JPH09147590A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置

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JPH09147590A
JPH09147590A JP32996095A JP32996095A JPH09147590A JP H09147590 A JPH09147590 A JP H09147590A JP 32996095 A JP32996095 A JP 32996095A JP 32996095 A JP32996095 A JP 32996095A JP H09147590 A JPH09147590 A JP H09147590A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】EEPROM及びフラッシュEEPROMで繰
り返し書き込み消去を行なうことによって起る書き込み
および消去時間の変化に対応し、初期設定されている書
き込みあるいは消去パルス幅を実力に応じ変更する。 【解決手段】初期設定パルス幅のみで書き込みあるいは
消去が完了する場合、初期設定パルス幅を短くし、追加
書き込みあるいは追加消去が2回以上の場合、初期設定
パルス幅を長くするよう書き込み消去動作制御回路1か
らの第1の信号7と、ベリファイ回路5からの第2の信
号8により書き込み消去パルス幅設定回路6が判定し、
初期パルス幅データを書き換えるための第3の信号9を
書き込み消去パルス幅制御回路2に送る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、不揮発性半導体記
憶装置に関し、特に電気的に書き込み及び消去可能な不
揮発性半導体記憶装置(Electrically Erasable Progra
mmable ROM;EEPROMおよびフラッシュ型(一括消
去型)EEPROM)の消去時間設定回路に関する。
【0002】
【従来の技術】電気的に書き込み消去可能な不揮発性半
導体記憶装置(EEPROM、及びフラッシュ型EEP
ROM)において、データの消去および書き込みは、メ
モリセルのコントロールゲートとソース又はドレインに
高電圧を印加しフローティングゲートとソース又はドレ
イン間のトンネリング現象によりフローティングゲート
に電子又はホールを注入することによって行なってい
る。このときの書き込み又は消去に必要な時間は、メモ
リセルのしきい値が予め定められた所定値に達するまで
の時間であるが、この書き込みおよび消去時間は、フロ
ーティングゲートとドレイン又はソース間の電界が小さ
くなればなるほど指数関数的に増加する。
【0003】図5に、フラッシュ型EEPROMの消去
パルス時間に対するメモリセルのしきい値電圧を示す。
フラッシュ型EEPROMの消去では、コントロールゲ
ートを0Vとしソースに約12Vを印加しフローティン
グゲートから電子を抜いて消去する。
【0004】メモリセルのしきい値が高い段階(図中5
V→4V)では、フローティングゲートに多くの電子が
存在するため、フローティングゲートとソース間の電界
は大きく、しきい値電圧が変化するときの消去パルス時
間は短い。
【0005】メモリセルのしきい値が低くなると(図中
1V→0V)、フローティングゲート内の電子が少なく
なり、逆にホールの存在が多くなるため、フローティン
グゲートとソース間の電界は小さくなり、しきい値電圧
を変化させるのに必要な消去パルス時間は長くなる。
【0006】このようにトンネリング現象を利用した消
去又は書き込みでは、メモリセルのしきい値電圧によっ
てしきい値電圧の変化分が同じでも必要な消去パルス時
間又は書き込みパルス時間は違ってくる。
【0007】前記した消去特性を持つフラッシュEEP
ROMにおいて、ベリファイ(メモリセルの消去状態の
検証)に必要な時間および消去動作モードとベリファイ
モードとの切り換えに要する時間をなるべく少なくする
ため、前記消去特性に合せた消去動作を実現する回路が
提案されている。
【0008】例えば、特開平5−54683号公報にお
いては、図6および図7に示すような構成が提案されて
いる。
【0009】図6を参照して、上記公報記載の回路は、
フラッシュEEPROMのメモリセル64のデータ消去
動作を制御する消去動作制御回路61と、消去パルス発
生回路63が発生する累積消去パルス幅を制御する消去
パルス幅制御回路62と、セル64のデータを消去する
消去パルスを発生する消去パルス発生回路63と、セル
64の消去状態を確認するベリファイ回路65から構成
されている。
【0010】次に、図6に示す回路の動作について説明
する。消去動作制御回路61は、消去動作信号を受ける
と消去パルス幅制御回路62を起動する。消去パルス幅
制御回路62は、基本パルスを1個発生して消去パルス
発生回路63に通知し、消去パルス発生回路63は、基
本パルスに対応する消去パルスを発生してセル64に印
加する。
【0011】ベリファイ回路65はセル64の消去が規
定の値を満すか否かを判定し、セル64の消去が規定の
値を満さない場合には消去動作継続信号を出力し、セル
64の消去が規定の値を満す場合には消去動作停止信号
を出力する。
【0012】消去動作継続信号を受信した消去動作制御
回路61は、消去パルス幅制御回路62が次の動作に移
るように制御し、消去パルス幅制御回路62は、基本パ
ルスを所定個数発生するか、または基本パルスより幅の
広いパルスを発生して消去パルス発生回路63に通知す
る。消去パルス発生回路63は、消去パルス幅制御回路
62から受けたパルスに対応する消去パルスを発生して
セル64に印加し、以後ベリファイ回路65が消去動作
停止信号を出力するまで前記の動作を繰り返す。
【0013】上記した回路構成を用いて、第1回目の消
去でほぼ規定の値までセル64を消去するだけの消去パ
ルスを発生させ、次回より、少しずつ消去パルスを加え
ることにより、ベリファイ時間および消去動作モードと
ベリファイモードの切り換えに要する時間を短縮してい
る。
【0014】図7は、図6に示した構成をより具体的に
示した図である。
【0015】図7を参照して、カウンタ回路71と、カ
ウンタ選択回路72と、複数個のカウンタ73a〜73
iと、基本クロック発生回路74と、消去パルス発生回
路75と、セル76と、センスアンプ77と、ベリファ
イ回路78と、基準電位発生回路79と、から構成され
ている。
【0016】次に図7に示す回路の動作について説明す
る。
【0017】各カウンタ73a〜73iには、消去動作
の繰り返し回数が予め設定されており、カウンタ回路7
1は、消去動作信号を受けると、カウンタ選択回路72
を起動し、カウンタ選択回路72は、第1のカウンタ7
3aを選択してそれが保持しているカウント値を基本ク
ロック発生回路74に送出する。
【0018】基本クロック発生回路74は所定の時間幅
の基本クロックをカウンタ選択回路72から受け取った
カウント値の数だけ発生させて消去パルス発生回路75
に渡す。
【0019】消去パルス発生回路75は、所定の時間幅
の消去パルスを基本クロック発生回路74から受け取っ
た基本クロックの数だけ発生させてセル76のメモリセ
ルトランジスタに印加する。
【0020】センスアンプ77は、セル76中のメモリ
トランジスタのしきい値電圧をセンスし、ベリファイ回
路78は、センスアンプ77がセンスしたセル76中の
メモリトランジスタのしきい値電圧と基準電位発生回路
79が発生するメモリトランジスタの消去状態を表す基
準電位とを比較し、前者の電圧が後者の電圧よりも高い
場合にはカウンタインクリメント信号をカウンタ回路7
1に出力し、前者の電圧と後者の電圧とが等しいか低い
場合には消去動作ストップ信号を出力する。
【0021】カウンタインクリメント信号を受信したカ
ウンタ回路71は、自身のカウント値を+1してカウン
タ選択回路72に通知する。
【0022】カウンタ選択回路72は、第2のカウンタ
73bを選択して、それが保持しているカウント値を基
本クロック発生回路に渡し、以後ベリファイ回路78が
消去動作ストップ信号を出力するまで、上記した動作を
繰り返す。
【0023】以上のように、従来、フラッシュ型EEP
ROMの消去特性を考慮し、初回の消去パルス幅をある
程度長く設定し、その後数回消去パルスを加えるだけで
消去が完了するようにする回路が提案されていた。
【0024】
【発明が解決しようとする課題】この従来のEEPRO
MおよびフラッシュEEPROMでの書き込みパルス幅
および消去パルス幅は、予め設定された値に従って、書
き込みパルスおよび消去パルスを発生しているために、
EERPOMおよびフラッシュ型EEPROMが繰り返
し書き込み消去を行なうと書き込みまたは消去時間が変
化するという特性に対して適切に対応できないという問
題点を有している。
【0025】特に、繰り返し書き込み消去回数が、初期
の段階では、書き込み消去速度は速くなる方向に変化す
るので、従来のパルス幅設定方式では、書き込み消去時
間を超えてしまい、特にフラッシュ型EEPROMの消
去においては、消去時間が長過ぎるとメモリセルが過剰
消去(オーバーイレーズ)状態となり、再び書きもどす
時間が非常にかかってしまうという問題点がある。
【0026】また、繰り返し書き込み消去回数が多くな
ってくると、逆に、書き込み消去時間は長くなり、従来
のパルス幅設定方式で設定されていた書き込み消去時間
では設定が合わず、ベリファイに必要な時間および書き
込み消去動作モードとベリファイモードとの切り換えに
要する時間がより多くかかってしまうという問題点があ
る。
【0027】本発明は上記問題点に鑑みて為されたもの
であって、繰り返し書き込み消去を行なうことによって
生じる、書き込み時間および消去時間の変化に対応し、
初期設定されている書き込みあるいは消去パルス幅を変
更可能とした不揮発性半導体記憶装置を提供することを
目的とする。
【0028】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の不揮発性半導体記憶装置は、電気的に書き
込み消去可能な不揮発性半導体記憶装置において、書き
込み消去動作信号を受けメモリセルへのデータの書き込
み又は消去を行なうための第1の信号を出力する書き込
み消去動作制御手段と、前記第1の信号により書き込み
又は消去パルス幅を決定しパルスを出力する書き込み消
去パルス幅制御手段と、前記消去パルス幅制御手段から
のパルスにより前記メモリセルに印加する書き込みパル
ス又は消去パルスを発生する書き込み消去パルス発生手
段と、前記書き込みパルス又は消去パルスが印加された
前記メモリセルが予め定められた所定のしきい値電圧に
至っているか否かを判定しこの判定結果を第2の信号と
して前記書き込み消去動作制御手段に送出するベリファ
イ手段と、前記第1の信号および前記第2の信号に基づ
き前記書き込み消去パルス幅の設定を変更するための第
3の信号を前記書き込み消去パルス幅制御手段に出力す
る書き込み消去パルス幅設定手段と、を備えたことを特
徴とする不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【0029】本発明によれば、データの書き込みあるい
は消去に必要な時間を書き込みあるいは消去が行なわれ
るごとに検知し、書き込みあるいは消去に必要な時間が
短くなれば次回の書き込みあるいは消去の初期パルス幅
を短く設定し直し、書き込みあるいは消去に必要な時間
が長くなれば次回の書き込みあるいは消去の初期パルス
幅を長く設定し直すように構成したことにより、EEP
ROMおよびフラッシュ型EEPROMにおいて、繰り
返し書き込み消去を行なうことによって起こる書き込み
および消去時間の変化に対して、書き込みあるいは消去
時の初回に印加する初期パルス幅を常に最適の値に設定
することが可能とされ、ベリファイ回数および書き込み
消去モードからベリファイモードへの切り換え回数がほ
ぼ2回に収まり、ベリファイおよび書き込み消去モード
からベリファイモードへの切り換えに要する時間を短く
するという効果を有する。
【0030】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
して以下に説明する。
【0031】[実施形態1]図1は本発明の一実施形態
の構成原理を説明するためのブロック図である。図1を
参照して、本実施形態は、浮遊ゲート、制御ゲート、ソ
ースおよびドレインを有するメモリトランジスタを含む
メモリセル4と、書き込み消去動作信号を入力しメモリ
セル4へのデータの書き込み又は消去を行なうための制
御信号7(「第1の信号」ともいう)を出力する書き込
み消去動作制御回路1と、書き込み消去動作制御回路1
からの制御信号7に基づき書き込みもしくは消去パルス
幅を決定しパルスを出力する書き込み消去パルス幅制御
回路2と、書き込み消去パルス幅制御回路2からのパル
スによりメモリセル4に印加する書き込みもしくは消去
パルスを発生する書き込み消去パルス発生回路3と、書
き込みもしくは消去パルスが加えられたメモリセル4が
予め定められたしきい値電圧に至っているか否かを判定
し判定結果を信号8(「第2の信号」ともいう)として
書き込み消去動作制御回路1および書き込み消去パルス
幅設定回路6に送出するベリファイ回路5と、を備え、
書き込み消去パルス幅設定回路6は、信号7および信号
8を入力し、書き込み消去パルス幅の設定を変更するた
めの信号9(「第3の信号」ともいう)を書き込み消去
パルス幅制御回路2に出力する。
【0032】信号7は書き込みもしくは消去動作の第1
回目の制御信号とされ、メモリセル4が予め定められた
しきい値電圧に至っている場合には、ベリファイ回路5
から出力される信号8は、書き込み消去動作制御回路1
を止め、また書き込み消去パルス幅設定回路6は、書き
込みもしくは消去のパルス幅の設定を短くするための信
号9を書き込み消去パルス幅制御回路2に出力する。
【0033】一方、メモリセル4が予め定められたしき
い値電圧に至っていない時には、ベリファイ回路5から
の信号8は書き込み消去動作制御回路1の動作を継続さ
せ、書き込み消去動作制御回路1は、信号7として書き
込みもしくは消去動作の第2回目の制御信号を出力し、
信号7は書き込みもしくは消去動作の第2回目以降の制
御信号とされ、メモリセル4が予め定められたしきい値
電圧に至っている時の信号の場合には、信号8は書き込
み消去動作制御回路1を止め、書き込み消去動作制御回
路1は書き込みもしくは消去動作を終了する。
【0034】信号8としてメモリセル4が予め定められ
た値に至っていない時の信号の場合には、信号8は書き
込みもしくは消去動作を継続させ書き込み消去パルス設
定回路6は第1回目の書き込みもしくは第1回目の消去
のパルス幅の設定を長くするための信号9を書き込み消
去パルス幅制御回路2に出力する。
【0035】図2は本発明の第1の実施形態の構成を示
すブロック図であり、図1に示した構成をより具体的に
示したものである。
【0036】図2を参照して、書き込み消去動作制御回
路21は第1のカウンタ回路211を含み、書き込み消
去パルス幅制御回路22は、カウンタデータ選択回路2
21と、第1のカウンタデータ222aと、第2のカウ
ンタデータ222bと、第2のカウンタ回路224と、
第1及び第2のカウンタデータ222a、222bと第
2のカウンタ回路224との間に設けられた第1及び第
2のN型エンハンスメントMOSトランジスタ223
a、223bと、基本クロック発生回路225と、から
なる。基本クロック発生回路225の出力に基づき、書
き込み消去パルス発生回路23はメモリセル24に所定
のパルス幅のパルスを出力する。
【0037】ベリファイ回路25は、センスアンプ25
1と、ベリファイ回路252と、基準電位発生回路25
3と、からなり、書き込み消去パルス幅設定回路26
は、カウンタデータ消去書き込み回路261を含んでい
る。
【0038】次に、本実施形態に係る不揮発性半導体装
置の動作について説明する。
【0039】まず、書き込みあるいは消去動作に応じて
書き込み消去動作信号が第1のカウンタ回路221に入
力される。ここで第1のカウンタ回路211はカウンタ
をリセットし、次に第1の信号としてカウンタデータ選
択回路221にn回目の書き込みあるいは消去動作であ
ることを示す信号Nを送る。
【0040】初めは、信号N=1であり、第1回目の書
き込みあるいは消去動作であることを示す。
【0041】信号Nを受け取ったカウンタデータ選択回
路221は、N=1の場合、初期書き込みパルス幅デー
タあるいは初期消去パルス幅データを記憶している第1
のカウンタデータ222aをN型MOSトランジスタ2
23aを選択することによって第2のカウンタ回路22
4に送る。
【0042】N≧2の場合、追加書き込みパルス幅デー
タあるいは追加消去パルス幅データを記憶している第2
のカウンタデータ222bを第2のN型MOSトランジ
スタ223bを選択することによって第2のカウンタ回
路224に送る。
【0043】第2のカウンタ回路224は、送られて来
たカウンタデータ分の信号を基本クロック発生回路22
5に転送する。
【0044】基本クロック発生回路225は、第2のカ
ウンタ回路224より送られて来たデータの数だけパル
スを書き込み消去パルス発生回路23に転送し、書き込
み消去パルス発生回路23は、メモリセル24に対し
て、書き込みパルスあるいは消去パルスを印加する。
【0045】書き込み消去パルス発生回路23によるパ
ルスの印加が終ったら、メモリセル24のデータをセン
スアンプ251で読み出し、ベリファイ回路252に送
り基準電位発生回路253からベリファイ回路252に
送られてくるデータと比較する。
【0046】センスアンプ251から送られて来たデー
タが基準電位発生回路253からのデータと一致してい
れば、第2の信号として書き込みあるいは消去動作スト
ップ信号を、第1のカウンタ回路211およびカウンタ
データ消去書き込み回路261に送る。
【0047】不一致の場合、第2の信号としてカウンタ
インクリメント信号を第1のカウンタ回路211および
カウンタデータ消去書き込み回路261に送る。
【0048】書き込みあるいは消去動作ストップ信号を
受け取ったカウンタデータ消去書き込み回路261は、
第1のカウンタ回路211からの信号NがN=1なら
ば、第3の信号として第1のカウンタデータ222aに
初期書き込みパルス幅データあるいは初期消去パルス幅
データを短くするためのパルス幅データ書き換え信号を
転送し、N≧2ならば何も行なわない。
【0049】またカウンタインクリメント信号を受け取
ったカウンタデータ消去書き込み回路261は、第1の
カウンタ回路211からの信号NがN=1ならばなにも
行なわず、N≧2ならば、第3の信号として第1のカウ
ンタデータ222aに初期書き込みパルス幅データある
いは初期消去パルス幅データを長くするためのパルス幅
データ書き換え信号を転送する。
【0050】また、書き込みあるいは消去動作ストップ
信号を受け取った第1のカウンタ回路211は、カウン
タの動作を止め書き込みあるいは消去動作を終了する。
【0051】カウンタインクリメント信号を受け取った
第1のカウンタ回路211は、カウンタ自身のカウント
値を+1してその結果を信号Nとしてカウンタデータ選
択回路221およびカウンタデータ書き込み回路261
に転送し、ベリファイ回路252から書き込みあるいは
消去動作ストップ信号が第1のカウンタ回路211に転
送されるまで続けられる。
【0052】以上が図2で示したブロック図の動作であ
り、その動作フローを図3に示す。
【0053】まず書き込みあるいは消去動作信号を受け
取った第1のカウンタ回路211は、第1のカウンタ回
路211をリセットし(ステップ301)、次に信号N
をカウンタデータ選択回路221に出力する(ステップ
302)。
【0054】最初、信号NはN=1で、次回よりカウン
トアップされていく。
【0055】カウンタデータ選択回路221では、信号
N=1か否かを判定し(ステップ303)、N=1であ
れば、第1のカウンタデータ222aに記憶されている
初期書き込みパルス幅データもしくは初期消去パルス幅
データを第2のカウンタ回路224に転送する(ステッ
プ304)。
【0056】N≠1であれば、第2のカウンタデータ2
22bに記憶されている追加書き込みパルス幅データあ
るいは追加消去パルス幅データを第2のカウンタ回路2
24に転送する(ステップ305)。
【0057】データを受け取った第2のカウンタ回路2
24は、パルスを発生し受け取ったデータ数だけのパル
スを基本クロック発生回路225に転送する(ステップ
306)。
【0058】基本クロック発生回路225では、書き込
み時あるいは消去時にそれぞれ設定されている最小書き
込みパルス長あるいは最小消去パルス長を第2のカウン
タ回路224から送られて来た1パルスごとに発生し、
書き込み消去パルス発生回路252に転送する(ステッ
プ307)。
【0059】書き込み消去パルス発生回路252では、
基本クロック発生回路225で作られたパルス長にした
がいメモリセル24に電圧を印加する(ステップ30
8)。
【0060】次に、ベリファイ回路25にてデータが期
待する値になったかどうかを判定する(ステップ30
9)。ここで期待通りの値になっていれば、図中の「パ
ス」の処理工程に進み、書き込みあるいは消去動作スト
ップ信号を出力し、期待の値と相違していれば、「フェ
イル」の処理工程にすすむ。
【0061】パス工程に進んだ場合、カウンタデータ書
き込み回路261にて信号Nを判定し(ステップ31
0)、N=1であれば(ステップ310のY2の分岐参
照)、初期パルス幅で充分書き込みあるいは消去が済ん
でいることを示し、特に消去では過剰消去になる恐れを
考慮し、第1のカウンタデータ222aの初期書き込み
パルス幅のデータあるいは初期消去パルス幅のデータを
あるパルス幅分だけ短くする信号を第1のカウンタデー
タ222aに転送する(ステップ311)。
【0062】N≠1の場合(ステップ310のN2の分
岐参照)、そのまま何もせずに書き込みあるいは消去を
終了する。
【0063】フェイル処理に進んだ場合、カウンタデー
タ書き込み回路261にて信号Nを判定し(ステップ3
12)、N=1であれば何もせずに第1のカウンタ回路
211のカウンタ値を+1し(ステップ314)、N≠
1すなわちN≧2であれば(ステップ312のN3分岐
参照)、初期パルス幅での書き込みあるいは消去が不充
分であることを示しているので、第1のカウンタデータ
222aのデータをあるパルス幅分だけ長くする信号を
第1のカウンタデータ222aに転送する(ステップ3
13)。そして第1のカウンタ回路211のカウンタ値
を+1して(ステップ314)、信号Nの出力をする処
理(ステップ302)に戻る。
【0064】[実施形態2]図4を参照して、本発明の
第2の実施形態を以下に説明する。図4は本発明の第2
の実施形態の構成を示すのブロックである。
【0065】図4を参照して、本実施形態は、図2に示
した前記第1の実施形態の書き込み消去パルス幅制御回
路22の内部の構成のみが相違しており、以下では、図
4に示す書き込み消去パルス幅制御回路42の内部構成
および動作のみを説明する。
【0066】図4に示すように、本実施形態における書
き込み消去パルス幅制御回路42は、カウンタデータ選
択回路421と、第1〜第mのカウンタデータ422a
1〜22amと、カウンタデータB422bと、第1か
ら第mのN型エンハンスメントMOSトランジスタ42
3a1〜423am,及びN型エンハンスメントMOS
トランジスタ423bと、第2のカウンタ回路424
と、基本クロック発生回路425から成る。
【0067】次に、本実施形態の動作について説明す
る。
【0068】信号N47を受け取ったカウンタデータ選
択回路421は、N=1の場合、初期書き込みパルス幅
データあるいは初期消去パルス幅データを記憶している
データ1〜データmの1つをN型エンハンスメントMO
Sトランジスタ(423a1〜423am)を選択する
ことによって第2のカウンタ回路424に送る。
【0069】ここでは、データnが選択されたとする。
この選択は、カウンタデータ選択回路421内に、どの
N型エンハンスメントMOSトランジスタ(423a1
〜423am)を選択するかを記憶する不揮発性半導体
記憶素子を設けることにより行なわれる。
【0070】またN≧2の場合、追加書き込みパルス幅
データあるいは追加消去パルス幅データを記憶している
データB(422b)をN型エンハンスメントMOSト
ランジスタ423bを選択することにより、第2のカウ
ンタ回路424に送る。
【0071】第2のカウンタ回路424以降、カウンタ
データ変更回路461から第3の信号49を出力するま
での動作は、前記第1の実施形態と同様であるため、そ
の説明は省略する。
【0072】第3の信号として初期書き込みパルス幅デ
ータあるいは初期消去パルス幅データを短くするための
信号49をカウンタデータ選択回路421が受け取った
場合、データnの選択を変更し、例えばデータ(n−
1)の選択にするように上記した記憶素子の内容を書き
換える。
【0073】また、第3の信号としてパルス幅を長くす
るための信号49をカウンタデータ選択回路421が受
け取った場合も、データnの選択を変更し、例えばデー
タ(n+1)の選択にするように上記記憶素子の内容を
書き換える。
【0074】ここで前記パルス幅データは、データ(n
−1) < データn < データ(n+1)の関係と
なっている。
【0075】以上のようにして、書き込みパルス幅デー
タあるいは消去パルス幅データの選択を変更することが
可能とされる。
【0076】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、データ
の書き込みあるいは消去に必要な時間を書き込みあるい
は消去が行なわれるごとに検知し、書き込みあるいは消
去に必要な時間が短くなれば次回の書き込みあるいは消
去の初期パルス幅を短く設定し直し、書き込みあるいは
消去に必要な時間が長くなれば次回の書き込みあるいは
消去の初期パルス幅を長く設定し直すように構成したこ
とにより、EEPROMおよびフラッシュ型EEPRO
Mにおいて、繰り返し書き込み消去を行なうことによっ
て起こる書き込みおよび消去時間の変化に対して、書き
込みあるいは消去時の初回に印加する初期パルス幅を常
に最適の値に設定することが可能とされ、ベリファイ回
数および書き込み消去モードからベリファイモードへの
切り換え回数がほぼ2回に収まり、ベリファイおよび書
き込み消去モードからベリファイモードへの切り換えに
要する時間を短くするという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理を説明するためのブロック図であ
る。
【図2】本発明の第1の実施形態を示すブロック図であ
る。
【図3】本発明の第1の実施形態の動作を説明するため
の流れ図である。
【図4】本発明の第2の実施形態を示すブロック図であ
る。
【図5】フラッシュEEPROMの消去パルス時間に対
すルメモリセルのしきい値電圧を示したグラフである。
【図6】従来例の原理を示したブロック図である。
【図7】従来例のブロック図である。
【符号の説明】
1 書き込み消去動作制御回路 2 書き込み消去パルス幅制御回路 3 書き込み消去パルス発生回路 4 メモリセル 5 ベリファイ回路 6 書き込み消去パルス幅設定回路 7 第1の信号 8 第2の信号 9 第3の信号 21 書き込み消去動作制御回路 211 カウンタ回路1 22 書き込み消去パルス幅制御回路 221 カウンタデータ選択回路 222a データ1(初期書き込み消去パルス幅デー
タ) 222b データ2(追加書き込み消去パルス幅デー
タ) 223a,223b N型エンハンスメントトランジス
タ 224 カウンタ回路2 225 基本クロック発生回路 23 書き込み消去パルス発生回路 24 メモリセル 25 ベリファイ回路 251 センスアンプ 252 ベリファイ回路 253 基準電位発生回路 26 書き込み消去パルス幅設定回路 261 カウンタデータ補正書き込み回路 27 第1の信号(信号N) 28 第2の信号(書き込みあるいは消去動作ストップ
信号 or カウンタインクリメント信号) 29 第3の信号(パルス幅データ書き換え信号) 41 書き込み消去動作制御回路 411 カウンタ回路1 42 書き込み消去パルス幅制御回路 421 カウンタデータ選択回路 422a1〜422am データ1〜データm(初期書
き込み消去パルス幅データ) 422b データB(追加書き込み消去パルス幅デー
タ) 423a1〜423am,423b N型エンハンスメ
ントトランジスタ 424 カウンタ回路2 425 基本クロック発生回路 43 書き込み消去パルス発生回路 44 メモリセル 45 ベリファイ回路 451 センスアンプ 452 ベリファイ回路 453 基準電圧発生回路 46 書き込み消去パルス幅設定回路 461 カウンタデータ変更回路 47 第1の信号(信号N) 48 第2の信号(書き込みあるいは消去動作ストップ
信号 or カウンタインクリメント信号) 49 第3の信号(パルス幅データ変更信号) 61 消去動作制御回路 62 消去パルス幅制御回路 63 消去パルス発生回路 64 セル 65 ベリファイ回路 71 カウンタ回路 72 カウンタ選択回路 73a〜73i カウンタA〜カウンタI 74 基本クロック発生回路 75 消去パルス発生回路 76 セル 77 センスアンプ 78 ベリファイ回路 79 基準電位発生回路

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電気的に書き込み消去可能な不揮発性半導
    体記憶装置において、 書き込み消去動作信号を受けメモリセルへのデータの書
    き込み又は消去を行なうための第1の信号を出力する書
    き込み消去動作制御手段と、 前記第1の信号により書き込み又は消去パルス幅を決定
    しパルスを出力する書き込み消去パルス幅制御手段と、 前記消去パルス幅制御手段からのパルスにより前記メモ
    リセルに印加する書き込みパルス又は消去パルスを発生
    する書き込み消去パルス発生手段と、 前記書き込みパルス又は消去パルスが印加された前記メ
    モリセルが予め定められた所定のしきい値電圧に至って
    いるか否かを判定しこの判定結果を第2の信号として前
    記書き込み消去動作制御手段に送出するベリファイ手段
    と、 前記第1の信号および前記第2の信号に基づき前記書き
    込み消去パルス幅の設定を変更するための第3の信号を
    前記書き込み消去パルス幅制御手段に出力する書き込み
    消去パルス幅設定手段と、 を備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】前記第1の信号が書き込み動作又は消去動
    作の第1回目の制御信号であり、前記第2の信号とし
    て、前記メモリセルが前記所定のしきい値電圧に至って
    いる時の信号の場合には、前記第2の信号が前記書き込
    み消去動作制御手段を止めるように制御し、前記書き込
    み消去パルス幅設定手段は、前記書き込みパルス又は消
    去パルスのパルス幅の設定を短くする前記第3の信号を
    前記書き込み消去パルス幅制御手段に出力し、 前記第2の信号として、前記メモリセルが前記所定のし
    きい値電圧に至っていない時の場合には、前記第2の信
    号は前記書き込み消去動作制御手段の動作を継続させる
    と共に、前記書き込み消去動作制御手段は、前記第1の
    信号に書き込みもしくは消去動作の第2回目の制御信号
    を出力し、 前記第1の信号が書き込み又は消去動作の第2回目以降
    の制御信号であり前記第2の信号として前記メモリセル
    が前記所定のしきい値電圧に至っている時の信号の場合
    には、前記第2の信号は前記書き込み消去動作制御手段
    を止め、前記書き込み消去動作制御手段は書き込み又は
    消去動作を終了し、前記第2の信号として前記メモリセ
    ルが前記所定のしきい値に至っていない時の信号の場合
    には、前記第2の信号は前記書き込みもしくは消去動作
    を継続させると共に、前記書き込み消去パルス設定手段
    は第1回目の書き込みもしくは第1回目の消去のパルス
    幅の設定を長くするための前記第3の信号を前記書き込
    み消去パルス幅制御手段に出力することを特徴とする請
    求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】前記書き込み消去パルス幅制御手段に設け
    られた前記書き込みあるいは消去パルス幅を設定する手
    段が、 前記書き込みパルス又は消去パルスのパルス幅を記憶す
    る記憶手段と、 前記第3の信号により、前記書き込みパルス又は消去パ
    ルスのパルス幅を記憶する記憶手段の内容を実際の書き
    込みあるいは消去に必要なパルス幅よりやや短いパルス
    幅に書き換える手段と、を有することを特徴とする請求
    項1又は2記載の不揮発性半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】前記書き込み消去パルス幅制御手段に設け
    られた前記書き込みあるいは消去パルス幅を設定する手
    段が、 前記書き込み又は消去パルス幅を記憶する複数の記憶手
    段と、 前記書き込みあるいは消去パルス幅を記憶している複数
    の記憶手段のうちの1つを選択するための選択信号を記
    憶する記憶手段と、 前記第3の信号により、前記選択信号を記憶している前
    記記憶手段の内容を、実際の書き込みあるいは消去に必
    要なパルス幅よりやや短いパルス幅を選択するように書
    き換える手段と、 を有することを特徴とする請求項1又は2記載の不揮発
    性半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】前記記憶手段が電気的に書き換え消去可能
    な不揮発性半導体メモリセルからなることを特徴とする
    請求項3または4記載の不揮発性半導体記憶装置。
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