JPH09198861A - 同期型半導体記憶装置 - Google Patents

同期型半導体記憶装置

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JPH09198861A
JPH09198861A JP8004784A JP478496A JPH09198861A JP H09198861 A JPH09198861 A JP H09198861A JP 8004784 A JP8004784 A JP 8004784A JP 478496 A JP478496 A JP 478496A JP H09198861 A JPH09198861 A JP H09198861A
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signal
memory cell
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data
cell array
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JP8004784A
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Hisashi Iwamoto
久 岩本
Yasuhiro Konishi
康弘 小西
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1072Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers for memories with random access ports synchronised on clock signal pulse trains, e.g. synchronous memories, self timed memories
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/22Read-write [R-W] timing or clocking circuits; Read-write [R-W] control signal generators or management 

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高速な書込動作が可能な同期型ダイナミック
ランダムアクセスメモリ(SDRAM)を提供する。 【解決手段】 SDRAM1000は、1つのバンクA
が、バンクA0およびバンクA1に分割され、各メモリ
セルアレイバンクに対応して、書込系回路は2系統配置
され、ほぼ独立に書込動作が可能である。外部から連続
して入力される書込データは、1ビット目および2ビッ
ト目のデータが、それぞれライト用レジスタ59aおよ
び59a′に交互に入力される。各メモリセルアレイバ
ンクA0およびA1中の選択されたメモリセルとIO線
対との接続は、2ビット目のデータ取込み完了後に行な
われるので、1ビット目および2ビット目のデータの書
込に際して、対応するIO線対の電位レベルは常に初期
状態から対応する電位レベルに変化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は同期型半導体記憶
装置に関し、特に、外部クロック信号に同期して制御信
号、アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取
込む同期型半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】主記憶として用いられるダイナミックラ
ンダムアクセスメモリ(以下、DRAMと呼ぶ。)は高
速化されているものの、その動作速度は依然マイクロプ
ロセッサ(以下、MPUと呼ぶ。)の動作速度に追随す
ることはできない。このため、DRAMのアクセスタイ
ムおよびサイクルタイムがボトルネックとなり、システ
ム全体の性能が低下するということがよく言われる。近
年高速MPUのための主記憶としてクロック信号に同期
して動作する同期型DRAM(シンクロナスDRAM;
以下SDRAMと呼ぶ。)を用いることが提案されてい
る。
【0003】SDRAMにおいては、高速でアクセスす
るために、システムクロック信号に同期して、連続し
た、たとえば1つのデータ入出力端子当り8ビットの連
続ビットに高速アクセスする仕様が提案されている。こ
の連続アクセスの仕様を満たす標準的なタイミングチャ
ートを図28に示す。図28においては、データ入出力
端子DQ0ないしDQ7の8ビット(1バイト)のデー
タの入力および出力が可能なSDRAMにおいて、連続
して8ビットのデータを読出す動作を示している。すな
わち、8ビット×8=64ビットのデータを連続して書
込むことが可能である。
【0004】連続して、読出あるいは書込が行なわれる
データのビット数はバースト長とよばれ、SDRAMに
おいては、モードレジスタによって変更することが可能
である。図28に示すように、SDRAMにおいては、
たとえばシステムクロックである外部からのクロック信
号CLKの立上がりエッジで外部からの制御信号、すな
わちロウアドレスストローブ信号/RAS、コラムアド
レスストローブ信号/CAS、アドレス信号Add等が
取込まれる。
【0005】アドレス信号Addは、時分割的に多重化
された行アドレス信号Xaと列アドレス信号Ybを含
む。サイクル1におけるクロック信号CLKの立上がり
エッジにおいて、外部ロウアドレスストローブ信号ex
t./RASが活性化状態の“L”レベル、外部コラム
アドレスストローブ信号ext./CASおよび外部ラ
イトイネーブル信号ext./WEが“H”レベルであ
れば、そのときのアドレス信号Addが行アドレス信号
のXaとして取込まれる。
【0006】次いで、サイクル4におけるクロック信号
CLKの立上がりエッジにおいて、外部コラムアドレス
ストローブ信号ext./CASが活性状態である
“L”レベルにあれば、そのときのアドレス信号Add
が列アドレス信号Ybとして取込まれる。この取込まれ
た行アドレス信号Xaおよび列アドレス信号Ybに従っ
て、SDRAM内において行および列の選択動作が実施
される。外部ロウアドレスストローブ信号ext./R
ASが“L”レベルに立下がってから所定のクロック期
間(図28においては6クロックサイクル)が経過した
後、データ入出力端子DQから出力される8ビットデー
タのうちの最初のデータb0が出力される。以後、クロ
ック信号CLKの立上がりに応答してデータb1〜b7
が出力される。
【0007】図29は、SDRAMにおいて1つのデー
タ入出力端子DQ当り連続して8ビットのデータを書込
む動作を行なう場合の外部信号の状態を示すタイミング
チャートである。書込動作においては、行アドレス信号
Xaの取込みはデータ読出時と同様である。すなわち、
サイクル1におけるクロック信号CLKの立上がりエッ
ジにおいて信号EXT./RASが活性状態の“L”レ
ベル、信号ext./CASおよびext./WEが
“H”レベルであれば、そのときのアドレス信号Add
が行アドレス信号Xaとして取込まれる。サイクル4に
おけるクロック信号CLKの立上がりエッジにおいて、
信号ext./CASおよびext./WEがともに活
性状態の“L”レベルであれば、列アドレス信号Ybが
取込まれるとともに、そのときにデータ入出力端子DQ
に与えられていたデータb0が、連続して書込まれる8
ビットのデータのうちの最初の書込データとして取込ま
れる。この信号ext./RASおよびext./CA
Sの立上がりエッジに応答してSDRAM内部において
行および列選択動作が実行される。以後は、クロック信
号CLKに同期して、順次入力データb1〜b7が取込
まれ、順次対応するメモリセルにこの入力データが書込
まれていく。
【0008】上述のように、SDRAMにおいては、従
来のDRAMにおけるロウアドレスストローブ信号ex
t./RASおよびコラムアドレスストローブ信号ex
t./CASという外部制御信号に同期してアドレス信
号および入力データなどを取込んで動作させる方式と異
なり、外部から与えられるシステムクロックであるクロ
ック信号CLKの立上がりエッジで、アドレスストロー
ブ信号ext./RAS、ext./CAS、アドレス
信号および入力データなどの外部信号の取込みが行なわ
れる。
【0009】このように、SDRAMは、外部からのク
ロック信号に同期して、制御信号およびデータ信号を取
込む同期動作を行なうので、アドレス信号のスキュー
(タイミングのずれ)によるデータ入出力時間に対する
マージンを確保する必要がない。したがって、サイクル
タイムを短縮することができるという利点を有する。こ
のように、クロック信号に同期して連続データの書込お
よび読出を実行することができるため、連続したアドレ
スに対して連続アクセスを行なう場合のアクセスタイム
の短縮が可能となる。
【0010】SDRAMを実現するためのアーキテクチ
ャとして、Choiらは2ビットごとにデータの書込を行な
う2ビットプリフェッチのSDRAMを発表している
(1993 Symposium on VLSI circuit)。以下、図を
用いて2ビットプリフェッチ動作について説明する。図
30は、従来の2ビットプリフェッチ動作を行なうSD
RAMの主要部の構成を機能的に示す図である。図30
においては、×8ビット構成のSDRAMの1ビットの
入出力データに関連する機能的部分の構成が示されてい
る。データ入出力端子DQiに関連するアレイ部分は、
バンクAを構成するメモリセルアレイ71aと、メモリ
アレイバンクBを構成するメモリセルアレイ71bとを
含む。バンクAおよびBは、それぞれ独立にアクセスす
ることが可能である。
【0011】メモリセルアレイバンクAは、さらにメモ
リセルアレイバンクA0および1に分割されている。書
込データは、書込コマンドが入力したときに与えられる
アドレスの下位1ビットの値によって、メモリセルアレ
イバンクA0に書込まれるか、メモリセルアレイバンク
A1に書込まれるかが振分けられる。同様にして、メモ
リセルアレイバンクBが選択されている場合には、書込
データは、書込コマンドが入力したときに与えられるア
ドレスの下位1ビットによってメモリセルアレイバンク
B0に書込まれるかメモリセルアレイバンクB1に書込
まれるかが振分けられる。
【0012】メモリセルアレイバンクA0およびA1に
対しては、それぞれアドレス信号X0〜Xjをデコード
してメモリセルアレイ71aの対応する行を選択する複
数のロウデコーダを含むXデコーダ群72aと、列アド
レス信号Y1〜Ykをデコードしてメモリセルアレイ7
1aの対応する列を選択する列選択信号を発生する複数
のコラムデコーダを含むYデコーダ群53aと、メモリ
セルアレイ群71aの選択された行に接続されるメモリ
セルのデータを検知して増幅するセンスアンプ群54a
とが設けられる。
【0013】メモリセルアレイバンクA0およびA1に
は、さらに、センスアンプ群54aにより検知増幅され
たデータを伝達するとともに書込データをメモリセルア
レイ71aの選択されたメモリセルへ伝達するための内
部データ伝達線(グローバルIO線)が設けられる。メ
モリセルアレイバンクA0に対応するグローバルIO線
対GIO0に対応して、ライト用レジスタ59aおよび
ライトバッファ群60aが設けられ、メモリセルアレイ
バンクA1に対応するグローバルIO線対GIO1に対
応してライト用レジスタ59A′およびライトバッファ
群60a′が設けられる。入力バッファ58aの出力
を、書込コマンドが入力したときに与えられるアドレス
の下位1ビットの値に応じて、2つのライト用レジスタ
59aまたは59a′に切換えて与えるためのセレクタ
69aが設けられている。イコライズ回路群61aは、
2系統のグローバルIO線対GIO0およびGIO1に
共通に設けられている。
【0014】メモリセルアレイバンクBに対しても、メ
モリセルアレイバンクAと全く同様な系統の回路がもう
一組設けられている。なお、以後は、SDRAMの書込
動作に注目してその動作を説明するため、図30におい
ては書込系の回路の構成のみを示している。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】次に、図30に示した
従来のSDRAMの動作について簡単に説明する。図3
1は、従来のSDRAMに対する書込動作を説明するた
めのタイミングチャートである。以下では、下位アドレ
スの値が“0”、バースト長=4で、バンクAにデータ
を書込む場合について説明する。すなわち、4ビットの
連続データがメモリセルバンクAに書込まれる。
【0016】図31においても、データ入出力端子のう
ちの任意の1つのをDQにより表わす。サイクル1にお
ける外部クロック信号ext.CLKの立上がりエッジ
において、外部列アドレスストローブ信号ext./C
ASが活性状態の“L”レベルであることに応じて、列
アドレス信号Ybが取込まれ、対応するYデコーダが活
性化する。すなわち、Yデコーダ群A0中の選択された
列に対応する列選択信号φCAS0およびYデコーダ群
A1中の選択されたメモリセル列に対応する列選択信号
φCSL1が活性状態の“H”レベルに変化する。
【0017】サイクル1におけるクロック信号ext.
CLKの立上がりエッジにおいて、データ入出力端子D
Qに与えられている最初のデータd0は、ライト用レジ
スタ59aにストアされ、その後、第2の制御信号発生
回路63から出力されるライトバッファ活性化信号φW
BA0の活性化に応じて、ライト用レジスタ59aにス
トアされているデータd0がグローバルI/O線対GI
O0に出力される。グローバルI/O線対GIO0に出
力されたデータは、列選択信号φCSL0により選択さ
れたメモリセル列中の対応するメモリセルに書込まれ
る。
【0018】サイクル2の外部クロック信号ext.C
LKの立上がりエッジにおいてデータ入出力端子DQか
ら取込まれるデータd1は、ライト用レジスタ59a′
にストアされる。その後、第2の制御信号発生回路b3
から出力されるライトバッファ活性化信号φWBA1の
活性化に応じて、グローバルI/O線対GIO1に出力
される。データd1も、信号φCSL1により選択され
た列中の対応するメモリセルに書込まれる。以上のよう
にして、2ビット分のデータの書込が終わると、ライト
バッファ活性化信号φWBA0とφWBA1はともに非
活性となる。これにより、ライト用レジスタ59aおよ
び59a′とグローバルI/O線対GIO0およびGI
O1との電気的な接続が遮断される。
【0019】サイクル3における外部クロック信号ex
t.CLKの立上がりエッジに応答して、第2の制御信
号発生回路63から出力されるイコライズ信号φWEQ
Aに応答して、イコライズ回路61aは、メモリセルア
レイバンクA0およびA1とライトバッファ群60aお
よび60a′とをつなぐグローバルI/O線対GIO0
およびGIO1をイコライズする。一方、サイクル3の
信号ext.CLKの立上がりエッジに応じて、データ
入出力端子DQに与えられているデータd2が取込ま
れ、ライト用レジスタ59aにストアされる。さらに、
サイクル3における信号ext.CLKの立上がりのエ
ッジに応じて、メモリセルアレイバンクA0中の続いて
データ書込が行なわれるメモリセルの属するメモリセル
列を選択する列選択信号φCSL2およびメモリセルア
レイバンクA1中の続いてデータ書込が行なわれるメモ
リセルの属するメモリセル列を選択する列選択信号φC
SL3が、ともに活性状態(“H”レベル)となる。し
たがって、ライトバッファ活性化信号φWBA0の活性
化に応じて、メモリセルアレイバンクA0中の対応する
メモリセルにデータd2の書込が行なわれる。
【0020】サイクル4における信号ext.CLKの
立上がりのエッジで、引続いてデータd3が取込まれ、
ライト用レジスタ59a′にストアされる。ライトバッ
ファ活性化信号φWBA1の活性化に応じて、メモリセ
ルアレイバンクA1中の対応するメモリセルにデータd
3の書込が行なわれる。以上のようにして、2ビットプ
リフェッチ動作を行なうSDRAMは、2クロックサイ
クルごとにデータを書込むので、外部クロック信号の周
波数が増加した場合でも、データ書込に対する時間余裕
を確保することができるので、動作周波数の高速化を図
ることが容易である。
【0021】しかしながら、上記のような従来のSDR
AMの2ビットプリフェッチ動作においては、先頭デー
タ(1ビット目のデータ)の書込動作を行なうサイクル
に、2ビット目のデータを書込むメモリセル列が同時に
選択され、I/O線対と接続されている。このため、2
ビット目のデータ書込に用いられるI/O線対は、1ビ
ット目のデータの書込が行なわれるサイクルにおいて、
2ビット目のデータが書込まれるメモリセルに以前から
保持されていたデータに応じて、その電位が変化してい
る。このため、2ビット目のデータを書込むサイクルに
おいて、この以前から保持されていたデータと逆のデー
タを書込む場合には、相補な構成となっているIO線対
の電位を反転させることが必要となる。
【0022】浮遊容量の大きいIO線対の電位を反転さ
せるためには、余分な時間が必要となり、このことは書
込時間の増大、すなわち、動作可能周波数の劣化を招く
ことになる。したがって、この発明の主たる目的は、高
速動作が可能なSDRAMを提供することである。この
発明の他の目的は、2ビットプリフェッチ動作を行なう
SDRAMにおいて、データ書込の際のI/O線対の電
位変化に要する時間を低減することが可能なSDRAM
を提供することである。
【0023】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の同期型半
導体記憶装置は、外部クロック信号に同期して制御信
号、アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取
込む同期型半導体記憶装置であって、行列状に配列され
た複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、メモリ
セルアレイとデータ信号の入出力を行なうための第1お
よび第2の信号入力線対と、外部クロック信号を分周し
内部クロック信号を出力する分周手段と、アドレス信号
に従ってメモリセルアレイ中の対応するメモリセルを連
続的に選択する選択手段と、外部クロック信号に応じて
制御され、直列に入力されるデータ信号を受けて保持
し、対応する第1および第2の信号入出力線対に、対応
する信号をそれぞれ並列に出力するデータ入力手段と、
内部クロック信号に応じて制御され、選択手段によって
選択されたメモリセルと対応する第1および第2の信号
入出力線対とを、直列に入力されるデータ信号の先頭デ
ータが入力されたサイクルの後の外部クロック信号のサ
イクルにおいて接続する接続手段とを備える。
【0024】請求項2記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項1記載の同期型半導体記憶装置の構成に加えて、
接続手段により、選択されたメモリセルと対応する第1
および第2の信号入出力線対とが接続され、書込動作が
完了するたびに、第1および第2の入出力線対の電位を
それぞれ所定の電位に等電位化するイコライズ手段をさ
らに備える。請求項3記載の同期型半導体記憶装置は、
外部クロック信号に同期して制御信号、アドレス信号お
よびデータ信号を含む外部信号を取込む同期型半導体記
憶装置であって、行列状に配列された複数のメモリセル
と、各行に対応して設けられたワード線と、各列に対応
して設けられたビット線対とを各々含む複数のメモリセ
ルアレイブロックと、複数のメモリセルアレイブロック
の各々に対応して設けられた第1および第2のローカル
信号入出力線対と、複数のメモリセルアレイブロックに
共通に設けられた第1および第2のグローバル信号入出
力線対と、アドレス信号に従って、対応するメモリセル
アレイブロック中の対応するメモリセル列を連続的に選
択する選択回路と、外部クロック信号を分周し、内部ク
ロック信号を出力する分周回路と、外部クロック信号に
応じて制御され、データ信号を交互に受けて保持し、対
応する第1および第2のグローバル信号入出力線対の一
端に、対応する信号をそれぞれ出力する第1および第2
の書込用レジスタと、対応するメモリセルアレイブロッ
クの第1および第2のローカル信号入出力線対の一端
と、対応する第1および第2のグローバル信号入出力線
対の他端とを接続する第1の接続回路と、内部クロック
信号に応じて制御され、対応するメモリセルアレイブロ
ックの第1および第2のローカル信号入出力線対の他端
と対応するメモリセル対がそれぞれ接続するビット線対
とを、第1および第2の書込用レジスタのうち後のサイ
クルでデータ信号を受けたものが対応する信号を出力す
る外部クロック信号のサイクルにおいて、それぞれ接続
する第2の接続回路とを備える。
【0025】請求項4記載の同期型半導体記憶装置は、
外部クロック信号に同期して制御信号、アドレス信号お
よびデータ信号を含む外部信号を取込む同期型半導体記
憶装置であって、行列状に配列された複数のメモリセル
を含むメモリセルアレイと、メモリセルアレイとデータ
信号の入出力を行なうための第1および第2の信号入出
力線対と、外部クロック信号を分周し、互いに交互に変
化する第1および第2の内部クロック信号を出力する分
周手段と、アドレス信号に従って、メモリセルアレイ中
の対応するメモリセルを連続的に選択する選択手段と、
外部クロック信号に応じて制御され、直列に入力される
データ信号を受けて保持し、対応する第1および第2の
信号入出力線対に、対応する信号をそれぞれ並列に出力
するデータ入力手段と、第1の内部クロック信号に応じ
て制御され、第1の信号入出力線対と選択手段により選
択された対応するメモリセルとを接続する第1の接続手
段と、第2の内部クロック信号に応じて制御され、第2
の信号入出力線対と、選択手段により選択された対応す
るメモリセルとを接続する第2の接続手段とを備える。
【0026】請求項5記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項4記載の同期型半導体記憶装置の構成に加えて、
第1および第2の接続手段により、選択されたメモリセ
ルと対応する第1および第2の信号入出力線対とが接続
され、書込動作が完了するごとに、第1および第2の入
出力線対の電位をそれぞれ所定の電位に等電位化するイ
コライズ手段をさらに備える。請求項6記載の同期型半
導体記憶装置は、外部クロック信号に同期して制御信
号、アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取
込む同期型半導体記憶装置であって、行列状に配列され
た複数のメモリセルと、各行に対応して設けられたワー
ド線と、各列に対応して設けられたビット線対とを各々
含む複数のメモリセルアレイブロックと、複数のメモリ
セルアレイブロックの各々に対応して設けられた第1お
よび第2のローカル信号入出力線対と、複数のメモリセ
ルアレイブロックに共通に設けられた第1および第2の
グローバル信号入出力線対と、アドレス信号に従って、
対応するメモリセルアレイブロック中の対応する第1お
よび第2のメモリセルを連続的に選択する選択回路と、
外部クロック信号を分周し、互いに交互に変化する第1
および第2の内部クロック信号を出力する分周回路と、
外部クロック信号に応じて制御され、データ信号を交互
に受けて保持し、対応する第1および前記第2のグロー
バル信号入出力線対の一端に、対応する信号をそれぞれ
出力する第1および第2の書込用レジスタと、対応する
メモリセルアレイブロックの第1および第2のローカル
信号入出力線対の一端と、対応する第1および第2のグ
ローバル信号入出力線対の他端とを接続する第1の接続
回路と、第1の内部クロック信号に応じて制御され、第
1のローカル信号入出力線対の他端と、第1のメモリセ
ルが接続するビット線対とを接続する第2の接続回路
と、第2の内部クロック信号に応じて制御され、第2の
ローカル信号入出力線対の他端と、第2のメモリセルが
接続するビット線対とを接続する第3の接続回路とを備
える。
【0027】請求項7記載の同期型半導体記憶装置は、
外部クロック信号に同期して制御信号、アドレス信号お
よびデータ信号を含む外部信号を取込む同期型半導体記
憶装置であって、行列状に配列された複数のメモリセル
を含むメモリセルアレイと、メモリセルアレイとデータ
信号の入出力を行なうための第1および第2の入出力線
対と、外部クロック信号を分周し、内部クロック信号を
出力する分周手段と、アドレス信号に従って、メモリセ
ルアレイ中の対応するメモリセルを連続的に選択する選
択手段と、外部クロック信号に応じて制御され、直列に
入力されるデータ信号を受けて保持し、対応する第1お
よび前記第2の信号入出力線対に、対応する信号をそれ
ぞれ並列に出力するデータ入力手段と、内部クロック信
号に応じて、データ信号の入力開始と同期して制御さ
れ、選択回路によって選択されたメモリセルと、対応す
る第1および前記第2の信号入出力線対とを接続する接
続手段と、第1および前記第2の信号入出力線対と前記
接続手段を介して入力ノード対が接続し、対応する前記
メモリセルに前記対応する信号を出力する駆動手段と、
外部クロック信号に応じて制御され、第1および第2の
信号入出力線対をイコライズするイコライズ手段とを備
える。
【0028】請求項8記載の同期型半導体記憶装置は、
外部クロック信号に同期して制御信号、アドレス信号お
よびデータ信号を含む外部信号を取込む同期型半導体記
憶装置であって、行列状に配列された複数のメモリセル
を含むメモリセルアレイと、メモリセルアレイとデータ
信号の入出力を行なうための第1および第2の信号入出
力線対と、外部クロック信号を分周し、内部クロック信
号を出力する分周手段と、アドレス信号に従って、メモ
リセルアレイ中の対応するメモリセルを連続的に選択す
る選択手段と、外部クロック信号に応じて制御され、直
列に入力されるデータ信号を受けて保持し、対応する第
1および第2の信号入出力線対に対応する信号をそれぞ
れ並列に出力するデータ入力手段と、内部クロック信号
に応じて、データ信号の入力開始と同期して制御され、
選択回路によって選択されたメモリセルと、対応する第
1および第2の信号入出力線対とを接続する接続手段
と、第1および第2の信号入出力線対と接続手段を介し
て入力ノード対が接続し、対応するメモリセルに対応す
る信号を出力する駆動手段と、内部クロック信号に応じ
て制御され、第1の信号入出力線対をイコライズする第
1のイコライズ手段と、外部クロック信号に応じて制御
され、第2の信号入出力線対をイコライズする第2のイ
コライズ手段とを備える。
【0029】
【発明の実施の形態】
[実施の形態1]図1は、本発明の実施の形態1のSD
RAM1000の主要部の構成を機能的に示すブロック
図である。図1においては、×8ビット構成のSDRA
Mの1ビットの入出力データに関連する機能的部分の構
成が示される。データ入出力端子DQiに関連するメモ
リセルアレイ部分は、バンクAを構成するメモリセルア
レイ71aと、バンクBを構成するメモリセルアレイ7
1bを含む。
【0030】バンクAは、さらに、後に説明するよう
に、アドレス信号に応じて選択されるメモリセルアレイ
バンクA0とメモリセルアレイバンクA1とに分割さ
れ、メモリセルアレイバンクBは、メモリセルアレイバ
ンクB0およびB1に分割されている。メモリセルアレ
イバンクA0およびA1に対しては、それぞれ、アドレ
ス信号A0〜Ajをデコードしてメモリセルアレイ71
aの対応する行を選択する複数のロウデコーダを含むX
デコーダ群52aと、列アドレス信号Y1〜Ykをデコ
ードしてメモリセルアレイ71aの対応する列を選択す
る列選択信号を発生する複数のコラムデコーダを含むY
デコーダ群53aと、メモリセルアレイ71aの選択さ
れた行に接続されるメモリセルのデータを検知して増幅
するセンスアンプ群54aとが設けられている。
【0031】Xデコーダ群52aは、メモリセルアレイ
71aの各ワード線に対応して設けられるロウデコーダ
を含む。アドレス信号X0〜Xjに従って、対応するロ
ウデコーダが、ロウデコーダに対して設けられているワ
ード線を選択状態とする。Yデコーダ群53aは、メモ
リセルアレイ71aの列選択線それぞれに対して設けら
れるコラムデコーダを含む。1本の列選択線は、4対の
ビット線対を選択状態とする。Xデコーダ群52aおよ
びYデコーダ群53aにより、メモリセルアレイバンク
A0およびA1において、それぞれ4ビットのメモリセ
ルが同時に選択状態とされる。Xデコーダ群52aおよ
びYデコーダ群53aは、それぞれバンク指定信号BA
により活性化される。一方、メモリセルアレイバンクB
0およびB1に対しても、それぞれXデコーダ群52b
およびYデコーダ群53bが設けられ、これらはそれぞ
れバンク指定信号BBにより活性化される。
【0032】バンクAには、さらに、センスアンプ群5
4aにより検知増幅されたデータを伝達するとともに、
書込データをメモリセルアレイ71aの選択されたメモ
リセルへ伝達するための内部データ伝達線(グローバル
IO線)が設けられている。メモリセルアレイバンクA
0に対しては、グローバルIO線バスGIO0が設けら
れ、メモリセルアレイバンクA1に対しては、グローバ
ルIO線バスGIO1が設けられている。1つのグロー
バルIO線バスは、同時に選択された4ビットのメモリ
セルと同時にデータ授受を行なうために4対のグローバ
ルIO線対を含んでいる。
【0033】メモリセルアレイバンクA0に対するグロ
ーバルIO線対GIO0に対応して、ライト用レジスタ
59aおよびライトバッファ群60aが設けられ、メモ
リセルアレイバンクA1に対するグローバルIO線対G
IO1に対応して、ライト用レジスタ59a′およびラ
イトバッファ群60a′が設けられている。1ビット幅
の入力バッファ58aは、データ入出力端子DQiに与
えられた入力データから内部書込データを生成する。セ
レクタ69aは、第2の制御信号発生回路63から出力
されるセレクタ制御信号φSEAにより制御され、入力
バッファ58aの出力を切換えて、2つのライト用レジ
スタ59aまたは59a′に与える。すなわち、入力バ
ッファ58aは、入力バッファ活性化信号φDBAに応
じて活性化され、データ入出力端子DQiに与えられた
入力データから内部書込データを生成し、セレクタ69
aは、後に述べるようにアドレス信号に応じて第2制御
信号発生回路63から出力されたセレクタ制御信号φS
EAに応じて制御され、ライト用レジスタ59aおよび
59a′のいずれか一方に対して、内部書込データを出
力する。ライト用レジスタ59aおよび59a′は、そ
れぞれレジスタ活性化信号φRwA0またはφRwA1
に応答して活性化され、セレクタ69aから出力された
書込データを順次格納する。ライトバッファ群60aお
よび60a′は、書込バッファ活性化信号φWBA0ま
たはφWBA1に応答して活性化され、対応するライト
用レジスタ59aまたは59a′に格納されたデータを
増幅して、対応するグローバルIO線対バスGIO0ま
たはGIO1へ伝達する。
【0034】イコライズ回路群61aは、2系統のグロ
ーバルIO線対GIO0およびGIO1に共通に設けら
れ、イコライズ回路活性化信号φWEQAに応答して活
性化され、グローバルIO線対バスGIO0およびGI
O1のイコライズを行なう。ライトバッファ群60aお
よび60a′ならびにライトレジスタ59aおよび59
a′は、それぞれ8ビット幅を有する。メモリセルアレ
イバンクBも同様に、メモリセルアレイバンクB0およ
びB1を含む。メモリセルアレイバンクB0およびB1
はそれぞれ、Xデコーダ群52b、Yデコーダ群53
b、センスアンプ活性化信号φSABに応答して活性化
されるセンスアンプ群54b、イコライズ回路活性化信
号φWEQBに応答して活性化されるイコライズ回路群
61b、バッファ活性化信号φWBB0またはφWBB
1に応答して活性化されるライトバッファ群60bおよ
び60b′、レジスタ活性化信号φRwB0またはφR
wB1に応答して活性化されるライト用レジスタ59b
および59b′、セレクタ制御信号φSEBによって制
御されるセレクタ69b、およびバッファ活性化信号φ
DBBに応答して活性化される入力バッファ58bを含
む。
【0035】バンクAの構成とバンクBの構成は同一で
ある。ライト用レジスタ59aおよび59a′ならびに
59bおよび59b′を設けることにより、1つのデー
タ入出力端子DQiに対し、高速のクロック信号に同期
してデータの入出力を行なうことが可能となる。バンク
AおよびバンクBに対する各制御信号については、バン
ク指定信号BAおよびBBに従って、いずれか一方のバ
ンクに対する制御信号のみが発生される。
【0036】図1に示す機能ブロック100が各データ
入出力端子に対応して設けられている。×8ビット構成
のSDRAMの場合、機能ブロック100を各データ入
出力端子に対応して8個含んでいる。バンクAおよびB
をほぼ同一の構成とし、バンク指定信号BAおよびBB
により一方のみを選択することにより、バンクAおよび
Bは互いにほぼ完全に独立して動作することが可能とな
る。
【0037】バンクAおよびBを、それぞれ独立に駆動
するための制御系として、第1の制御信号発生回路6
2、第2の制御信号発生回路63およびクロックカウン
タ64が設けられている。第1の制御信号発生回路62
は、外部から与えられる制御信号、すなわち、外部ロウ
アドレスストローブ信号ext./RAS、外部コラム
アドレスストローブ信号ext./CAS、外部出力イ
ネーブル信号ext./OEおよび外部書込イネーブル
信号(書込許可信号)ext./WEを、外部クロック
信号CLKに同期して取込み、内部制御信号φxa、φ
ya、φW、φO、φR、およびφCを発生する。
【0038】第2の制御信号発生回路63は、バンク指
定信号BAおよびBBと、外部からのアドレス信号の最
下位ビットのY0と、内部制御信号φW、φO、φRお
よびφCとクロックカウンタ64の出力に応答してバン
クAおよびBをそれぞれ独立に駆動するための制御信
号、すなわち、イコライズ回路活性化信号φWEQAお
よびφWEQB、センスアンプ活性化信号φSAAおよ
びφSAB、ライトバッファ活性化信号φWBA0、φ
WBA1、φWBB0およびφWBB1と、ライト用レ
ジスタ活性化信号φRwA0、φRwA1、φRwB0
およびφRwB1と、セレクタ制御信号φSEAおよび
φSEBと、入力バッファ活性化信号φDBAおよびφ
DBBと、外部からの制御信号のタイミングが書込動作
であれば活性(“L”レベル)となる信号CAS0と、
書込動作期間中は活性(“H”レベル)となるライトデ
コードイネーブル信号WDEとを発生する。
【0039】SDRAM1000はさらに、周辺回路と
して、内部制御信号φSAに応答して外部アドレス信号
ext./A0ないしext./Aiを取込み、内部ア
ドレス信号X0〜Xjとバンク選択信号BAおよびBB
を発生するXアドレスバッファ65と、内部制御信号φ
yaに応答して活性化され、列選択線を指定するための
列選択信号Y0〜Ykを出力するYアドレスバッファ6
6とを含む。SDRAM1000は、さらに、周辺回路
として、クロック信号CLKにより制御され、Yアドレ
スバッファ66の出力信号CASD,および信号WDE
を受けて、選択される列後Y1〜YkとYデコーダ活性
化信号ENCSLとを出力するYアドレスオペレーショ
ン回路68を含む。
【0040】図7は、SDRAM1000のチップレイ
アウトを示す図である。図7においては、一例として、
2Mワード×8ビット構成の16MビットSDRAMの
チップレイアウトが示される。SDRAM1000は、
各々が4Mビットの記憶容量を有する4つのメモリマッ
トMM1ないしMM4を含む。メモリマットMM1ない
しMM4の各々は、それぞれ256Kビットの記憶容量
を有する16個のメモリセルアレイMA1〜MA16を
含む。
【0041】メモリマットMM1ないしMM4のチップ
内周の長辺方向に沿って、ロウデコーダRD1ないしR
D4がそれぞれ配置される。また、メモリマットMM1
ないしMM4のチップ中央側に、短辺方向に沿ってコラ
ムデコーダCD1ないしCD4がそれぞれ配置される。
コラムデコーダCD(コラムデコーダCD1ないしCD
4を総称的に示す場合、符号CDを用いる)の出力に
は、それぞれ、対応するメモリマットMM(メモリマッ
トMM1ないしMM4を総称的に示す場合、MMを用い
る)の各アレイを横切って延びる列選択線CSLが配置
される。1本の列選択線CSLは、4対のビット線を同
時に選択状態とする。
【0042】内部データを伝達するためのグローバルI
O線対GIOが、メモリマットMMの長辺方向に沿って
各メモリアレイを横切るように配置される。メモリマッ
トMM1ないしMM4のそれぞれに対して、チップ中央
側に、選択されたメモリセルが読出されたデータの増幅
を行なうためのプリアンプPAと選択されたメモリセル
への書込データを伝達するためのライトバッファWBと
からなる入出力回路PW1ないしPW4が配置される。
図7に示すSDRAM1000は、図1に示したよう
に、互いに独立にプリチャージ動作および活性化動作
(ワード線選択およびセンス動作ならびに列選択動作)
を行なうことができる2つのバンクAおよびBを備え
る。バンクAは、メモリマットMM1およびMM2を含
み、バンクBは、メモリマットMM3およびMM4を含
む。このバンクの数は変更可能である。
【0043】メモリマットMM1ないしMM4の各々
は、2つのアレイブロック(記憶容量2Mビット)を備
える。1つのアレイブロックはメモリセルアレイMA1
ないしMA8から構成され、他方のアレイブロックはメ
モリセルアレイMA9ないしMA16から構成される。
1つのアレイブロックにおいて最大1つのメモリセルア
レイが選択される。同時に活性化されるメモリセルアレ
イの数は4個である。すなわち、選択されたバンクにお
いて、各メモリマットの各アレイブロックから1つのメ
モリセルアレイが選択される。たとえば、図7において
は、メモリマットMM3のメモリセルアレイMA7およ
びMA16と、メモリマットMM4のメモリアレイMA
7およびMA16が活性化された状態が示されている。
【0044】同時に選択される列選択線CSLの数は2
本である。1本の列選択線CSLは4対のビット線を選
択する。したがって、同時に2×4=8ビットのメモリ
セルが選択される。図8は、図7で示したSDRAM1
000のIO線の配置を具体的に示す図である。このS
DRAM1000では、メモリマットMMの長辺に沿っ
て2組のグローバルIO線対GIO0およびGIO1が
配置され、3つのワード線シャント領域WS2、WS4
およびWS6のそれぞれに2組のグローバルIO線対G
IO0およびGIO1が配置される。
【0045】ここで、ワード線シャント領域WSにおい
ては、ワード線の抵抗を下げるためにポリシリコンで構
成されるワード線WLと平行にアルミニウムなどの低抵
抗の金属配線が配置され、このポリシリコンワード線と
低抵抗の金属配線とが電気的に接続されている。このワ
ード線シャント領域においては、ビット線BLの下層に
存在するポリシリコンワード線とビット線の上層に存在
する低抵抗の金属配線層とを接続する必要があるため、
ビット線すなわちメモリセルは存在していない。
【0046】2組のグローバルIO線対GIO0および
GIO1と選択された256KビットメモリアレイMA
を接続するために2組のローカルIO線対LIO0およ
びLIO1が設けられる。1つの256Kビットメモリ
アレイMAに対して、メモリマットの短辺方向に平行に
メモリセルアレイMAの一方の側に2組のローカルIO
線対LIO0およびLIO1が配置され、他方の側に2
組のローカルIO線対LIO0およびLIO1が配置さ
れる。したがって、1つのメモリセルアレイMAに対し
て、合計4組のローカルIO線対が配置されている。2
組のローカルIO線対LIO0およびLIO1は、隣接
する2つの256KビットメモリセルアレイMAによっ
て共用される。
【0047】グローバルIO線対GIO0とローカルI
O線対LIO0とを接続するためにブロック選択スイッ
チBS0が配置される。また、グローバルIO線対GI
O1とローカルIO線対LIO1とを接続するためにブ
ロック選択スイッチBS1が配置される。2組のブロッ
ク選択スイッチBS0およびBS1は、メモリマットM
Mの端部と3つのワード線シャント領域WS2、WS4
およびWS6に順に配置される。図9は、256Kビッ
トメモリセルアレイMAを構成する8つの32Kビット
メモリアレイMKのうちの1つに関連する部分の構成を
示す一部省略した回路ブロック図である。図9を参照し
て、このSDRAM1000では、2組のグローバルI
O線対GIO0およびGIO1、ローカルIO線対LI
O0およびLIO1、ならびにブロック選択スイッチB
S0およびBS1が設けられる。2組のローカルIO線
対LIO0およびLIO1に対応して、信号φWEQA
により制御される2組のローカルIO線対イコライズ回
路EQL0およびEQL1が設けられている。
【0048】2組のビット線対BLP0およびBLP1
に対応して1本の列選択線CSLが配置される。1本の
列選択線CSLによって選択される2組のビット線対B
LP0およびBLP1は、列選択ゲートCSGを介し
て、2組のローカルIO線対LIO0およびLIO1に
接続される。すなわち、このSDRAM1000の構成
においては、1本の列選択線CSLによって選択される
2組のビット線対BLP0およびBLP1のうち、ビッ
ト線対BLP0が、図1に示したメモリセルアレイバン
クA0に、ビット線対BLP1がメモリセルアレイバン
クA1に属する構成となっている。
【0049】図10は、図9に示したSDRAMの書込
動作に関連する部分の構成を具体的に示す回路ブロック
図である。図10を参照して、このSDRAM1000
では、グローバルIO線対GIO0に対応してライトバ
ッファWB0およびイコライズ回路EQG0が設けら
れ、グローバルIO線対GIO1に対応してライトバッ
ファWB1およびイコライズ回路EQG1が設けられて
いる。ライトバッファWB0およびWB1は、それぞれ
信号φWBA0およびφWBA1によって活性化され
る。イコライズ回路EQG0およびEQG1は、ともに
イコライズ回路活性化信号φWEQAによって活性化さ
れる。ライト用レジスタ59aおよび59a′は、それ
ぞれレジスタ活性化回路φRwA0およびφRwA1に
より活性化される。
【0050】以上の準備の下に、次に、実施の形態1の
SDRAM1000の動作について説明する。図2は、
図1に示した回路の連続書込動作(バースト長=4)を
示すタイミングチャートである。図31に示した従来の
SDRAMの書込動作のタイミングと異なる点は、列選
択信号φCSL0およびφCSL1等の活性化のタイミ
ングが外部クロック信号の1クロック分遅くなっている
ことである。つまり、同時に書込が行なわれる2ビット
分の書込データのうち、2ビット目のデータを書込むタ
イミングで列選択信号φCSL0およびφCSL1等が
活性化される。
【0051】すなわち、サイクル1におけるクロック信
号ext.CLKの立上がりのエッジにおいて、信号e
xt./CASが活性状態の“L”レベルであり、同時
に信号ext./WEが活性状態の“L”レベルであれ
ば、列アドレス信号Ybが取込まれるとともに、そのと
きにデータ入出力端子DQに与えられていたデータd0
が最初の書込データとして、ライト用レジスタ59aに
取込まれる。サイクル2におけるクロック信号ext.
CLKの立上がりエッジにおいて、データ入出力端子D
Qに与えられている信号d1が2ビット目の書込データ
としてライト用レジスタ59a′に取込まれる。ライト
バッファ活性化信号φWBA0およびφWBA1の活性
化に応じて、対応するIO線対比およびIO線対1(以
下、グローバルIO線対GIOとローカルIO線対LI
O0を総称的に示す場合、IO線対0を、グローバルI
O線対GIO1とローカルIO線対IO1を総称的に示
す場合、IO線対1をそれぞれ用いる。)に2ビット目
のデータが出力される。
【0052】このサイクル2におけるクロック信号ex
t.CLKの立上がりのエッジに応答して、メモリセル
アレイバンクA0およびメモリセルアレイバンクA1中
の対応するメモリセル列を選択する列選択信号φCSL
0およびφCSL1がともに活性状態(“H”レベル)
となる。これに応じて、メモリセルアレイバンクA0に
属し、選択されたメモリセルと接続しているビット線対
BLP0と対応するローカルIO線対LIO0とを接続
する列選択ゲートCSGが導通状態となり、同時にメモ
リセルアレイバンクA1中の選択されたメモリセルに接
続するビット線対BLP1と対応するローカルIO線対
LIO1とを接続する列選択ゲートCSGも導通状態と
なる。
【0053】以上の動作により、外部から与えられたデ
ータd0およびd1が、それぞれ選択されたビット線対
BLP0およびBLP1に相補信号として伝達され、選
択されたメモリセルにデータの書込が行なわれる。列選
択信号φCSL0およびφCSL1が不活性状態となっ
た後に、イコライズ回路活性化信号φWEQAの活性化
に応じて、ローカルIO線対LIO0およびLIO1な
らびにグローバルIO線対GIO0およびGIO1がと
もにイコライズされる。一方、サイクル3におけるクロ
ック信号ext.CLKの立上がりのエッジにおいて、
データ入出力端子DQiに与えられているデータd2
が、再びライト用レジスタ59aにストアされる。
【0054】サイクル4におけるクロック信号ext.
CLKの立上がりのエッジにおいてデータ入出力端子D
Qiに与えられているデータd3が、ライト用レジスタ
59a′に書込データとしてストアされる。ライトバッ
ファ60aおよびライトバッファ60a′から対応する
グローバルIO線対GIO0およびGIO1にデータd
3がそれぞれ出力される。一方で、サイクル2における
のと同様に、サイクル4におけるクロック信号est.
CLKの立上がりのエッジに応答してメモリセルアレイ
バンクA0中の対応するメモリセル列を選択する列選択
信号φCSL2およびメモリセルアレイバンクA1中の
対応するメモリセル列を選択する列選択信号φCSL3
が活性状態となり、メモリセルアレイバンクA0および
A1中の選択されたメモリセルに対してデータd2およ
びd3の書込が行なわれる。
【0055】サイクル5におけるクロック信号ext.
CLKの立上がりのエッジに応じて、列選択信号φCS
L2およびφCSL3が不活性状態となった後に、イコ
ライズ回路活性化信号φWEQAが活性となるのに応じ
て、再びローカルIO線対LIO0およびLIO1なら
びにグローバルIO線対GIO0およびGIO1がイコ
ライズされる。以上により、2ビットプリフェッチ動作
におけるバースト長=4のデータ書込動作が完了する。
【0056】なお、以上の説明では、アドレス信号の下
位ビットが“0”であって、メモリセルアレイバンクA
0から書込が行なわれる場合について述べた。アドレス
信号の下位ビットが“1”の場合は、メモリセルアレイ
バンクA1から書込が行なわれる。本実施の形態におい
ては、選択されたビット線対BLP0およびBLP1と
対応するIO線対が2ビット目のデータの書込が開始さ
れるまで接続されないため、IO線対、特に2ビット目
のデータの書込を行なうIO線対に予め電位差が生じて
いるということがない。したがって、データ書込動作に
おいて、IO線対の電位を反転させることなくデータの
書込が行なえるので、高速なデータ書込が可能である。
【0057】図3は、図2に示した列選択信号φCSL
0およびφCSL1等を出力するためのトリガ信号を発
生させる列選択動作制御回路1100の構成を示す概略
ブロック図である。列選択動作制御回路1100は、信
号CAS0および/CAS0により入力ノードへの信号
の入力タイミングが制御されるSRフリップフロップ回
路1120と、SRフリップフロップ回路1120の出
力を受けて、入力のタイミングが信号/CLK0により
制御されるSRフリップフロップ回路1140と、SR
フリップフロップ1140の一方の出力、信号WDEお
よび信号CLKを受ける3入力NAND回路1160
と、SRフリップフロップ回路1140の他方の出力、
信号WDEおよび信号CLK受ける3入力NAND回路
1162と、NAND回路1162の出力を受けて、信
号OUTを出力するインバータ回路1164と、NAN
D回路1160の出力信号を受けて信号Resetを出
力するインバータ回路1166と、ゲートに信号/CA
S0を受け、NAND回路1162の出力とSRフリッ
プフロップ回路1120の一方の入力ノードIN1とを
接続するNチャネルMOSトランジスタN1と、ゲート
に信号/CAS0を受け、NAND回路1160の出力
とSRフリップフロップ回路1120の他方の入力ノー
ドIN2とを接続するNチャネルMOSトランジスタN
2とを含む。
【0058】SRフリップフロップ回路1120は、ゲ
ートに信号CAS0を受け、“H”レベルの電位と入力
ノードIN1とを接続するNチャネルMOSトランジス
タN3と、ゲートに信号CAS0を受け、“L”レベル
の電位と入力ノードIN2とを接続するNチャネルMO
SトランジスタN4と、一方の入力が入力ノードIN1
とを接続するNAND回路1122と、NAND112
2の出力ノードおよび入力ノードIN2と入力がそれぞ
れ接続し、出力がNAND回路1122の他方の入力と
接続するNAND回路1124とを含む。
【0059】SRフリップフロップ回路1140は、N
AND回路1122の出力と信号/CLK0を入力とし
て受けるNAND回路1142と、NAND回路112
4の出力と信号/CLK0を入力として受けるNAND
回路1144と、NAND回路1142の出力を一方の
入力として受けるNAND回路1146と、NAND回
路1144およびNAND回路1146の出力を入力と
して受け、出力がNAND回路1146の他方の入力と
接続するNAND回路1148とを含む。ここで、NA
ND回路1122の出力ノード、すなわち、NAND回
路1142の一方の入力ノードをSで表し、NAND回
路1124の出力ノード、すなわちNAND回路114
4の一方の入力ノードをRで表わすことにする。
【0060】さらに、NAND回路1146の出力ノー
ドをQで、NAND回路1148の出力ノードを/Qで
表わすことにする。次に、動作について簡単に説明す
る。図4は、列選択動作制御回路1100の動作を示す
タイミングチャートである。なおここで、上述のとお
り、信号CLK0は外部から与えられるマスタクロック
信号ext.CLKをもとに第1の制御信号発生回路6
2から出力される内部クロック信号であり、そのタイミ
ングは信号ext.CLKと同じである。また、信号C
AS0は、外部から与えられた制御信号のタイミングが
書込動作を指示する場合活性となる信号であって、第1
の制御信号発生回路62から信号CLK0に同期して発
生される。
【0061】サイクル1における信号ext.CLKの
立上がりのエッジに応答して、内部クロック信号CLK
0が時刻t0において立上がる。サイクル1における信
号ext.CLKの立上がりのエッジでは、外部行スト
ローブ信号ext./CASは活性状態の“L”レベル
であって、書込動作が指定されているので、信号/CA
S0も時刻t0において同様に活性状態(“L”レベ
ル)となる。時刻t1においては、内部クロック信号C
LK0は“H”レベルであり、信号/CAS0は“L”
レベルであり、信号WDEは“L”レベルである。この
とき、信号/CAS0が“L”レベルとなるのに応じ
て、すなわち、信号CAS0が“H”レベルとなるのに
応じて、NチャネルMOSトランジスタN3およびN4
が導通状態となり、入力ノードIN1は“H”レベル
に、入力ノードIN2は“L”レベルとなる。したがっ
て、SRフリップフロップ回路1120の出力ノードの
電位レベル、すなわちノードSおよびRの電位レベル
は、それぞれ、“L”レベルおよび“H”レベルとなっ
ている 信号CLK0は“H”レベルであって、すなわち信号/
CLK0は“L”レベルであるので、SRフリップフロ
ップ回路1140の入力ゲートを構成するNAND回路
1142および1144は不活性状態である。したがっ
て、たとえば、このときのSRフリップフロップ回路1
140の出力ノードQおよび/Qの電位レベルを、それ
ぞれ“H”レベルおよび“L”レベルであるものとす
る。時刻t1においては、信号WDEは“L”レベルで
あるため、NAND回路1160および1162の出力
はともに“H”レベルであって、インバータ回路116
4の出力信号OUTおよびインバータ回路1166の出
力信号Resetはともに“L”レベルである。
【0062】信号CLK0が“L”レベルとなり、信号
WDEが“H”レベルとなっている時刻t2において
は、SRフリップフロップ回路1140の入力ゲートを
構成するNAND回路1142および1144の出力信
号は、ともに入力ノードSおよびRの電位レベルに応じ
て変化し、それに応じて、SRフリップフロップ回路1
140の出力ノードQおよび/Qの電位レベルもリセッ
トされ、それぞれ“L”レベルおよび“H”レベルとな
る。このとき、信号WDEは“H”レベルとなっている
ものの、信号CLK0が“L”レベルであるため、NA
ND回路1160および1162の出力レベルは、とも
に“H”レベルであって、信号OUTおよびReset
の出力レベルも“L”レベルを維持する。
【0063】サイクル2におけるクロック信号ext.
CLKの立上がりのエッジに応答して、内部クロック信
号CLK0が“H”レベルとなると、NAND回路11
62に入力する信号CLK0、WDEおよびノード/Q
の電位はすべて“H”レベルとなるため、その出力レベ
ルは“L”レベルに変化して、信号OUTが“H”レベ
ルに変化する。一方、信号Resetは“L”レベルの
ままである。時刻t4において、信号CLK0が“L”
レベルとなることに応じて、NAND回路1162の出
力レベルも“H”レベルに復帰し、信号OUTも“L”
レベルとなる。
【0064】一方、信号OUTが“H”レベル状態とな
っていること、すなわち、NAND回路1162の出力
ノードが“L”レベルであり、NAND回路1160の
出力ノードが“H”レベルとなっていることに応じて、
SRフリップフロップ回路1120の入力ノードIN1
およびIN2は、それぞれ“L”レベルおよび“H”レ
ベルとなる。すなわち、時刻t0において信号/CAS
0が“L”レベルとなることに応じて、入力ノードIN
1およびIN2に与えられた電位レベルとは反転した電
位レベルがそれぞれに与えられる。したがって、時刻t
4において内部クロック信号CLK0が“L”レベル、
すなわち、信号/CLK0が“H”レベルとなる時点で
は、SRフリップフロップ回路1140の入力ノードS
およびRには時刻t0におけるのとは逆の入力電位レベ
ルが与えられている。つまり、信号/CLK0が“H”
レベルとなるのに応じて、SRフリップフロップ回路1
140の出力ノードQおよび/Qの電位レベルも、時刻
t2におけるのとは反転した電位レベルとなっている。
【0065】サイクル3における信号ext.CLKの
立上がりのエッジに応じて、内部クロック信号CLK0
が“H”レベルとなると、時刻t3における変化とは逆
に、NAND回路1160の出力レベルは“L”レベル
に、NAND回路1162の出力レベルは“H”レベル
となる。したがって、これに応じて信号OUTは“L”
レベルを維持するのに対し、信号Resetは“H”レ
ベルとなる。サイクル3における時刻t6において、内
部クロック信号CLK0が“L”レベルとなるのに応じ
て、NAND回路1160の出力レベルは、再び“H”
レベルとなって、信号Resetは“L”レベルに復帰
する。
【0066】時刻t6において、NAND回路1160
の出力レベルが“L”レベルであり、NAND回路11
62の出力レベルが“H”レベルであることに応じて、
SRフリップフロップ回路1120の入力ノードIN1
およびIN2の電位レベルも、それぞれ“H”レベルお
よび“L”レベルとなり、信号CLK0の立下がりのエ
ッジで、再びSRフリップフロップ回路1140の入力
ノードSおよびRに時刻t1におけるのと同様の電位レ
ベルが与えられる。以上の動作により、外部クロック信
号ext.CLKの変化に応じて、生成される内部クロ
ック信号CLK0が“L”レベルから“H”レベルへと
変化するたびに、信号WDEが“H”レベルである限
り、NAND回路1160および1162の出力レベル
は、信号ext.CLKのサイクルごとに交互にその出
力レベルが変化することがわかる。
【0067】図5は、図3に示した列選択動作制御回路
1100の出力信号OUTおよびResetを受けて、
Yデコーダ活性化信号ENCSLを出力する回路の構成
を示す概略ブロック図である。信号OUTおよびRes
etはラッチ回路1210に入力し、ラッチ回路121
0の出力を受けるインバータ回路1220がYデコーダ
活性化信号ENCSLを出力する。すなわち、信号EN
CSLは信号OUTが“H”レベルとなるのに応じて、
“H”レベルとなって、その状態がラッチ回路1210
により保持される。その後、信号Resetが“H”レ
ベルとなるのに応じて、ラッチ回路1210の状態がリ
セットされ、信号ENCSLも“L”レベルとなること
になる。すなわち、信号ENCSLは、図2に示したよ
うな列選択信号φCSL0およびφCSL1等と同様の
変化をすることになる。
【0068】図6は、図1に示したSDRAM1000
におけるYデコーダ群53aの構成の一部を示す概略ブ
ロック図である。Yデコーダ群53aは、Yデコーダ活
性化信号ENCSLおよび列アドレス信号Y1〜Ykを
受けるNAND回路532およびNAND回路532の
出力を受けて、信号CSL0を出力するインバータ回路
534と、Yデコーダ活性化信号ENCSLおよび内部
列アドレス信号/Y1、Y2〜Ykを受けるNAND回
路536とNAND回路536の出力を受けて、列選択
信号φCSL1を出力するインバータ回路538とを含
む。
【0069】すなわち、信号ENCSLが活性状態
(“H”レベル)であって、内部列アドレス信号Y1〜
Ykがすべて“1”である場合に列選択信号φCSL0
が活性状態となることになる。一方、列選択信号φCS
L1は、信号ENCSLが活性状態であって、内部列ア
ドレス信号Y1が“0”であり、内部列アドレス信号Y
2〜Ykがすべて“1”である場合に、活性状態とな
る。したがって、図2に示したように、列選択信号φC
SL0およびφCSL1は、サイクル2においてともに
活性状態となり、サイクル3においてともに不活性状態
へと変化することになる。
【0070】列選択信号φCSL2およびφCSL3に
ついても、図4に示した信号OUTおよびResetに
より生成される信号ENCSLによって、図2に示した
ようにサイクル4において活性状態となり、サイクル5
において不活性状態となる変化をすることがわかる。 [実施の形態2]図11は、本発明の実施の形態2のS
DRAM2000の構成を示す概略ブロック図である。
実施の形態1のSDRAM1000と異なる点は、Yア
ドレスバッファ66からの内部列アドレス信号Y0〜Y
kを受けるYアドレスオペレーション回路68が、メモ
リセルアレイバンクA0またはB0に対する内部列アド
レス信号Y01〜Y0kおよびYデコーダ活性化信号E
NCSL0と、メモリセルアレイバンクA1またはB1
に対する内部列アドレス信号Y11〜Y1kおよびYデ
コーダ活性化信号ENCSL1とをそれぞれ独立に出力
する構成となっている点である。その他同一部分には同
一符号を付し、説明は省略する。
【0071】図12は、実施の形態2のSDRAM20
00の動作を示すタイミングチャートである。図2に示
した実施の形態1におけるSDRAM1000の動作と
異なる点は、2ビットプリフェッチ動作において、2ビ
ット目の動作を書込む際の列選択信号φCSL1等が1
ビット目のデータを書込む際の列選択信号φCSL0よ
りも1クロックサイクル時間分遅れて活性化する点であ
る。以下にさらに詳しくその動作を説明する。以下で
は、メモリセルアレイバンクAが選択されており、デー
タ書込動作時に外部から与えられるアドレス信号の下位
ビットは“0”であって、入力されるデータの先頭デー
タ(1ビット目のデータ)は、メモリセルアレイバンク
A0に入力されるものとする。
【0072】サイクル1におけるクロック信号ext.
CLKの立上がりのエッジにおいて、外部列アドレスス
トローブ信号/CASおよび書込動作制御信号ext.
/WEがともに“L”レベルであることにより書込動作
モードが指定される。この時点でデータ入出力端子DQ
に与えられているデータ信号d0が先頭データとして、
ライト用レジスタ59aにストアされる。Yアドレスオ
ペレーション回路68は、外部から与えられた列アドレ
スに応じて、Yデコーダ群53aに対応する内部列アド
レス信号Y01〜Y0kおよび活性状態のYデコーダ活
性化信号ENCSL0を出力する。Yデコーダ群53a
は、与えられた内部列アドレス信号Y01〜Y0kに対
応するビット線対BLP0に対して、活性な列選択信号
φCSL0を出力する。
【0073】一方、ライトバッファ群60aは、第2の
制御信号発生回路64から出力されるライトバッファ活
性化信号φWBA0の活性化に応じて、対応するグロー
バルIO線対GLO0に書込データの出力を開始する。
この書込データは、選択されたグローバルIO線対GI
O0、ローカルIO線対LIO0およびビット線対BL
P0を経由して、選択されたメモリセルに伝達される。
以上の動作により、1ビット目の書込データが、メモリ
セルアレイバンクA0中の選択されたメモリセルに書込
まれる。
【0074】サイクル2におけるクロック信号ext.
CLKの立上がりのエッジにおいて、データ入出力端子
DQに与えられている信号が、2ビット目のデータとし
てライト用レジスタ59a′にストアされる。Yアドレ
スオペレーション回路68はのこのサイクル2における
信号ext.CLKの立上がりのエッジに応答して、メ
モリセルアレイバンクA1に対して活性状態のYデコー
ダ活性化信号ENCSL1を出力する。Yデコーダ群5
3aは、与えれた内部列アドレス信号Y11〜Y1kに
対応するビット線対BLP1の列選択ゲートCSGに対
して、活性な列選択信号φCSL1を出力する。これに
応じて、ライトバッファ群60a′から出力された2ビ
ット目の書込データは、選択されたグローバルIO線対
GIO1、ローカルIO線対LIO1およびビット線対
BLP1を経由してメモリセルアレイバンクA1中の選
択されたメモリセルに書込まれる。
【0075】サイクル3における信号ext.CLKの
立上がりのエッジに応じて、列選択信号φCSL0およ
びφCSL1はともに不活性状態となり、第2の制御信
号発生回路63は、イコライズ回路活性化信号φWEQ
Aを活性化する。これに応じて、グローバルIO線対G
IO0、GIO1およびローカルIO線対LIO0、L
IO1はその電位がイコライズされる。サイクル1およ
びサイクル2におけるのと同様にして、サイクル3にお
ける信号ext.CLKの立上がりのエッジにおいてデ
ータ入出力端子DQに与えられているデータが3ビット
目の書込データd2として取込まれ、メモリセルアレイ
バンクA0の対応する列列選択信号φCSL2が活性化
することで、この書込データd2の書込が行なわれる。
【0076】さらに、サイクル4における信号ext.
CLKの立上がりのエッジに応じて、4ビット目の書込
データd3が取込まれ、メモリセルアレイバンクA1中
の対応するメモリセル列に対して活性な列選択信号φC
SL3が出力されて、第4ビット目のデータの書込が行
なわれる。サイクル5における信号ext.CLKの立
上がりのエッジに応じて、列選択信号φCSL2および
φCSL3はともに不活性状態となり、イコライズ回路
活性化信号φWEQAは再び活性状態となる。
【0077】これに応じて、再びグローバルIO線対お
よびローカルIO線対のイコライズ動作が行なわれる。
以上の説明においては、書込動作時に外部から与えられ
るアドレス信号の下位ビットが“0”レベルの場合につ
いて説明したが、このアドレス信号の下位ビットが
“1”の場合は、最初にメモリセルアレイバンクA1に
対する書込動作が行なわれ、その後メモリセルアレイバ
ンクA0およびA1に対して、交互にデータの書込動作
が行なわれる。
【0078】図16は、図11に示したSDRAM20
00における2MビットメモリアレイMA中の32Kビ
ットメモリアレイMKの構成を示す回路図であり、図9
と対比される図である。図9に示した実施の形態1のS
DRAM1000の構成と異なる点は、メモリセルアレ
イバンクA0に属するビット線対BLP0の列選択ゲー
トCSG0を制御するための列選択線CSL0と、メモ
リセルアレイバンクA1に属するビット線対BLP1の
列選択ゲートCSG1を制御するための列選択線CSL
1を別々の構成とし、互いに独立に制御できるようにし
た点である。
【0079】その他の点は、図9に示した実施の形態1
と同様であり、同一部分には同一符号を付して説明は省
略する。図13は、図11に示したYアドレスオペレー
ション回路68中に含まれ、Yデコーダ活性化信号EN
CSL0およびENCSL1の活性化のタイミングを決
定する列選択動作制御回路2100の構成を示す概略ブ
ロック図であり、実施の形態1の列選択動作制御回路1
100を示す図3と対比される図である。Yアドレスオ
ペレーション回路68は、列選択動作制御回路1100
および2100を含む。
【0080】列選択動作制御回路2100が、列選択動
作制御回路1100の構成と異なる点は、以下の2点で
ある。第1は、列選択動作制御回路2100に対する入
力信号は、外部から与えられる列アドレス信号の最下位
ビットY0の値に応じて変化する構成となっている点
で、列選択動作制御回路1100の入力信号のレベルが
固定されていたことと異なる。第2には、その出力信号
を取出すノードが、入力側のSRフリップフロップ回路
の入力ノードと一致している点である。すなわち、列選
択動作制御回路2100は、SRフリップフロップ回路
1120の入力ノードIN1と入力が接続し、信号/O
UTを出力するインバータ回路2104と、ノードIN
2と入力が接続し、信号OUTを出力するインバータ回
路2106とを含む。
【0081】ここで、列選択動作制御回路2100の初
段のSRフリップフロップ回路1120における入力ノ
ードIN1は、信号CAS0により制御されるNチャネ
ルMOSトランジスタN3を介して、列アドレス信号の
最下位ビットY0を受ける。一方、SRフリップフロッ
プ回路1120の他方の入力ノードIN2は、信号CA
S0により制御されるNチャネルMOSトランジスタN
4を介して、信号Y0がインバータ回路2100により
反転された信号を受ける。したがって、SRフリップフ
ロップ回路1120の出力信号、すなわち、SRフリッ
プフロップ回路1140の入力ノードSおよびRに入力
する信号レベルは、列アドレス信号の最下位ビットの値
に応じて、“H”レベルと“L”レベルとが入換わる構
成となっている。
【0082】列選択動作制御回路1100においては、
その出力信号は、NAND回路1160および1162
の出力ノードの電位レベルに対応して出力される構成と
なっていたため、信号/CAS0がサイクル1において
活性化した後、サイクル2から、出力信号が活性化され
る構成となっていた。これに対して、列選択動作制御回
路2100では、出力信号OUTおよび/OUTは、S
Rフリップフロップ回路1120の入力ノードIN1お
よびIN2の電位レベルに応じて出力されるため、サイ
クル1において、信号/CAS0が活性状態(“L”レ
ベル)となるとともに、出力信号OUTまたは/OUT
のいずれかが活性状態となる構成となっている。
【0083】図14は、図13に示した列選択動作制御
回路2100の動作を説明するタイミングチャートであ
る。サイクル1におけるクロック信号ext.CLKの
立上がりのエッジに応じて、内部クロック信号CLK0
が活性化する。一方、外部列ストローブ信号ext./
CASが“L”レベルであることに応じて、信号/CA
S0も“L”レベル、すなわち信号CAS0が“H”レ
ベルとなる。このとき、アドレス信号の最下位ビットは
“0”であるものとすると、信号CAS0の活性化に応
じて、SRフリップフロップ回路1120の入力ノード
IN1およびIN2には、それぞれ“L”レベルおよび
“H”レベルの信号が入力される。これに応じて、イン
バータ回路2104から出力される信号/OUTは
“H”レベルに変化し、インバータ回路2106から出
力される信号OUTは“L”レベルを維持する。
【0084】時刻t2において、内部クロック信号CL
K0が“L”レベルに立下がることに応じて、SRフリ
ップフロップ回路1140の出力信号Qおよび/Qは、
それぞれ“L”レベルと“H”レベルに変化する。この
ときのライトデコードイネーブル信号WDEは“H”レ
ベルであるものの、信号CLKが“L”レベルであるた
め、NAND回路1160および1162の出力レベル
はともに“H”レベルとなっている。したがって、信号
/CAS0が“H”レベルとなって、NチャネルMOS
トランジスタN1およびN2が導通状態となると、イン
バータ回路2104および2106の入力電位レベルは
ともに“H”レベルとなるので、信号OUTおよび/O
UTはともに“L”レベルとなる。
【0085】サイクル2における信号ext.CLKの
立上がりのエッジに応じて、内部クロック信号CLK0
が“H”レベルとなるのに応答して、NAND回路11
60および1162は、SRフリップフロップ回路11
40の出力信号に応じて、それぞれ“H”レベルおよび
“L”レベルの信号を出力する。このため、信号OUT
が“L”レベルから“H”レベルに変化し、信号/OU
Tは“L”レベルを維持する。さらに、内部クロック信
号CLKの不活性状態への変化に応じて、再び、NAN
D回路1160および1162の出力信号レベルがとも
に“H”レベルとなることに応じて、出力信号OUTは
“L”レベルに復帰し、信号/OUTは“L”レベルを
維持する。
【0086】以上の動作により、サイクル1において信
号/OUTが“H”レベルにパルス状に変化し、サイク
ル2において信号OUTが“H”レベルにパルス状に変
化することになる。以後は、外部クロック信号ext.
CLKの変化に応じて、信号OUTおよび信号/OUT
が信号WDEが活性状態である期間は、交互に“H”レ
ベルへと変化することになる。図15は、図11に示し
たYアドレスオペレーション回路68に含まれる、Yデ
コーダ活性化信号発生回路682および684の構成を
示す概略ブロック図である。
【0087】Yデコーダ活性化信号発生回路682は、
図13に示した列選択動作制御回路2100の出力信号
/OUTおよび図3に示した列選択動作制御回路110
0からの出力信号Resetを受けるラッチ回路682
aと、ラッチ回路682aの出力信号を受けて、信号E
NCSL0を出力するインバータ回路682bとを含
む。一方、Yデコーダ活性化信号発生回路684は、信
号OUTおよびResetを受けるラッチ回路684a
と、ラッチ回路684aの出力を受けて、信号ENCS
L1を出力するインバータ回路684bとを含む。Yデ
コーダ活性化信号発生回路682は、図14に示したサ
イクル1において、信号/OUTの活性化に応じて、活
性な信号ENCSL0を出力し、サイクル3において、
Reset信号が活性化するのに応じて、出力する信号
ENCSL0を不活性状態とする。一方、Yデコーダ活
性化信号発生回路684は、サイクル2において、信号
OUTが活性状態となるのに応じて、出力する信号EN
CSL1を活性状態とし、サイクル3において、信号R
esetが活性状態となるのに応じて、信号ENCSL
1を不活性状態とする。
【0088】以上の動作により、図12に示したような
列選択信号φCSL0およびφCLS1の変化が実現さ
れる。以下、同様のサイクルが繰返されるため、信号φ
CSL2およびφCSL3についても、同様に信号EN
CSL0および信号ENCSL1に対応して、図12に
示したような変化が実現される。実施の形態2のSDR
AM2000は、図12に示したようなタイミングチャ
ートに従って、IO線対と対応するビット線対との接続
を行なうので、2ビット目の書込データを伝達するIO
線対の電位レベルが、書込が行なわれるべきメモリセル
中に記憶されていた記憶情報に応じて、1ビット目のデ
ータ書込動作中に変化するということがない。
【0089】このため、データの書込動作において、寄
生容量等の大きなIO線対の電位レベルを書込データ値
に応じて反転される必要がないため、高速な書込動作を
実現することが可能となる。 [実施の形態3]図24に示した従来のSDRAMの動
作においては、2サイクルごとにIO線対のイコライズ
動作を行なった。このため、1ビット目のデータの書込
動作がおこなわれるサイクル1において、2ビット目の
データの書込に用いられるIO線対の電位レベルが変化
してしまうという問題点があった。
【0090】すなわち、2ビット目のデータの書込に用
いられるIO線対は、対応するビット線対BLP1と接
続されるものの、このIO線対には、まだ2ビット目の
データが出力されていないため、接続されたビット線対
BLP1に既に存在している電位差に応じて、IO線対
の電位レベルが変化してしまう。このため、サイクル2
において、このIO線対に対して2ビット目のデータが
出力される際に、既に変化しているIO線対1の電位レ
ベルと反対のデータが書込まれる際には、IO線対1の
電位レベルは再び反転される必要があり、これが書込動
作時間の遅延を招いていた。
【0091】実施の形態3においては、上記の問題点を
解決するために、書込動作モードが指定された後は、信
号ext.CLKの立上がりのエッジに応答して、各サ
イクルごとにIO線対のイコライズを行なう構成として
いる。ここで、実施の形態3のSDRAMの回路構成
は、基本的に図1に示した実施の形態1のSDRAM1
000の構成と同様であるものとする。実施の形態1の
SDRAM1000と実施の形態3のSDRAMの異な
る点は、第2の制御信号発生回路63から出力されるイ
コライズ回路活性化信号φWEQAの出力のタイミング
が異なる点である。
【0092】図17は、実施の形態3のSDRAMの動
作を示すタイミングチャートである。サイクル1におけ
る信号ext.CLKの立上がりのエッジに応答して、
データd0が取込まれ、図24に示した従来例と同様に
列選択信号φCSL0およびφCLS1が活性化する。
このとき、1ビット目のデータを書込むのに用いられる
IO線対GIO0およびLIO0は、ともに、1ビット
目のデータ値に対応した電位レベルに変化している。こ
れに対し、2ビット目のデータの書込に用いられるIO
線対GIO1およびLIO1は、対応するビット線対に
既に存在している電位差に応じて、その電位レベルが変
化し始める。
【0093】サイクル2における信号ext.CLKの
立上がりのエッジに応じて、第2の制御信号発生回路6
4は、イコライズ回路活性化信号φWEQAを出力し、
これに応じて、IO線対GIO0、LIO0およびGI
O1、LIO1はともにイコライズされる。したがっ
て、IO線対GIO1およびLIO1はともにイコライ
ズされて初期状態に復帰するため、サイクル2におい
て、2ビット目のデータの書込が行なわれる場合にも、
このIO線対GIO1およびLIO1を逆電位に反転さ
せる必要がない。このため、従来例において問題であっ
た書込動作速度の低下という問題点が解決される。
【0094】なお、この場合ビット線対BLP0とロー
カルIO線対LIO0およびLIO1等が接続されたま
ま、IO線対のイコライズが行なわれることになるが、
1ビット目のデータに対応する電位差をセンスアンプが
ラッチしているため、1ビット目のデータが破壊される
ことはない。しかも、図17に示したようなタイミング
チャートに応じた信号変化を実現するためには、列選択
信号線CSLは、図9において示したように、メモリセ
ルアレイバンクA0に属するビット線対BLP0とメモ
リセルアレイバンクA1に属するビット線対BLP1の
2対のビット線対が共有される構成とすることが可能で
あり、図16に示した実施の形態2におけるのよりも、
列選択線の本数を減らすことが可能であるという利点を
有する。
【0095】図18は、図17に示した信号φWEQA
を発生する回路700の構成を示す概略ブロック図であ
る。回路700は、図1に示したSATDの構成におい
て第2の制御信号発生回路63中に含まれる。回路70
0は、ライトデコードイネーブル信号WDEを受ける遅
延回路702と、内部クロック信号CLK0を受ける遅
延回路704と、遅延回路704の出力を受けるインバ
ータ回路706と、信号CLK0とインバータ回路70
6の出力とを受けるAND回路708と、遅延回路70
2の出力とAND回路708との出力を受けて、信号φ
WEQAを出力するAND回路710とを含む。
【0096】以上の構成において、遅延回路704、イ
ンバータ回路706およびAND回路708は、信号C
LK0の立上がりのエッジに応じて、所定のパルス長の
信号を出力する回路として動作する。一方、AND回路
710は、上記所定のパルス長の信号を信号φWEQA
として出力するか否かを制御する。つまり、信号WDE
が活性状態の“H”レベルとなり、遅延回路702を経
てAND回路710の一方の入力ノードの電位レベルが
“H”レベルとなっている期間においてのみ、信号CL
K0の立上がりのエッジに応じて、所定のパルス長を有
するイコライズ回路活性化信号φWEQAが出力される
構成となっている。
【0097】ここで、遅延回路702は、図17に示し
たサイクル後において、信号φWEQAが確実に出力さ
れるように、この回路700に対しては信号WDEの変
化のタイミングを遅らせるために挿入されている。 [実施の形態4]実施の形態3においては、IO線対の
イコライズ動作を書込動作中の各クロックサイクルごと
に行なう構成とした。しかしながら、上記のように、各
サイクルごとにイコライズ動作を行なうこととしたの
は、2ビット目の書込動作を行なう際に、対応するIO
線対GIO1およびLIO1の電位レベルを初期化する
必要があるためであった。
【0098】したがって、各サイクルごとに、IO線対
GIO0、LIO0およびGIO1、LIO1をともに
イコライズする必要はなく、2ビット目のデータ書込に
用いられるIO線対、すなわち、IO線対GIO1およ
びLIO1のみをイコライズすることで十分である。実
施の形態4においては、したがって、IO線対GIO
0、LIO0と、IO線対GIO1、LIO1を独立に
イコライズすることが可能な構成としている。図19
は、実施の形態4のSDRAM3000の構成を示す概
略ブロック図である。
【0099】実施の形態1のSDRAM1000の構成
と異なる点は、イコライズ回路群が、それぞれメモリセ
ルアレイバンクA0に対応するIO線対0と、メモリセ
ルアレイバンクA1に対応するIO線対1とに別々の系
統として設けられ、独立にイコライズ動作が行なわれる
構成となっている点である。したがって、第2の制御信
号発生回路64からも、各メモリセルアレイバンクに対
応して、別々のイコライズ回路活性化信号φWEQA0
およびφWEQA1が出力される。
【0100】以上の構成は、メモリセルアレイバンクB
0およびB1に対しても全く同様となっている。その他
同一部分には同一符号を付して説明は省略する。図20
は、実施の形態4のSDRAM3000における1つの
32KビットメモリアレイMKに関連する部分の一部省
略した回路ブロック図であって、図9と対比される図で
ある。図9に示した実施の形態1におけるSDRAM1
000の構成と異なる点は、メモリセルアレイバンクA
0に対応するローカルIO線対LIO0に対するイコラ
イズ回路は、信号φWEQA0により制御され、メモリ
セルアレイバンクA1に対するローカルIO線対LIO
1のイコライズ回路はイコライズ信号φWEQA1によ
り制御される構成となっている点である。
【0101】図21は、SDRAM3000の書込動作
に関連する部分の構成を具体的に示す回路ブロック図で
あって、図10と対比される図である。図10に示した
SDRAM1000における対応する回路と異なる点
は、メモリセルアレイバンクA0中で選択されたメモリ
セルに対応するグローバルIO線対GIO0をイコライ
ズする回路が信号φWEQA0により制御され、メモリ
セルアレイバンクA1中で選択されたメモリセルに対応
するグローバルIO線対GIO1をイコライズする回路
が、信号φWEQA1により制御される構成となってい
る点である。
【0102】以上の構成により、SDRAM3000に
おいては、IO線対GIO0、LIO0と、IO線対G
IO1、LIO1とが独立にイコライズすることが可能
な構成となっている。図22は、SDRAM3000の
動作を示すタイミングチャートである。サイクル1にお
ける信号ext.CLKの立上がりのエッジに応答し
て、1ビット目のデータd0が取込まれ、IO線対GI
O0およびLIO0に対応する信号が出力される。一
方、メモリセルアレイバンクA0およびA1中の対応す
るメモリセル列を選択する列選択信号φCSL0および
φCSL1がともに活性状態となる。
【0103】サイクル2における信号ext.CLKの
立上がりのエッジに応じて、2ビット目のデータの取込
みが行なわれるとともに、イコライズ信号φWEQA1
が活性化し、2ビット目のデータの書込に用いられるI
O線対GIO1およびLIO1の電位レベルがイコライ
ズされる。続いて、対応するデータがIO線対GIO1
およびLIO1に出力され、選択された2ビット目のメ
モリセルにデータの書込が行なわれる。サイクル3にお
ける信号ext.CLKの立上がりのエッジに応じて、
3ビット目の読込データd2が取込まれ、同時に、イコ
ライズ回路活性化信号φWEQA0およびφWEQA1
がともに活性状態となって、メモリセルアレイバンクA
0およびA1に対応するすべてのIO線対のイコライズ
動作が行なわれる。さらに、3ビット目および4ビット
目の書込が行なわれるメモリセルの属する、メモリセル
アレイバンクA0およびA1中の対応する列を選択する
ために、列選択信号φCSL2およびφCSL3がとも
に活性状態となる。このサイクル3において、メモリセ
ルアレイバンクA0中の選択されたメモリセルに、3ビ
ット目のデータの書込が行なわれる。
【0104】サイクル4において、4ビット目の取込み
が行なわれ、このデータの書込に用いられるIO線対の
イコライズが行なわれた後に、4ビット目のデータの書
込が行なわれる。5サイクルにおける信号ext.CL
Kの立上がりのエッジに応じて、3ビット目および4ビ
ット目のメモリセルの属する列を選択していた列選択信
号φCSL2およびφCSL3がともに不活性状態とな
り、イコライズ信号φWEQA0およびφWEQA1は
ともに活性状態となって、メモリセルアレイバンクA0
およびA1に対応するIO線対のイコライズ動作が行な
われ、1バースト長に対する書込動作が完了する。
【0105】実施の形態4のSDRAM回路3000に
おいては、上記のように、2ビット目および4ビット目
等のデータの書込に用いられるIO線対は、各クロック
サイクルごとにイコライズされるので、1ビット目およ
び3ビット目のデータの書込中に、接続されたビット線
対に既に存在している電位差に応じて、そのIO線間の
電位差が変化した場合でも、その電位差をさらに反転さ
せてデータの書込を行なう必要がないため、書込動作に
余分な時間を要することがない。しかも、実施の形態4
におけるSDRAM3000の動作を実現するには、各
ローカルIO線対およびグローバルIO線対のイコライ
ズ動作を制御するイコライズ信号φWEQA0およびφ
WEQA1を独立に伝達する信号配線が2系統あるだけ
でよく、信号配線の増加は最小限に抑えることが可能で
ある。
【0106】図23、図24、図26および図27は、
図22に示した信号φWEQA0およびφWEQA1を
発生するための回路の構成を示す回路図である。以下、
順を追って、その回路構成の概略およびその動作につい
て説明する。まず、図23は、信号φWEQA0および
φWEQA1を発生するタイミングを決定するための信
号OUTおよび信号/OUTを発生する回路2200の
構成を示す回路図であり、実施の形態1において、図3
で示した回路1100と対比される図である。回路22
00と回路1100の構成の異なる点は、SRフリップ
フロップ回路1120への入力信号が、回路1100に
おいてはノードIN1およびIN2に対してそれぞれ
“H”レベルと“L”レベルに固定されていたのに対
し、回路2200では、外部から与えられるアドレス信
号の最下位ビットの値に応じて、そのレベルが反転する
構成となっている点である。
【0107】すなわち、回路2200においては、アド
レス信号の最下位ビットY0が“1”である場合は、回
路1100における信号OUTおよびResetを、そ
れぞれ信号/OUTおよび信号OUTに置換えた動作を
する。これに対し、最下位ビットY0が“0”である場
合は、信号/OUTおよび信号OUTは最下位ビットY
0が“1”の場合と相互に入換わった動作をすることに
なる。図24は、信号φWEQA0および信号φEQ0
1を発生するタイミングを制御するためのもう1つの信
号Reset出力するための回路2210の構成を示す
回路図であり、この回路の構成も基本的には図3に示し
た回路1100と同様である。回路2210が、回路1
100の構成と異なる点は、NAND回路1160およ
び1162の動作を制御する信号WDEが遅延回路11
68により、より遅れたタイミングでNAND回路11
60および1162に入力する構成となっている点であ
る。
【0108】この遅延回路1168により、後に述べる
ように、2ビットプリフェッチ動作時の最後のサイクル
における信号Resetが確実に出力されるという効果
がある。以下では、アドレス信号の最下位ビットY0が
“0”レベルである場合について説明することにする。
図4に示したタイミングチャートと同様に、サイクル1
において、2ビットプリフェッチ動作が開始する。サイ
クル2における信号CLK0の立上がりのエッジに応じ
て、信号OUTが“H”レベルへ変化する。以下サイク
ルごとに、信号WDEが“H”レベルである期間は、信
号OUTと信号/OUTは、信号CLK0の立上がりの
エッジに応じて交互に“H”レベルとなる。
【0109】一方、信号Resetは、図3に示した回
路1100と同様に、サイクル3およびサイクル5にお
ける信号CLK0の立上がりのエッジに応じて“H”レ
ベルとなる。次に、この信号OUT、信号/OUTおよ
び信号Resetを受けて、信号φWEQA0およびφ
WEQA1を出力する回路について説明する。図26
は、信号φWEQA0を出力する回路2220の構成を
示す概略ブロック図であり、図27は信号φWEQA1
を出力する回路2240の構成を示す概略ブロック図で
ある。
【0110】回路2220と回路2240とは、その出
力する信号のタイミングを制御するために受ける信号が
異なるだけで、その構成は基本的に同様である。回路2
220は、信号Resetおよび信号/OUTを受ける
NOR回路2222と、NOR回路2222の出力を一
方の入力として受けるNAND回路2224と、NAN
D回路2224の出力を一方の入力として受け、その出
力がNAND回路2224の他方の入力ノードと接続す
るNAND回路2226と、NAND回路2226の出
力ノードと他方の入力ノードとの間に接続される遅延回
路2228と、NAND回路2226の出力を受けて、
信号φWEQA0を出力するインバータ回路2230と
を含む。
【0111】すなわち、回路2220は、信号Rese
tまたは信号/OUTのいずれか一方が“H”レベルと
なることに応じて、遅延回路2228により決定される
所定のパルス長を有する信号φWEQA0を出力する構
成となっている。以下、簡単にその動作の概略を説明す
る。まず、信号Resetおよび信号/OUTがともに
“L”レベルであるときは、NOR回路2222の出力
レベルは“H”レベルとなっている。このとき、NAN
D回路2224の出力レベルは“L”レベルであり、N
AND回路2226の出力レベルは“H”レベルとなっ
ている状態が安定状態である。したがって、インバータ
2230から出力される信号φWEQA0は“L”レベ
ルである。ここで、信号Resetまたは信号/OUT
のいずれか一方が“H”レベルとなると、それに応じ
て、NOR回路2222の出力レベルは“L”レベルに
変化する。これに応じて、NAND回路2224の出力
レベルは、“H”レベルに変化し、NAND回路222
6の出力レベルは“L”レベルとなる。すなわち、イン
バータ回路2230から出力される信号φWEQA0
は、“H”レベルに変化する。
【0112】NAND回路2226の出力レベルが
“L”レベルとなった後、遅延回路2228を経由し
て、所定の時間経過後NAND回路2226の一方の入
力が“L”レベルとなると、NAND回路2226の出
力レベルは、再び“H”レベルとなることで安定状態と
なる。したがって、インバータ回路2230の出力信号
φWEQA0は再び“L”レベルに復帰する。したがっ
て、図25において示したように信号/OUTおよび信
号Resetが変化する場合、信号φWEQA0は、サ
イクル3およびサイクル5においてそれぞれ“H”レベ
ルへと変化することとなり、図22において示したよう
な変化をすることになる。
【0113】図27は、信号φWEQA1を出力する回
路2240の構成を示す概略ブロック図である。回路2
240の構成は、NOR回路2222が受ける信号が信
号Resetと信号OUTとなっている点を除いては回
路2220と同様であるので、同一部分に同一符号を付
して、その説明は省略する。したがって、回路2230
は、信号Resetまたは信号OUTのいずれか一方が
“H”レベルとなることに応じて、その出力信号φWE
QA1を活性状態(“H”レベル)に変化させる。
【0114】つまり、図25に示したように、信号OU
Tおよび信号Resetが変化する場合は、サイクル
2、3、4および5において、信号φWEQA1は活性
状態となる。つまり、信号φWEQA1は、図22に示
した変化をすることになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1のSDRAM1000
の構成を示す概略ブロック図である。
【図2】 SDRAM1000の動作を示すタイミング
チャートである。
【図3】 列選択動作制御回路1100の構成を示す回
路ブロック図である。
【図4】 列選択動作制御回路1100の動作を示すタ
イミングチャートである。
【図5】 Yデコーダ活性化信号発生回路の構成を示す
回路ブロック図である。
【図6】 Yデコーダの構成を示す回路ブロック図であ
る。
【図7】 SDRAM1000のチップレイアウトを示
す図である。
【図8】 図7に示したチップのメモリセルアレイのI
O線対の配置を具体的に示す配置図である。
【図9】 図8の部分拡大図である。
【図10】 図1に示したSDRAMの書込動作に関連
する部分の構成を示す回路ブロック図である。
【図11】 実施の形態2のSDRAM2000の構成
を示す概略ブロック図である。
【図12】 SDRAM2000の動作を示すタイミン
グチャートである。
【図13】 列選択動作制御回路2100の構成を示す
回路ブロック図である。
【図14】 列選択動作制御回路2100の動作を示す
タイミングチャートである。
【図15】 Yデコーダ活性化信号発生回路682およ
び684の構成を示す回路ブロック図である。
【図16】 SDRAM2000のメモリセルアレイの
1つの32Kビットメモリアレイに関連する部分の構成
を示す回路ブロック図である。
【図17】 実施の形態3のSDRAMの動作を示すタ
イミングチャートである。
【図18】 信号φWEQAを発生する回路の構成を示
す概略ブロック図である。
【図19】 実施の形態4のSDRAM3000の構成
を機能的に示す概略ブロック図である。
【図20】 SDRAM3000の1つの32Kビット
メモリアレイに関連する部分の構成を示す回路ブロック
図である。
【図21】 SDRAM3000の書込動作に関連する
部分の構成を示す回路ブロック図である。
【図22】 SDRAM3000の動作を示すタイミン
グチャートである。
【図23】 信号φWEQA0およびφWEQA1を出
力する回路の一部を示す回路図である。
【図24】 信号φWEQA0およびφWEQA1を出
力する回路の他の一部を示す回路図である。
【図25】 図23および図24に示した回路の動作を
示すタイミングチャートである。
【図26】 信号φWEQA0を出力する回路2220
の構成を示す概略ブロック図である。
【図27】 信号φWEQA1を出力する回路2240
の構成を示す概略ブロック図である。
【図28】 従来のSDRAMの連続読出動作時におけ
る外部信号の変化の状態を示すタイミングチャートであ
る。
【図29】 従来のSDRAMの連続書込動作時におけ
る外部信号の変化の状態を示すタイミングチャートであ
る。
【図30】 従来のSDRAMの全体の構成を機能的に
示すブロック図である。
【図31】 従来のSDRAMの2ビットプリフェッチ
動作の連続書込動作を示すタイミングチャートである。
【符号の説明】
52a,52a′,52b,52b′ Xデコーダ群、
53a,53a′,53b,53b′ Yデコーダ群、
54a,54a′,54b,54b′ センスアンプ
群、56a,56a′,56b,56b′ リード用レ
ジスタ、58a,58a′,58b,58b′ 入力バ
ッファ、59a,59a′,59b,59b′ ライト
用レジスタ、60a,60a′,60b,60b′ ラ
イトバッファ群、61a,61a′61b,61b′
イコライズ回路群、68a,68b,69a,69b
セレクタ、LIO0,LIO1 ローカルIO線対、G
IO0,GIO1 グローバルIO線対、BS0,BS
1 ブロック選択スイッチ、CSG0,CSG1 列選
択ゲート、BLP0,BLP1 ビット線対、WLワー
ド線、MC メモリセル。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部クロック信号に同期して制御信号、
    アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取込む
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配列された複数のメモリセルを含むメモリセル
    アレイと、 前記メモリセルアレイとデータ信号の入出力を行なうた
    めの第1および第2の信号入力線対と、 前記外部クロック信号を分周し、内部クロック信号を出
    力する分周手段と、 前記アドレス信号に従って前記メモリセルアレイ中の対
    応するメモリセルを連続的に選択する選択手段と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、直列に入力さ
    れる前記データ信号を受けて保持し、対応する前記第1
    および前記第2の信号入出力線対に、対応する信号をそ
    れぞれ並列に出力するデータ入力手段と、 前記内部クロック信号に応じて制御され、前記選択手段
    によって選択されたメモリセルと対応する前記第1およ
    び前記第2の信号入出力線対とを、前記直列に入力され
    るデータ信号の先頭データが入力されたサイクルの後の
    前記外部クロック信号のサイクルにおいて接続する接続
    手段とを備える、同期型半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記接続手段により、前記選択されたメ
    モリセルと対応する前記第1および第2の信号入出力線
    対とが接続され、書込動作が完了するごとに、前記第1
    および前記第2の入出力線対の電位をそれぞれ所定の電
    位に等電位化するイコライズ手段をさらに備える、請求
    項1記載の同期型半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 外部クロック信号に同期して制御信号、
    アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取込む
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配列された複数のメモリセルと、各行に対応し
    て設けられたワード線と、各列に対応して設けられたビ
    ット線対とを各々含む複数のメモリセルアレイブロック
    と、 前記複数のメモリセルアレイブロックの各々に対応して
    設けられた第1および第2のローカル信号入出力線対
    と、 前記複数のメモリセルアレイブロックに共通に設けられ
    た第1および第2のグローバル信号入出力線対と、 前記アドレス信号に従って、対応する前記メモリセルア
    レイブロック中の対応するメモリセル列を連続的に選択
    する選択回路と、 前記外部クロック信号を分周し、内部クロック信号を出
    力する分周回路と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、前記データ信
    号を交互に受けて保持し、対応する前記第1および第2
    のグローバル信号入出力線対の一端に、対応する信号を
    それぞれ出力する第1および第2の書込用レジスタと、 前記対応するメモリセルアレイブロックの前記第1およ
    び前記第2のローカル信号入出力線対の一端と、前記対
    応する第1および第2のグローバル信号入出力線対の他
    端とを接続する第1の接続回路と、 前記内部クロック信号に応じて制御され、前記対応する
    メモリセルアレイブロックの前記第1および前記第2の
    ローカル信号入出力線対の他端と前記対応するメモリセ
    ル対がそれぞれ接続する前記ビット線対とを、前記第1
    および前記第2の書込用レジスタのうち後のサイクルで
    前記データ信号を受けたものが前記対応する信号を出力
    する前記外部クロック信号のサイクルにおいて、それぞ
    れ接続する第2の接続回路とを備える、同期型半導体記
    憶装置。
  4. 【請求項4】 外部クロック信号に同期して制御信号、
    アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取込む
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配列された複数のメモリセルを含むメモリセル
    アレイと、 前記メモリセルアレイとデータ信号の入出力を行なうた
    めの第1および第2の信号入出力線対と、 前記外部クロック信号を分周し、互いに交互に変化する
    第1および第2の内部クロック信号を出力する分周手段
    と、 前記アドレス信号に従って、前記メモリセルアレイ中の
    対応するメモリセルを連続的に選択する選択手段と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、直列に入力さ
    れる前記データ信号を受けて保持し、対応する前記第1
    および前記第2の信号入出力線対に対応する信号をそれ
    ぞれ並列に出力するデータ入力手段と、 前記第1の内部クロック信号に応じて制御され、前記第
    1の信号入出力線対と前記選択手段により選択された対
    応するメモリセルとを接続する第1の接続手段と、 前記第2の内部クロック信号に応じて制御され、前記第
    2の信号入出力線対と前記選択手段により選択された対
    応するメモリセルとを接続する第2の接続手段とを備え
    る、同期型半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記第1および前記第2の接続手段によ
    り、前記選択されたメモリセルと対応する前記第1およ
    び前記第2の信号入出力線対とが接続され、書込動作が
    完了するごとに前記第1および前記第2の入出力線対の
    電位をそれぞれ所定の電位に等電位化するイコライズ手
    段をさらに備える、請求項4記載の同期型半導体記憶装
    置。
  6. 【請求項6】 外部クロック信号に同期して制御信号、
    アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取込む
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配列された複数のメモリセルと、各行に対応し
    て設けられたワード線と、各列に対応して設けられたビ
    ット線対とを各々含む複数のメモリセルアレイブロック
    と、 前記複数のメモリセルアレイブロックの各々に対応して
    設けられた第1および第2のローカル信号入出力線対
    と、 前記複数のメモリセルアレイブロックに共通に設けられ
    た第1および第2のグローバル信号入出力線対と、 前記アドレス信号に従って、対応する前記メモリセルア
    レイブロック中の対応する第1および第2のメモリセル
    を連続的に選択する選択回路と、 前記外部クロック信号を分周し、互いに交互に変化する
    第1および第2の内部クロック信号を出力する分周回路
    と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、前記データ信
    号を交互に受けて保持し、対応する前記第1および前記
    第2のグローバル信号入出力線対の一端に、対応する信
    号をそれぞれ出力する第1および第2の書込用レジスタ
    と、 前記対応するメモリセルアレイブロックの前記第1およ
    び第2のローカル信号入出力線対の一端と、前記対応す
    る第1および第2のグローバル信号入出力線対の他端と
    を接続する第1の接続回路と、 前記第1の内部クロック信号に応じて制御され、前記第
    1のローカル信号入出力線対の他端と、前記第1のメモ
    リセルが接続する前記ビット線対とを接続する第2の接
    続回路と、 前記第2の内部クロック信号に応じて制御され、前記第
    2のローカル信号入出力線対の他端と、前記第2のメモ
    リセルが接続する前記ビット線対とを接続する第3の接
    続回路とを備える、同期型半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 外部クロック信号に同期して制御信号、
    アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取込む
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配列された複数のメモリセルを含むメモリセル
    アレイと、 前記メモリセルアレイとデータ信号の入出力を行なうた
    めの第1および第2の入出力線対と、 前記外部クロック信号を分周し、内部クロック信号を出
    力する分周手段と、 前記アドレス信号に従って、前記メモリセルアレイ中の
    対応するメモリセルを連続的に選択する選択手段と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、直列に入力さ
    れる前記データ信号を受けて保持し、対応する前記第1
    および前記第2の信号入出力線対に対応する信号をそれ
    ぞれ並列に出力するデータ入力手段と、 前記内部クロック信号に応じて、前記データ信号の入力
    開始と同期して制御され、前記選択回路によって選択さ
    れたメモリセルと、対応する前記第1および前記第2の
    信号入出力線対とを接続する接続手段と、 前記第1および前記第2の信号入出力線対と前記接続手
    段を介して入力ノード対が接続し、対応する前記メモリ
    セルに前記対応する信号を出力する駆動手段と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、前記第1およ
    び前記第2の信号入出力線対をイコライズするイコライ
    ズ手段とを備える、同期型半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 外部クロック信号に同期して制御信号、
    アドレス信号およびデータ信号を含む外部信号を取込む
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配列された複数のメモリセルを含むメモリセル
    アレイと、 前記メモリセルアレイとデータ信号の入出力を行なうた
    めの第1および第2の信号入出力線対と、 前記外部クロック信号を分周し、内部クロック信号を出
    力する分周手段と、 前記アドレス信号に従って、前記メモリセルアレイ中の
    対応するメモリセルを連続的に選択する選択手段と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、直列に入力さ
    れる前記データ信号を受けて保持し、対応する前記第1
    および前記第2の信号入出力線対に対応する信号をそれ
    ぞれ並列に出力するデータ入力手段と、 前記内部クロック信号に応じて、前記データ信号の入力
    開始と同期して制御され、前記選択回路によって選択さ
    れたメモリセルと、対応する前記第1および第2の信号
    入出力線対とを接続する接続手段と、 前記第1および第2の信号入出力線対と前記接続手段を
    介して入力ノード対が接続し、対応する前記メモリセル
    に前記対応する信号を出力する駆動手段と、 前記内部クロック信号に応じて制御され、前記第1の信
    号入出力線対をイコライズする第1のイコライズ手段
    と、 前記外部クロック信号に応じて制御され、前記第2の信
    号入出力線対をイコライズする第2のイコライズ手段と
    を備える、同期型半導体記憶装置。
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