80
%以下が適するものである。
ホン酸無水物を回収した後の残渣中に含まれる五酸化二
燐および添加する燐酸の合計P2 O5 に対して2倍モル
までの量のH2 Oとなるように調整し、これにより残渣
中の燐酸分はピロ燐酸組成となる。水の量がこの量より
多くなるように添加すると、残渣中に含まれるフルオロ
アルキルスルホン酸無水物の加水分解が進行し、回収工
程における収率の低下を招く。
厳密には、フルオロアルキルスルホン酸の脱水縮合反応
により放出される水を予め考慮して決定することが好ま
しい。
オロアルキルスルホン酸無水物をほとんど溶解せず、か
つまた、フルオロアルキルスルホン酸を無限に溶解する
特性を有しているため、低温で蒸留することができ、種
々の不純物を含まない高純度のフルオロアルキルスホン
酸無水物が容易に得られる。
ムとしては、別途用意した容器内で反応残渣に含まれる
フルオロアルキルスルホン酸無水物を回収した後のピロ
燐酸溶液に水を添加して、100%燐酸溶液に再調整せ
しめた後、次の回収用燐酸としてリサイクルさせること
により回収用燐酸溶液をクローズドシステム化すること
ができる。
媒としてフッ素系溶媒を用いて、150℃以下の温度で
フルオロアルキルスルホン酸と反応を行わせることによ
り、不純物の少ないフルオロアルキルスルホン酸無水物
を得る方法に関するものであるが、不純物の増加を招く
物質を反応中にできるだけ生成せしめないような反応条
件および蒸留条件についても検討した。
ロアルキルスルホン酸中には、不純物として、三酸化硫
黄,硫酸および水等が含まれているが、これら不純物は
脱水縮合反応時に次式に示すような H2SO4 + P2O5 → SO3 + 2HPO3 (1) 2Cn F2n+1SO3H +SO3 → Cn F2n+1SO2・ OC n F2n+1 +SO2 ↑+H2SO4 (2) (Cn F2n+1SO2)2O + H2O → 2Cn F2n+1SO3H (3) 種々の分解反応が室温から進行し、蒸留時の加熱状態で
は更に促進されるために収率の低下を招く。このため原
料酸のこれらの不純物量としては、1000ppm以
下、好ましくは500ppm以下のものを使用する。
の添加順序としては、フッ素系溶媒へ原料酸を添加した
後、五酸化二燐を供給し反応させる方法を用いた場合に
おいても、高収率で高純度フルオロアルキルスルホン酸
無水物を取得できるものであるが、この場合、フッ素系
溶媒に生成物であるフルオロアルキルスルホン酸無水物
を使用時には、室温から原料酸であるフルオロアルキル
スルホン酸が、フルオロアルキルスルホン酸無水物をフ
ルオロアルキルスルホン酸エステル化反応させる分解反
応を呈し、更に、五酸化二燐の添加初期には、モル比
(P2 O5 /CnF2n+1SO3 H)が低いためにフルオ
ロアルキルスルホン酸エステルの生成量が増加の傾向を
示す。この場合には、溶媒の温度を5〜10℃に保つこ
とにより、フルオロアルキルスルホン酸エステル化反応
をある程度抑制する事が出来るが、フッ素系溶媒中へ五
酸化二燐を添加したスラリー中へ、原料酸であるフルオ
ロアルキルスルホン酸を供給し、フルオロアルキルスル
ホン酸エステルの生成を抑制する方がより有利である。
キルスルホン酸無水物の分離回収については、分液等に
より回収することも可能であるが、一般的には蒸留によ
り分離される。例えばトリフルオロメタンスルホン酸無
水物の場合の蒸留回収時の圧力については、50Tor
r以上、好ましくは100Torr以上程度の範囲の条
件で操作するが、あまり高くてもトリフルオロメタンス
ホン酸無水物の熱分解によりフリーフッ素の生成量が増
加の傾向を示して好ましくないため、蒸留圧力は、15
0〜200Torr程度が好適である。
ロアルキルスルホン酸無水物以外のものを用いた場合に
おいても同様に蒸留により、高純度のフルオロアルキル
スルホン酸無水物を得ることができるものである。
媒に五酸化二燐を添加後、150℃以下、好ましくは0
〜10℃の範囲でフルオロアルキルスルホン酸を供給
し、大気圧または減圧下で撹拌を続けながら、30分以
上反応を保持することにより達成される。
に蒸留釜には、ステンレススチール、ハステロイ−C等
が用いられ、塔および凝縮器,製品受器等は、ガラス,
ガラスライニングあるいはテフロンライニングしたもの
等が適する。
ルオロアルキルスルホン酸無水物の蒸留回収を行い、更
に、蒸留残渣に燐酸を供給して残留するフルオロアルキ
ルスルホン酸無水物の蒸留回収を実施することにより、
目的の高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物を経済
的に取得することができる。
明はかかる実施例に限られるものではない。
(0.27m3 )に純度99wt%以上(トリフルオロ
メタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフル
オロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtpp
m以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kgを仕
込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち撹拌
させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /CF3 SO
3 H:モル比=60)を添加した後、この五酸化二燐ス
ラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)へ、ト
リフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合し
反応させ、反応温度10℃、8時間で仕込みのトリフル
オロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率は、
99.5%となり、反応を終了した。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物358.1kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフ
ルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtp
pm以下、フリーフッ素500wtppm、純度99w
t%以上であった。なお、五酸化二燐の分散溶媒として
用いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kg
を除いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高
は、38.1kgであり、トリフルオロメタンスルホン
酸ベースの収率は、81%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、100%燐酸188kgを
添加し、再び160Torr、45〜90℃で単蒸留を
行い、トリフルオロメタンスホン酸無水物の回収を行っ
た。蒸留後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸
無水物2.4kgを得た。この留分中の不純物および純
度を分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エス
テル0.5wt%以下、トリフルオロメタンスルホン酸
0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素
500wtppm、純度99wt%以上であり、トリフ
ルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、5%であっ
た。
スルホン酸無水物38.1kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物2.4kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、8
6%であった。
ルホン酸無水物の回収蒸留を終えた蒸留釜残は、釜温9
0℃で溶液状のポリ燐酸であり、容易に反応器より抜き
出す事が出来た。
ロメタンスルホン酸無水物中のフリーフッ素を低減させ
るために、粗製品360.5kgを160Torr、4
5℃で精留を行い、トリフルオロメタンスルホン酸無水
物の精製を行った。
留出液:18kg)の後、中留の分取を行い、無色透明
の精製品252kgを得た。この中留液精製品中の不純
物および純度を分析した結果、トリフルオロメタンスル
ホン酸エステル0.5wt%以下、トリフルオロメタン
スルホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フ
リーフッ素30wtppm、純度99wt%以上であっ
た。
リボイラー内残液の粗トリフルオロメタンスホン酸無水
物は、次の反応の五酸化二燐溶媒として再使用される。 実施例2 実施例1と同様の装置に純度99wt%以上(トリフル
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含
む)のトリフルオロメタンスルホン酸無水物128kg
を仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち
撹拌させながら五酸化二燐32kg(P2 O5 /CF3
SO3 H:モル比=24)を添加した後、この五酸化二
燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)
へ、トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく
混合し反応させ、反応温度10℃、16時間で仕込みの
トリフルオロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反
応率は、92%となり、反応を終了した。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物164.7kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル1.0wt%、トリフルオ
ロメタンスルホン酸1.0wt%、燐5wtppm以
下、フリーフッ素620wtppm、純度98wt%で
あった。なお、五酸化二燐の分散溶媒として用いたトリ
フルオロメタンスルホン酸無水物128kgを除いたト
リフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高は、33.
4kgでありトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収
率は、71%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、100%燐酸58kgを添
加し、再び160Torr、45〜90℃で単蒸留を行
いトリフルオロメタンスホン酸無水物の回収を行った。
蒸留後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸無水
物1.9kgを得た。この留分中の不純物および純度を
分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エステル
0.5wt%以下、トリフルオロメタンスルホン酸0.
5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素53
0wtppm、純度99wt%以上であり、トリフルオ
ロメタンスルホン酸ベースの収率は、4%であった。
スルホン酸無水物33.4kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物1.9kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、7
5%であった。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含
む)のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kg
を仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち
撹拌させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /CF3
SO3 H:モル比=60)を添加した後、この五酸化二
燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)
へ、トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく
混合しつつ、ジャケット側へ熱媒を流して、反応温度1
40℃で反応させ、2時間で反応スラリーが固結のた
め、反応を終了した。反応終了後、仕込みのトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率は、8
7%であった。
で単蒸留を行い、トリフルオロメタンスルホン酸無水物
を留出させた。トリフルオロメタンスルホン酸無水物の
留出が認められなくなるまで減圧単蒸留を行い、蒸留
後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸無水物3
63.8kgを得た。この留分中の不純物および純度を
分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エステル
2wt%、トリフルオロメタンスルホン酸1wt%、燐
5wtppm以下、フリーフッ素2440wtppm、
純度97wt%であった。なお、五酸化二燐の分散溶媒
として用いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物32
0kgを除いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物の
出来高は、32.9kgでありトリフルオロメタンスル
ホン酸ベースの収率は、70%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、100%燐酸190kgを
添加し、再び160Torr、45〜90℃で単蒸留を
行いトリフルオロメタンスホン酸無水物の回収を行っ
た。蒸留後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸
無水物2.9kgを得た。この留分中の不純物および純
度を分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エス
テル0.5wt%以下、トリフルオロメタンスルホン酸
0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素
870wtppm、純度99wt%以上であり、トリフ
ルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、6%であっ
た。
スルホン酸無水物32.9kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物2.9kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、7
6%であった。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100ppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物80kgを仕込
み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち撹拌さ
せながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /CF3 SO3
H:モル比=60)を添加した後、この五酸化二燐スラ
リー(五酸化二燐スラリー濃度:50wt%)へ、トリ
フルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合しつ
つ、反応温度10℃で反応させ、3時間で反応スラリー
が固結のため、反応を終了した。反応終了後、仕込みの
トリフルオロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反
応率は、94%であった。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物114.3kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフ
ルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtp
pm以下、フリーフッ素510wtppm、純度99w
t%以上であった。なお、五酸化二燐の分散溶媒として
用いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物80kgを
除いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高
は、34.3kgでありトリフルオロメタンスルホン酸
ベースの収率は、73%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、100%燐酸190kgを
添加し、再び160Torr、45〜90℃で単蒸留を
行いトリフルオロメタンスホン酸無水物の回収を行っ
た。蒸留後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸
無水物1.9kgを得た。この留分中の不純物および純
度を分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エス
テル0.5wt%以下、トリフルオロメタンスルホン酸
0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素
480wtppm、純度99wt%以上であり、トリフ
ルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、4%であっ
た。
スルホン酸無水物34.3kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物1.9kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、7
7%であった。
メタンスルホン酸エステル5wt%、トリフルオロメタ
ンスルホン酸2wt%、燐70wtppm、フリーフッ
素630wtppmの組成を含む)のトリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物320kgを仕込み、コイル側に冷
水を流して、溶媒を5℃に保ち撹拌させながら五酸化二
燐80kg(P2 O5 /CF3 SO3 H:モル比=5
4)を添加した後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二
燐スラリー濃度:20wt%)へ、トリフルオロメタン
スルホン酸50kgを加えよく混合し反応させ、反応温
度10℃、8時間で仕込みのトリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物を除いた無水化反応率は、99.5%とな
り、反応を終了した。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物350.5kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル2.9wt%、トリフルオ
ロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm
以下、フリーフッ素590wtppm、純度97wt%
であった。なお、五酸化二燐の分散溶媒として用いたト
リフルオロメタンスルホン酸無水物の純分297.6k
gを除いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物の出来
高は、42.4kgでありトリフルオロメタンスルホン
酸ベースの収率は、80%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、100%燐酸184kgを
添加し、再び160Torr、45〜90℃で単蒸留を
行いトリフルオロメタンスホン酸無水物の回収を行っ
た。蒸留後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸
無水物2.1kgを得た。この留分中の不純物および純
度を分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エス
テル0.5wt%以下、トリフルオロメタンスルホン酸
0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素
550wtppm、純度99wt%以上であり、トリフ
ルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、4%であっ
た。
スルホン酸無水物42.4kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物2.1kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、8
4%であった。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100ppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kgを仕
込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち撹拌
させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /CF3 SO
3 H:モル比=60)を添加した後、この五酸化二燐ス
ラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)へ、ト
リフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合し
反応させ、反応温度10℃、8時間で仕込みのトリフル
オロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率は、
99.5%となり、反応を終了した。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物358.5kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフ
ルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtp
pm以下、フリーフッ素500wtppm、純度99w
t%以上であった。なお、五酸化二燐の分散溶媒として
用いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kg
を除いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高
は、38.5kgでありトリフルオロメタンスルホン酸
ベースの収率は、82%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、実施例1で得られた蒸留釜
残であるピロ燐酸に水を添加し、再調整したトリフルオ
ロメタンスルホン酸2wt%、燐酸98wt%組成のリ
サイクル燐酸192kgを添加し、再び160Tor
r、45〜90℃で単蒸留を行いトリフルオロメタンス
ホン酸無水物の回収を行った。蒸留後、無色透明のトリ
フルオロメタンスルホン酸無水物1.9kgを得た。こ
の留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフル
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素500wtppm、純度99
wt%以上であり、トリフルオロメタンスルホン酸ベー
スの収率は、4%であった。
スルホン酸無水物38.5kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物1.9kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、8
6%であった。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100ppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kgを仕
込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち撹拌
させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /CF3 SO
3 H:モル比=60)を添加した後、この五酸化二燐ス
ラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)へ、ト
リフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合し
反応させ、反応温度10℃、8時間で仕込みのトリフル
オロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率は、
99.5%となり、反応を終了した。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物357.6kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフ
ルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtp
pm以下、フリーフッ素490wtppm、純度99w
t%以上であった。なお、五酸化二燐の分散溶媒として
用いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kg
を除いたトリフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高
は、37.6kgでありトリフルオロメタンスルホン酸
ベースの収率は、80%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、実施例6で得られた蒸留釜
残であるピロ燐酸に水を添加し、再調整したトリフルオ
ロメタンスルホン酸2wt%、水5wt%、燐酸93w
t%組成のリサイクル燐酸202kgを添加し、再び1
60Torr、45〜90℃で単蒸留を行いトリフルオ
ロメタンスホン酸無水物の回収を行った。蒸留後、無色
透明のトリフルオロメタンスルホン酸無水物0.9kg
を得た。この留分中の不純物および純度を分析した結
果、トリフルオロメタンスルホン酸エステル0.5wt
%以下、トリフルオロメタンスルホン酸0.5wt%以
下、燐5wtppm以下、フリーフッ素520wtpp
m、純度99wt%以上であり、トリフルオロメタンス
ルホン酸ベースの収率は、2%であった。
スルホン酸無水物37.6kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物0.9kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、8
2%であった。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含
む)のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kg
を仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち
トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加え撹拌させ
ながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /CF3 SO
3 H:モル比=60)を供給し、よく混合し反応させ、
反応温度10℃、12時間で、仕込みのトリフルオロメ
タンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率は、97%
となり、反応を終了した。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物360.3kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル1wt%、トリフルオロメ
タンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm以
下、フリーフッ素570wtppm、純度99wt%で
あった。なお、五酸化二燐の分散溶媒として用いたトリ
フルオロメタンスルホン酸無水物320kgを除いたト
リフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高は、36.
7kgでありトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収
率は、78%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、100%燐酸188kgを
添加し、再び160Torr、45〜90℃で単蒸留を
行いトリフルオロメタンスホン酸無水物の回収を行っ
た。蒸留後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸
無水物1.9kgを得た。この留分中の不純物および純
度を分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エス
テル0.5wt%以下、トリフルオロメタンスルホン酸
0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素
520wtppm、純度99wt%以上であり、トリフ
ルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、4%であっ
た。
スルホン酸無水物36.7kgと本蒸留で得たトリフル
オロメタンスルホン酸無水物1.9kgを加えたトータ
ルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、8
2%であった。
F20320kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、溶
媒を5℃に保ち撹拌させながら五酸化二燐80kg(P
2 O5 /CF3 SO3 H:モル比=60)を添加した
後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃
度:20wt%)へ、トリフルオロメタンスルホン酸5
0kgを加えよく混合し反応させ、反応温度10℃、8
時間で無水化反応率は、99.5%となり、反応を終了
した。
0Torr、45〜200℃で単蒸留を行い、n−C9
F20およびトリフルオロメタンスルホン酸無水物の混合
物を留出させた。これらの留出が認められなくなるまで
減圧単蒸留を行い、蒸留後、留出液342.5kgを得
た。この留分中の組成を分析した結果、トリフルオロメ
タンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフルオ
ロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm
以下、フリーフッ素70wtppm、n−C9F208
8.8wt%,トリフルオロメタンスルホン酸無水物1
1.2wt%であった。なお、五酸化二燐の分散溶媒と
して用いたn−C9 F20の回収量は304kgであり、
回収率は95%であった。また、トリフルオロメタンス
ルホン酸無水物の出来高は、38.4kgでありトリフ
ルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、82%であっ
た。
びn−C9 F20を蒸留回収した後の蒸留残渣へ、100
%燐酸188kgを添加し、再び50Torr、45〜
200℃で単蒸留を行い、トリフルオロメタンスホン酸
無水物およびn−C9 F20の回収を行った。蒸留後、留
出液11.5kgを得た。この留分中の組成を分析した
結果、トリフルオロメタンスルホン酸エステル0.5w
t%以下、トリフルオロメタンスルホン酸0.5wt%
以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素80wtpp
m、n−C9 F2083.5wt%、トリフルオロメタン
スルホン酸無水物16.5wt%であった。なお、溶媒
であるn−C9 F20の回収量は9.6kgであり、回収
率は3%であり、先の蒸留で得たn−C9 F20304k
gと本回収蒸留で得たn−C9 F209.6kgを加えた
トータルの溶媒回収量は、98%であった。
の回収量は、1.9kgであり、トリフルオロメタンス
ルホン酸ベースの収率は4%であり、先の蒸留で得たト
リフルオロメタンスルホン酸無水物38.4kgと本回
収蒸留で得たトリフルオロメタンスルホン酸無水物1.
9kgを加えたトータルのトリフルオロメタンスルホン
酸ベースの収率は、86%であった。
ロメタンスルホン酸無水物中のフリーフッ素およびn−
C9 F20を分離低減させるために、粗製品354kgを
160Torr、45℃で精留を行いトリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物の精製を行った。
留出液:7kg)の後、中留の分取を行い、無色透明の
精製品25kgを得た。この中留液精製品中の不純物お
よび純度を分析した結果、トリフルオロメタンスルホン
酸エステル0.5wt%以下、トリフルオロメタンスル
ホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリー
フッ素10wtppm、n−C9 F200.2wt%以
下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物99wt%以
上であった。 なお、本精留で得られた初留品および蒸
留リボイラー内残液の粗トリフルオロメタンスホン酸無
水物およびn−C 9 F20は、次の反応の五酸化二燐溶媒
として再使用される。
7 )3 N320kgを仕込み、コイル側に冷水を流し
て、溶媒を5℃に保ち撹拌させながら五酸化二燐80k
g(P2 O5 /CF3 SO3 H:モル比=60)を添加
した後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリー
濃度:20wt%)へ、トリフルオロメタンスルホン酸
50kgを加えよく混合し反応させ、反応温度10℃、
8時間で無水化反応率は、99.5%となり、反応を終
了した。
0Torr、45〜200℃で単蒸留を行い、(C3 F
7 )3 Nおよびトリフルオロメタンスルホン酸無水物の
混合物を留出させた。これらの留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、留出液338.6kg
を得た。この留分中の組成を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフ
ルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtp
pm以下、フリーフッ素90wtppm、(C 3 F7 )
3 N88.9wt%,トリフルオロメタンスルホン酸無
水物11.1wt%であった。なお、五酸化二燐の分散
溶媒として用いた(C3 F7 )3 Nの回収量は301k
gであり、回収率は94%であった。また、トリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物の出来高は、37.6kgで
ありトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、8
0%であった。
び(C3 F7 )3 Nを蒸留回収した後の蒸留残渣へ、1
00%燐酸188kgを添加し、再び50Torr、4
5〜200℃で単蒸留を行い、トリフルオロメタンスホ
ン酸無水物および(C3 F7)3 Nの回収を行った。蒸
留後、留出液18.4kgを得た。この留分中の組成を
分析した結果、トリフルオロメタンスルホン酸エステル
0.5wt%以下、トリフルオロメタンスルホン酸0.
5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素90
wtppm、(C3 F7 )3 N87wt%、トリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物13wt%であった。なお、
溶媒である(C3 F7 )3 Nの回収量は16kgであ
り、回収率は5%であり、先の蒸留で得た(C3 F7 )
3 N301kgと本回収蒸留で得た(C3 F7 )3 N1
6kgを加えたトータルの溶媒回収量は、99%であっ
た。
の回収量は2.4kgであり、トリフルオロメタンスル
ホン酸ベースの収率は5%であり、先の蒸留で得たトリ
フルオロメタンスルホン酸無水物37.6kgと本回収
蒸留で得たトリフルオロメタンスルホン酸無水物2.4
kgを加えたトータルのトリフルオロメタンスルホン酸
ベースの収率は、85%であった。
ロメタンスルホン酸無水物中のフリーフッ素および(C
3 F7 )3 Nを分離低減させるために、粗製品357k
gを160Torr、45℃で精留を行いトリフルオロ
メタンスルホン酸無水物の精製を行った。
留出液:7kg)の後、中留の分取を行い、無色透明の
精製品27kgを得た。この中留液精製品中の不純物お
よび純度を分析した結果、トリフルオロメタンスルホン
酸エステル0.5wt%以下、トリフルオロメタンスル
ホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリー
フッ素20wtppm、(C3 F7 )3 N0.2wt%
以下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物99wt%
以上であった。
リボイラー内残液の粗トリフルオロメタンスホン酸無水
物および(C3 F7 )3 Nは、次の反応の五酸化二燐溶
媒として再使用される。
200kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、原料酸
を5℃に保ち撹拌させながら五酸化二燐160kg(P
2 O5 /CF3 SO3 H:モル比=30.4)を供給し
よく混合しつつ、反応温度10℃で反応させ、1時間で
反応スラリーが固結のため、反応を終了した。反応終了
後、無水化反応率は、71%であった。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物121kgを得た。この留分
中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオロメ
タンスルホン酸エステル5wt%、トリフルオロメタン
スルホン酸2wt%、燐50wtppm、フリーフッ素
600wtppm、純度93wt%であった。なお、ト
リフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高は、11
2.5kgでありトリフルオロメタンスルホン酸ベース
の収率は、59.8%であった。
200kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、原料酸
を5℃に保ち撹拌させながら五酸化二燐120kg(P
2 O5 /CF3 SO3 H:モル比=22.8)を供給し
よく混合しつつ、反応温度10℃で反応させ、1時間で
反応スラリーが固結のため、反応を終了した。反応終了
後、無水化反応率は70%であった。
60Torr、45〜160℃で単蒸留を行い、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を留出させた。トリフル
オロメタンスルホン酸無水物の留出が認められなくなる
まで減圧単蒸留を行い、蒸留後、無色透明のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物118.5kgを得た。この
留分中の不純物および純度を分析した結果、トリフルオ
ロメタンスルホン酸エステル6wt%、トリフルオロメ
タンスルホン酸2wt%、燐60wtppm、フリーフ
ッ素640wtppm、純度92wt%であった。な
お、トリフルオロメタンスルホン酸無水物の出来高は、
109.0kgでありトリフルオロメタンスルホン酸ベ
ースの収率は、58%であった。
留回収した後の蒸留残渣へ、100%燐酸240kgを
添加し、再び160Torr、45〜90℃で単蒸留を
行い、トリフルオロメタンスホン酸無水物の回収を行っ
た。蒸留後、無色透明のトリフルオロメタンスルホン酸
無水物13.3kgを得た。この留分中の不純物および
純度を分析した結果、トリフルオロメチルトリフルオロ
メタンスルホネート1wt%、トリフルオロメタンスル
ホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリー
フッ素550wtppm、純度99wt%であり、トリ
フルオロメタンスルホン酸ベースの収率は、7%であっ
た。
スルホン酸無水物109.0kgと本蒸留で得たトリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物13.3kgを加えたト
ータルのトリフルオロメタンスルホン酸ベースの収率
は、65%であった。
ルホン酸無水物の回収蒸留を終えた蒸留釜残は、釜温9
0℃で溶液状のポリ燐酸であり、容易に反応器より抜き
出す事が出来た。
ロメタンスルホン酸無水物中のフリーフッ素、トリフル
オロメチルトリフルオロメタンスルホネートおよびトリ
フルオロメタンスルホン酸等の不純物を低減させるため
に、粗製品131.8kgを160Torr、45℃で
精留を行い、トリフルオロメタンスルホン酸無水物の精
製を行った。
留留出液:40kg)の後、中留の分取を行い、無色透
明の精製品49kgを得た。この中留液精製品中の不純
物および純度を分析した結果、トリフルオロメチルトリ
フルオロメタンスルホネート0.8wt%、トリフルオ
ロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm
以下、フリーフッ素90wtppm、純度99wt%以
上であった。
−C材質の反応槽(0.3m3 )に純度99wt%以上
(Cn F2n+1SO2 ・OCn F2n+1(n=1〜4)0.
5wt%以下、Cn F2n+1SO3 H(n=1〜4)0.
5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素35
wtppmの組成を含む)の(C4 F9SO2 )2 O3
20kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5
℃に保ち撹拌させながら五酸化二燐80kg(P2 O5
/C4 F9 SO3 H:モル比=121.7)を添加した
後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃
度:20wt%)へ、純度99%以上のC4 F9 SO3
H50kgを加えよく混合し反応させ、反応温度10
℃、10時間で仕込みの(C4 F9 SO2 )2 Oを除い
た無水化反応率は、99%となり、反応を終了した。
0Torr、65〜200℃で単蒸留を行い、(C4 F
9 SO2 )2 Oを留出させた。(C4 F9 SO2 )2 O
の留出が認められなくなるまで減圧単蒸留を行い、蒸留
後、無色透明の(C4 F9 SO2 )2 O355.4kg
を得た。この留分中の不純物および純度を分析した結
果、フルオロアルキルスルホン酸エステル0.5wt%
以下、フルオロアルキルスルホン酸0.5wt%以下、
燐150wtppm、フリーフッ素1550wtpp
m、純度99wt%以上であった。なお、五酸化二燐の
分散溶媒として用いた(C4 F9 SO2 )2 O320k
gを除いた(C4 F9 SO2 )2 Oの出来高は、35.
4kgであり、C4 F9 SO3 Hベースの収率は、73
%であった。
の蒸留残渣へ、100%燐酸205kgを添加し、再び
10Torr、65〜120℃で単蒸留を行い、(C4
F9SO2 )2 Oの回収を行った。蒸留後、無色透明の
(C4 F9 SO2 )2 O2.9kgを得た。この留分中
の不純物および純度を分析した結果、フルオロアルキル
スルホン酸エステル0.5wt%以下、フルオロアルキ
ルスルホン酸0.5wt%以下、燐60wtppm、フ
リーフッ素880wtppm、純度99wt%以上であ
り、C4 F9 SO3 Hベースの収率は、6%であった。
2 O35.4kgと本蒸留で得た(C4 F9 SO2 )2
O2.9kgを加えたトータルのC4 F9 SO3 Hベー
スの収率は、79%であった。
Oの回収蒸留を終えた蒸留釜残は、釜温90℃で溶液状
のポリ燐酸であり、容易に反応器より抜き出す事が出来
た。更に、これらの蒸留回収で得た(C4 F9 SO2 )
2 O中のフリーフッ素を低減させるために、粗製品35
8.3kgを10Torr、65℃で精留を行い、(C
4 F9 SO2 )2 Oの精製を行った。
留留出液:36kg)の後、中留の分取を行い、無色透
明の精製品215kgを得た。この中留液精製品中の不
純物および純度を分析した結果、フルオロアルキルスル
ホン酸エステル0.5wt%以下、フルオロアルキルス
ルホン酸0.5wt%以下、燐5wtppm以下、フリ
ーフッ素35wtppm、純度99wt%以上であっ
た。
リボイラー内残液の粗(C4 F9 SO2 )2 Oは、次の
反応の五酸化二燐溶媒として再使用される。 比較例2 実施例12と同様の装置に純度99%以上のC4 F9 S
O3 H200kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、
原料酸を5℃に保ち撹拌させながら五酸化二燐160k
g(P2 O5 /C4 F9 SO3 H:モル比=60.9)
を供給しよく混合しつつ、反応温度10℃で反応させ、
50分で反応スラリーが固結のため、反応を終了した。
反応終了後、無水化反応率は、62%であった。
0Torr、65〜200℃で単蒸留を行い、(C4 F
9 SO2 )2 Oを留出させた。(C4 F9 SO2 )2 O
の留出が認められなくなるまで減圧単蒸留を行い、蒸留
後、無色透明の(C4 F9 SO2 )2 O93.9kgを
得た。この留分中の不純物および純度を分析した結果、
C4 F9 SO2 ・OC4 F9 4wt%、C3 F7 SO2
・OC3 F7 2wt%、C2 F5 SO2 ・OC2 F5
0.5wt%以下、CF3 SO2 ・OCF3 0.5wt
%以下、C4 F9 SO3 H1wt%、C3 F7 SO3 H
0.5wt%以下、C2 F5 SO3 H0.5wt%以
下、CF3 SO3 H0.5wt%以下、燐170wtp
pm、フリーフッ素1620wtppm、純度93wt
%であった。なお、(C4 F9 SO2 )2 Oの出来高
は、87.3kgでありC4 F9 SO3Hベースの収率
は、45%であった。
2n+1SO2 ・OCn F 2n+1(n=1〜8)0.5wt%
以下、Cn F2n+1SO3 H(n=1〜8)0.5wt%
以下、燐100wtppm、フリーフッ素860wtp
pmの組成を含む)の(C8 F17SO2 )2 O320k
gを仕込み、コイル側に水を流して、溶媒を40℃に保
ち撹拌させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /C8
F17SO 3 H:モル比=202.8)を添加した後、こ
の五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20
wt%)へ、純度99%以上のC8 F17SO3 H50k
gを加えよく混合し反応させ、反応温度40℃、16時
間で仕込みの(C8 F17SO2 )2 Oを除いた無水化反
応率は、95%となり、反応を終了した。
0Torr、115〜250℃で単蒸留を行い、(C8
F17SO2 )2 Oを留出させた。(C8 F17SO2 )2
Oの留出が認められなくなるまで減圧単蒸留を行い、蒸
留後、無色透明の(C8 F17SO2 )2 O351.9k
gを得た。この留分中の不純物および純度を分析した結
果、フルオロアルキルスルホン酸エステル0.5wt%
以下、フルオロアルキルスルホン酸0.5wt%以下、
燐550wtppm、フリーフッ素3700wtpp
m、純度99wt%以上であった。なお、五酸化二燐の
分散溶媒として用いた(C8 F17SO2 )2 O320k
gを除いた(C8 F17SO2 )2 Oの出来高は、31.
9kgであり、C8 F17SO3 Hベースの収率は、65
%であった。
の蒸留残渣へ、100%燐酸211kgを添加し、再び
10Torr、115〜170℃で単蒸留を行い、(C
8 F 17SO2 )2 Oの回収を行った。蒸留後、無色透明
の(C8 F17SO2 )2 O2.1kgを得た。この留分
中の不純物および純度を分析した結果、フルオロアルキ
ルスルホン酸エステル0.5wt%以下、フルオロアル
キルスルホン酸0.5wt%以下、燐460wtpp
m、フリーフッ素2350wtppm、純度99wt%
以上であり、C8 F17SO3 Hベースの収率は、4%で
あった。
2 O31.9kgと本蒸留で得た(C8 F17SO2 )2
O2.1kgを加えたトータルのC8 F17SO3 Hベー
スの収率は、69%であった。
Oの回収蒸留を終えた蒸留釜残は、釜温90℃で溶液状
のポリ燐酸であり、容易に反応器より抜き出す事が出来
た。更に、これらの蒸留回収で得た(C8 F17SO2 )
2 O中のフリーフッ素を低減させるために、粗製品35
4kgを10Torr、115℃で精留を行い、(C8
F17SO2 )2 Oの精製を行った。
留留出液:35kg)の後、中留の分取を行い、無色透
明の精製品210kgを得た。この中留液精製品中の不
純物および純度を分析した結果、フルオロアルキルスル
ホン酸エステル0.5wt%以下、フルオロアルキルス
ルホン酸0.5wt%以下、燐100wtppm、フリ
ーフッ素860wtppm、純度99wt%以上であっ
た。
リボイラー内残液の粗(C8 F17SO2 )2 Oは、次の
反応の五酸化二燐溶媒として再使用される。 比較例3 実施例12と同様の装置に純度99%以上のC8 F17S
O3 H200kgを仕込み、コイル側に水を流して、原
料酸を40℃に保ち撹拌させながら五酸化二燐160k
g(P2 O5 /C8 F17SO3 H:モル比=101.
4)を供給しよく混合しつつ、反応温度40℃で反応さ
せ、40分で反応スラリーが固結のため、反応を終了し
た。反応終了後、無水化反応率は、48%であった。
0Torr、115〜250℃で単蒸留を行い、(C8
F17SO2 )2 Oを留出させた。(C8 F17SO2 )2
Oの留出が認められなくなるまで減圧単蒸留を行い、蒸
留後、無色透明の(C8 F17SO2 )2 O79.9kg
を得た。この留分中の不純物および純度を分析した結
果、C8 F17SO2 ・OC8 F175wt%、C7 F15S
O2 ・OC7 F152wt%、C6 F13SO2 ・OC6 F
130.5wt%以下、C8 F17SO3 H2wt%、C7
F15SO3 H0.5wt%以下、燐620wtppm、
フリーフッ素4100wtppm、純度91wt%であ
った。なお、(C8 F17SO2 )2 Oの出来高は、7
2.7kgでありC8 F17SO3 Hベースの収率は、3
7%であった。
や化学増幅型レジストの光発生酸触媒として有用なフル
オロアルキルスルホン酸無水物を、容易に高純度かつ高
収率で製造することを可能にした。
純粋なトリフルオロメタンスルホン無水物を取得する方
法が知られている。 6CF3SO3H + P2O5 → 3(CF3SO2)2O + 2H3PO4 しかしながら、この方法においてはトリフルオロメタン
スルホン酸の脱水縮合反応において、トリフルオロメタ
ンスルホン酸中へ五酸化二燐を添加する為、モル比5
(P2 O5 /6CF3 SO3 H)以上の過剰の五酸化二
燐を添加すると反応液が固結し、これ以上、五酸化二燐
を添加しても固液の攪拌が出来ないため、反応率は約7
0%が上限となり、反応物中に約30%の未反応トリフ
ルオロメタンスルホン酸が残存する。更に、圧力,温度
等の蒸留条件によっては、蒸留残渣中に未回収のトリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物が残留するため、蒸留回
収したトリフルオロメタンスルホン酸無水物のトリフル
オロメタンスルホン酸ベースの収率は、約60%の低収
率となることは避けられなかった。
Cn F2n+1SO3 H)としては、2〜66.7、好まし
くはモル比8〜40の範囲が適する。モル比が2より少
ない場合、反応速度が非常に遅くなるとともにフルオロ
アルキルスルホン酸エステル化反応を促進し、収率の低
下を招く。またこの範囲を越えても特に利点はなく、経
済的ではない。
の添加順序としては、フッ素系溶媒へ原料酸を添加した
後、五酸化二燐を供給し反応させる方法を用いた場合に
おいても、高収率で高純度フルオロアルキルスルホン酸
無水物を取得できるものであるが、この場合、フッ素系
溶媒に生成物であるフルオロアルキルスルホン酸無水物
を使用時には、室温から原料酸であるフルオロアルキル
スルホン酸が、フルオロアルキルスルホン酸無水物をフ
ルオロアルキルスルホン酸エステル化反応させる分解反
応を呈し、更に、五酸化二燐の添加初期には、モル比
(P2 O5 /6C n F2n+1SO3 H)が低いためにフル
オロアルキルスルホン酸エステルの生成量が増加の傾向
を示す。この場合には、溶媒の温度を5〜10℃に保つ
ことにより、フルオロアルキルスルホン酸エステル化反
応をある程度抑制する事が出来るが、フッ素系溶媒中へ
五酸化二燐を添加したスラリー中へ、原料酸であるフル
オロアルキルスルホン酸を供給し、フルオロアルキルス
ルホン酸エステルの生成を抑制する方がより有利であ
る。
(0.27m3 )に純度99wt%以上(トリフルオロ
メタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリフル
オロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wtpp
m以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kgを仕
込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち攪拌
させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /6CF3 S
O3H:モル比=10)を添加した後、この五酸化二燐
スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)へ、
トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合
し反応させ、反応温度10℃、8時間で仕込みのトリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率
は、99.5%となり、反応を終了した。
リボイラー内残液の粗トリフルオロメタンスルホン酸無
水物は、次の反応の五酸化二燐溶媒として再使用され
る。 実施例2 実施例1と同様の装置に純度99wt%以上(トリフル
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含
む)のトリフルオロメタンスルホン酸無水物128kg
を仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち
攪拌させながら五酸化二燐32kg(P2 O5 /6CF
3 SO3H:モル比=4)を添加した後、この五酸化二
燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)
へ、トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく
混合し反応させ、反応温度10℃、16時間で仕込みの
トリフルオロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反
応率は、92%となり、反応を終了した。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含
む)のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kg
を仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち
攪拌させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /6CF
3 SO3H:モル比=10)を添加した後、この五酸化
二燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)
へ、トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく
混合しつつ、ジャケット側へ熱媒を流して、反応温度1
40℃で反応させ、2時間で反応スラリーが固結のた
め、反応を終了した。反応終了後、仕込みのトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率は、8
7%であった。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100ppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物80kgを仕込
み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち攪拌さ
せながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /6CF3 SO
3 H:モル比=10)を添加した後、この五酸化二燐ス
ラリー(五酸化二燐スラリー濃度:50wt%)へ、ト
リフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合し
つつ、反応温度10℃で反応させ、3時間で反応スラリ
ーが固結のため、反応を終了した。反応終了後、仕込み
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化
反応率は、94%であった。
メタンスルホン酸エステル5wt%、トリフルオロメタ
ンスルホン酸2wt%、燐70wtppm、フリーフッ
素630wtppmの組成を含む)のトリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物320kgを仕込み、コイル側に冷
水を流して、溶媒を5℃に保ち攪拌させながら五酸化二
燐80kg(P2 O5 /6CF3 SO3 H:モル比=
9)を添加した後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二
燐スラリー濃度:20wt%)へ、トリフルオロメタン
スルホン酸50kgを加えよく混合し反応させ、反応温
度10℃、8時間で仕込みのトリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物を除いた無水化反応率は、99.5%とな
り、反応を終了した。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100ppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kgを仕
込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち攪拌
させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /6CF3 S
O3 H:モル比=10)を添加した後、この五酸化二燐
スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)へ、
トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合
し反応させ、反応温度10℃、8時間で仕込みのトリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率
は、99.5%となり、反応を終了した。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100ppmの組成を含む)
のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kgを仕
込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち攪拌
させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /6CF3 S
O3 H:モル比=10)を添加した後、この五酸化二燐
スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20wt%)へ、
トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加えよく混合
し反応させ、反応温度10℃、8時間で仕込みのトリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率
は、99.5%となり、反応を終了した。
オロメタンスルホン酸エステル0.5wt%以下、トリ
フルオロメタンスルホン酸0.5wt%以下、燐5wt
ppm以下、フリーフッ素100wtppmの組成を含
む)のトリフルオロメタンスルホン酸無水物320kg
を仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5℃に保ち
トリフルオロメタンスルホン酸50kgを加え攪拌させ
ながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /6CF3 SO3
H:モル比=10)を供給し、よく混合し反応させ、反
応温度10℃、12時間で、仕込みのトリフルオロメタ
ンスルホン酸無水物を除いた無水化反応率は、97%と
なり、反応を終了した。
F20320kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、溶
媒を5℃に保ち攪拌させながら五酸化二燐80kg(P
2 O5 /6CF3 SO3 H:モル比=10)を添加した
後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃
度:20wt%)へ、トリフルオロメタンスルホン酸5
0kgを加えよく混合し反応させ、反応温度10℃、8
時間で無水化反応率は、99.5%となり、反応を終了
した。
7 )3 N320kgを仕込み、コイル側に冷水を流し
て、溶媒を5℃に保ち攪拌させながら五酸化二燐80k
g(P2 O5 /6CF3 SO3 H:モル比=10)を添
加した後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリ
ー濃度:20wt%)へ、トリフルオロメタンスルホン
酸50kgを加えよく混合し反応させ、反応温度10
℃、8時間で無水化反応率は、99.5%となり、反応
を終了した。
200kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、原料酸
を5℃に保ち攪拌させながら五酸化二燐160kg(P
2 O5 /6CF3 SO3 H:モル比=5.1)を供給し
よく混合しつつ、反応温度10℃で反応させ、1時間で
反応スラリーが固結のため、反応を終了した。反応終了
後、無水化反応率は、71%であった。
200kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、原料酸
を5℃に保ち攪拌させながら五酸化二燐120kg(P
2 O5 /6CF3 SO3 H:モル比=3.8)を供給し
よく混合しつつ、反応温度10℃で反応させ、1時間で
反応スラリーが固結のため、反応を終了した。反応終了
後、無水化反応率は70%であった。
−C材質の反応槽(0.3m3)に純度99wt%以上
(Cn F2n+1SO2 ・OCn F2n+1(n=1〜4)0.
5wt%以下、Cn F2n+1SO3 H(n=1〜4)0.
5wt%以下、燐5wtppm以下、フリーフッ素35
wtppmの組成を含む)の(C4 F9SO2 )2 O3
20kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、溶媒を5
℃に保ち攪拌させながら五酸化二燐80kg(P2 O5
/6C4 F9 SO3 H:モル比=20.3)を添加した
後、この五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃
度:20wt%)へ、純度99%以上のC4 F9 SO3
H50kgを加えよく混合し反応させ、反応温度10
℃、10時間で仕込みの(C4 F9 SO2 )2Oを除い
た無水化反応率は、99%となり、反応を終了した。
リボイラー内残液の粗(C4 F9 SO2 )2Oは、次の
反応の五酸化二燐溶媒として再使用される。 比較例2 実施例12と同様の装置に純度99%以上のC4 F9 S
O3 H200kgを仕込み、コイル側に冷水を流して、
原料酸を5℃に保ち攪拌させながら五酸化二燐160k
g(P2O5 /6C4 F9 SO3 H:モル比=10.
2)を供給しよく混合しつつ、反応温度10℃で反応さ
せ、50分で反応スラリーが固結のため、反応を終了し
た。反応終了後、無水化反応率は、62%であった。
2n+1SO2 ・OCn F 2n+1(n=1〜8)0.5wt%
以下、Cn F2n+1SO3 H(n=1〜8)0.5wt%
以下、燐100wtppm、フリーフッ素860wtp
pmの組成を含む)の(C8 F17SO2 )2 O320k
gを仕込み、コイル側に水を流して、溶媒を40℃に保
ち攪拌させながら五酸化二燐80kg(P2 O5 /6C
8 F17SO3 H:モル比=33.8)を添加した後、こ
の五酸化二燐スラリー(五酸化二燐スラリー濃度:20
wt%)へ、純度99%以上のC8 F17SO3 H50k
gを加えよく混合し反応させ、反応温度40℃、16時
間で仕込みの(C8 F17SO2 )2 Oを除いた無水化反
応率は、95%となり、反応を終了した。
リボイラー内残液の粗(C8 F17SO2 )2 Oは、次の
反応の五酸化二燐溶媒として再使用される。 比較例3 実施例12と同様の装置に純度99%以上のC8 F17S
O3 H200kgを仕込み、コイル側に水を流して、原
料酸を40℃に保ち攪拌させながら五酸化二燐160k
g(P2O5 /6C8 F17SO3 H:モル比=16.
9)を供給しよく混合しつつ、反応温度40℃で反応さ
せ、40分で反応スラリーが固結のため、反応を終了し
た。反応終了後、無水化反応率は、48%であった。
Claims (4)
- 【請求項1】 五酸化二燐と一般式Cn F2n+1SO3 H
(n=1〜8)で示されるフルオロアルキルスルホン酸
との反応から一般式(Cn F2n+1SO2 )2 O(n=1
〜8)で示されるフルオロアルキルスルホン酸無水物を
得るに際し、フッ素系溶媒中で反応を行わせることを特
徴とするフルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方
法。 - 【請求項2】 五酸化二燐をフッ素系溶媒中へ添加した
後、そのスラリー中へフルオロアルキルスルホン酸を供
給し、−40〜150℃の温度範囲で反応を行わせるこ
とを特徴とする請求項1記載のフルオロアルキルスルホ
ン酸無水物の製造方法。 - 【請求項3】 フッ素系溶媒が、一般式(Cn F2n+1S
O2 )2 O(n=1〜8)で示されるフルオロアルキル
スルホン酸無水物、一般式Cn F2n+1SO2 ・OCn F
2n+1(n=1〜8)で示されるフルオロアルキルスルホ
ン酸エステル、一般式Cn F2n+2(n=4〜20)で示
されるペルフルオロアルカン、一般式(C n F2n+1)3
N(n=2〜6)で示されるペルフルオロアルキルアミ
ン、およびペルフルオロポリエーテルからなる群より選
ばれるもの、またはこれらの混合物であることを特徴と
する請求項1、2記載のフルオロアルキルスルホン酸無
水物の製造方法。 - 【請求項4】 五酸化二燐とフルオロアルキルスルホン
酸を反応させ生成したフルオロアルキルスルホン酸無水
物を回収した後の残渣へ燐酸を添加し、蒸留によりフル
オロアルキルスルホン酸無水物を回収することを特徴と
するフルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00878396A JP3169165B2 (ja) | 1995-12-20 | 1996-01-23 | 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 |
US08/771,118 US5808149A (en) | 1995-12-20 | 1996-12-20 | Method for producing high-purity fluoroalkylsulfonic acid anhydride |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7-331932 | 1995-12-20 | ||
JP33193295 | 1995-12-20 | ||
JP00878396A JP3169165B2 (ja) | 1995-12-20 | 1996-01-23 | 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09227498A true JPH09227498A (ja) | 1997-09-02 |
JP3169165B2 JP3169165B2 (ja) | 2001-05-21 |
Family
ID=26343374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00878396A Expired - Lifetime JP3169165B2 (ja) | 1995-12-20 | 1996-01-23 | 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5808149A (ja) |
JP (1) | JP3169165B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007049613A1 (ja) | 2005-10-25 | 2007-05-03 | Mitsubishi Materials Corporation | トリフルオロメタンスルホン酸無水物の製造方法 |
JP2007145815A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-06-14 | Mitsubishi Materials Corp | トリフルオロメタンスルホン酸無水物の製造方法。 |
JP2007297359A (ja) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Central Glass Co Ltd | フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 |
WO2013080676A1 (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-06 | セントラル硝子株式会社 | フルオロアルカンスルホン酸無水物の製造方法 |
CN116393170A (zh) * | 2023-03-01 | 2023-07-07 | 安徽泽升科技有限公司 | 三氟甲磺酸酐的制备方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2904313A1 (fr) * | 2006-07-27 | 2008-02-01 | Rhodia Recherches & Tech | Procede de preparation d'un anhydride d'acide sulfonique |
US20090137840A1 (en) * | 2007-11-28 | 2009-05-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated Alkanesulfonic Acid Anhydrides and Processes for Making the Same |
US8430179B2 (en) * | 2009-04-30 | 2013-04-30 | L & B Manufacturing, Inc. | Soil tilling and planting implement |
KR102334829B1 (ko) * | 2020-02-21 | 2021-12-07 | 주식회사 신영씨엔에스 | 드럼세정용 세정건 |
CN115504912B (zh) * | 2022-10-14 | 2023-08-18 | 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 | 一种间歇蒸馏釜制备高纯三氟甲磺酸酐的方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02268148A (ja) * | 1989-04-10 | 1990-11-01 | Central Glass Co Ltd | 無水トリフルオロメタンスルホン酸の製造方法 |
-
1996
- 1996-01-23 JP JP00878396A patent/JP3169165B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-20 US US08/771,118 patent/US5808149A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007049613A1 (ja) | 2005-10-25 | 2007-05-03 | Mitsubishi Materials Corporation | トリフルオロメタンスルホン酸無水物の製造方法 |
JP2007145815A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-06-14 | Mitsubishi Materials Corp | トリフルオロメタンスルホン酸無水物の製造方法。 |
US7741518B2 (en) | 2005-10-25 | 2010-06-22 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for producing trifluoromethanesulfonic anhydride |
JP2007297359A (ja) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Central Glass Co Ltd | フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 |
WO2013080676A1 (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-06 | セントラル硝子株式会社 | フルオロアルカンスルホン酸無水物の製造方法 |
JP2013112670A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Central Glass Co Ltd | フルオロアルカンスルホン酸無水物の製造方法 |
US9156779B2 (en) | 2011-11-30 | 2015-10-13 | Central Glass Company, Limited | Method for producing trifluoromethanesulfonic anhydride |
EP3112345A1 (en) | 2011-11-30 | 2017-01-04 | Central Glass Company, Limited | Method for producing fluoroalkanesulfonic anhydride |
CN116393170A (zh) * | 2023-03-01 | 2023-07-07 | 安徽泽升科技有限公司 | 三氟甲磺酸酐的制备方法 |
CN116393170B (zh) * | 2023-03-01 | 2023-09-12 | 安徽泽升科技有限公司 | 三氟甲磺酸酐的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3169165B2 (ja) | 2001-05-21 |
US5808149A (en) | 1998-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS58177928A (ja) | ビス(ヒドロキシフエニル)メタン類の製法 | |
JPH09227498A (ja) | 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 | |
JP3169171B2 (ja) | 高純度フルオロアルキルスルホン酸無水物の製造方法 | |
US4647689A (en) | Preparation of alkyl trifluoroacetoacetate | |
US7468174B2 (en) | Method for producing chlorosulfonyl isocyanate | |
US4105692A (en) | Process for the preparation of benzenesulphonyl chloride | |
US5728884A (en) | Process for the work-up of complex amine hydrofluroides | |
JPH0378856B2 (ja) | ||
US5189223A (en) | Process for preparation of 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone | |
JPS6340184B2 (ja) | ||
JPS5839135B2 (ja) | ポリフルオロアルコ−ル類の製法 | |
JPS5941924B2 (ja) | 塩化チオニルの精製法 | |
JPH08231462A (ja) | パーフルオロアルキルカルボン酸フルオライド及びその誘導体の製造方法 | |
JP2558497B2 (ja) | アルキルジハロゲノホスファンの製造法 | |
JP2826576B2 (ja) | 2―クロルテレフタロイルクロライドの製法 | |
JPH09188663A (ja) | 芳香族スルホンの製造方法 | |
US3150176A (en) | Thiophosgene | |
JPH08253431A (ja) | 1,5−ヘキサジエンの製造方法 | |
JPH0472B2 (ja) | ||
EP0280725A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING DIARYL SULPHONES. | |
JPH0959282A (ja) | トリアルキルボレートの製造方法 | |
JPH09143150A (ja) | 芳香族スルホンの製造方法 | |
JPH072709B2 (ja) | クロロスルホニルイソシアネ−トの製造方法 | |
JPH049790B2 (ja) | ||
CA2024796C (en) | Process for producing chlorosulfonyl isocyanate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090316 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090316 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090316 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100316 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100316 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110316 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110316 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120316 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120316 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120316 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130316 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130316 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140316 Year of fee payment: 13 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |