JPH09124632A - ベンゾヘテロ環誘導体 - Google Patents
ベンゾヘテロ環誘導体Info
- Publication number
- JPH09124632A JPH09124632A JP7283086A JP28308695A JPH09124632A JP H09124632 A JPH09124632 A JP H09124632A JP 7283086 A JP7283086 A JP 7283086A JP 28308695 A JP28308695 A JP 28308695A JP H09124632 A JPH09124632 A JP H09124632A
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- JP
- Japan
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- methyl
- compound
- bis
- ester
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】
【課題】優れた５α−リダクターゼ阻害活性を有する新
規な誘導体を見出した。 【解決手段】一般式 【化１】 ［Ｒ1 ：−Ｅ−Ｒ12（Ｅ：Ｏ、Ｓ、置換可のイミノ基、
ＣＯ、置換可のＣＯＮＨ；Ｒ12：アラルキル）；Ｒ2 ：
−Ｇ−Ｊ−Ｑ（Ｇ＝Ｅ；Ｊ：アルキレン、アルケニレ
ン、アルキニレン；Ｑ：ＣＯＯＨ、置換可のＣＯＮＨ、
テトラゾイル）；Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ
8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ11：Ｈ、ＯＨ、ＮＨ2 、ＮＯ2 、
ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ；Ｘ：
Ｏ、Ｓ、イミノ］で表わされる化合物、その薬理上許容
される塩及びエステル。
規な誘導体を見出した。 【解決手段】一般式 【化１】 ［Ｒ1 ：−Ｅ−Ｒ12（Ｅ：Ｏ、Ｓ、置換可のイミノ基、
ＣＯ、置換可のＣＯＮＨ；Ｒ12：アラルキル）；Ｒ2 ：
−Ｇ−Ｊ−Ｑ（Ｇ＝Ｅ；Ｊ：アルキレン、アルケニレ
ン、アルキニレン；Ｑ：ＣＯＯＨ、置換可のＣＯＮＨ、
テトラゾイル）；Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ
8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ11：Ｈ、ＯＨ、ＮＨ2 、ＮＯ2 、
ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ；Ｘ：
Ｏ、Ｓ、イミノ］で表わされる化合物、その薬理上許容
される塩及びエステル。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、良性前立腺肥大
症、座瘡、脂漏症、女性多毛症、男性禿頭症及び／又は
前立腺癌の予防剤又は治療剤として有用なベンゾヘテロ
環誘導体に関する。
症、座瘡、脂漏症、女性多毛症、男性禿頭症及び／又は
前立腺癌の予防剤又は治療剤として有用なベンゾヘテロ
環誘導体に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、５α−
リダクターゼ阻害活性を有する化合物の薬理作用につい
て、鋭意検討を重ねた結果、既知の５α−リダクターゼ
阻害物質とは全く構造を異にする新規なベンゾヘテロ環
誘導体が、優れた５α−リダクターゼ阻害活性を有し、
アンドロゲン作用に基づく疾患、例えば、良性前立腺肥
大症、座瘡、女性多毛症、男性禿頭症、前立腺癌等の治
療に有用であることを見出して、本発明を完成させた。
リダクターゼ阻害活性を有する化合物の薬理作用につい
て、鋭意検討を重ねた結果、既知の５α−リダクターゼ
阻害物質とは全く構造を異にする新規なベンゾヘテロ環
誘導体が、優れた５α−リダクターゼ阻害活性を有し、
アンドロゲン作用に基づく疾患、例えば、良性前立腺肥
大症、座瘡、女性多毛症、男性禿頭症、前立腺癌等の治
療に有用であることを見出して、本発明を完成させた。
【０００３】更に、本発明の他の目的は、上記ベンゾヘ
テロ環誘導体の新規な合成中間体を製造する簡便で収率
の良い有用な方法を見出したことであり、更に、上記ベ
ンゾヘテロ環誘導体を有効成分とする、医薬、５α−リ
ダクターゼ阻害剤、アンドロゲン作用に基づく疾患の予
防剤又は治療剤、或は、良性前立腺肥大症、座瘡、脂漏
症、女性多毛症、男性禿頭症及び／又は前立腺癌の予防
剤又は治療剤を提供することにある。
テロ環誘導体の新規な合成中間体を製造する簡便で収率
の良い有用な方法を見出したことであり、更に、上記ベ
ンゾヘテロ環誘導体を有効成分とする、医薬、５α−リ
ダクターゼ阻害剤、アンドロゲン作用に基づく疾患の予
防剤又は治療剤、或は、良性前立腺肥大症、座瘡、脂漏
症、女性多毛症、男性禿頭症及び／又は前立腺癌の予防
剤又は治療剤を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の新規なベンゾヘ
テロ環誘導体は、一般式
テロ環誘導体は、一般式
【０００５】
【化４】
【０００６】［式中、Ｒ1 は、一般式−Ｅ−Ｒ12を有す
る基（式中、Ｅは、酸素原子、硫黄原子、低級アルキル
基で置換されていてもよいイミノ基、カルボニル基、又
は、低級アルキル基で置換されていてもよいカルバモイ
ル基を示し、Ｒ12は、アラルキル基を示す。）を示し、
Ｒ2 は、一般式−Ｇ−Ｊ−Ｑを有する基（式中、Ｇは、
酸素原子、硫黄原子、低級アルキル基で置換されていて
もよいイミノ基、カルボニル基、又は、低級アルキル基
で置換されていてもよいカルバモイル基を示し、Ｊは、
アルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基を示
し、これらの基は、酸素原子で中断されていてもよく、
Ｑは、カルボキシ基、置換されていてもよいカルバモイ
ル基又はテトラゾイル基を示す。）を示し、Ｒ3 、Ｒ
4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ11は、
同一又は異なって、水素原子、水酸基、アミノ基、ニト
ロ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基又は低級アルキルチオ基を示し、Ｘは、酸素原子、硫
黄原子又はイミノ基を示す。］で表わされる化合物、そ
の薬理上許容される塩及びエステルであり、好適な化合
物としては、（１）Ｒ1 が、５位又は６位に置換してい
る化合物、その薬理上許容される塩及びエステル、
（２）Ｅが、低級アルキル基で置換されていてもよいイ
ミノ基、又は、低級アルキル基で置換されていてもよい
カルバモイル基である化合物、その薬理上許容される塩
及びエステル、（３）Ｅが、イミノ基又はカルバモイル
基である化合物、その薬理上許容される塩及びエステ
ル、（４）Ｒ12が、アリールアルキル基又はジアリール
アルキル基である化合物、その薬理上許容される塩及び
エステル、（５）Ｇが、酸素原子又は硫黄原子である化
合物、その薬理上許容される塩及びエステル、（６）Ｊ
が、炭素数２乃至６個のアルキレン基、炭素数２乃至６
個のアルケニレン基又は炭素数２乃至６個のアルキニレ
ン基である化合物、その薬理上許容される塩及びエステ
ル、（７）Ｊが、炭素数２乃至６個のアルキレン基であ
る化合物、その薬理上許容される塩及びエステル、
（８）Ｊが、炭素数２乃至４個のアルキレン基である化
合物、その薬理上許容される塩及びエステル、（９）Ｑ
が、カルボキシ基又はテトラゾイル基である化合物、そ
の薬理上許容される塩及びエステル、（１０）Ｒ3 、Ｒ
4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ11が、
同一又は異なって、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、
低級アルキル基又は低級アルコキシ基である化合物、そ
の薬理上許容される塩及びエステル、及び、（１１）Ｒ
3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ
11が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は
低級アルコキシ基である化合物、その薬理上許容される
塩及びエステル、（１２）Ｘが酸素原子である化合物、
その薬理上許容される塩及びエステル、更に好適には、
４−［２−［２−［６−ビス［４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−［Ｎ−（１，２−ジフェニルエ
チル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−（６−ジフェニルメチルアミノベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸を挙げることができ、本
発明の新規な合成中間体（ＩＩＩ）
る基（式中、Ｅは、酸素原子、硫黄原子、低級アルキル
基で置換されていてもよいイミノ基、カルボニル基、又
は、低級アルキル基で置換されていてもよいカルバモイ
ル基を示し、Ｒ12は、アラルキル基を示す。）を示し、
Ｒ2 は、一般式−Ｇ−Ｊ−Ｑを有する基（式中、Ｇは、
酸素原子、硫黄原子、低級アルキル基で置換されていて
もよいイミノ基、カルボニル基、又は、低級アルキル基
で置換されていてもよいカルバモイル基を示し、Ｊは、
アルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基を示
し、これらの基は、酸素原子で中断されていてもよく、
Ｑは、カルボキシ基、置換されていてもよいカルバモイ
ル基又はテトラゾイル基を示す。）を示し、Ｒ3 、Ｒ
4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ11は、
同一又は異なって、水素原子、水酸基、アミノ基、ニト
ロ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基又は低級アルキルチオ基を示し、Ｘは、酸素原子、硫
黄原子又はイミノ基を示す。］で表わされる化合物、そ
の薬理上許容される塩及びエステルであり、好適な化合
物としては、（１）Ｒ1 が、５位又は６位に置換してい
る化合物、その薬理上許容される塩及びエステル、
（２）Ｅが、低級アルキル基で置換されていてもよいイ
ミノ基、又は、低級アルキル基で置換されていてもよい
カルバモイル基である化合物、その薬理上許容される塩
及びエステル、（３）Ｅが、イミノ基又はカルバモイル
基である化合物、その薬理上許容される塩及びエステ
ル、（４）Ｒ12が、アリールアルキル基又はジアリール
アルキル基である化合物、その薬理上許容される塩及び
エステル、（５）Ｇが、酸素原子又は硫黄原子である化
合物、その薬理上許容される塩及びエステル、（６）Ｊ
が、炭素数２乃至６個のアルキレン基、炭素数２乃至６
個のアルケニレン基又は炭素数２乃至６個のアルキニレ
ン基である化合物、その薬理上許容される塩及びエステ
ル、（７）Ｊが、炭素数２乃至６個のアルキレン基であ
る化合物、その薬理上許容される塩及びエステル、
（８）Ｊが、炭素数２乃至４個のアルキレン基である化
合物、その薬理上許容される塩及びエステル、（９）Ｑ
が、カルボキシ基又はテトラゾイル基である化合物、そ
の薬理上許容される塩及びエステル、（１０）Ｒ3 、Ｒ
4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ11が、
同一又は異なって、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、
低級アルキル基又は低級アルコキシ基である化合物、そ
の薬理上許容される塩及びエステル、及び、（１１）Ｒ
3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ
11が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は
低級アルコキシ基である化合物、その薬理上許容される
塩及びエステル、（１２）Ｘが酸素原子である化合物、
その薬理上許容される塩及びエステル、更に好適には、
４−［２−［２−［６−ビス［４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−［６−［Ｎ−（１，２−ジフェニルエ
チル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 ４−［２−［２−（６−ジフェニルメチルアミノベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸を挙げることができ、本
発明の新規な合成中間体（ＩＩＩ）
【０００７】
【化５】
【０００８】（式中、Ｒ13は、低級アルキル基、シクロ
アルキル基、５乃至７員複素環基、アリール基又はアラ
ルキル基を示し、Ｒ14は、ホルミル基、シアノ基、カル
ボキシ基、カルバモイル基、低級アルキル基、シクロア
ルキル基、５乃至７員複素環基、アリール基又はアラル
キル基を示し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基
を示す。）表わされる化合物の製造方法は、一般式（Ｉ
Ｉ）
アルキル基、５乃至７員複素環基、アリール基又はアラ
ルキル基を示し、Ｒ14は、ホルミル基、シアノ基、カル
ボキシ基、カルバモイル基、低級アルキル基、シクロア
ルキル基、５乃至７員複素環基、アリール基又はアラル
キル基を示し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基
を示す。）表わされる化合物の製造方法は、一般式（Ｉ
Ｉ）
【０００９】
【化６】
【００１０】（式中、Ｒ13、Ｒ14及びＸは前記と同意義
を示し、Ｒ15は、水酸基の保護基を示す。）で表わされ
る化合物を、水酸基の保護基が除去される反応条件で処
理することを特徴とする。
を示し、Ｒ15は、水酸基の保護基を示す。）で表わされ
る化合物を、水酸基の保護基が除去される反応条件で処
理することを特徴とする。
【００１１】本発明の新規な医薬は、前記より選択され
る化合物、その薬理上許容される塩又はエステルを有効
成分として含有し、本発明の新規な５α−リダクターゼ
阻害剤は、前記より選択される化合物、その薬理上許容
される塩又はエステルを有効成分として含有し、本発明
の新規なアンドロゲン作用に基づく疾患の予防剤又は治
療剤は、前記より選択される化合物、その薬理上許容さ
れる塩又はエステルを有効成分として含有し、本発明の
新規な良性前立腺肥大症、座瘡、脂漏症、女性多毛症、
男性禿頭症及び／又は前立腺癌の予防剤又は治療剤は、
前記より選択される化合物、その薬理上許容される塩又
はエステルを有効成分として含有する。
る化合物、その薬理上許容される塩又はエステルを有効
成分として含有し、本発明の新規な５α−リダクターゼ
阻害剤は、前記より選択される化合物、その薬理上許容
される塩又はエステルを有効成分として含有し、本発明
の新規なアンドロゲン作用に基づく疾患の予防剤又は治
療剤は、前記より選択される化合物、その薬理上許容さ
れる塩又はエステルを有効成分として含有し、本発明の
新規な良性前立腺肥大症、座瘡、脂漏症、女性多毛症、
男性禿頭症及び／又は前立腺癌の予防剤又は治療剤は、
前記より選択される化合物、その薬理上許容される塩又
はエステルを有効成分として含有する。
【００１２】上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩ
Ｉ）において、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、
Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ13及びＲ14の定義における「低級
アルキル基」並びにＥ及びＧの定義における「低級アル
キル基で置換されていてもよいイミノ基」の「低級アル
キル基」及び「低級アルキル基で置換されていてもよい
カルバモイル基」の「低級アルキル基」とは、例えば、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペ
ンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチ
ル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシ
ル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メ
チルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチル
ブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブ
チル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチ
ル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのよう
な炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示
し、好適には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基である。
Ｉ）において、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、
Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ13及びＲ14の定義における「低級
アルキル基」並びにＥ及びＧの定義における「低級アル
キル基で置換されていてもよいイミノ基」の「低級アル
キル基」及び「低級アルキル基で置換されていてもよい
カルバモイル基」の「低級アルキル基」とは、例えば、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペ
ンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチ
ル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシ
ル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メ
チルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチル
ブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブ
チル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチ
ル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのよう
な炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示
し、好適には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基である。
【００１３】Ｒ12、Ｒ13及びＲ14の定義における「アラ
ルキル基」とは、後記「アリール基」が、１乃至３個、
前記「低級アルキル基」に結合した基をいい、例えば、
ベンジル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、
インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラ
セニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、１−フェネチル、２−フェネチル、１，２−ジフェ
ニルエチル、１，１−ジフェニルエチル、２，２−ジフ
ェニルエチル、２，２，２−トリフェニルエチル、１−
ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプ
ロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピ
ル、１，１−ジフェニルプロピル、１，２−ジフェニル
プロピル、１，３−ジフェニルプロピル、２，３−ジフ
ェニルプロピル、２，２−ジフェニルプロピル、３，３
−ジフェニルプロピル、３，３，３−トリフェニルプロ
ピル、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、
３−ナフチルプロピル、１−メチル−１−フェニルエチ
ル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フ
ェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチ
ル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナ
フチルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニルペ
ンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチ
ル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２
−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフ
チルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘ
キシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシ
ル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６
−フェニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２−ナフ
チルヘキシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフチルヘ
キシル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘキシル
のような無置換のアラルキル基；２−フルオロベンジ
ル、３−フルオロベンジル、４−フルオロベンジル、２
−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベ
ンジル、２−ブロモベンジル、３−ブロモベンジル、４
−ブロモベンジル、３，５−ジフルオロベンジル、２，
５−ジフルオロフェネチル、２，６−ジフルオロベンジ
ル、２，４−ジフルオロフェネチル、３，５−ジブロモ
ベンジル、２，５−ジブロモフェネチル、２，６−ジク
ロロベンジル、２，４−ジクロロフェネチル、２，３，
６−トリフルオロベンジル、２，３，４−トリフルオロ
フェネチル、３，４，５−トリフルオロベンジル、２，
５，６−トリフルオロフェネチル、２，４，６−トリフ
ルオロベンジル、２，３，６−トリブロモフェネチル、
２，３，４−トリブロモベンジル、３，４，５−トリブ
ロモフェネチル、２，５，６−トリクロロベンジル、
２，４，６−トリクロロフェネチル、ビス（２−フルオ
ロフェニル）メチル、３−フルオロフェニルフェニルメ
チル、ビス（４−フルオロフェニル）メチル、４−フル
オロフェニルフェニルメチル、ビス（２−クロロフェニ
ル）メチル、ビス（３−クロロフェニル）メチル、ビス
（４−クロロフェニル）メチル、４−クロロフェニルフ
ェニルメチル、２−ブロモフェニルフェニルメチル、３
−ブロモフェニルフェニルメチル、ビス（４−ブロモフ
ェニル）メチル、ビス（３，５−ジフルオロフェニル）
メチル、ビス（２，５−ジフルオロフェニル）メチル、
ビス（２，６−ジフルオロフェニル）メチル、２，４−
ジフルオロフェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジ
ブロモフェニル）メチル、２，５−ジブロモフェニルフ
ェニルメチル、２，６−ジクロロフェニルフェニルメチ
ル、ビス（２，４−ジクロロフェニル）メチル、ビス
（２，３，６−トリフルオロフェニル）メチル、１，２
−ビス（２−フルオロフェニル）エチル、１，２−ビス
（４−フルオロフェニル）エチル、１，１−ビス（４−
フルオロフェニル）エチル、２，２−ビス（４−フルオ
ロフェニル）エチル、１−メチル−１−（４−フルオロ
フェニル）エチルのようなハロゲン原子で置換されたア
ラルキル基；２−トリフルオロメチルベンジル、３−ト
リフルオロメチルフェネチル、４−トリフルオロメチル
ベンジル、２−トリクロロメチルフェネチル、３−ジク
ロロメチルベンジル、４−トリクロロメチルフェネチ
ル、２−トリブロモメチルベンジル、３−ジブロモメチ
ルフェネチル、４−ジブロモメチルベンジル、３，５−
ビストリフルオロメチルフェネチル、２，５−ビストリ
フルオロメチルベンジル、２，６−ビストリフルオロメ
チルフェネチル、２，４−ビストリフルオロメチルベン
ジル、３，５−ビストリブロモメチルフェネチル、２，
５−ビスジブロモメチルベンジル、２，６−ビスジクロ
ロメチルメチルフェネチル、２，４−ビスジクロロメチ
ルベンジル、２，３，６−トリストリフルオロメチルフ
ェネチル、２，３，４−トリストリフルオロメチルベン
ジル、３，４，５−トリストリフルオロメチルフェネチ
ル、２，５，６−トリストリフルオロメチルベンジル、
２，４，６−トリストリフルオロメチルフェネチル、
２，３，６−トリストリブロモメチルベンジル、２，
３，４−トリスジブロモメチルフェネチル、３，４，５
−トリストリブロモメチルベンジル、２，５，６−トリ
スジクロロメチルメチルフェネチル、２，４，６−トリ
スジクロロメチルベンジル、ビス（４−トリフルオロメ
チルフェニル）メチル、４−トリフルオロメチルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（２−トリクロロメチルフェニ
ル）メチル、ビス（３−トリクロロメチルフェニル）メ
チル、ビス（４−トリクロロメチルフェニル）メチル、
２−トリブロモメチルフェニルフェニルメチル、３−ト
リブロモメチルフェニルフェニルメチル、ビス（４−ト
リブロモメチルフェニル）メチル、ビス（３，５−ビス
トリフルオロメチルフェニル）メチル、ビス（２，５−
ビストリフルオロメチルフェニル）メチル、ビス（２，
６−ビストリフルオロメチルフェニル）メチル、２，４
−ビストリフルオロメチルフェニルフェニルメチル、ビ
ス（３，５−ビストリブロモメチルフェニル）メチル、
２，５−ビストリブロモメチルフェニルフェニルメチ
ル、２，６−ビストリクロロメチルフェニルフェニルメ
チル、ビス(2,4−ビストリクロロメチルフェニル）メチ
ル、ビス（２，３，６−トリストリフルオロメチルフェ
ニル）メチルのようなハロゲノ低級アルキル基で置換さ
れたアラルキル基；２−メチルベンジル、３−メチルベ
ンジル、４−メチルベンジル、２−メチルフェネチル、
４−メチルフェネチル、２−エチルベンジル、３−プロ
ピルフェネチル、４−エチルベンジル、２−ブチルフェ
ネチル、３−ペンチルベンジル、４−ペンチルフェネチ
ル、３，５−ジメチルベンジル、２，５−ジメチルフェ
ネチル、２，６−ジメチルベンジル、２，４−ジメチル
フェネチル、３，５−ジブチルベンジル、２，５−ジペ
ンチルフェネチル、２，６−ジプロピルベンジル、２，
４−ジプロピルフェネチル、２，３，６−トリメチルベ
ンジル、２，３，４−トリメチルフェネチル、３，４，
５−トリメチルベンジル、２，４，６−トリメチルベン
ジル、２，５，６−トリメチルフェネチル、２，３，６
−トリブチルフェネチル、２，３，４−トリペンチルベ
ンジル、３，４，５−トリブチルフェネチル、２，５，
６−トリプロピルベンジル、２，４，６−トリプロピル
フェネチル、ビス（２−メチルフェニル）メチル、３−
メチルフェニルフェニルメチル、ビス（４−メチルフェ
ニル）メチル、４−メチルフェニルフェニルメチル、ビ
ス（２−エチルフェニル）メチル、ビス（３−エチルフ
ェニル）メチル、ビス（４−エチルフェニル）メチル、
２−プロピルフェニルフェニルメチル、３−プロピルフ
ェニルフェニルメチル、ビス（４−プロピルフェニル）
メチル、ビス（３，５−ジメチルフェニル）メチル、ビ
ス（２，５−ジメチルフェニル）メチル、ビス（２，６
−ジメチルフェニル）メチル、２，４−ジメチルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（３，５−ジプロピルフェニ
ル）メチル、２，５−ジプロピルフェニルフェニルメチ
ル、２，６−ジエチルフェニルフェニルメチル、ビス
（２，４−ジエチルフェニル）メチル、ビス（２，３，
６−トリメチルフェニル）メチル、１，１−ビス（４−
イソブチルフェニル）エチル、１，２−ビス（４−イソ
ブチルフェニル）エチル、２，２−ビス（４−イソブチ
ルフェニル）エチルのような低級アルキル基で置換され
たアラルキル基；２−メトキシベンジル、３−メトキシ
ベンジル、４−メトキシベンジル、３−メトキシフェネ
チル、２−エトキシフェネチル、３−プロポキシベンジ
ル、４−エトキシフェネチル、２−ブトキシベンジル、
３−ペントキシフェネチル、４−ペントキシベンジル、
３，５−ジメトキシフェネチル、２，５−ジメトキシベ
ンジル、２，６−ジメトキシフェネチル、２，４−ジメ
トキシベンジル、３，５−ジブトキシフェネチル、２，
５−ジペントキシベンジル、２，６−ジプロポキシフェ
ネチル、２，４−ジプロポキシベンジル、２，３，６−
トリメトキシフェネチル、２，３，４−トリメトキシベ
ンジル、３，４，５−トリメトキシフェネチル、２，
５，６−トリメトキシベンジル、２，４，６−トリメト
キシフェネチル、２，３，６−トリブトキシベンジル、
２，３，４−トリペントキシフェネチル、３，４，５−
トリブトキシベンジル、２，５，６−トリプロポキシフ
ェネチル、２，４，６−トリプロポキシベンジル、ビス
（２−メトキシフェニル）メチル、３−メトキシフェニ
ルフェニルメチル、ビス（４−メトキシフェニル）メチ
ル、４−メトキシフェニルフェニルメチル、ビス（２−
エトキシフェニル）メチル、ビス（３−エトキシフェニ
ル）メチル、ビス（４−エトキシフェニル）メチル、２
−プロポキシフェニルフェニルメチル、３−プロポキシ
フェニルフェニルメチル、ビス（４−プロポキシフェニ
ル）メチル、ビス（３，５−ジメトキシフェニル）メチ
ル、ビス（２，５−ジメトキシフェニル）メチル、ビス
（２，６−ジメトキシフェニル）メチル、２，４−ジメ
トキシフェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジプロ
ポキシフェニル）メチル、２，５−ジプロポキシフェニ
ルフェニルメチル、２，６−ジエトキシフェニルフェニ
ルメチル、ビス（２，４−ジエトキシフェニル）メチ
ル、ビス（２，３，６−トリメトキシフェニル）メチ
ル、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）エチル、
１，２−ビス（４−メトキシフェニル）エチル、２，２
−ビス（４−メトキシフェニル）エチル、１−メチル−
１−（４−メトキシフェニル）エチル、２，２，２−ト
リス（４−メトキシフェニル）エチルのような低級アル
コキシ基で置換されたアラルキル基；２−アミノフェネ
チル、３−アミノベンジル、４−アミノフェネチル、
３，５−ジアミノベンジル、２，５−ジアミノフェネチ
ル、２，６−ジアミノベンジル、２，４−ジアミノフェ
ネチル、２，３，６−トリアミノベンジル、２，３，４
−トリアミノフェネチル、３，４，５−トリアミノベン
ジル、２，５，６−トリアミノフェネチル、２，４，６
−トリアミノベンジル、ビス（２−アミノフェニル）メ
チル、３−アミノフェニルフェニルメチル、ビス（４−
アミノフェニル）メチル、４−アミノフェニルフェニル
メチル、ビス（３，５−ジアミノフェニル）メチル、ビ
ス（２，５−ジアミノフェニル）メチル、ビス（２，６
−ジアミノフェニル）メチル、２，４−ジアミノフェニ
ルフェニルメチル、ビス（２，３，６−トリアミノフェ
ニル）メチルのようなアミノ基で置換されたアラルキル
基；２−ニトロフェネチル、３−ニトロベンジル、４−
ニトロベンジル、４−ニトロフェネチル、３，５−ジニ
トロベンジル、２，５−ジニトロフェネチル、２，６−
ジニトロベンジル、２，４−ジニトロフェネチル、２，
３，６−トリニトロベンジル、２，３，４−トリニトロ
フェネチル、３，４，５−トリニトロベンジル、２，
５，６−トリニトロフェネチル、２，４，６−トリニト
ロベンジル、ビス(2−ニトロフェニル）メチル、３−ニ
トロフェニルフェニルメチル、ビス（４−ニトロフェニ
ル）メチル、４−ニトロフェニルフェニルメチル、ビス
（３，５−ジニトロフェニル）メチル、ビス（２，５−
ジニトロフェニル）メチル、ビス（２，６−ジニトロフ
ェニル）メチル、２，４−ジニトロフェニルフェニルメ
チル、ビス（２，３，６−トリニトロフェニル）メチル
のようなニトロ基で置換されたアラルキル基；２−シア
ノフェネチル、３−シアノベンジル、４−シアノベンジ
ル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、４−シアノ
フェネチル、３，５−ジシアノベンジル、２，５−ジシ
アノフェネチル、２，６−ジシアノベンジル、２，４−
ジシアノフェネチル、２，３，６−トリシアノベンジ
ル、２，３，４−トリシアノフェネチル、３，４，５−
トリシアノベンジル、２，５，６−トリシアノフェネチ
ル、２，４，６−トリシアノベンジル、ビス（２−シア
ノフェニル）メチル、３−シアノフェニルフェニルメチ
ル、ビス（４−シアノフェニル）メチル、４−シアノフ
ェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジシアノフェニ
ル）メチル、ビス（２，５−ジシアノフェニル）メチ
ル、ビス（２，６−ジシアノフェニル）メチル、２，４
−ジシアノフェニルフェニルメチル、ビス（２，３，６
−トリシアノフェニル）メチルのようなシアノ基で置換
されたアラルキル基；２−アセチルフェネチル、３−ア
セチルベンジル、４−アセチルフェネチル、３，５−ジ
アセチルベンジル、２，５−ジアセチルフェネチル、
２，６−ジアセチルベンジル、２，４−ジアセチルフェ
ネチル、２，３，６−トリプロピオニルベンジル、２，
３，４−トリプロピオニルフェネチル、３，４，５−ト
リプロピオニルベンジル、２，５，６−トリブチリルフ
ェネチル、２，４，６−トリブチリルベンジル、ビス
（２−アセチルフェニル）メチル、３−アセチルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（４−アセチルフェニル）メチ
ル、４−アセチルフェニルフェニルメチル、ビス（２−
プロピオニルフェニル）メチル、ビス（３−プロピオニ
ルフェニル）メチル、ビス（４−プロピオニルフェニ
ル）メチル、２−ブチリルフェニルフェニルメチル、３
−ブチリルフェニルフェニルメチル、ビス（４−ブチリ
ルフェニル）メチル、ビス（３，５−ジアセチルフェニ
ル）メチル、ビス（２，５−ジアセチルフェニル）メチ
ル、ビス（２，６−ジアセチルフェニル）メチル、２，
４−ジアセチルフェニルフェニルメチル、ビス（３，５
−ジブチリルフェニル）メチル、２，５−ジブチリルフ
ェニルフェニルメチル、２，６−ジプロピオニルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（２，４−ジプロピオニルフェ
ニル）メチル、ビス（２，３，６−トリアセチルフェニ
ル）メチルのような脂肪族アシル基で置換されたアラル
キル基；２−カルボキシフェネチル、３−カルボキシベ
ンジル、４−カルボキシフェネチル、３，５−ジカルボ
キシベンジル、２，５−ジカルボキシフェネチル、２，
６−ジカルボキシベンジル、２，４−ジカルボキシフェ
ネチル、ビス（２−カルボキシフェニル）メチル、３−
カルボキシフェニルフェニルメチル、ビス（４−カルボ
キシフェニル）メチル、４−カルボキシフェニルフェニ
ルメチル、ビス（３，５−ジカルボキシフェニル）メチ
ル、ビス（２，５−ジカルボキシフェニル）メチル、ビ
ス（２，６−ジカルボキシフェニル）メチル、２，４−
ジカルボキシフェニルフェニルメチル、ビス（２，３，
６−トリカルボキシフェニル）メチルのようなカルボキ
シ基で置換されたアラルキル基；２−カルバモイルベン
ジル、３−カルバモイルフェネチル、４−カルバモイル
ベンジル、３，５−ジカルバモイルフェネチル、２，５
−ジカルバモイルベンジル、２，６−ジカルバモイルフ
ェネチル、２，４−ジカルバモイルベンジル、ビス（２
−カルバモイルフェニル）メチル、３−カルバモイルフ
ェニルフェニルメチル、ビス(4−カルバモイルフェニ
ル）メチル、４−カルバモイルフェニルフェニルメチ
ル、ビス（３，５−ジカルバモイルフェニル）メチル、
ビス（２，５−ジカルバモイルフェニル）メチル、ビス
（２，６−ジカルバモイルフェニル）メチル、２，４−
ジカルバモイルフェニルフェニルメチル、ビス（２，
３，６−トリカルバモイルフェニル）メチルのようなカ
ルバモイル基で置換されたアラルキル基及び３，４−メ
チレンジオキシベンジル、３，４−メチレンジオキシフ
ェネチル、ビス（３，４−メチレンジオキシフェニル）
メチル、３，４−メチレンジオキシフェニルフェニルメ
チルのようなアルキレンジオキシ基で置換されたアラル
キル基を挙げることができ、好適には、「低級アルキル
基」の炭素数が１乃至４個で、「アリール基」が１乃至
２個置換している「アラルキル基」であり、更に好適に
は、「低級アルキル基」の炭素数が１乃至２個で、「ア
リール基」が１乃至２個置換している「アラルキル基」
である。
ルキル基」とは、後記「アリール基」が、１乃至３個、
前記「低級アルキル基」に結合した基をいい、例えば、
ベンジル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、
インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラ
セニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、１−フェネチル、２−フェネチル、１，２−ジフェ
ニルエチル、１，１−ジフェニルエチル、２，２−ジフ
ェニルエチル、２，２，２−トリフェニルエチル、１−
ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプ
ロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピ
ル、１，１−ジフェニルプロピル、１，２−ジフェニル
プロピル、１，３−ジフェニルプロピル、２，３−ジフ
ェニルプロピル、２，２−ジフェニルプロピル、３，３
−ジフェニルプロピル、３，３，３−トリフェニルプロ
ピル、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、
３−ナフチルプロピル、１−メチル−１−フェニルエチ
ル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フ
ェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチ
ル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナ
フチルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニルペ
ンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチ
ル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２
−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフ
チルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘ
キシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシ
ル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６
−フェニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２−ナフ
チルヘキシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフチルヘ
キシル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘキシル
のような無置換のアラルキル基；２−フルオロベンジ
ル、３−フルオロベンジル、４−フルオロベンジル、２
−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベ
ンジル、２−ブロモベンジル、３−ブロモベンジル、４
−ブロモベンジル、３，５−ジフルオロベンジル、２，
５−ジフルオロフェネチル、２，６−ジフルオロベンジ
ル、２，４−ジフルオロフェネチル、３，５−ジブロモ
ベンジル、２，５−ジブロモフェネチル、２，６−ジク
ロロベンジル、２，４−ジクロロフェネチル、２，３，
６−トリフルオロベンジル、２，３，４−トリフルオロ
フェネチル、３，４，５−トリフルオロベンジル、２，
５，６−トリフルオロフェネチル、２，４，６−トリフ
ルオロベンジル、２，３，６−トリブロモフェネチル、
２，３，４−トリブロモベンジル、３，４，５−トリブ
ロモフェネチル、２，５，６−トリクロロベンジル、
２，４，６−トリクロロフェネチル、ビス（２−フルオ
ロフェニル）メチル、３−フルオロフェニルフェニルメ
チル、ビス（４−フルオロフェニル）メチル、４−フル
オロフェニルフェニルメチル、ビス（２−クロロフェニ
ル）メチル、ビス（３−クロロフェニル）メチル、ビス
（４−クロロフェニル）メチル、４−クロロフェニルフ
ェニルメチル、２−ブロモフェニルフェニルメチル、３
−ブロモフェニルフェニルメチル、ビス（４−ブロモフ
ェニル）メチル、ビス（３，５−ジフルオロフェニル）
メチル、ビス（２，５−ジフルオロフェニル）メチル、
ビス（２，６−ジフルオロフェニル）メチル、２，４−
ジフルオロフェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジ
ブロモフェニル）メチル、２，５−ジブロモフェニルフ
ェニルメチル、２，６−ジクロロフェニルフェニルメチ
ル、ビス（２，４−ジクロロフェニル）メチル、ビス
（２，３，６−トリフルオロフェニル）メチル、１，２
−ビス（２−フルオロフェニル）エチル、１，２−ビス
（４−フルオロフェニル）エチル、１，１−ビス（４−
フルオロフェニル）エチル、２，２−ビス（４−フルオ
ロフェニル）エチル、１−メチル−１−（４−フルオロ
フェニル）エチルのようなハロゲン原子で置換されたア
ラルキル基；２−トリフルオロメチルベンジル、３−ト
リフルオロメチルフェネチル、４−トリフルオロメチル
ベンジル、２−トリクロロメチルフェネチル、３−ジク
ロロメチルベンジル、４−トリクロロメチルフェネチ
ル、２−トリブロモメチルベンジル、３−ジブロモメチ
ルフェネチル、４−ジブロモメチルベンジル、３，５−
ビストリフルオロメチルフェネチル、２，５−ビストリ
フルオロメチルベンジル、２，６−ビストリフルオロメ
チルフェネチル、２，４−ビストリフルオロメチルベン
ジル、３，５−ビストリブロモメチルフェネチル、２，
５−ビスジブロモメチルベンジル、２，６−ビスジクロ
ロメチルメチルフェネチル、２，４−ビスジクロロメチ
ルベンジル、２，３，６−トリストリフルオロメチルフ
ェネチル、２，３，４−トリストリフルオロメチルベン
ジル、３，４，５−トリストリフルオロメチルフェネチ
ル、２，５，６−トリストリフルオロメチルベンジル、
２，４，６−トリストリフルオロメチルフェネチル、
２，３，６−トリストリブロモメチルベンジル、２，
３，４−トリスジブロモメチルフェネチル、３，４，５
−トリストリブロモメチルベンジル、２，５，６−トリ
スジクロロメチルメチルフェネチル、２，４，６−トリ
スジクロロメチルベンジル、ビス（４−トリフルオロメ
チルフェニル）メチル、４−トリフルオロメチルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（２−トリクロロメチルフェニ
ル）メチル、ビス（３−トリクロロメチルフェニル）メ
チル、ビス（４−トリクロロメチルフェニル）メチル、
２−トリブロモメチルフェニルフェニルメチル、３−ト
リブロモメチルフェニルフェニルメチル、ビス（４−ト
リブロモメチルフェニル）メチル、ビス（３，５−ビス
トリフルオロメチルフェニル）メチル、ビス（２，５−
ビストリフルオロメチルフェニル）メチル、ビス（２，
６−ビストリフルオロメチルフェニル）メチル、２，４
−ビストリフルオロメチルフェニルフェニルメチル、ビ
ス（３，５−ビストリブロモメチルフェニル）メチル、
２，５−ビストリブロモメチルフェニルフェニルメチ
ル、２，６−ビストリクロロメチルフェニルフェニルメ
チル、ビス(2,4−ビストリクロロメチルフェニル）メチ
ル、ビス（２，３，６−トリストリフルオロメチルフェ
ニル）メチルのようなハロゲノ低級アルキル基で置換さ
れたアラルキル基；２−メチルベンジル、３−メチルベ
ンジル、４−メチルベンジル、２−メチルフェネチル、
４−メチルフェネチル、２−エチルベンジル、３−プロ
ピルフェネチル、４−エチルベンジル、２−ブチルフェ
ネチル、３−ペンチルベンジル、４−ペンチルフェネチ
ル、３，５−ジメチルベンジル、２，５−ジメチルフェ
ネチル、２，６−ジメチルベンジル、２，４−ジメチル
フェネチル、３，５−ジブチルベンジル、２，５−ジペ
ンチルフェネチル、２，６−ジプロピルベンジル、２，
４−ジプロピルフェネチル、２，３，６−トリメチルベ
ンジル、２，３，４−トリメチルフェネチル、３，４，
５−トリメチルベンジル、２，４，６−トリメチルベン
ジル、２，５，６−トリメチルフェネチル、２，３，６
−トリブチルフェネチル、２，３，４−トリペンチルベ
ンジル、３，４，５−トリブチルフェネチル、２，５，
６−トリプロピルベンジル、２，４，６−トリプロピル
フェネチル、ビス（２−メチルフェニル）メチル、３−
メチルフェニルフェニルメチル、ビス（４−メチルフェ
ニル）メチル、４−メチルフェニルフェニルメチル、ビ
ス（２−エチルフェニル）メチル、ビス（３−エチルフ
ェニル）メチル、ビス（４−エチルフェニル）メチル、
２−プロピルフェニルフェニルメチル、３−プロピルフ
ェニルフェニルメチル、ビス（４−プロピルフェニル）
メチル、ビス（３，５−ジメチルフェニル）メチル、ビ
ス（２，５−ジメチルフェニル）メチル、ビス（２，６
−ジメチルフェニル）メチル、２，４−ジメチルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（３，５−ジプロピルフェニ
ル）メチル、２，５−ジプロピルフェニルフェニルメチ
ル、２，６−ジエチルフェニルフェニルメチル、ビス
（２，４−ジエチルフェニル）メチル、ビス（２，３，
６−トリメチルフェニル）メチル、１，１−ビス（４−
イソブチルフェニル）エチル、１，２−ビス（４−イソ
ブチルフェニル）エチル、２，２−ビス（４−イソブチ
ルフェニル）エチルのような低級アルキル基で置換され
たアラルキル基；２−メトキシベンジル、３−メトキシ
ベンジル、４−メトキシベンジル、３−メトキシフェネ
チル、２−エトキシフェネチル、３−プロポキシベンジ
ル、４−エトキシフェネチル、２−ブトキシベンジル、
３−ペントキシフェネチル、４−ペントキシベンジル、
３，５−ジメトキシフェネチル、２，５−ジメトキシベ
ンジル、２，６−ジメトキシフェネチル、２，４−ジメ
トキシベンジル、３，５−ジブトキシフェネチル、２，
５−ジペントキシベンジル、２，６−ジプロポキシフェ
ネチル、２，４−ジプロポキシベンジル、２，３，６−
トリメトキシフェネチル、２，３，４−トリメトキシベ
ンジル、３，４，５−トリメトキシフェネチル、２，
５，６−トリメトキシベンジル、２，４，６−トリメト
キシフェネチル、２，３，６−トリブトキシベンジル、
２，３，４−トリペントキシフェネチル、３，４，５−
トリブトキシベンジル、２，５，６−トリプロポキシフ
ェネチル、２，４，６−トリプロポキシベンジル、ビス
（２−メトキシフェニル）メチル、３−メトキシフェニ
ルフェニルメチル、ビス（４−メトキシフェニル）メチ
ル、４−メトキシフェニルフェニルメチル、ビス（２−
エトキシフェニル）メチル、ビス（３−エトキシフェニ
ル）メチル、ビス（４−エトキシフェニル）メチル、２
−プロポキシフェニルフェニルメチル、３−プロポキシ
フェニルフェニルメチル、ビス（４−プロポキシフェニ
ル）メチル、ビス（３，５−ジメトキシフェニル）メチ
ル、ビス（２，５−ジメトキシフェニル）メチル、ビス
（２，６−ジメトキシフェニル）メチル、２，４−ジメ
トキシフェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジプロ
ポキシフェニル）メチル、２，５−ジプロポキシフェニ
ルフェニルメチル、２，６−ジエトキシフェニルフェニ
ルメチル、ビス（２，４−ジエトキシフェニル）メチ
ル、ビス（２，３，６−トリメトキシフェニル）メチ
ル、１，１−ビス（４−メトキシフェニル）エチル、
１，２−ビス（４−メトキシフェニル）エチル、２，２
−ビス（４−メトキシフェニル）エチル、１−メチル−
１−（４−メトキシフェニル）エチル、２，２，２−ト
リス（４−メトキシフェニル）エチルのような低級アル
コキシ基で置換されたアラルキル基；２−アミノフェネ
チル、３−アミノベンジル、４−アミノフェネチル、
３，５−ジアミノベンジル、２，５−ジアミノフェネチ
ル、２，６−ジアミノベンジル、２，４−ジアミノフェ
ネチル、２，３，６−トリアミノベンジル、２，３，４
−トリアミノフェネチル、３，４，５−トリアミノベン
ジル、２，５，６−トリアミノフェネチル、２，４，６
−トリアミノベンジル、ビス（２−アミノフェニル）メ
チル、３−アミノフェニルフェニルメチル、ビス（４−
アミノフェニル）メチル、４−アミノフェニルフェニル
メチル、ビス（３，５−ジアミノフェニル）メチル、ビ
ス（２，５−ジアミノフェニル）メチル、ビス（２，６
−ジアミノフェニル）メチル、２，４−ジアミノフェニ
ルフェニルメチル、ビス（２，３，６−トリアミノフェ
ニル）メチルのようなアミノ基で置換されたアラルキル
基；２−ニトロフェネチル、３−ニトロベンジル、４−
ニトロベンジル、４−ニトロフェネチル、３，５−ジニ
トロベンジル、２，５−ジニトロフェネチル、２，６−
ジニトロベンジル、２，４−ジニトロフェネチル、２，
３，６−トリニトロベンジル、２，３，４−トリニトロ
フェネチル、３，４，５−トリニトロベンジル、２，
５，６−トリニトロフェネチル、２，４，６−トリニト
ロベンジル、ビス(2−ニトロフェニル）メチル、３−ニ
トロフェニルフェニルメチル、ビス（４−ニトロフェニ
ル）メチル、４−ニトロフェニルフェニルメチル、ビス
（３，５−ジニトロフェニル）メチル、ビス（２，５−
ジニトロフェニル）メチル、ビス（２，６−ジニトロフ
ェニル）メチル、２，４−ジニトロフェニルフェニルメ
チル、ビス（２，３，６−トリニトロフェニル）メチル
のようなニトロ基で置換されたアラルキル基；２−シア
ノフェネチル、３−シアノベンジル、４−シアノベンジ
ル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、４−シアノ
フェネチル、３，５−ジシアノベンジル、２，５−ジシ
アノフェネチル、２，６−ジシアノベンジル、２，４−
ジシアノフェネチル、２，３，６−トリシアノベンジ
ル、２，３，４−トリシアノフェネチル、３，４，５−
トリシアノベンジル、２，５，６−トリシアノフェネチ
ル、２，４，６−トリシアノベンジル、ビス（２−シア
ノフェニル）メチル、３−シアノフェニルフェニルメチ
ル、ビス（４−シアノフェニル）メチル、４−シアノフ
ェニルフェニルメチル、ビス（３，５−ジシアノフェニ
ル）メチル、ビス（２，５−ジシアノフェニル）メチ
ル、ビス（２，６−ジシアノフェニル）メチル、２，４
−ジシアノフェニルフェニルメチル、ビス（２，３，６
−トリシアノフェニル）メチルのようなシアノ基で置換
されたアラルキル基；２−アセチルフェネチル、３−ア
セチルベンジル、４−アセチルフェネチル、３，５−ジ
アセチルベンジル、２，５−ジアセチルフェネチル、
２，６−ジアセチルベンジル、２，４−ジアセチルフェ
ネチル、２，３，６−トリプロピオニルベンジル、２，
３，４−トリプロピオニルフェネチル、３，４，５−ト
リプロピオニルベンジル、２，５，６−トリブチリルフ
ェネチル、２，４，６−トリブチリルベンジル、ビス
（２−アセチルフェニル）メチル、３−アセチルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（４−アセチルフェニル）メチ
ル、４−アセチルフェニルフェニルメチル、ビス（２−
プロピオニルフェニル）メチル、ビス（３−プロピオニ
ルフェニル）メチル、ビス（４−プロピオニルフェニ
ル）メチル、２−ブチリルフェニルフェニルメチル、３
−ブチリルフェニルフェニルメチル、ビス（４−ブチリ
ルフェニル）メチル、ビス（３，５−ジアセチルフェニ
ル）メチル、ビス（２，５−ジアセチルフェニル）メチ
ル、ビス（２，６−ジアセチルフェニル）メチル、２，
４−ジアセチルフェニルフェニルメチル、ビス（３，５
−ジブチリルフェニル）メチル、２，５−ジブチリルフ
ェニルフェニルメチル、２，６−ジプロピオニルフェニ
ルフェニルメチル、ビス（２，４−ジプロピオニルフェ
ニル）メチル、ビス（２，３，６−トリアセチルフェニ
ル）メチルのような脂肪族アシル基で置換されたアラル
キル基；２−カルボキシフェネチル、３−カルボキシベ
ンジル、４−カルボキシフェネチル、３，５−ジカルボ
キシベンジル、２，５−ジカルボキシフェネチル、２，
６−ジカルボキシベンジル、２，４−ジカルボキシフェ
ネチル、ビス（２−カルボキシフェニル）メチル、３−
カルボキシフェニルフェニルメチル、ビス（４−カルボ
キシフェニル）メチル、４−カルボキシフェニルフェニ
ルメチル、ビス（３，５−ジカルボキシフェニル）メチ
ル、ビス（２，５−ジカルボキシフェニル）メチル、ビ
ス（２，６−ジカルボキシフェニル）メチル、２，４−
ジカルボキシフェニルフェニルメチル、ビス（２，３，
６−トリカルボキシフェニル）メチルのようなカルボキ
シ基で置換されたアラルキル基；２−カルバモイルベン
ジル、３−カルバモイルフェネチル、４−カルバモイル
ベンジル、３，５−ジカルバモイルフェネチル、２，５
−ジカルバモイルベンジル、２，６−ジカルバモイルフ
ェネチル、２，４−ジカルバモイルベンジル、ビス（２
−カルバモイルフェニル）メチル、３−カルバモイルフ
ェニルフェニルメチル、ビス(4−カルバモイルフェニ
ル）メチル、４−カルバモイルフェニルフェニルメチ
ル、ビス（３，５−ジカルバモイルフェニル）メチル、
ビス（２，５−ジカルバモイルフェニル）メチル、ビス
（２，６−ジカルバモイルフェニル）メチル、２，４−
ジカルバモイルフェニルフェニルメチル、ビス（２，
３，６−トリカルバモイルフェニル）メチルのようなカ
ルバモイル基で置換されたアラルキル基及び３，４−メ
チレンジオキシベンジル、３，４−メチレンジオキシフ
ェネチル、ビス（３，４−メチレンジオキシフェニル）
メチル、３，４−メチレンジオキシフェニルフェニルメ
チルのようなアルキレンジオキシ基で置換されたアラル
キル基を挙げることができ、好適には、「低級アルキル
基」の炭素数が１乃至４個で、「アリール基」が１乃至
２個置換している「アラルキル基」であり、更に好適に
は、「低級アルキル基」の炭素数が１乃至２個で、「ア
リール基」が１乃至２個置換している「アラルキル基」
である。
【００１４】Ｊの定義における「アルキレン基」とは、
例えばメチレン、メチルメチレン、エチレン、プロピレ
ン、トリメチレン、１−メチルエチレン、テトラメチレ
ン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメチレ
ン、３−メチルトリメチレン、１−メチルプロピレン、
１，１−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、１−メチ
ルテトラメチレン、２−メチルテトラメチレン、３−メ
チルテトラメチレン、４−メチルテトラメチレン、１，
１−ジメチルトリメチレン、２，２−ジメチルトリメチ
レン、３，３−ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレ
ン、１−メチルペンタメチレン、２−メチルペンタメチ
レン、３−メチルペンタメチレン、４−メチルペンタメ
チレン、５−メチルペンタメチレン、１，１−ジメチル
テトラメチレン、２，２−ジメチルテトラメチレン、
３，３−ジメチルテトラメチレン、４，４−ジメチルテ
トラメチレン、ヘプタメチレン、１−メチルヘキサメチ
レン、２−メチルヘキサメチレン、５−メチルヘキサメ
チレン、３−エチルペンタメチレン、オクタメチレン、
２−メチルヘプタメチレン、５−メチルヘプタメチレ
ン、２−エチルヘキサメチレン、２−エチル−３−メチ
ルペンタメチレン、３−エチル−２−メチルペンタメチ
レン、ノナメチレン、２−メチルオクタメチレン、７−
メチルオクタメチレン、４−エチルヘプタメチレン、３
−エチル−２−メチルヘキサメチレン、２−エチル−１
−メチルヘキサメチレン、デカメチレン、２−メチルノ
ナメチレン、８−メチルノナメチレン、５−エチルオク
タメチレン、３−エチル−２−メチルヘプタメチレン、
３，３−ジエチルヘキサメチレン、ウンデカメチレン、
２−メチルデカメチレン、９−メチルデカメチレン、４
−エチルノナメチレン、３，５−ジメチルノナメチレ
ン、３−プロピルオクタメチレン、５−エチル−４−メ
チルオクタメチレン、ドデカメチレン、１−メチルウン
デカメチレン、１０−メチルウンデカメチレン、３−エ
チルデカメチレン、５−プロピルノナメチレン、３，５
−ジエチルオクタメチレン、トリデカメチレン、１１−
メチルドデカメチレン、７−エチルウンデカメチレン、
４−プロピルデカメチレン、５−エチル−３−メチルデ
カメチレン、３−ペンチルオクタメチレンのような炭素
数１乃至１２個の直鎖又は分枝鎖アルキレン基を挙げる
ことができ、好適には、炭素数１乃至６個の直鎖又は分
枝鎖アルキレン基であり、更に好適には、炭素数１乃至
２個の低級アルキル基の側鎖を有していてもよい、エチ
レン、トリメチレン又はテトラメチレンであり、最も好
適には、炭素数１乃至２個の低級アルキル基の側鎖を有
していてもよいトリメチレンである。
例えばメチレン、メチルメチレン、エチレン、プロピレ
ン、トリメチレン、１−メチルエチレン、テトラメチレ
ン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメチレ
ン、３−メチルトリメチレン、１−メチルプロピレン、
１，１−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、１−メチ
ルテトラメチレン、２−メチルテトラメチレン、３−メ
チルテトラメチレン、４−メチルテトラメチレン、１，
１−ジメチルトリメチレン、２，２−ジメチルトリメチ
レン、３，３−ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレ
ン、１−メチルペンタメチレン、２−メチルペンタメチ
レン、３−メチルペンタメチレン、４−メチルペンタメ
チレン、５−メチルペンタメチレン、１，１−ジメチル
テトラメチレン、２，２−ジメチルテトラメチレン、
３，３−ジメチルテトラメチレン、４，４−ジメチルテ
トラメチレン、ヘプタメチレン、１−メチルヘキサメチ
レン、２−メチルヘキサメチレン、５−メチルヘキサメ
チレン、３−エチルペンタメチレン、オクタメチレン、
２−メチルヘプタメチレン、５−メチルヘプタメチレ
ン、２−エチルヘキサメチレン、２−エチル−３−メチ
ルペンタメチレン、３−エチル−２−メチルペンタメチ
レン、ノナメチレン、２−メチルオクタメチレン、７−
メチルオクタメチレン、４−エチルヘプタメチレン、３
−エチル−２−メチルヘキサメチレン、２−エチル−１
−メチルヘキサメチレン、デカメチレン、２−メチルノ
ナメチレン、８−メチルノナメチレン、５−エチルオク
タメチレン、３−エチル−２−メチルヘプタメチレン、
３，３−ジエチルヘキサメチレン、ウンデカメチレン、
２−メチルデカメチレン、９−メチルデカメチレン、４
−エチルノナメチレン、３，５−ジメチルノナメチレ
ン、３−プロピルオクタメチレン、５−エチル−４−メ
チルオクタメチレン、ドデカメチレン、１−メチルウン
デカメチレン、１０−メチルウンデカメチレン、３−エ
チルデカメチレン、５−プロピルノナメチレン、３，５
−ジエチルオクタメチレン、トリデカメチレン、１１−
メチルドデカメチレン、７−エチルウンデカメチレン、
４−プロピルデカメチレン、５−エチル−３−メチルデ
カメチレン、３−ペンチルオクタメチレンのような炭素
数１乃至１２個の直鎖又は分枝鎖アルキレン基を挙げる
ことができ、好適には、炭素数１乃至６個の直鎖又は分
枝鎖アルキレン基であり、更に好適には、炭素数１乃至
２個の低級アルキル基の側鎖を有していてもよい、エチ
レン、トリメチレン又はテトラメチレンであり、最も好
適には、炭素数１乃至２個の低級アルキル基の側鎖を有
していてもよいトリメチレンである。
【００１５】Ｊの定義における「アルケニレン基」と
は、エテニレン、２−プロペニレン、１−メチル−２−
プロペニレン、２−メチル−２−プロペニレン、２−エ
チル−２−プロペニレン、２−ブテニレン、１−メチル
−２−ブテニレン、２−メチル−２−ブテニレン、１−
エチル−２−ブテニレン、３−ブテニレン、１−メチル
−３−ブテニレン、２−メチル−３−ブテニレン、１−
エチル−３−ブテニレン、２−ペンテニレン、１−メチ
ル−２−ペンテニレン、２−メチル−２−ペンテニレ
ン、３−ペンテニレン、１−メチル−３−ペンテニレ
ン、２−メチル−３−ペンテニレン、４−ペンテニレ
ン、１−メチル−４−ペンテニレン、２−メチル−４−
ペンテニレン、２−ヘキセニレン、３−ヘキセニレン、
４−ヘキセニレン、５−ヘキセニレンのような炭素数２
乃至１２個の直鎖又は分枝鎖アルケニレン基を挙げるこ
とができ、好適には、炭素数２乃至６個の直鎖又は分枝
鎖アルケニレン基であり、更に好適には、炭素数１乃至
２個の低級アルキル基の側鎖を有していてもよい、エテ
ニレン、２−プロペニレン又は３−ブテニレンである。
は、エテニレン、２−プロペニレン、１−メチル−２−
プロペニレン、２−メチル−２−プロペニレン、２−エ
チル−２−プロペニレン、２−ブテニレン、１−メチル
−２−ブテニレン、２−メチル−２−ブテニレン、１−
エチル−２−ブテニレン、３−ブテニレン、１−メチル
−３−ブテニレン、２−メチル−３−ブテニレン、１−
エチル−３−ブテニレン、２−ペンテニレン、１−メチ
ル−２−ペンテニレン、２−メチル−２−ペンテニレ
ン、３−ペンテニレン、１−メチル−３−ペンテニレ
ン、２−メチル−３−ペンテニレン、４−ペンテニレ
ン、１−メチル−４−ペンテニレン、２−メチル−４−
ペンテニレン、２−ヘキセニレン、３−ヘキセニレン、
４−ヘキセニレン、５−ヘキセニレンのような炭素数２
乃至１２個の直鎖又は分枝鎖アルケニレン基を挙げるこ
とができ、好適には、炭素数２乃至６個の直鎖又は分枝
鎖アルケニレン基であり、更に好適には、炭素数１乃至
２個の低級アルキル基の側鎖を有していてもよい、エテ
ニレン、２−プロペニレン又は３−ブテニレンである。
【００１６】Ｊの定義における「アルキニレン基」と
は、エチニレン、２−プロピニレン、１−メチル−２−
プロピニレン、２−ブチニレン、１−メチル−２−ブチ
ニレン、１−エチル−２−ブチニレン、３−ブチニレ
ン、１−メチル−３−ブチニレン、２−メチル−３−ブ
チニレン、１−エチル−３−ブチニレン、２−ペンチニ
レン、１−メチル−２−ペンチニレン、３−ペンチニレ
ン、１−メチル−３−ペンチニレン、２−メチル−３−
ペンチニレン、４−ペンチニレン、１−メチル−４−ペ
ンチニレン、２−メチル−４−ペンチニレン、２−ヘキ
シニレン、３−ヘキシニレン、４−ヘキシニレン、５−
ヘキシニレンのような炭素数２乃至１２個の直鎖又は分
枝鎖アルキニレン基を挙げることができ、好適には、炭
素数２乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキニレン基であ
り、更に好適には、炭素数１乃至２個の低級アルキル基
の側鎖を有していてもよい、エチニレン又は２−プロピ
ニレンである。
は、エチニレン、２−プロピニレン、１−メチル−２−
プロピニレン、２−ブチニレン、１−メチル−２−ブチ
ニレン、１−エチル−２−ブチニレン、３−ブチニレ
ン、１−メチル−３−ブチニレン、２−メチル−３−ブ
チニレン、１−エチル−３−ブチニレン、２−ペンチニ
レン、１−メチル−２−ペンチニレン、３−ペンチニレ
ン、１−メチル−３−ペンチニレン、２−メチル−３−
ペンチニレン、４−ペンチニレン、１−メチル−４−ペ
ンチニレン、２−メチル−４−ペンチニレン、２−ヘキ
シニレン、３−ヘキシニレン、４−ヘキシニレン、５−
ヘキシニレンのような炭素数２乃至１２個の直鎖又は分
枝鎖アルキニレン基を挙げることができ、好適には、炭
素数２乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキニレン基であ
り、更に好適には、炭素数１乃至２個の低級アルキル基
の側鎖を有していてもよい、エチニレン又は２−プロピ
ニレンである。
【００１７】Ｑの定義における「置換されていてもよい
カルバモイル基」とは、下記の置換基が１又は２個カル
バモイル基を置換している基を示し、該置換基として
は、前記「低級アルキル基」；前記「アラルキル基」；
後記「アリール基」；後記「シクロアルキル基」；後記
「５乃至７員複素環基」及び後記「低級アルコキシ基」
を挙げることができ、好適には、「低級アルキル基」；
後記「アリール基」；後記「シクロアルキル基」であ
る。
カルバモイル基」とは、下記の置換基が１又は２個カル
バモイル基を置換している基を示し、該置換基として
は、前記「低級アルキル基」；前記「アラルキル基」；
後記「アリール基」；後記「シクロアルキル基」；後記
「５乃至７員複素環基」及び後記「低級アルコキシ基」
を挙げることができ、好適には、「低級アルキル基」；
後記「アリール基」；後記「シクロアルキル基」であ
る。
【００１８】Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ
9 、Ｒ10及びＲ11の定義における「ハロゲン原子」と
は、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子であ
り、好適には、弗素原子、塩素原子である。
9 、Ｒ10及びＲ11の定義における「ハロゲン原子」と
は、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子であ
り、好適には、弗素原子、塩素原子である。
【００１９】Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ
9 、Ｒ10及びＲ11の定義における「低級アルコキシ基」
とは、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合した基
をいい、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ
−ブトキシ、tert−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、イソペ
ントキシ、２−メチルブトキシ、ネオペントキシ、ｎ−
ヘキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３−メチルペ
ントキシ、２−メチルペントキシ、３，３−ジメチルブ
トキシ、２，２−ジメチルブトキシ、１，１−ジメチル
ブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジメチ
ルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシのような炭素数
１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を示し、好適
には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基で
ある。
9 、Ｒ10及びＲ11の定義における「低級アルコキシ基」
とは、前記「低級アルキル基」が酸素原子に結合した基
をいい、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ
−ブトキシ、tert−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、イソペ
ントキシ、２−メチルブトキシ、ネオペントキシ、ｎ−
ヘキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３−メチルペ
ントキシ、２−メチルペントキシ、３，３−ジメチルブ
トキシ、２，２−ジメチルブトキシ、１，１−ジメチル
ブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジメチ
ルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシのような炭素数
１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を示し、好適
には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基で
ある。
【００２０】Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ
9 、Ｒ10及びＲ11の定義における「低級アルキルチオ
基」とは、前記「低級アルキル基」が硫黄原子に結合し
た基をいい、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プ
ロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、イソ
ブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ｎ−
ペンチルチオ、イソペンチルチオ、２−メチルブチルチ
オ、ネオペンチルチオ、１−エチルプロピルチオ、ｎ−
ヘキシルチオ、イソヘキシルチオ、４−メチルペンチル
チオ、３−メチルペンチルチオ、２−メチルペンチルチ
オ、１−メチルペンチルチオ、３，３−ジメチルブチル
チオ、２，２−ジメチルブチルチオ、１，１−ジメチル
ブチルチオ、１，２−ジメチルブチルチオ、１，３−ジ
メチルブチルチオ、２，３−ジメチルブチルチオ、２−
エチルブチルチオのような炭素数１乃至６個の直鎖又は
分枝鎖アルキルチオ基を示し、好適には炭素数１乃至４
個の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基である。
9 、Ｒ10及びＲ11の定義における「低級アルキルチオ
基」とは、前記「低級アルキル基」が硫黄原子に結合し
た基をいい、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プ
ロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、イソ
ブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ｎ−
ペンチルチオ、イソペンチルチオ、２−メチルブチルチ
オ、ネオペンチルチオ、１−エチルプロピルチオ、ｎ−
ヘキシルチオ、イソヘキシルチオ、４−メチルペンチル
チオ、３−メチルペンチルチオ、２−メチルペンチルチ
オ、１−メチルペンチルチオ、３，３−ジメチルブチル
チオ、２，２−ジメチルブチルチオ、１，１−ジメチル
ブチルチオ、１，２−ジメチルブチルチオ、１，３−ジ
メチルブチルチオ、２，３−ジメチルブチルチオ、２−
エチルブチルチオのような炭素数１乃至６個の直鎖又は
分枝鎖アルキルチオ基を示し、好適には炭素数１乃至４
個の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基である。
【００２１】Ｒ13及びＲ14の定義における「シクロアル
キル基」とは、例えば、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、ノルボルニル、アダマンチルのような縮環していて
もよい３乃至１０員飽和環状炭化水素基を挙げることが
でき、好適には５乃至１０員飽和環状炭化水素基であ
る。
キル基」とは、例えば、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、ノルボルニル、アダマンチルのような縮環していて
もよい３乃至１０員飽和環状炭化水素基を挙げることが
でき、好適には５乃至１０員飽和環状炭化水素基であ
る。
【００２２】Ｒ13及びＲ14の定義における「５乃至７員
複素環基」は、硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素原子
を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、例えばフ
リル、チエニル、ピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、
イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾ
リル、イソチアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリ
ル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピ
ラニル、 ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラ
ジニルのような芳香族複素環基及びモルホリニル、チオ
モルホリニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリ
ジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニ
ル、ピペリジル、ピペラジニルのようなこれらの基に対
応する、部分若しくは完全還元型の基を挙げることがで
き、好適には、窒素原子を少なくとも１個含み、酸素原
子又は硫黄原子を含んでいてもよい５乃至７員複素環基
を示し、例えばピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、イ
ミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリ
ル、イソチアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリル、
トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピリジ
ル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニルのような
芳香族複素環基及びモルホリニル、チオモルホリニル、
ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダ
ゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジ
ル、ピペラジニルのようなこれらの基に対応する、部分
若しくは完全還元型の基を挙げることができ、さらに好
適には、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリ
ル、チアゾリル及びこれらの基に対応する、部分若しく
は完全還元型の基である。
複素環基」は、硫黄原子、酸素原子又は／及び窒素原子
を１乃至３個含む５乃至７員複素環基を示し、例えばフ
リル、チエニル、ピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、
イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾ
リル、イソチアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリ
ル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピ
ラニル、 ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラ
ジニルのような芳香族複素環基及びモルホリニル、チオ
モルホリニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリ
ジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニ
ル、ピペリジル、ピペラジニルのようなこれらの基に対
応する、部分若しくは完全還元型の基を挙げることがで
き、好適には、窒素原子を少なくとも１個含み、酸素原
子又は硫黄原子を含んでいてもよい５乃至７員複素環基
を示し、例えばピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、イ
ミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリ
ル、イソチアゾリル、１，２，３−オキサジアゾリル、
トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピリジ
ル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニルのような
芳香族複素環基及びモルホリニル、チオモルホリニル、
ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダ
ゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジ
ル、ピペラジニルのようなこれらの基に対応する、部分
若しくは完全還元型の基を挙げることができ、さらに好
適には、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリ
ル、チアゾリル及びこれらの基に対応する、部分若しく
は完全還元型の基である。
【００２３】尚、上記「５乃至７員複素環基」は、他の
環式基と縮環していてもよく、例えば、イソベンゾフラ
ニル、クロメニル、キサンテニル、フェノキサチイニ
ル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、イ
ンダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、
キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリ
ニル、キナゾリニル、カルバゾリル、カルボリニル、ア
クリジニル、イソインドリニルのような基を挙げること
ができる。
環式基と縮環していてもよく、例えば、イソベンゾフラ
ニル、クロメニル、キサンテニル、フェノキサチイニ
ル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、イ
ンダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、
キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリ
ニル、キナゾリニル、カルバゾリル、カルボリニル、ア
クリジニル、イソインドリニルのような基を挙げること
ができる。
【００２４】Ｒ13及びＲ14の定義における「アリール
基」とは、とは、例えば、フェニル、インデニル、ナフ
チル、フェナンスレニル、アントラセニルのような炭素
数５乃至１４個の芳香族炭化水素基を挙げることがで
き、好適にはフェニル基である。
基」とは、とは、例えば、フェニル、インデニル、ナフ
チル、フェナンスレニル、アントラセニルのような炭素
数５乃至１４個の芳香族炭化水素基を挙げることがで
き、好適にはフェニル基である。
【００２５】尚、上記「アリール基」は、炭素数３乃至
１０個のシクロアルキル基と縮環していてもよく、例え
ば、２−インダニルのような基を挙げることができる。
１０個のシクロアルキル基と縮環していてもよく、例え
ば、２−インダニルのような基を挙げることができる。
【００２６】又、該基は、アリ−ル基の環上に、１乃至
４個の置換基を有していてもよく、斯かる置換基として
は、アミノ基；ニトロ基；シアノ基；カルバモイル基；
メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−プロピ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチ
ルカルバモイル、イソブチルカルバモイル、ｓ−ブチル
カルバモイル、tert−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチ
ルカルバモイル、イソペンチルカルバモイル、２−メチ
ルブチルカルバモイル、ネオペンチルカルバモイル、ｎ
−ヘキシルカルバモイル、４−メチルペンチルカルバモ
イル、３−メチルペンチルカルバモイル、２−メチルペ
ンチルカルバモイル、３，３−ジメチルブチルカルバモ
イル、２，２−ジメチルブチルカルバモイル、１，１−
ジメチルブチルカルバモイル、１，２−ジメチルブチル
カルバモイル、１，３−ジメチルブチルカルバモイル、
２，３−ジメチルブチルカルバモイル、ジメチルカルバ
モイル、ジエチルカルバモイル、ジ−ｎ−プロピルカル
バモイル、ジイソプロピルカルバモイル、ジ−ｎ−ブチ
ルカルバモイル、ジイソブチルカルバモイル、ジ−ｓ−
ブチルカルバモイル、ジ−tert−ブチルカルバモイルの
ような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基が
置換した低級アルキル置換カルバモイル基（好適には炭
素数１乃至４個のアルキル基が置換したカルバモイル
基、更に好適には、メチルカルバモイル、ジメチルカル
バモイルである。）；前記「ハロゲン原子」；前記「低
級アルキル基」；前記「低級アルコキシ基」；トリフル
オロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジ
クロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、２，
２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリフルオロ
エチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２−フ
ルオロエチル、２，２−ジブロモエチルのようなハロゲ
ノ低級アルキル基；ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイ
ル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイ
ル、デカノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノ
ナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチル
オクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデ
カノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキ
サデカノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メ
チルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデ
カノイル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカ
ノイル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイ
ル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノ
イルのようなアルキルカルボニル基、クロロアセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロ
アセチルのようなハロゲン化低級アルキルカルボニル
基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低級アル
キルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイ
ルのような不飽和低級アルキルカルボニル基等の「脂肪
族アシル基」；及びメチレンジオキシ、エチレンジオキ
シ、プロピレンジオキシのような炭素数１乃至４個のア
ルキレンジオキシ基を挙げることができ、好適には、低
級アルキル基及びハロゲン原子である。
４個の置換基を有していてもよく、斯かる置換基として
は、アミノ基；ニトロ基；シアノ基；カルバモイル基；
メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−プロピ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｎ−ブチ
ルカルバモイル、イソブチルカルバモイル、ｓ−ブチル
カルバモイル、tert−ブチルカルバモイル、ｎ−ペンチ
ルカルバモイル、イソペンチルカルバモイル、２−メチ
ルブチルカルバモイル、ネオペンチルカルバモイル、ｎ
−ヘキシルカルバモイル、４−メチルペンチルカルバモ
イル、３−メチルペンチルカルバモイル、２−メチルペ
ンチルカルバモイル、３，３−ジメチルブチルカルバモ
イル、２，２−ジメチルブチルカルバモイル、１，１−
ジメチルブチルカルバモイル、１，２−ジメチルブチル
カルバモイル、１，３−ジメチルブチルカルバモイル、
２，３−ジメチルブチルカルバモイル、ジメチルカルバ
モイル、ジエチルカルバモイル、ジ−ｎ−プロピルカル
バモイル、ジイソプロピルカルバモイル、ジ−ｎ−ブチ
ルカルバモイル、ジイソブチルカルバモイル、ジ−ｓ−
ブチルカルバモイル、ジ−tert−ブチルカルバモイルの
ような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基が
置換した低級アルキル置換カルバモイル基（好適には炭
素数１乃至４個のアルキル基が置換したカルバモイル
基、更に好適には、メチルカルバモイル、ジメチルカル
バモイルである。）；前記「ハロゲン原子」；前記「低
級アルキル基」；前記「低級アルコキシ基」；トリフル
オロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジ
クロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、２，
２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリフルオロ
エチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２−フ
ルオロエチル、２，２−ジブロモエチルのようなハロゲ
ノ低級アルキル基；ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイ
ル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイ
ル、デカノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノ
ナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチル
オクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデ
カノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキ
サデカノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メ
チルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデ
カノイル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカ
ノイル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイ
ル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノ
イルのようなアルキルカルボニル基、クロロアセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロ
アセチルのようなハロゲン化低級アルキルカルボニル
基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低級アル
キルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイ
ルのような不飽和低級アルキルカルボニル基等の「脂肪
族アシル基」；及びメチレンジオキシ、エチレンジオキ
シ、プロピレンジオキシのような炭素数１乃至４個のア
ルキレンジオキシ基を挙げることができ、好適には、低
級アルキル基及びハロゲン原子である。
【００２７】Ｒ15の定義における「保護基」とは、例え
ば、前記「低級アルキル基」；前記「脂肪族アシル
基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルの
ようなアリ−ルカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、
４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリ−ルカルボ
ニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トル
オイルのような低級アルキル化アリ−ルカルボニル基、
４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリ−ルカル
ボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシ
ベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボ
キシ化アリ−ルカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、
２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ−ルカルボ
ニル基、２−（メトキシカルボニル) ベンゾイルのよう
な低級アルコキシカルボニル化アリ−ルカルボニル基、
４−フェニルベンゾイルのようなアリ−ル化アリ−ルカ
ルボニル基等の「芳香族アシル基」；テトラヒドロピラ
ン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イ
ル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テト
ラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラ
ニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロ
フラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イル
のような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオ
フラニル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、
イソプロピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ-t−ブチル
シリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アル
キルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブ
チルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニル
ジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリ−ル基
で置換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル
基」；メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキ
シメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプ
ロポキシメチル、ブトキシメチル、tert−ブトキシメチ
ルのような低級アルコキシメチル基、２−メトキシエト
キシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメ
チル基、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス
（２−クロロエトキシ）メチルのようなハロゲノ低級ア
ルコキシメチル等の「アルコキシメチル基」；１−エト
キシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低
級アルコキシ化エチル基、２，２，２−トリクロロエチ
ルのようなハロゲン化エチル基等の「置換エチル基」；
ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃
至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基、４−
メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、
３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジ
ル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニト
ロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジ
ル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、メチ
ル、ピペロニルのような低級アルキル、低級アルコキ
シ、ハロゲン、シアノ基でアリ−ル環が置換された１乃
至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基等の
「アラルキル基」；メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、tert−ブトキシカルボニル、イソブトキシカル
ボニルのような低級アルコキシカルボニル基、２，２，
２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシ
リルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリ低級
アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニ
ル基等の「アルコキシカルボニル基」；ビニルオキシカ
ルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニ
ルオキシカルボニル基」；及びベンジルオキシカルボニ
ル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−
ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカル
ボニルのような、１乃至２個の低級アルコキシ又はニト
ロ基でアリ−ル環が置換されていてもよい「アラルキル
オキシカルボニル基」を挙げることができる。「その薬
理上許容される塩」とは、本発明の化合物（Ｉ）は、塩
にすることができるので、その塩をいい、そのような塩
としては、好適にはナトリウム塩、カリウム塩、リチウ
ム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシ
ウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、
鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属
塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミ
ン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミ
ン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレン
ジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、
ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン
塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノール
アミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラ
ジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロ
キシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン
塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸
塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩の
ような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、p-トルエンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン
酸塩、酢酸、りんご酸、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、ク
エン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸
塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オル
ニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のような
アミノ酸塩を挙げることができる。
ば、前記「低級アルキル基」；前記「脂肪族アシル
基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルの
ようなアリ−ルカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、
４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリ−ルカルボ
ニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トル
オイルのような低級アルキル化アリ−ルカルボニル基、
４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリ−ルカル
ボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシ
ベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボ
キシ化アリ−ルカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、
２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ−ルカルボ
ニル基、２−（メトキシカルボニル) ベンゾイルのよう
な低級アルコキシカルボニル化アリ−ルカルボニル基、
４−フェニルベンゾイルのようなアリ−ル化アリ−ルカ
ルボニル基等の「芳香族アシル基」；テトラヒドロピラ
ン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イ
ル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テト
ラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラ
ニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロ
フラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イル
のような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオ
フラニル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、
イソプロピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ-t−ブチル
シリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アル
キルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブ
チルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニル
ジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリ−ル基
で置換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル
基」；メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキ
シメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプ
ロポキシメチル、ブトキシメチル、tert−ブトキシメチ
ルのような低級アルコキシメチル基、２−メトキシエト
キシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメ
チル基、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス
（２−クロロエトキシ）メチルのようなハロゲノ低級ア
ルコキシメチル等の「アルコキシメチル基」；１−エト
キシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低
級アルコキシ化エチル基、２，２，２−トリクロロエチ
ルのようなハロゲン化エチル基等の「置換エチル基」；
ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃
至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基、４−
メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、
３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジ
ル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニト
ロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジ
ル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、メチ
ル、ピペロニルのような低級アルキル、低級アルコキ
シ、ハロゲン、シアノ基でアリ−ル環が置換された１乃
至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基等の
「アラルキル基」；メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、tert−ブトキシカルボニル、イソブトキシカル
ボニルのような低級アルコキシカルボニル基、２，２，
２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシ
リルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリ低級
アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニ
ル基等の「アルコキシカルボニル基」；ビニルオキシカ
ルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニ
ルオキシカルボニル基」；及びベンジルオキシカルボニ
ル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−
ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカル
ボニルのような、１乃至２個の低級アルコキシ又はニト
ロ基でアリ−ル環が置換されていてもよい「アラルキル
オキシカルボニル基」を挙げることができる。「その薬
理上許容される塩」とは、本発明の化合物（Ｉ）は、塩
にすることができるので、その塩をいい、そのような塩
としては、好適にはナトリウム塩、カリウム塩、リチウ
ム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシ
ウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、
鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属
塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミ
ン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミ
ン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレン
ジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、
ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン
塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノール
アミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラ
ジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロ
キシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン
塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸
塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩の
ような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、p-トルエンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン
酸塩、酢酸、りんご酸、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、ク
エン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸
塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オル
ニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のような
アミノ酸塩を挙げることができる。
【００２８】又、本発明の化合物（Ｉ）は、大気中に放
置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いた
り、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明に
包含される。
置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いた
り、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明に
包含される。
【００２９】「その薬理上許容されるエステル」とは、
本発明の化合物（Ｉ）は、エステルにすることができる
ので、そのエステルをいい、そのようなエステルとして
は、「カルボキシ基のエステル」を挙げることができ、
エステル残基が「生体内で加水分解のような生物学的方
法により開裂し得る保護基」であるエステルをいう。
本発明の化合物（Ｉ）は、エステルにすることができる
ので、そのエステルをいい、そのようなエステルとして
は、「カルボキシ基のエステル」を挙げることができ、
エステル残基が「生体内で加水分解のような生物学的方
法により開裂し得る保護基」であるエステルをいう。
【００３０】「生体内で加水分解のような生物学的方法
により開裂し得る保護基」とは、人体内で加水分解等の
生物学的方法により開裂し、フリーの酸又はその塩を生
成する保護基をいい、そのような誘導体か否かは、ラッ
トやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、
その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はその薬
理学的に許容される塩を検出できることにより決定で
き、「カルボキシ基のエステル」に斯かる「生体内で加
水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」
としては、具体的には、メトキシメチル、１−エトキシ
エチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−（イソ
プロポキシ）エチル、２−メトキシエチル、２−エトキ
シエチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エ
トキシメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキシ
メチル、ｎ−ブトキシメチル、tert−ブトキシメチルの
ような低級アルコキシ低級アルキル基、２−メトキシエ
トキシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシ
低級アルキル基、フェノキシメチルのような「アリー
ル」オキシ「低級アルキル基」、２，２，２−トリクロ
ロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル
のようなハロゲン化低級アルコキシ低級アルキル基等の
「アルコキシ低級アルキル基」：メトキシカルボニルメ
チルのような「低級アルコキシ」カルボニル「低級アル
キル基」；シアノメチル、２−シアノエチルのようなシ
アノ「低級アルキル基」；メチルチオメチル、エチルチ
オメチルのような「低級アルキル」チオメチル基；；フ
ェニルチオメチル、ナフチルチオメチルのような「アリ
ール」チオメチル基；２−メタンスルホニルエチル、２
−トリフルオロメタンスルホニルエチルのようなハロゲ
ンで置換されてもよい「低級アルキル」スルホニル「低
級アルキル基」；２−ベンゼンスルホニルエチル、２−
トルエンスルホニルエチルのような「アリール」スルホ
ニル「低級アルキル基」；ホルミルオキシメチル、アセ
トキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオ
キシメチル、ピバロイルオキシメチル、バレリルオキシ
メチル、イソバレリルオキシメチル、ヘキサノイルオキ
シメチル、１−ホルミルオキシエチル、１−アセトキシ
エチル、１−プロピオニルオキシエチル、１−ブチリル
オキシエチル、１−ピバロイルオキシエチル、１−バレ
リルオキシエチル、１−イソバレリルオキシエチル、１
−ヘキサノイルオキシエチル、２−ホルミルオキシエチ
ル、２−アセトキシエチル、２−プロピオニルオキシエ
チル、２−ブチリルオキシエチル、２−ピバロイルオキ
シエチル、２−バレリルオキシエチル、２−イソバレリ
ルオキシエチル、２−ヘキサノイルオキシエチル、１−
ホルミルオキシプロピル、１−アセトキシプロピル、１
−プロピオニルオキシプロピル、１−ブチリルオキシプ
ロピル、１−ピバロイルオキシプロピル、１−バレリル
オキシプロピル、１−イソバレリルオキシプロピル、１
−ヘキサノイルオキシプロピル、１−アセトキシブチ
ル、１−プロピオニルオキシブチル、１−ブチリルオキ
シブチル、１−ピバロイルオキシブチル、１−アセトキ
シペンチル、１−プロピオニルオキシペンチル、１−ブ
チリルオキシペンチル、１−ピバロイルオキシペンチ
ル、１−ピバロイルオキシヘキシルのような「脂肪族ア
シル」オキシ「低級アルキル基」、シクロペンチルカル
ボニルオキシメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシ
メチル、１−シクロペンチルカルボニルオキシエチル、
１−シクロヘキシルカルボニルオキシエチル、１−シク
ロペンチルカルボニルオキシプロピル、１−シクロヘキ
シルカルボニルオキシプロピル、１−シクロペンチルカ
ルボニルオキシブチル、１−シクロヘキシルカルボニル
オキシブチルのような「シクロアルキル」カルボニルオ
キシ「低級アルキル基」、ベンゾイルオキシメチルのよ
うな「芳香族アシル」オキシ「低級アルキル基」等のア
シルオキシ「低級アルキル基」；メトキシカルボニルオ
キシメチル、エトキシカルボニルオキシメチル、プロポ
キシカルボニルオキシメチル、イソプロポキシカルボニ
ルオキシメチル、ブトキシカルボニルオキシメチル、イ
ソブトキシカルボニルオキシメチル、ペンチルオキシカ
ルボニルオキシメチル、ヘキシルオキシカルボニルオキ
シメチル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ（シクロヘ
キシル）メチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）エ
チル、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（プロポキシカルボニルオキシ）エチル、１−（イソプ
ロポキシカルボニルオキシ）エチル、１−（ブトキシカ
ルボニルオキシ）エチル、１−（イソブトキシカルボニ
ルオキシ）エチル、１−（tert−ブトキシカルボニルオ
キシ）エチル、１−（ペンチルオキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（ヘキシルオキシカルボニルオキシ）
エチル、１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）プロピル、１−（シクロヘキシルオキシカルボニ
ルオキシ）プロピル、１−（シクロペンチルオキシカル
ボニルオキシ）ブチル、１−（シクロヘキシルオキシカ
ルボニルオキシ）ブチル、１−（シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシ）エチル、１−（エトキシカルボニル
オキシ）プロピル、２−（メトキシカルボニルオキシ）
エチル、２−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、２
−（プロポキシカルボニルオキシ）エチル、２−（イソ
プロポキシカルボニルオキシ）エチル、２−（ブトキシ
カルボニルオキシ）エチル、２−（イソブトキシカルボ
ニルオキシ）エチル、２−（ペンチルオキシカルボニル
オキシ）エチル、２−（ヘキシルオキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）プロピ
ル、１−（エトキシカルボニルオキシ）プロピル、１−
（プロポキシカルボニルオキシ）プロピル、１−（イソ
プロポキシカルボニルオキシ）プロピル、１−（ブトキ
シカルボニルオキシ）プロピル、１−（イソブトキシカ
ルボニルオキシ）プロピル、１−（ペンチルオキシカル
ボニルオキシ）プロピル、１−（ヘキシルオキシカルボ
ニルオキシ）プロピル、１−（メトキシカルボニルオキ
シ）ブチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）ブチ
ル、１−（プロポキシカルボニルオキシ）ブチル、１−
（イソプロポキシカルボニルオキシ）ブチル、１−（ブ
トキシカルボニルオキシ）ブチル、１−（イソブトキシ
カルボニルオキシ）ブチル、１−（メトキシカルボニル
オキシ）ペンチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）
ペンチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）ヘキシ
ル、１−（エトキシカルボニルオキシ）ヘキシルのよう
な（アルコキシカルボニルオキシ）アルキル基；（５−
フェニル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル）メチル、［５−（４−メチルフェニル）−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル、［５−
（４−メトキシフェニル）−２−オキソ−１，３−ジオ
キソレン−４−イル］メチル、［５−（４−フルオロフ
ェニル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル］メチル、［５−（４−クロロフェニル）−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル、（２−
オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４
−イル）メチル、（５−エチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル）メチル、（５−プロピル−２
−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
（５−イソプロピル−２−オキソ−１，３−ジオキソレ
ン−４−イル）メチル、（５−ブチル−２−オキソ−
１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルのようなオキ
ソジオキソレニルメチル基等の「カルボニルオキシアル
キル基」：フタリジル、ジメチルフタリジル、ジメトキ
シフタリジルのような「フタリジル基」：フェニル、イ
ンダニルのような「アリール基」：上記「低級アルキル
基」：カルボキシメチルのような「カルボキシアルキル
基」：及び、フェニルアラニンのような「アミノ酸のア
ミド形成残基」を挙げることができ、好適には、「脂肪
族アシル」オキシ「低級アルキル基」、「カルボニルオ
キシアルキル基」及び「フタリジル基」である。
により開裂し得る保護基」とは、人体内で加水分解等の
生物学的方法により開裂し、フリーの酸又はその塩を生
成する保護基をいい、そのような誘導体か否かは、ラッ
トやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、
その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はその薬
理学的に許容される塩を検出できることにより決定で
き、「カルボキシ基のエステル」に斯かる「生体内で加
水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」
としては、具体的には、メトキシメチル、１−エトキシ
エチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−（イソ
プロポキシ）エチル、２−メトキシエチル、２−エトキ
シエチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エ
トキシメチル、ｎ−プロポキシメチル、イソプロポキシ
メチル、ｎ−ブトキシメチル、tert−ブトキシメチルの
ような低級アルコキシ低級アルキル基、２−メトキシエ
トキシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシ
低級アルキル基、フェノキシメチルのような「アリー
ル」オキシ「低級アルキル基」、２，２，２−トリクロ
ロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル
のようなハロゲン化低級アルコキシ低級アルキル基等の
「アルコキシ低級アルキル基」：メトキシカルボニルメ
チルのような「低級アルコキシ」カルボニル「低級アル
キル基」；シアノメチル、２−シアノエチルのようなシ
アノ「低級アルキル基」；メチルチオメチル、エチルチ
オメチルのような「低級アルキル」チオメチル基；；フ
ェニルチオメチル、ナフチルチオメチルのような「アリ
ール」チオメチル基；２−メタンスルホニルエチル、２
−トリフルオロメタンスルホニルエチルのようなハロゲ
ンで置換されてもよい「低級アルキル」スルホニル「低
級アルキル基」；２−ベンゼンスルホニルエチル、２−
トルエンスルホニルエチルのような「アリール」スルホ
ニル「低級アルキル基」；ホルミルオキシメチル、アセ
トキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオ
キシメチル、ピバロイルオキシメチル、バレリルオキシ
メチル、イソバレリルオキシメチル、ヘキサノイルオキ
シメチル、１−ホルミルオキシエチル、１−アセトキシ
エチル、１−プロピオニルオキシエチル、１−ブチリル
オキシエチル、１−ピバロイルオキシエチル、１−バレ
リルオキシエチル、１−イソバレリルオキシエチル、１
−ヘキサノイルオキシエチル、２−ホルミルオキシエチ
ル、２−アセトキシエチル、２−プロピオニルオキシエ
チル、２−ブチリルオキシエチル、２−ピバロイルオキ
シエチル、２−バレリルオキシエチル、２−イソバレリ
ルオキシエチル、２−ヘキサノイルオキシエチル、１−
ホルミルオキシプロピル、１−アセトキシプロピル、１
−プロピオニルオキシプロピル、１−ブチリルオキシプ
ロピル、１−ピバロイルオキシプロピル、１−バレリル
オキシプロピル、１−イソバレリルオキシプロピル、１
−ヘキサノイルオキシプロピル、１−アセトキシブチ
ル、１−プロピオニルオキシブチル、１−ブチリルオキ
シブチル、１−ピバロイルオキシブチル、１−アセトキ
シペンチル、１−プロピオニルオキシペンチル、１−ブ
チリルオキシペンチル、１−ピバロイルオキシペンチ
ル、１−ピバロイルオキシヘキシルのような「脂肪族ア
シル」オキシ「低級アルキル基」、シクロペンチルカル
ボニルオキシメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシ
メチル、１−シクロペンチルカルボニルオキシエチル、
１−シクロヘキシルカルボニルオキシエチル、１−シク
ロペンチルカルボニルオキシプロピル、１−シクロヘキ
シルカルボニルオキシプロピル、１−シクロペンチルカ
ルボニルオキシブチル、１−シクロヘキシルカルボニル
オキシブチルのような「シクロアルキル」カルボニルオ
キシ「低級アルキル基」、ベンゾイルオキシメチルのよ
うな「芳香族アシル」オキシ「低級アルキル基」等のア
シルオキシ「低級アルキル基」；メトキシカルボニルオ
キシメチル、エトキシカルボニルオキシメチル、プロポ
キシカルボニルオキシメチル、イソプロポキシカルボニ
ルオキシメチル、ブトキシカルボニルオキシメチル、イ
ソブトキシカルボニルオキシメチル、ペンチルオキシカ
ルボニルオキシメチル、ヘキシルオキシカルボニルオキ
シメチル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ（シクロヘ
キシル）メチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）エ
チル、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（プロポキシカルボニルオキシ）エチル、１−（イソプ
ロポキシカルボニルオキシ）エチル、１−（ブトキシカ
ルボニルオキシ）エチル、１−（イソブトキシカルボニ
ルオキシ）エチル、１−（tert−ブトキシカルボニルオ
キシ）エチル、１−（ペンチルオキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（ヘキシルオキシカルボニルオキシ）
エチル、１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ）プロピル、１−（シクロヘキシルオキシカルボニ
ルオキシ）プロピル、１−（シクロペンチルオキシカル
ボニルオキシ）ブチル、１−（シクロヘキシルオキシカ
ルボニルオキシ）ブチル、１−（シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシ）エチル、１−（エトキシカルボニル
オキシ）プロピル、２−（メトキシカルボニルオキシ）
エチル、２−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、２
−（プロポキシカルボニルオキシ）エチル、２−（イソ
プロポキシカルボニルオキシ）エチル、２−（ブトキシ
カルボニルオキシ）エチル、２−（イソブトキシカルボ
ニルオキシ）エチル、２−（ペンチルオキシカルボニル
オキシ）エチル、２−（ヘキシルオキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）プロピ
ル、１−（エトキシカルボニルオキシ）プロピル、１−
（プロポキシカルボニルオキシ）プロピル、１−（イソ
プロポキシカルボニルオキシ）プロピル、１−（ブトキ
シカルボニルオキシ）プロピル、１−（イソブトキシカ
ルボニルオキシ）プロピル、１−（ペンチルオキシカル
ボニルオキシ）プロピル、１−（ヘキシルオキシカルボ
ニルオキシ）プロピル、１−（メトキシカルボニルオキ
シ）ブチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）ブチ
ル、１−（プロポキシカルボニルオキシ）ブチル、１−
（イソプロポキシカルボニルオキシ）ブチル、１−（ブ
トキシカルボニルオキシ）ブチル、１−（イソブトキシ
カルボニルオキシ）ブチル、１−（メトキシカルボニル
オキシ）ペンチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）
ペンチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）ヘキシ
ル、１−（エトキシカルボニルオキシ）ヘキシルのよう
な（アルコキシカルボニルオキシ）アルキル基；（５−
フェニル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル）メチル、［５−（４−メチルフェニル）−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル、［５−
（４−メトキシフェニル）−２−オキソ−１，３−ジオ
キソレン−４−イル］メチル、［５−（４−フルオロフ
ェニル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル］メチル、［５−（４−クロロフェニル）−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル、（２−
オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４
−イル）メチル、（５−エチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル）メチル、（５−プロピル−２
−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
（５−イソプロピル−２−オキソ−１，３−ジオキソレ
ン−４−イル）メチル、（５−ブチル−２−オキソ−
１，３−ジオキソレン−４−イル）メチルのようなオキ
ソジオキソレニルメチル基等の「カルボニルオキシアル
キル基」：フタリジル、ジメチルフタリジル、ジメトキ
シフタリジルのような「フタリジル基」：フェニル、イ
ンダニルのような「アリール基」：上記「低級アルキル
基」：カルボキシメチルのような「カルボキシアルキル
基」：及び、フェニルアラニンのような「アミノ酸のア
ミド形成残基」を挙げることができ、好適には、「脂肪
族アシル」オキシ「低級アルキル基」、「カルボニルオ
キシアルキル基」及び「フタリジル基」である。
【００３１】本発明の化合物（Ｉ）は、分子内に不斉炭
素を有する場合があり、各々が、Ｒ配位、Ｓ配位である
立体異性体が存在するが、その各々、或いはそれらの任
意の割合の混合物のいずれも本発明に包含される。
素を有する場合があり、各々が、Ｒ配位、Ｓ配位である
立体異性体が存在するが、その各々、或いはそれらの任
意の割合の混合物のいずれも本発明に包含される。
【００３２】
【発明の実施の形態】本発明の新規なベンゾヘテロ環誘
導体は、以下に記載する方法によって製造することがで
きる。
導体は、以下に記載する方法によって製造することがで
きる。
【００３３】＜Ａ法＞Ａ法は、５位に置換基を有するベ
ンゾヘテロ環誘導体の合成法である。
ンゾヘテロ環誘導体の合成法である。
【００３４】
【化７】
【００３５】上記式中、Ｒ2 、Ｒ4 乃至Ｒ12、及びＸ
は、前記と同意義を示し、Ｒ2'は、一般式−Ｇ−Ｊ−
Ｑ’を有する基（式中、Ｇ及びＪは、前記と同異議を示
し、Ｑ’は、保護されたカルボキシ基、置換されていて
もよいカルバモイル基又はシアノ基を示す。）を示す。
は、前記と同意義を示し、Ｒ2'は、一般式−Ｇ−Ｊ−
Ｑ’を有する基（式中、Ｇ及びＪは、前記と同異議を示
し、Ｑ’は、保護されたカルボキシ基、置換されていて
もよいカルバモイル基又はシアノ基を示す。）を示す。
【００３６】斯かる「保護されたカルボキシ基」の「保
護基」としては、例えば、前記「低級アルキル基」；エ
テニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル
−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−
メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニ
ル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−
ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１
−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−
２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニ
ル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテ
ニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−
２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペ
ンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−
３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペ
ンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニ
ル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニ
ル、５−ヘキセニルのような「アルケニル基」；エチニ
ル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、２
−メチル−２−プロピニル、２−エチル−２−プロピニ
ル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、２−メ
チル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、３−
ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３
−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−ペンチニ
ル、１−メチル−２−ペンチニル、２−メチル−２−ペ
ンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニ
ル、２−メチル−３−ペンチニル、４−ペンチニル、１
−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニ
ル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニ
ル、５−ヘキシニルのような「アルキニル基」；トリフ
ルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、
ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、
２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリク
ロロエチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２
−フルオロエチル、２−ヨードエチル、３−クロロプロ
ピル、４−フルオロブチル、６−ヨードヘキシル、２，
２−ジブロモエチルのような「ハロゲノ低級アルキル
基」；２−ヒドロキシエチル、２，３−ジヒドロキシプ
ロピル、３−ヒドロキシプロピル、３，４−ジヒドロキ
シブチル、４−ヒドロキシブチルのようなヒドロキシ
「低級アルキル基」；アセチルメチルのような「脂肪族
アシル」−「低級アルキル基」；ベンジル、フェネチ
ル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−
ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、６−フェニルヘキシル、α−ナフチルジフェニルメ
チル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリ
−ル基で置換された「低級アルキル基」、４−メチルベ
ンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５
−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メ
トキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジ
ル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブ
ロモベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジ
ルジフェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチ
ル、ピペロニル、４−メトキシカルボニルベンジルのよ
うな低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲ
ン、シアノ、アルコキシカルボニル基でアリ−ル環が置
換された１乃至３個のアリ−ル基で置換された低級アル
キル基等の「アラルキル基」；トリメチルシリル、トリ
エチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、tert−ブ
チルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メ
チルジtert−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル、
メチルジフェニルシリル、イソプロピルジフェニルシリ
ル、ブチルジフェニルシリル、フェニルジイソプロピル
シリルのような「シリル基」を挙げることができ、好適
には、「低級アルキル基」である。
護基」としては、例えば、前記「低級アルキル基」；エ
テニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル
−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−
メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニ
ル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−
ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１
−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−
２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニ
ル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテ
ニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−
２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペ
ンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−
３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペ
ンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニ
ル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニ
ル、５−ヘキセニルのような「アルケニル基」；エチニ
ル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、２
−メチル−２−プロピニル、２−エチル−２−プロピニ
ル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、２−メ
チル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、３−
ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３
−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−ペンチニ
ル、１−メチル−２−ペンチニル、２−メチル−２−ペ
ンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニ
ル、２−メチル−３−ペンチニル、４−ペンチニル、１
−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニ
ル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニ
ル、５−ヘキシニルのような「アルキニル基」；トリフ
ルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、
ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、
２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリク
ロロエチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２
−フルオロエチル、２−ヨードエチル、３−クロロプロ
ピル、４−フルオロブチル、６−ヨードヘキシル、２，
２−ジブロモエチルのような「ハロゲノ低級アルキル
基」；２−ヒドロキシエチル、２，３−ジヒドロキシプ
ロピル、３−ヒドロキシプロピル、３，４−ジヒドロキ
シブチル、４−ヒドロキシブチルのようなヒドロキシ
「低級アルキル基」；アセチルメチルのような「脂肪族
アシル」−「低級アルキル基」；ベンジル、フェネチ
ル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−
ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、６−フェニルヘキシル、α−ナフチルジフェニルメ
チル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個のアリ
−ル基で置換された「低級アルキル基」、４−メチルベ
ンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５
−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メ
トキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジ
ル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブ
ロモベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジ
ルジフェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチ
ル、ピペロニル、４−メトキシカルボニルベンジルのよ
うな低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲ
ン、シアノ、アルコキシカルボニル基でアリ−ル環が置
換された１乃至３個のアリ−ル基で置換された低級アル
キル基等の「アラルキル基」；トリメチルシリル、トリ
エチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、tert−ブ
チルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メ
チルジtert−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル、
メチルジフェニルシリル、イソプロピルジフェニルシリ
ル、ブチルジフェニルシリル、フェニルジイソプロピル
シリルのような「シリル基」を挙げることができ、好適
には、「低級アルキル基」である。
【００３７】Ｒ4'、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ
10' 及びＲ11' は、同一又は異なって、水素原子、保護
されていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミノ
基、ニトロ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基又は低級アルキルチオ基を示し、「保護され
ていてもよい水酸基」の「保護基」としては、 前記Ｒ
15の定義における「水酸基の保護基」と同様の基を示
す。
10' 及びＲ11' は、同一又は異なって、水素原子、保護
されていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミノ
基、ニトロ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基又は低級アルキルチオ基を示し、「保護され
ていてもよい水酸基」の「保護基」としては、 前記Ｒ
15の定義における「水酸基の保護基」と同様の基を示
す。
【００３８】一方、「保護されていてもよいアミノ基」
とは、下記の保護基が１又は２個アミノ基を保護してい
る基を示し、該保護基としては、通常アミノ基の保護基
として使用するものであれば限定はないが、好適には、
前記「脂肪族アシル基」；前記「芳香族アシル基」；前
記「アルコキシカルボニル基」；前記「アルケニルオキ
シカルボニル基」；前記「アラルキルオキシカルボニル
基」；前記「シリル基」；前記「アラルキル基」；又は
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、４−
メトキシベンジリデン、４−ニトロベンジリデン、サリ
シリデン、5-クロロサリシリデン、ジフェニルメチレ
ン、（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）フェニル
メチレンのようなシッフ塩基を形成する置換されたメチ
レン基であり、更に好適には、「脂肪族アシル基」；前
記「芳香族アシル基」及び前記「シリル基」である。
とは、下記の保護基が１又は２個アミノ基を保護してい
る基を示し、該保護基としては、通常アミノ基の保護基
として使用するものであれば限定はないが、好適には、
前記「脂肪族アシル基」；前記「芳香族アシル基」；前
記「アルコキシカルボニル基」；前記「アルケニルオキ
シカルボニル基」；前記「アラルキルオキシカルボニル
基」；前記「シリル基」；前記「アラルキル基」；又は
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、４−
メトキシベンジリデン、４−ニトロベンジリデン、サリ
シリデン、5-クロロサリシリデン、ジフェニルメチレ
ン、（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）フェニル
メチレンのようなシッフ塩基を形成する置換されたメチ
レン基であり、更に好適には、「脂肪族アシル基」；前
記「芳香族アシル基」及び前記「シリル基」である。
【００３９】Ｓｔｅｐ Ａ１は、化合物（１）のカルボ
ニル基に、水溶性の溶媒中、例えば、ヒドロキシアミン
や抱水ヒドラジンを作用させて、オキシムやヒドラゾン
に変換し、化合物（２）を製造する工程である。
ニル基に、水溶性の溶媒中、例えば、ヒドロキシアミン
や抱水ヒドラジンを作用させて、オキシムやヒドラゾン
に変換し、化合物（２）を製造する工程である。
【００４０】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解し、水溶性であれば特に限
定はないが、好適には、メタノ−ル、エタノ−ル、n-プ
ロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブ
タノ−ル、tert−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−
ル類又は、アルコ−ル類と水の混合溶媒を挙げることが
できる。
ず、出発物質をある程度溶解し、水溶性であれば特に限
定はないが、好適には、メタノ−ル、エタノ−ル、n-プ
ロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブ
タノ−ル、tert−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−
ル類又は、アルコ−ル類と水の混合溶媒を挙げることが
できる。
【００４１】尚、ヒドロキシアミンを反応試薬として使
用する場合には、塩基の存在下に、反応を行うのが好ま
しい。
用する場合には、塩基の存在下に、反応を行うのが好ま
しい。
【００４２】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、酢酸ナトリウムのようなアルカリ金属
酢酸塩類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアル
カリ金属炭酸水素塩類；弗化ナトリウム、弗化カリウム
のようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基類；メチル
メルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウ
ムのようなメルカプタンアルカリ金属類を挙げることが
できる。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、酢酸ナトリウムのようなアルカリ金属
酢酸塩類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアル
カリ金属炭酸水素塩類；弗化ナトリウム、弗化カリウム
のようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基類；メチル
メルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウ
ムのようなメルカプタンアルカリ金属類を挙げることが
できる。
【００４３】反応温度は０℃乃至２００℃で行なわれる
が、好適には、溶媒の沸点で還流させることによる。反
応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使
用される溶媒の種類によって異なるが、通常、３０分間
乃至５時間であり、好適には、１時間乃至２時間であ
る。
が、好適には、溶媒の沸点で還流させることによる。反
応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使
用される溶媒の種類によって異なるが、通常、３０分間
乃至５時間であり、好適には、１時間乃至２時間であ
る。
【００４４】Ｓｔｅｐ Ａ２は、化合物（２）におい
て、例えば、オキシムやヒドラゾンの末端の水酸基やア
ミノ基を、溶媒中、塩基の存在下に、ベンズアルデヒド
誘導体と反応させ、化合物（３）を製造する工程であ
る。
て、例えば、オキシムやヒドラゾンの末端の水酸基やア
ミノ基を、溶媒中、塩基の存在下に、ベンズアルデヒド
誘導体と反応させ、化合物（３）を製造する工程であ
る。
【００４５】使用される試薬としては、脱離基を有する
ベンズアルデヒド誘導体であれば特に限定はないが、好
適には、脱離基として弗素原子を有するベンズアルデヒ
ド誘導体であり、例えば、４−フルオロベンズアルデヒ
ドを挙げることができる。
ベンズアルデヒド誘導体であれば特に限定はないが、好
適には、脱離基として弗素原子を有するベンズアルデヒ
ド誘導体であり、例えば、４−フルオロベンズアルデヒ
ドを挙げることができる。
【００４６】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン
のようなケトン類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙
げることができる。使用される塩基としては、通常の反
応において塩基として使用されるものであれば、特に限
定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム
のようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金
属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水
酸化物類；弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアル
カリ金属弗化物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリ
ウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメ
トキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類を挙げる
ことができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン
のようなケトン類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙
げることができる。使用される塩基としては、通常の反
応において塩基として使用されるものであれば、特に限
定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム
のようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金
属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水
酸化物類；弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアル
カリ金属弗化物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリ
ウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメ
トキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類を挙げる
ことができる。
【００４７】反応温度は−２０℃乃至２００℃で行なわ
れるが、好適には、０℃乃至４０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１日
間であり、好適には、２時間乃至１０時間である。
れるが、好適には、０℃乃至４０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１日
間であり、好適には、２時間乃至１０時間である。
【００４８】Ｓｔｅｐ Ａ３は、化合物（３）を、溶媒
中、酸触媒下で処理することにより、環化させ、ベンゾ
ヘテロ環誘導体（４）を製造する工程である。
中、酸触媒下で処理することにより、環化させ、ベンゾ
ヘテロ環誘導体（４）を製造する工程である。
【００４９】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解し、水溶性であればするも
のであれば特に限定はないが、好適には、メタノ−ル、
エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、tert−ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ
のようなアルコ−ル類、水、又は、アルコ−ル類と水の
混合溶媒を挙げることができる。
ず、出発物質をある程度溶解し、水溶性であればするも
のであれば特に限定はないが、好適には、メタノ−ル、
エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、tert−ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ
のようなアルコ−ル類、水、又は、アルコ−ル類と水の
混合溶媒を挙げることができる。
【００５０】使用される酸触媒としては、通常の反応に
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレ
ンステッド酸を挙げることができ、好適には、無機酸と
有機酸の混合溶液であり、更に好適には、塩酸と酢酸の
混合溶液である。
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレ
ンステッド酸を挙げることができ、好適には、無機酸と
有機酸の混合溶液であり、更に好適には、塩酸と酢酸の
混合溶液である。
【００５１】反応温度は１０℃乃至２００℃で行なわれ
るが、好適には、５０℃乃至１５０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１０
時間であり、好適には、２時間乃至５時間である。
るが、好適には、５０℃乃至１５０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１０
時間であり、好適には、２時間乃至５時間である。
【００５２】Ｓｔｅｐ Ａ４は、ベンゾヘテロ環誘導体
（４）のアルデヒド基を、溶媒の存在下、酸化剤で酸化
して、カルボキシ基に変換し、化合物（５）を製造する
工程である。
（４）のアルデヒド基を、溶媒の存在下、酸化剤で酸化
して、カルボキシ基に変換し、化合物（５）を製造する
工程である。
【００５３】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解する、水溶性の溶媒であれ
ば特に限定はないが、好適には、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピ
ロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのような
スルホキシド類；水及び上記有機溶媒と水の混合溶媒を
挙げることができ、好適には、水とアミド類の混合溶媒
であり、更に好適には、水とＮ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミドの混合溶媒である。
ず、出発物質をある程度溶解する、水溶性の溶媒であれ
ば特に限定はないが、好適には、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピ
ロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのような
スルホキシド類；水及び上記有機溶媒と水の混合溶媒を
挙げることができ、好適には、水とアミド類の混合溶媒
であり、更に好適には、水とＮ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミドの混合溶媒である。
【００５４】使用される酸化剤とは、通常、酸化反応に
使用されるものであれば特に限定はないが、好適には、
過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸類；亜硝酸のよう
な亜硝酸化合物；亜塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウ
ムのような亜塩素酸化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナ
トリウムのような過硫酸化合物等の無機酸化剤を挙げる
ことができ、好適には、亜塩素酸化合物である。
使用されるものであれば特に限定はないが、好適には、
過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸類；亜硝酸のよう
な亜硝酸化合物；亜塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウ
ムのような亜塩素酸化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナ
トリウムのような過硫酸化合物等の無機酸化剤を挙げる
ことができ、好適には、亜塩素酸化合物である。
【００５５】尚、燐酸二水素ナトリウムのような緩衝剤
やイソペンテンのような生成してくるハロゲン原子をト
ラップする化合物を用いることにより、反応を短時間
に、綺麗に行える場合がある。
やイソペンテンのような生成してくるハロゲン原子をト
ラップする化合物を用いることにより、反応を短時間
に、綺麗に行える場合がある。
【００５６】反応温度は−２０℃乃至１００℃で行なわ
れるが、好適には、１０℃乃至３０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１０
時間であり、好適には、２時間乃至５時間である。
れるが、好適には、１０℃乃至３０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１０
時間であり、好適には、２時間乃至５時間である。
【００５７】Ｓｔｅｐ Ａ５は、化合物（５）のカルボ
キシ基を、溶媒中、塩基の存在下に、アミン化合物と反
応させ、アミド化合物を製造した後、所望により、
（ａ）Ｑがカルボキシ基を示す本願発明化合物の場合
に、カルボキシ基の保護基を除去、（ｂ）Ｑがテトラゾ
イル基を示す本願発明化合物の場合に、相当するシアノ
誘導体を常法により閉環し、テトラゾイル基を製造、
（ｃ）Ｒ4'、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及
びＲ11' が、同一又は異なって、保護されていてもよい
水酸基又は保護されていてもよいアミノ基を示す本願発
明化合物の場合に、当該保護基の除去、を行い、本願発
明化合物（６）を製造する工程である。
キシ基を、溶媒中、塩基の存在下に、アミン化合物と反
応させ、アミド化合物を製造した後、所望により、
（ａ）Ｑがカルボキシ基を示す本願発明化合物の場合
に、カルボキシ基の保護基を除去、（ｂ）Ｑがテトラゾ
イル基を示す本願発明化合物の場合に、相当するシアノ
誘導体を常法により閉環し、テトラゾイル基を製造、
（ｃ）Ｒ4'、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及
びＲ11' が、同一又は異なって、保護されていてもよい
水酸基又は保護されていてもよいアミノ基を示す本願発
明化合物の場合に、当該保護基の除去、を行い、本願発
明化合物（６）を製造する工程である。
【００５８】主工程である、アミド化合物の製造は、活
性化された酸残基（例えば、酸ハライド、酸無水物等）
に変換し、相当するアミンＲ12ＮＨ2 と反応させる方法
によって行なわれる。即ち、（ｉ）ハロゲン化剤（例え
ば、五塩化リン、塩化チオニル、塩化オキザリル等）と
室温付近で３０分乃至５時間処理し、相当する酸ハライ
ド、又は、（ｉｉ）トリエチルアミンのような有機塩基
の存在下に、クロロ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチルのよ
うなクロロ蟻酸エステル類；又は２，４，６−トリス
（イソプロピル）フェニルスルホニルクロリドのような
フェニルスルホニルクロリド類と処理し、相当する酸無
水物に変換した後、不活性溶媒中（反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピ
ルのようなエステル類；エ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ−テル類
又はアセトニトリルのようなニトリル類）、塩基（例え
ば、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ
（ｔ−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、
１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン
（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オ
クタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩
基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウム ビス（トリメチルシリル）アミドのよう
な有機金属塩基類）存在下、−１０℃乃至１５０℃（好
適には、室温付近）で、１０分乃至１５時間（好適に
は、３０分乃至１０時間）反応させることにより達成さ
れる。
性化された酸残基（例えば、酸ハライド、酸無水物等）
に変換し、相当するアミンＲ12ＮＨ2 と反応させる方法
によって行なわれる。即ち、（ｉ）ハロゲン化剤（例え
ば、五塩化リン、塩化チオニル、塩化オキザリル等）と
室温付近で３０分乃至５時間処理し、相当する酸ハライ
ド、又は、（ｉｉ）トリエチルアミンのような有機塩基
の存在下に、クロロ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチルのよ
うなクロロ蟻酸エステル類；又は２，４，６−トリス
（イソプロピル）フェニルスルホニルクロリドのような
フェニルスルホニルクロリド類と処理し、相当する酸無
水物に変換した後、不活性溶媒中（反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルムの
ようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピ
ルのようなエステル類；エ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ−テル類
又はアセトニトリルのようなニトリル類）、塩基（例え
ば、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ
（ｔ−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、
１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン
（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オ
クタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩
基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウム ビス（トリメチルシリル）アミドのよう
な有機金属塩基類）存在下、−１０℃乃至１５０℃（好
適には、室温付近）で、１０分乃至１５時間（好適に
は、３０分乃至１０時間）反応させることにより達成さ
れる。
【００５９】所望の工程である、Ｑがカルボキシ基を示
す本願発明化合物の場合に、カルボキシ基の保護基を除
去する工程において、保護基の除去はその種類によって
異なるが、一般にこの分野の技術において周知の方法に
よって以下の様に実施される。
す本願発明化合物の場合に、カルボキシ基の保護基を除
去する工程において、保護基の除去はその種類によって
異なるが、一般にこの分野の技術において周知の方法に
よって以下の様に実施される。
【００６０】カルボキシ基の保護基として、低級アルキ
ル基又はアリ−ル基を使用した場合には、酸又は塩基で
処理することにより除去することができる。酸として
は、塩酸、硫酸、燐酸、臭化水素酸が用いられ、塩基と
しては、化合物の他の部分に影響を与えないものであれ
ば特に限定はないが、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物又は
濃アンモニア−メタノ−ル溶液が用いられる。尚、塩基
による加水分解では異性化が起こることがある。使用さ
れる溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるも
ので、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、
水又はメタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ルのよう
なアルコ−ル類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類のような有機溶媒と水との混合溶
媒が好適である。反応温度及び反応時間は、出発物質、
溶媒及び用いる試薬等により異なり、特に限定はない
が、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃
で、1 乃至１０時間実施される。
ル基又はアリ−ル基を使用した場合には、酸又は塩基で
処理することにより除去することができる。酸として
は、塩酸、硫酸、燐酸、臭化水素酸が用いられ、塩基と
しては、化合物の他の部分に影響を与えないものであれ
ば特に限定はないが、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物又は
濃アンモニア−メタノ−ル溶液が用いられる。尚、塩基
による加水分解では異性化が起こることがある。使用さ
れる溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるも
ので、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、
水又はメタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ルのよう
なアルコ−ル類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類のような有機溶媒と水との混合溶
媒が好適である。反応温度及び反応時間は、出発物質、
溶媒及び用いる試薬等により異なり、特に限定はない
が、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃
で、1 乃至１０時間実施される。
【００６１】カルボキシ基の保護基がジフェニルメチル
のようなジアリ−ル置換メチル基である場合には、通
常、溶媒中、酸で処理することにより除去される。使用
される溶媒としては、アニソ−ルのような芳香族炭化水
素類が好ましく、使用される酸としては、トリフルオロ
酢酸のような弗化有機酸が用いられる。反応温度及び反
応時間は、出発物質、溶媒、使用される酸等により異な
るが、通常は室温で３０分乃至１０時間実施される。
のようなジアリ−ル置換メチル基である場合には、通
常、溶媒中、酸で処理することにより除去される。使用
される溶媒としては、アニソ−ルのような芳香族炭化水
素類が好ましく、使用される酸としては、トリフルオロ
酢酸のような弗化有機酸が用いられる。反応温度及び反
応時間は、出発物質、溶媒、使用される酸等により異な
るが、通常は室温で３０分乃至１０時間実施される。
【００６２】カルボキシ基の保護基がアラルキル基又は
ハロゲノ低級アルキル基である場合には、通常、溶媒
中、還元により除去される。還元方法としては、カルボ
キシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場合に
は、亜鉛−酢酸のような化学的還元による方法が好適で
あり、アラルキル基である場合には、パラジウム炭素、
白金のような触媒を用い接触還元による方法を行なう
か、又は硫化カリウム、硫化ナトリウムのようなアルカ
リ金属硫化物を用いて、化学的還元による方法により実
施される。使用される溶媒としては、本反応に関与しな
いものであれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ
−ルのようなアルコ−ル類；テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエ−テル類；酢酸のような脂肪酸又はこ
れらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温
度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び還元方法等によ
り異なるが、通常は０℃乃至室温付近で、５分乃至１２
時間実施される。
ハロゲノ低級アルキル基である場合には、通常、溶媒
中、還元により除去される。還元方法としては、カルボ
キシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場合に
は、亜鉛−酢酸のような化学的還元による方法が好適で
あり、アラルキル基である場合には、パラジウム炭素、
白金のような触媒を用い接触還元による方法を行なう
か、又は硫化カリウム、硫化ナトリウムのようなアルカ
リ金属硫化物を用いて、化学的還元による方法により実
施される。使用される溶媒としては、本反応に関与しな
いものであれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ
−ルのようなアルコ−ル類；テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエ−テル類；酢酸のような脂肪酸又はこ
れらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温
度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び還元方法等によ
り異なるが、通常は０℃乃至室温付近で、５分乃至１２
時間実施される。
【００６３】カルボキシ基の保護基がアルコキシメチル
基である場合には、通常、溶媒中、酸で処理することに
より除去される。使用される酸としては、通常ブレンス
テッド酸として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には塩酸、硫酸のような無機酸又は酢酸、パラ
トルエンスルホン酸のような有機酸である。使用される
溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限
定はないが、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−
ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テ
ル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用
される酸の種類等により異なるが、通常は０℃乃至５０
℃で、 １０分乃至１８時間実施される。
基である場合には、通常、溶媒中、酸で処理することに
より除去される。使用される酸としては、通常ブレンス
テッド酸として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には塩酸、硫酸のような無機酸又は酢酸、パラ
トルエンスルホン酸のような有機酸である。使用される
溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限
定はないが、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−
ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テ
ル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用
される酸の種類等により異なるが、通常は０℃乃至５０
℃で、 １０分乃至１８時間実施される。
【００６４】尚、カルボキシ基の保護基の除去を常法に
従い、アンモニア処理により行なうと、アミド化するこ
ともできる。
従い、アンモニア処理により行なうと、アミド化するこ
ともできる。
【００６５】又、所望により、常法に従って、上記生成
したカルボン酸を、水と酢酸エチルのような水と混和し
ない有機溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭
酸塩若しくは重炭酸塩水溶液を、0 ℃乃至室温下に加
え、次いで、pH７付近とし析出した沈殿を瀘取すること
によりアルキル金属塩を製造することができる。
したカルボン酸を、水と酢酸エチルのような水と混和し
ない有機溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭
酸塩若しくは重炭酸塩水溶液を、0 ℃乃至室温下に加
え、次いで、pH７付近とし析出した沈殿を瀘取すること
によりアルキル金属塩を製造することができる。
【００６６】更に、このようにして製造した塩、又は上
記カルボン酸を、溶媒（好適には、テトラヒドロフラン
のようなエ−テル類又はN,N-ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ド、トリエチルホスフェ−トのような極性溶媒類）中、
２当量の塩基（好適には、トリエチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミンのような有機塩基、ナトリウムヒドリド
のような水素化アルカリ金属塩類又は炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩若しくは重炭酸塩）と反応させ、これにアセト
キシメチルクロリド、プロピオニルオキシメチルブロミ
ドのような脂肪族アシルオキシメチルハライド類、1-メ
トキシカルボニルオキシエチルクロリド、1-エトキシカ
ルボニルオキシエチルイオダイドのような1-低級アルコ
キシカルボニルオキシエチルハライド類、フタリジルハ
ライド類又は（2-オキソ-5- メチル-1,3- ジオキソレン
−４−イル）メチルハライド類を反応させることによ
り、生体内で加水分解されやすいカルボキシ基の保護基
で再び保護されたエステル体を製造することができる。
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び反応試薬
の種類により異なるが、通常、０℃乃至１００℃で、
０．５乃至１０時間実施される。
記カルボン酸を、溶媒（好適には、テトラヒドロフラン
のようなエ−テル類又はN,N-ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ド、トリエチルホスフェ−トのような極性溶媒類）中、
２当量の塩基（好適には、トリエチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミンのような有機塩基、ナトリウムヒドリド
のような水素化アルカリ金属塩類又は炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩若しくは重炭酸塩）と反応させ、これにアセト
キシメチルクロリド、プロピオニルオキシメチルブロミ
ドのような脂肪族アシルオキシメチルハライド類、1-メ
トキシカルボニルオキシエチルクロリド、1-エトキシカ
ルボニルオキシエチルイオダイドのような1-低級アルコ
キシカルボニルオキシエチルハライド類、フタリジルハ
ライド類又は（2-オキソ-5- メチル-1,3- ジオキソレン
−４−イル）メチルハライド類を反応させることによ
り、生体内で加水分解されやすいカルボキシ基の保護基
で再び保護されたエステル体を製造することができる。
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び反応試薬
の種類により異なるが、通常、０℃乃至１００℃で、
０．５乃至１０時間実施される。
【００６７】所望の工程である、Ｒ４’、Ｒ5'、Ｒ6'、
Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11'が、同一又は異な
って、保護されていてもよい水酸基又は保護されていて
もよいアミノ基を示す本願発明化合物の場合に、当該保
護基の除去工程において、保護基の除去はその種類によ
って異なるが、一般にこの分野の技術において周知の方
法によって以下の様に実施される。
Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11'が、同一又は異な
って、保護されていてもよい水酸基又は保護されていて
もよいアミノ基を示す本願発明化合物の場合に、当該保
護基の除去工程において、保護基の除去はその種類によ
って異なるが、一般にこの分野の技術において周知の方
法によって以下の様に実施される。
【００６８】水酸基及び／又はアミノ基の保護基とし
て、シリル基を使用した場合には、通常、弗化テトラブ
チルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジ
ン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合
物で処理するか、又は、酢酸、メタンスルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸のような有機酸又は塩酸のような無機
酸で処理することにより除去できる。尚、弗素アニオン
により除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のよ
うな有機酸を加えることによって、反応が促進すること
がある。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類；水；酢酸のような有機酸及びこれらの
混合溶媒を挙げることができる。反応温度及び反応時間
は、特に限定はないが、通常、０℃乃至１００℃（好適
には、１０℃乃至３０℃）で、１乃至２４時間実施され
る。
て、シリル基を使用した場合には、通常、弗化テトラブ
チルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジ
ン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合
物で処理するか、又は、酢酸、メタンスルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸のような有機酸又は塩酸のような無機
酸で処理することにより除去できる。尚、弗素アニオン
により除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のよ
うな有機酸を加えることによって、反応が促進すること
がある。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類；水；酢酸のような有機酸及びこれらの
混合溶媒を挙げることができる。反応温度及び反応時間
は、特に限定はないが、通常、０℃乃至１００℃（好適
には、１０℃乃至３０℃）で、１乃至２４時間実施され
る。
【００６９】水酸基及び／又はアミノ基の保護基が、ア
ラルキル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場
合には、通常、溶媒中、還元剤と接触させることにより
（好適には、触媒下に常温にて接触還元）除去する方法
又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。接触還
元による除去において使用される溶媒としては、本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノ−
ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ルのようなアルコ−ル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、トルエン、ベンゼン、キシレン
のような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン
のような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル
のようなエステル類、ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類、蟻酸、酢酸のような脂肪酸類、水、又はこれらの混
合溶媒が好適であり、更に好適には、アルコ−ル類、脂
肪酸類、アルコ−ル類とエーテル類との混合溶媒、アル
コ−ル類と水との混合溶媒、又は、脂肪酸類と水との混
合溶媒である。
ラルキル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場
合には、通常、溶媒中、還元剤と接触させることにより
（好適には、触媒下に常温にて接触還元）除去する方法
又は酸化剤を用いて除去する方法が好適である。接触還
元による除去において使用される溶媒としては、本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノ−
ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ルのようなアルコ−ル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、トルエン、ベンゼン、キシレン
のような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン
のような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル
のようなエステル類、ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類、蟻酸、酢酸のような脂肪酸類、水、又はこれらの混
合溶媒が好適であり、更に好適には、アルコ−ル類、脂
肪酸類、アルコ−ル類とエーテル類との混合溶媒、アル
コ−ル類と水との混合溶媒、又は、脂肪酸類と水との混
合溶媒である。
【００７０】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、パラジウム黒、ラネ−ニッケ
ル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、
トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−
硫酸バリウムが用いられる。圧力は、特に限定はない
が、通常１乃至１０気圧で行なわれる。反応温度及び反
応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異な
るが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至
７０℃）、５分乃至４８時間（好適には、１時間乃至２
４時間）である。
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、パラジウム黒、ラネ−ニッケ
ル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、
トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−
硫酸バリウムが用いられる。圧力は、特に限定はない
が、通常１乃至１０気圧で行なわれる。反応温度及び反
応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異な
るが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至
７０℃）、５分乃至４８時間（好適には、１時間乃至２
４時間）である。
【００７１】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。使用される酸化剤とし
ては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ
-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) が用いられる。
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種
類等により異なるが、通常、０乃至１５０℃で、１０分
乃至２４時間実施される。
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。使用される酸化剤とし
ては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ
-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) が用いられる。
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種
類等により異なるが、通常、０乃至１５０℃で、１０分
乃至２４時間実施される。
【００７２】又、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−７８
乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−７８
乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。
【００７３】更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナ
トリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのようなア
ルキルシリルハライド類を用いても除去することができ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、アセトニトリル
のようなニトリル類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶媒が
使用される。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
等により異なるが、通常は０乃至５０℃で、５分乃至３
日間実施される。
トリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのようなア
ルキルシリルハライド類を用いても除去することができ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、アセトニトリル
のようなニトリル類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶媒が
使用される。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
等により異なるが、通常は０乃至５０℃で、５分乃至３
日間実施される。
【００７４】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。
【００７５】水酸基及び／又はアミノ基の保護基が、脂
肪族アシル基、芳香族アシル基、アルコキシカルボニル
基又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基であ
る場合には、溶媒中、塩基で処理することにより除去さ
れる。
肪族アシル基、芳香族アシル基、アルコキシカルボニル
基又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基であ
る場合には、溶媒中、塩基で処理することにより除去さ
れる。
【００７６】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適にはナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド
類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなアル
カリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メ
タノ−ルのようなアンモニア類が用いられる。使用され
る溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるもの
であれば特に限定はなく、水；メタノ−ル、エタノ−
ル、n-プロパノ−ルのようなアルコ−ル類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類等の有機溶媒
又は水と上記有機溶媒との混合溶媒が好適である。反応
温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される塩
基等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制する
ために、通常は０乃至１５０℃で、1 乃至１０時間実施
される。
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適にはナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド
類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなアル
カリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メ
タノ−ルのようなアンモニア類が用いられる。使用され
る溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるもの
であれば特に限定はなく、水；メタノ−ル、エタノ−
ル、n-プロパノ−ルのようなアルコ−ル類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類等の有機溶媒
又は水と上記有機溶媒との混合溶媒が好適である。反応
温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される塩
基等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制する
ために、通常は０乃至１５０℃で、1 乃至１０時間実施
される。
【００７７】水酸基及び／又はアミノ基の保護基が、ア
ルコキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒ
ドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラ
ヒドロチオフラニル基又は置換されたエチル基である場
合には、通常、溶媒中、酸で処理することにより除去さ
れる。使用される酸としては、通常、ブレンステッド酸
又はルイス酸として使用されるものであれば特に限定は
なく、好適には、塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸のような
無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸等のブレン
ステッド酸：三弗化ホウ素のようなルイス酸であるが、
ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交換樹脂
も使用することができる。使用される溶媒としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエス
テル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタ
ノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコー
ル、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、
メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水、又は、
これらの混合溶媒が好適であり、更に好適には、ハロゲ
ン化炭化水素類、エステル類又はエ−テル類である。反
応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される
酸の種類・濃度等により異なるが、通常は−１０乃至１
００℃（好適には、−５乃至５０℃）で、５分乃至４８
時間（好適には、３０分乃至１０時間）である。
ルコキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒ
ドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラ
ヒドロチオフラニル基又は置換されたエチル基である場
合には、通常、溶媒中、酸で処理することにより除去さ
れる。使用される酸としては、通常、ブレンステッド酸
又はルイス酸として使用されるものであれば特に限定は
なく、好適には、塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸のような
無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸等のブレン
ステッド酸：三弗化ホウ素のようなルイス酸であるが、
ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交換樹脂
も使用することができる。使用される溶媒としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエス
テル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタ
ノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコー
ル、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、
メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水、又は、
これらの混合溶媒が好適であり、更に好適には、ハロゲ
ン化炭化水素類、エステル類又はエ−テル類である。反
応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される
酸の種類・濃度等により異なるが、通常は−１０乃至１
００℃（好適には、−５乃至５０℃）で、５分乃至４８
時間（好適には、３０分乃至１０時間）である。
【００７８】水酸基及び／又はアミノ基の保護基が、ア
ルケニルオキシカルボニル基である場合は、通常、水酸
基の保護基が前記の脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアルコキシカルボニル基である場合の除去反応の条件
と同様にして、塩基と処理することにより達成される。
ルケニルオキシカルボニル基である場合は、通常、水酸
基の保護基が前記の脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアルコキシカルボニル基である場合の除去反応の条件
と同様にして、塩基と処理することにより達成される。
【００７９】尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特
にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス
（メチルジフェニルホスフィン）（１，５−シクロオク
タジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキサフルオロホスフェ
−トを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく
実施することができる。
にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス
（メチルジフェニルホスフィン）（１，５−シクロオク
タジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキサフルオロホスフェ
−トを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく
実施することができる。
【００８０】水酸基の保護基として、低級アルキル基を
使用した場合には、通常、塩酸のようなブレンステッド
酸とピリジンのような塩基の存在下に処理されることに
より、除去される。
使用した場合には、通常、塩酸のようなブレンステッド
酸とピリジンのような塩基の存在下に処理されることに
より、除去される。
【００８１】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び使用される酸の種類・濃度等により異なるが、通常
は１００℃乃至３５０℃（好適には、１５０℃乃至２５
０℃）で、１０分間乃至４８時間（好適には、３０分乃
至１０時間）である。
及び使用される酸の種類・濃度等により異なるが、通常
は１００℃乃至３５０℃（好適には、１５０℃乃至２５
０℃）で、１０分間乃至４８時間（好適には、３０分乃
至１０時間）である。
【００８２】尚、上記のような水酸基及び／又はアミノ
基の保護基を除去する操作によって、カルボキシ基の保
護基が同時に除去されることもある。
基の保護基を除去する操作によって、カルボキシ基の保
護基が同時に除去されることもある。
【００８３】上記の水酸基及び／又はアミノ基の保護基
の除去反応及びカルボキシ基の保護基の除去反応は、順
不同で希望する除去反応を順次実施することができる。
の除去反応及びカルボキシ基の保護基の除去反応は、順
不同で希望する除去反応を順次実施することができる。
【００８４】＜Ｂ法＞Ｂ法は、５位又は６位に置換基を
有するベンゾヘテロ環誘導体の合成法である。
有するベンゾヘテロ環誘導体の合成法である。
【００８５】
【化８】
【００８６】上記式中、Ｒ2 、Ｒ4 乃至Ｒ6 、Ｒ8 乃至
Ｒ11、Ｒ15、Ｒ2'、Ｒ4'乃至Ｒ6'、Ｒ8'乃至Ｒ11' 及び
Ｘは、前記と同意義を示し、Ｘ' は、酸素原子、硫黄原
子又はイミノ基を示し、Ｙは、求核性脱離基を示し、通
常、求核残基として脱離する基であれば特に限定はない
が、好適には、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原
子；メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ
のような低級アルカンスルホニルオキシ基；トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスル
ホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニル
オキシ基；ベンゼンスルホニルオキシ、p-トルエンスル
ホニルオキシ、p-ニトロベンゼンスルホニルオキシのよ
うなアリ−ルスルホニルオキシ基を挙げることができ、
更に好適には、ハロゲン原子及びハロゲノ低級アルカン
スルホニルオキシ基である。
Ｒ11、Ｒ15、Ｒ2'、Ｒ4'乃至Ｒ6'、Ｒ8'乃至Ｒ11' 及び
Ｘは、前記と同意義を示し、Ｘ' は、酸素原子、硫黄原
子又はイミノ基を示し、Ｙは、求核性脱離基を示し、通
常、求核残基として脱離する基であれば特に限定はない
が、好適には、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原
子；メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ
のような低級アルカンスルホニルオキシ基；トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスル
ホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニル
オキシ基；ベンゼンスルホニルオキシ、p-トルエンスル
ホニルオキシ、p-ニトロベンゼンスルホニルオキシのよ
うなアリ−ルスルホニルオキシ基を挙げることができ、
更に好適には、ハロゲン原子及びハロゲノ低級アルカン
スルホニルオキシ基である。
【００８７】Ｒ16は、Ｒ15と同様に、水酸基の保護基を
示す。
示す。
【００８８】Ｓｔｅｐ Ｂ１は、化合物（７）と一方の
端が保護されたアセチレン誘導体とを、溶媒中、塩基及
び触媒の存在下、カップリングさせ、次いで、アセチレ
ン残基の保護基を除去し、アセチレン誘導体（８）を製
造する工程である。
端が保護されたアセチレン誘導体とを、溶媒中、塩基及
び触媒の存在下、カップリングさせ、次いで、アセチレ
ン残基の保護基を除去し、アセチレン誘導体（８）を製
造する工程である。
【００８９】使用される、一方の端が保護されたアセチ
レン誘導体とは、例えば、前記「シリル基」で一方の端
が保護されたアセチレンをいい、好適には、トリ低級ア
ルキルシリルアセチレンであり、更に好適には、トリメ
チルシリルアセチレンである。使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−
ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−
ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレン
グリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサ
ノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニト
ロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；ア
セトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル
類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシ
ド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げることが
できる。使用される塩基としては、通常の反応において
塩基として使用されるものであれば、特に限定はない
が、好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢ
Ｎ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類
を挙げることができる。
レン誘導体とは、例えば、前記「シリル基」で一方の端
が保護されたアセチレンをいい、好適には、トリ低級ア
ルキルシリルアセチレンであり、更に好適には、トリメ
チルシリルアセチレンである。使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−
ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−
ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレン
グリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサ
ノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニト
ロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；ア
セトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル
類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシ
ド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げることが
できる。使用される塩基としては、通常の反応において
塩基として使用されるものであれば、特に限定はない
が、好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢ
Ｎ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類
を挙げることができる。
【００９０】使用される触媒としては、通常、カップリ
ング反応において使用されるものであれば、特に限定は
なく、亜鉛化合物、ホウ素化合物、錫化合物及びパラジ
ウム化合物を使用することができるが、好適には、パラ
ジウム化合物であり、例えば、テトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウム・ジクロライド、ビス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム・ジアセテートのような化合物
を挙げることができ、更に好適には、ビス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム・ジクロライドである。
ング反応において使用されるものであれば、特に限定は
なく、亜鉛化合物、ホウ素化合物、錫化合物及びパラジ
ウム化合物を使用することができるが、好適には、パラ
ジウム化合物であり、例えば、テトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウム・ジクロライド、ビス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム・ジアセテートのような化合物
を挙げることができ、更に好適には、ビス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム・ジクロライドである。
【００９１】反応温度は５０℃乃至２００℃で行なわれ
るが、好適には、７０℃乃至１５０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至２０
時間であり、好適には、２時間乃至５時間である。アセ
チレン残基の保護基の除去は、通常、溶媒の存在下、塩
基で処理することにより達成される。
るが、好適には、７０℃乃至１５０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至２０
時間であり、好適には、２時間乃至５時間である。アセ
チレン残基の保護基の除去は、通常、溶媒の存在下、塩
基で処理することにより達成される。
【００９２】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、メタノ−ル、エタノ−ルのような
アルコ−ル類；アセトンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ
−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホラ
ンのようなスルホキシド類；水又は水と上記有機溶媒を
挙げることができる。使用される塩基としては、通常の
反応において塩基として使用されるものであれば、特に
限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類又は硝
酸銀のような硝酸化合物を挙げることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、メタノ−ル、エタノ−ルのような
アルコ−ル類；アセトンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ
−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホラ
ンのようなスルホキシド類；水又は水と上記有機溶媒を
挙げることができる。使用される塩基としては、通常の
反応において塩基として使用されるものであれば、特に
限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類又は硝
酸銀のような硝酸化合物を挙げることができる。
【００９３】反応温度は０℃乃至１００℃で行なわれる
が、好適には、室温である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常、１０分間乃至５時間であり、好
適には、３０分間乃至２時間である。
が、好適には、室温である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常、１０分間乃至５時間であり、好
適には、３０分間乃至２時間である。
【００９４】Ｓｔｅｐ Ｂ２は、化合物（８）と相当す
るベンゼン誘導体とを、ＳｔｅｐＢ１の前段の工程と同
様にして、カップリングさせ、化合物（９）を製造する
工程である。
るベンゼン誘導体とを、ＳｔｅｐＢ１の前段の工程と同
様にして、カップリングさせ、化合物（９）を製造する
工程である。
【００９５】尚、副反応を抑制し、反応を収率良く行わ
せるためには、アルデヒド基を、常法に従って、アセタ
ール（好適には、ジメチルアセタール）のような形で保
護しておくことが好ましい。
せるためには、アルデヒド基を、常法に従って、アセタ
ール（好適には、ジメチルアセタール）のような形で保
護しておくことが好ましい。
【００９６】Ｓｔｅｐ Ｂ３は、化合物（９）のＲ15基
を除去できる条件で処理することにより、化合物（９）
を閉環させ、ベンゾヘテロ環誘導体（１０）を製造する
工程である。
を除去できる条件で処理することにより、化合物（９）
を閉環させ、ベンゾヘテロ環誘導体（１０）を製造する
工程である。
【００９７】化合物（９）のＲ15基の除去は、Ｓｔｅｐ
Ａ５における水酸基の保護基の除去反応と同様にして実
施される。
Ａ５における水酸基の保護基の除去反応と同様にして実
施される。
【００９８】この反応の際、Ｒ16基も同時に除去される
ことが多いが、副反応を抑制するためには、Ｒ15基の方
が、Ｒ16基よりも、脱離しやすい条件で行うのが好まし
い。又、Ｒ16基が、反応において除去されなかった場合
には、改めて、ＳｔｅｐＡ５における水酸基の保護基の
除去反応を実施し、除去する。
ことが多いが、副反応を抑制するためには、Ｒ15基の方
が、Ｒ16基よりも、脱離しやすい条件で行うのが好まし
い。又、Ｒ16基が、反応において除去されなかった場合
には、改めて、ＳｔｅｐＡ５における水酸基の保護基の
除去反応を実施し、除去する。
【００９９】尚、Ｓｔｅｐ Ｂ２において、副反応を抑
制し、反応を収率良く行わせるために、アルデヒド基
を、常法に従って、アセタールのような形で保護してお
いた場合にも、本工程を実施することにより脱保護がな
される。
制し、反応を収率良く行わせるために、アルデヒド基
を、常法に従って、アセタールのような形で保護してお
いた場合にも、本工程を実施することにより脱保護がな
される。
【０１００】Ｓｔｅｐ Ｂ４は、一般式Ｙ−Ｊ−Ｑ’を
有する化合物（式中、Ｙ、Ｊ及びＱ’は前記と同意義を
示す。）と化合物（１０）とを、溶媒中、塩基の存在下
に、反応させ、化合物（１１）を製造する工程である。
有する化合物（式中、Ｙ、Ｊ及びＱ’は前記と同意義を
示す。）と化合物（１０）とを、溶媒中、塩基の存在下
に、反応させ、化合物（１１）を製造する工程である。
【０１０１】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキ
シド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げること
ができる。使用される塩基としては、通常の反応におい
て塩基として使用されるものであれば、特に限定はない
が、好適には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；弗化ナトリ
ウム、弗化カリウムのようなアルカリ金属弗化物類等の
無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリ
ウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなアル
カリ金属アルコキシド類を挙げることができ、更に好適
には、アルカリ金属水素化物類である。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキ
シド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げること
ができる。使用される塩基としては、通常の反応におい
て塩基として使用されるものであれば、特に限定はない
が、好適には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；弗化ナトリ
ウム、弗化カリウムのようなアルカリ金属弗化物類等の
無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリ
ウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなアル
カリ金属アルコキシド類を挙げることができ、更に好適
には、アルカリ金属水素化物類である。
【０１０２】反応温度は０℃乃至１００℃で行なわれる
が、好適には、室温である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常、３０分間乃至１０時間であり、
好適には、１時間乃至２時間である。
が、好適には、室温である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常、３０分間乃至１０時間であり、
好適には、１時間乃至２時間である。
【０１０３】Ｓｔｅｐ Ｂ５は、アルデヒド化合物（１
１）を、ＳｔｅｐＡ４と同様に実施して、カルボン酸化
合物（１２）を製造する工程である。
１）を、ＳｔｅｐＡ４と同様に実施して、カルボン酸化
合物（１２）を製造する工程である。
【０１０４】Ｓｔｅｐ Ｂ６は、カルボン酸化合物（１
２）を、ＳｔｅｐＡ５と同様に実施して、本願発明化合
物（１３）を製造する工程である。
２）を、ＳｔｅｐＡ５と同様に実施して、本願発明化合
物（１３）を製造する工程である。
【０１０５】＜Ｃ法＞Ｃ法は、５位又は６位に、アミノ
基又はヒドロキシ基の置換基を有するベンゾヘテロ環誘
導体の合成法である。
基又はヒドロキシ基の置換基を有するベンゾヘテロ環誘
導体の合成法である。
【０１０６】
【化９】
【０１０７】上記式中、Ｒ2 、Ｒ4 乃至Ｒ12、Ｒ15、Ｒ
2'、Ｒ4'乃至Ｒ11' 及びＸは、前記と同意義を示し、Ｒ
17は、アミノ基の保護基を示し、前記と同様の基を示
す。
2'、Ｒ4'乃至Ｒ11' 及びＸは、前記と同意義を示し、Ｒ
17は、アミノ基の保護基を示し、前記と同様の基を示
す。
【０１０８】Ｓｔｅｐ Ｃ１は、カルボン酸化合物
（５）又は（１２）を、溶媒中、塩基の存在下に、アジ
ド化試薬を用いて、クルチウス転位を行った後、生成し
たイソシアナートをアルコールと処理して、５位又は６
位の置換基が保護されたアミノ基である化合物（１４）
を製造する工程である。
（５）又は（１２）を、溶媒中、塩基の存在下に、アジ
ド化試薬を用いて、クルチウス転位を行った後、生成し
たイソシアナートをアルコールと処理して、５位又は６
位の置換基が保護されたアミノ基である化合物（１４）
を製造する工程である。
【０１０９】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類；エ−テル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのような
エ−テル類又はアセトニトリルのようなニトリル類を挙
げることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類；エ−テル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのような
エ−テル類又はアセトニトリルのようなニトリル類を挙
げることができる。
【０１１０】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルア
ミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシク
ロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、
４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−
４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシ
クロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４
−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣ
Ｏ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ
−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類を挙げること
ができる。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルア
ミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシク
ロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、
４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−
４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシ
クロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４
−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣ
Ｏ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ
−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類を挙げること
ができる。
【０１１１】使用されるアジド化試薬としては、通常、
アジド化に使用されるものであれば特に限定はないが、
好適には、ジフェニル燐酸アジドのようなジアリール燐
酸アジド誘導体；トリメチルシリルアジド、トリエチル
シリルアジドのようなトリアルキルシリルアジド類又は
アジ化ナトリウム、アジ化カリウムのようなアジ化アル
カリ金属塩類を挙げることができる。
アジド化に使用されるものであれば特に限定はないが、
好適には、ジフェニル燐酸アジドのようなジアリール燐
酸アジド誘導体；トリメチルシリルアジド、トリエチル
シリルアジドのようなトリアルキルシリルアジド類又は
アジ化ナトリウム、アジ化カリウムのようなアジ化アル
カリ金属塩類を挙げることができる。
【０１１２】使用されるアルコールとしては、アルコー
ル類であれば、特に限定はないが、反応後の保護基とし
ての簡便せいから、アラルキルアルコールが好ましく、
更に好適には、ベンジルアルコールである。
ル類であれば、特に限定はないが、反応後の保護基とし
ての簡便せいから、アラルキルアルコールが好ましく、
更に好適には、ベンジルアルコールである。
【０１１３】反応温度は２０℃乃至１５０℃で行なわれ
るが、好適には、溶媒の沸点である。反応時間は、主に
反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常、1 時間乃至5 日間であ
り、好適には、時間乃至5 日間である。
るが、好適には、溶媒の沸点である。反応時間は、主に
反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常、1 時間乃至5 日間であ
り、好適には、時間乃至5 日間である。
【０１１４】Ｓｔｅｐ Ｃ２及びＳｔｅｐ Ｃ５は、化
合物（１４）又は化合物（１６）のアミノ基と、一般式
Ｒ12−Ｙを有する化合物（式中、Ｒ12及びＹは、前記と
同意義を示す。）とを、溶媒中、塩基の存在下に反応さ
せ、化合物（１５）又は本願発明化合物（１７）を、そ
れぞれ製造する工程である。
合物（１４）又は化合物（１６）のアミノ基と、一般式
Ｒ12−Ｙを有する化合物（式中、Ｒ12及びＹは、前記と
同意義を示す。）とを、溶媒中、塩基の存在下に反応さ
せ、化合物（１５）又は本願発明化合物（１７）を、そ
れぞれ製造する工程である。
【０１１５】尚、Ｓｔｅｐ Ｃ５においては、所望によ
り、ＳｔｅｐＡ５の所望の工程と同様にして、（ａ）Ｑ
がカルボキシ基を示す本願発明化合物の場合に、カルボ
キシ基の保護基を除去、（ｂ）Ｑがテトラゾイル基を示
す本願発明化合物の場合に、相当するシアノ誘導体を常
法により閉環し、テトラゾイル基を製造、（ｃ）Ｒ4'、
Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11' が、
同一又は異なって、保護されていてもよい水酸基又は保
護されていてもよいアミノ基を示す本願発明化合物の場
合に、当該保護基の除去、を行うことができる。
り、ＳｔｅｐＡ５の所望の工程と同様にして、（ａ）Ｑ
がカルボキシ基を示す本願発明化合物の場合に、カルボ
キシ基の保護基を除去、（ｂ）Ｑがテトラゾイル基を示
す本願発明化合物の場合に、相当するシアノ誘導体を常
法により閉環し、テトラゾイル基を製造、（ｃ）Ｒ4'、
Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11' が、
同一又は異なって、保護されていてもよい水酸基又は保
護されていてもよいアミノ基を示す本願発明化合物の場
合に、当該保護基の除去、を行うことができる。
【０１１６】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メ
チルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を挙げることができる。使用され
る塩基としては、通常の反応において塩基として使用さ
れるものであれば、特に限定はないが、好適には、水素
化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよう
なアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなア
ルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類；ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、
カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウ
ムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；Ｎ
−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、
ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔ
−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢ
Ｎ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類
又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、
リチウム ビス（トリメチルシリル）アミドのような有
機金属塩基類を挙げることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メ
チルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を挙げることができる。使用され
る塩基としては、通常の反応において塩基として使用さ
れるものであれば、特に限定はないが、好適には、水素
化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよう
なアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなア
ルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類；ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、
カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウ
ムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；Ｎ
−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、
ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔ
−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢ
Ｎ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類
又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、
リチウム ビス（トリメチルシリル）アミドのような有
機金属塩基類を挙げることができる。
【０１１７】反応温度は０℃乃至１００℃で行なわれる
が、好適には、２０℃乃至８０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、３０分間乃至５時間
であり、好適には、１時間乃至３時間である。
が、好適には、２０℃乃至８０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、３０分間乃至５時間
であり、好適には、１時間乃至３時間である。
【０１１８】Ｓｔｅｐ Ｃ３及びＳｔｅｐ Ｃ４は、化
合物（１４）又は化合物（１５）のアミノ基の保護基で
あるＲ17基を、ＳｔｅｐＡ５の所望の工程と同様にし
て、除去し、化合物（１６）又は本願発明化合物化合物
（１７）をそれぞれ製造する工程である。
合物（１４）又は化合物（１５）のアミノ基の保護基で
あるＲ17基を、ＳｔｅｐＡ５の所望の工程と同様にし
て、除去し、化合物（１６）又は本願発明化合物化合物
（１７）をそれぞれ製造する工程である。
【０１１９】尚、Ｓｔｅｐ Ｃ４においては、所望によ
り、ＳｔｅｐＡ５の所望の工程と同様にして、（ａ）Ｑ
がカルボキシ基を示す本願発明化合物の場合に、カルボ
キシ基の保護基を除去、（ｂ）Ｑがテトラゾイル基を示
す本願発明化合物の場合に、相当するシアノ誘導体を常
法により閉環し、テトラゾイル基を製造、（ｃ）Ｒ4'、
Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11' が、
同一又は異なって、保護されていてもよい水酸基又は保
護されていてもよいアミノ基を示す本願発明化合物の場
合に、当該保護基の除去、を行うことができる。
り、ＳｔｅｐＡ５の所望の工程と同様にして、（ａ）Ｑ
がカルボキシ基を示す本願発明化合物の場合に、カルボ
キシ基の保護基を除去、（ｂ）Ｑがテトラゾイル基を示
す本願発明化合物の場合に、相当するシアノ誘導体を常
法により閉環し、テトラゾイル基を製造、（ｃ）Ｒ4'、
Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11' が、
同一又は異なって、保護されていてもよい水酸基又は保
護されていてもよいアミノ基を示す本願発明化合物の場
合に、当該保護基の除去、を行うことができる。
【０１２０】Ｓｔｅｐ Ｃ６は、化合物（１６）をアミ
ノ基を、酸性条件下、亜硝酸誘導体で処理し、ジアゾニ
ウム塩に変換した後、熱分解することにより、化合物
（１８）を製造する工程である。
ノ基を、酸性条件下、亜硝酸誘導体で処理し、ジアゾニ
ウム塩に変換した後、熱分解することにより、化合物
（１８）を製造する工程である。
【０１２１】使用される酸性条件下としては、通常の反
応において酸として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸である。
応において酸として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸である。
【０１２２】使用される亜硝酸誘導体としては、亜硝
酸、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムのような亜硝酸
アルカリ金属類を挙げることができ、好適には、亜硝酸
アルカリ金属類であり、更に好適には、亜硝酸ナトリウ
ムである。
酸、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムのような亜硝酸
アルカリ金属類を挙げることができ、好適には、亜硝酸
アルカリ金属類であり、更に好適には、亜硝酸ナトリウ
ムである。
【０１２３】反応温度は０℃乃至２００℃で行なわれる
が、好適には、２０℃乃至１００℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、３０分間乃至６
時間であり、好適には、１時間乃至３時間である。
が、好適には、２０℃乃至１００℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、３０分間乃至６
時間であり、好適には、１時間乃至３時間である。
【０１２４】熱分解反応は、常法に従って行われるが、
好適には、硫酸ナトリウム水溶液中で、１００℃乃至２
００℃で行なわれ、更に好適には、１２０℃乃至１５０
℃で行なわれる。反応時間は、主に反応温度、原料化合
物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異なる
が、通常、３０分間乃至４時間であり、好適には、１時
間乃至２時間である。
好適には、硫酸ナトリウム水溶液中で、１００℃乃至２
００℃で行なわれ、更に好適には、１２０℃乃至１５０
℃で行なわれる。反応時間は、主に反応温度、原料化合
物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異なる
が、通常、３０分間乃至４時間であり、好適には、１時
間乃至２時間である。
【０１２５】尚、本反応中に（ａ）Ｑがカルボキシ基を
示す本願発明化合物の場合に、カルボキシ基の保護基の
除去、及び／又は、（ｂ）Ｒ4'、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ
8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11' が、同一又は異なって、保
護されていてもよい水酸基又は保護されていてもよいア
ミノ基を示す本願発明化合物の場合に、当該保護基の除
去、が起こった場合には、ＳｔｅｐＣ７の反応におい
て、副反応を抑制するために、常法に従って、再度、保
護化を行うのが好ましい。
示す本願発明化合物の場合に、カルボキシ基の保護基の
除去、及び／又は、（ｂ）Ｒ4'、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ
8'、Ｒ9'、Ｒ10' 及びＲ11' が、同一又は異なって、保
護されていてもよい水酸基又は保護されていてもよいア
ミノ基を示す本願発明化合物の場合に、当該保護基の除
去、が起こった場合には、ＳｔｅｐＣ７の反応におい
て、副反応を抑制するために、常法に従って、再度、保
護化を行うのが好ましい。
【０１２６】Ｓｔｅｐ Ｃ７は、化合物（１８）をＳｔ
ｅｐＣ５と同様に処理することにより、本願発明化合物
化合物（１９）を製造する工程である。
ｅｐＣ５と同様に処理することにより、本願発明化合物
化合物（１９）を製造する工程である。
【０１２７】上記各反応の終了後、目的化合物は常法に
従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層
を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、
有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、
シリカゲルクロマトグラフィーを用い、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層
を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、
有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、
シリカゲルクロマトグラフィーを用い、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
【０１２８】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
【０１２９】本発明の新規なベンゾヘテロ環誘導体は、
優れた５α−リダクターゼ阻害活性を有し、且つ、毒性
・副作用も少なく、良性前立腺肥大症、座瘡、脂漏症、
女性多毛症、男性禿頭症及び／又は前立腺癌の予防剤及
び治療剤として有用である。
優れた５α−リダクターゼ阻害活性を有し、且つ、毒性
・副作用も少なく、良性前立腺肥大症、座瘡、脂漏症、
女性多毛症、男性禿頭症及び／又は前立腺癌の予防剤及
び治療剤として有用である。
【０１３０】本発明の化合物（Ｉ）の投与形態として
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
シロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等
による非経口投与を挙げることができ、これらの製剤
は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニッ
ト、ソルビットのような糖誘導体；トウモロコシデンプ
ン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリン、カル
ボキシメチルデンプンのような澱粉誘導体；結晶セルロ
ース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部
架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセ
ルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルラ
ンのような有機系賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪
酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよ
うな珪酸塩誘導体；燐酸カルシウムのような燐酸塩；炭
酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような
硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑
沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金
属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のよ
うなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムの
ような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリ
ウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫
酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウ
リル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及
び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤
（例えば、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。）、崩壊剤（例えば、前記賦形剤と同様の化合物、
及び、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチ
ルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのよ
うな化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げるこ
とができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパ
ラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロ
ブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアル
コールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；
フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロ
サール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げること
ができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、
甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希
釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。その
使用量は症状、年齢、投与方法等により異なるが、例え
ば、経口投与の場合には、１回当り、下限として、０．
１mg/kg 体重（好ましくは、１mg/kg 体重）、上限とし
て、１００mg/kg 体重（好ましくは、５０mg/kg 体重）
を、静脈内投与の場合には、１回当り、下限として、
０．１mg/kg 体重（好ましくは、１mg/kg 体重）、上限
として、１００mg/kg 体重（好ましくは、５０mg/kg 体
重）を１日当り１乃至数回症状に応じて投与することが
望ましい。
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
シロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等
による非経口投与を挙げることができ、これらの製剤
は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニッ
ト、ソルビットのような糖誘導体；トウモロコシデンプ
ン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリン、カル
ボキシメチルデンプンのような澱粉誘導体；結晶セルロ
ース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部
架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセ
ルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルラ
ンのような有機系賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪
酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよ
うな珪酸塩誘導体；燐酸カルシウムのような燐酸塩；炭
酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような
硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑
沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金
属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のよ
うなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムの
ような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリ
ウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫
酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウ
リル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及
び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤
（例えば、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。）、崩壊剤（例えば、前記賦形剤と同様の化合物、
及び、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチ
ルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのよ
うな化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げるこ
とができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパ
ラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロ
ブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアル
コールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；
フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロ
サール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げること
ができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、
甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希
釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。その
使用量は症状、年齢、投与方法等により異なるが、例え
ば、経口投与の場合には、１回当り、下限として、０．
１mg/kg 体重（好ましくは、１mg/kg 体重）、上限とし
て、１００mg/kg 体重（好ましくは、５０mg/kg 体重）
を、静脈内投与の場合には、１回当り、下限として、
０．１mg/kg 体重（好ましくは、１mg/kg 体重）、上限
として、１００mg/kg 体重（好ましくは、５０mg/kg 体
重）を１日当り１乃至数回症状に応じて投与することが
望ましい。
【０１３１】以下に、実施例をあげて本発明を更に具体
的に説明する。
的に説明する。
【０１３２】
【実施例１】２−（２−メトキシカルボニルメチルオキシフェニル）
ベンゾフラン−５−カルボン酸 （１）２′−ベンジルオキシアセトフェノン ２′−ヒドロキシアセトフェノン１９．０ｇを、乾燥し
たジメチルホルムアミド３００ｍｌに溶解して、窒素気
流下、水素化ナトリウム（油性、５５％）６．６３ｇを
少量ずつ加え、室温で１５分間撹拌した。反応液にベン
ジルブロミド２７．０ｇを加え、更に３時間撹拌した。
反応液を氷冷した０．５規定塩酸にあけ、ジエチルエー
テルで抽出して、水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサ
ン／エチルエーテル＝１７／３〜４／１）により精製し
て、油状の目的化合物２７．８ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：2.60(3H,s),5.17(2
H,s),6.99-7.04(2H,m),7.35-7.47(6H,m),7.75(1H,m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 1674, 1597 （２）２′−ベンジルオキシアセトフェノン オキシム 上記（１）で得られた、２′−ベンジルオキシアセトフ
ェノン３２．２ｇのエタノール２００ｍｌ溶液に、ヒド
ロキシルアミン塩酸塩１５．３ｇ及び酢酸ナトリウム１
８．４ｇを１００ｍｌの水に溶解して加え、加熱還流
下、３時間撹拌した。減圧下、大部分のエタノールを留
去して、０．５規定塩酸中にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層をあわせ、水及び飽和食塩水で洗い、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキ
サン／酢酸エチル＝７／３- ３／２）により精製して、
白色結晶の目的化合物３３．１ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：2.25(3H,s),5.11(2
H,s),6.94-6.99(2H,m),7.28-7.42(7H,m),8.48(1H,br.
s)。 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3237, 3110, 2
934, 2874, 1597, 1578 （３）４−（２′−ベンジルオキシ−α−メチルベンジ
リデンアミノオキシ）ベンズアルデヒド 上記（２）で得られた、２′−ベンジルオキシアセトフ
ェノン オキシム３２．８ｇを、乾燥したテトラヒドロ
フラン３００ｍｌに溶解して、窒素気流下、水素化ナト
リウム（油性、５５％）６．６３ｇを少量ずつ加えた。
反応液に、４−フルオロベンズアルデヒド１８．６ｇの
乾燥ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液を滴下して、
室温で３６時間撹拌した。反応液を、氷冷１規定塩酸中
にあけ、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝７／３
- ３／２）により精製して、淡黄色結晶の目的化合物２
２．５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：2.44(3H,s),5.14(2
H,s),6.99-7.08(3H,m),7.17-7.47(8H,m),7.84(2H,d,J=9
Hz),9.90(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3065, 3034, 1
695, 1598, 1582 （４）２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾフラン−
５−アルデヒド 上記（３）で得られた、４−（２′−ベンジルオキシ−
α−メチルベンジリデンアミノオキシ）ベンズアルデヒ
ド２０．５ｇを、１規定塩酸−酢酸溶液２５０ｍｌに溶
解して、１００℃で１２時間撹拌した。反応液を室温に
冷却した後、水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層
を、水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝
３／２- １／１）により精製した後、酢酸エチル−ヘキ
サンより再結晶して、淡黄色粉末の目的化合物４．５５
ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：6.57(1H,s),6.99(1
H,d,J=8Hz),7.06(1H,t,J=7Hz),7.28-7.34(2H,m),7.66(1
H,d,J=8Hz),7.83(1H,dd,J=2,8Hz),7.88(1H,dd,J=2,8H
z),8.16(1H,d,J=2Hz),10.09(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3276, 1672, 1
609 （５）２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニル）］フ
ェノキシ酢酸メチルエステル 上記（４）で得られた、２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾフラン−５−アルデヒド６００ｍｇを、乾燥
したジメチルホルムアミド１８ｍｌに溶解して、窒素気
流下、水素化ナトリウム（油性、５５％）１３２ｍｇを
加え、室温で１５分間撹拌した。反応液に、ブロモ酢酸
メチル５００ｍｇを加え、同温度で２時間撹拌した。反
応液を１規定塩酸中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有
機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル３／２- １／１、次いで、塩化メチレン／酢酸エ
チル＝１０／０- ９／１）により精製した後、アセトン
−ヘキサンより再結晶して、白色結晶の目的化合物６７
０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.90(3H,s),4.82(2
H,s),6.91(1H,d,J=8Hz),7.16(1H,dd,J=7,8Hz),7.36(1H,
m),7.62(1H,d,J=8Hz),7.82(1H,s),7.86(1H,dd,J=2,8H
z),8.12(1H,dd,J=2,8Hz),8.18(1H,d,J=2Hz),10.07(1H,
s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 1765, 1692, 1
611, 1604, 1589 （６）２−（２−メトキシカルボニルメチルオキシフェ
ニル）ベンゾフラン−５−カルボン酸 上記（５）で得られた、２−［２−（５−ホルミルベン
ゾフラニル）］フェノキシ酢酸メチルエステル６４５ｍ
ｇを、ジメチルアセトアミド１８ｍｌに溶解して、２−
メチル−２−ブテン１．０ｍｌを加えた。この溶液に亜
塩素酸ナトリウム１．５０ｇ及びリン酸二水素ナトリウ
ム二水和物１．５０ｇの９ｍｌ水溶液を加え、室温で２
時間撹拌した。反応液を１規定塩酸中にあけ、塩化メチ
レンで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、
水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下溶媒を留去した。残渣をエチルエーテルで洗
い、白色結晶の目的化合物６７０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：3.90(3H,s),
4.83(2H,s),6.91(1H,d,J=8Hz),7.15(1H,t,J=7Hz),7.34
(1H,m),7.54(1H,d,J=9Hz),7.75(1H,s),8.03(1H,dd,J=2,
9Hz),8.11(1H,dd,J=2,8Hz),8.40(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3077, 2957, 2
913, 2659, 2553, 1764,1681, 1615
ベンゾフラン−５−カルボン酸 （１）２′−ベンジルオキシアセトフェノン ２′−ヒドロキシアセトフェノン１９．０ｇを、乾燥し
たジメチルホルムアミド３００ｍｌに溶解して、窒素気
流下、水素化ナトリウム（油性、５５％）６．６３ｇを
少量ずつ加え、室温で１５分間撹拌した。反応液にベン
ジルブロミド２７．０ｇを加え、更に３時間撹拌した。
反応液を氷冷した０．５規定塩酸にあけ、ジエチルエー
テルで抽出して、水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサ
ン／エチルエーテル＝１７／３〜４／１）により精製し
て、油状の目的化合物２７．８ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：2.60(3H,s),5.17(2
H,s),6.99-7.04(2H,m),7.35-7.47(6H,m),7.75(1H,m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 1674, 1597 （２）２′−ベンジルオキシアセトフェノン オキシム 上記（１）で得られた、２′−ベンジルオキシアセトフ
ェノン３２．２ｇのエタノール２００ｍｌ溶液に、ヒド
ロキシルアミン塩酸塩１５．３ｇ及び酢酸ナトリウム１
８．４ｇを１００ｍｌの水に溶解して加え、加熱還流
下、３時間撹拌した。減圧下、大部分のエタノールを留
去して、０．５規定塩酸中にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層をあわせ、水及び飽和食塩水で洗い、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキ
サン／酢酸エチル＝７／３- ３／２）により精製して、
白色結晶の目的化合物３３．１ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：2.25(3H,s),5.11(2
H,s),6.94-6.99(2H,m),7.28-7.42(7H,m),8.48(1H,br.
s)。 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3237, 3110, 2
934, 2874, 1597, 1578 （３）４−（２′−ベンジルオキシ−α−メチルベンジ
リデンアミノオキシ）ベンズアルデヒド 上記（２）で得られた、２′−ベンジルオキシアセトフ
ェノン オキシム３２．８ｇを、乾燥したテトラヒドロ
フラン３００ｍｌに溶解して、窒素気流下、水素化ナト
リウム（油性、５５％）６．６３ｇを少量ずつ加えた。
反応液に、４−フルオロベンズアルデヒド１８．６ｇの
乾燥ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液を滴下して、
室温で３６時間撹拌した。反応液を、氷冷１規定塩酸中
にあけ、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝７／３
- ３／２）により精製して、淡黄色結晶の目的化合物２
２．５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：2.44(3H,s),5.14(2
H,s),6.99-7.08(3H,m),7.17-7.47(8H,m),7.84(2H,d,J=9
Hz),9.90(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3065, 3034, 1
695, 1598, 1582 （４）２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾフラン−
５−アルデヒド 上記（３）で得られた、４−（２′−ベンジルオキシ−
α−メチルベンジリデンアミノオキシ）ベンズアルデヒ
ド２０．５ｇを、１規定塩酸−酢酸溶液２５０ｍｌに溶
解して、１００℃で１２時間撹拌した。反応液を室温に
冷却した後、水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層
を、水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝
３／２- １／１）により精製した後、酢酸エチル−ヘキ
サンより再結晶して、淡黄色粉末の目的化合物４．５５
ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：6.57(1H,s),6.99(1
H,d,J=8Hz),7.06(1H,t,J=7Hz),7.28-7.34(2H,m),7.66(1
H,d,J=8Hz),7.83(1H,dd,J=2,8Hz),7.88(1H,dd,J=2,8H
z),8.16(1H,d,J=2Hz),10.09(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3276, 1672, 1
609 （５）２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニル）］フ
ェノキシ酢酸メチルエステル 上記（４）で得られた、２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾフラン−５−アルデヒド６００ｍｇを、乾燥
したジメチルホルムアミド１８ｍｌに溶解して、窒素気
流下、水素化ナトリウム（油性、５５％）１３２ｍｇを
加え、室温で１５分間撹拌した。反応液に、ブロモ酢酸
メチル５００ｍｇを加え、同温度で２時間撹拌した。反
応液を１規定塩酸中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有
機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル３／２- １／１、次いで、塩化メチレン／酢酸エ
チル＝１０／０- ９／１）により精製した後、アセトン
−ヘキサンより再結晶して、白色結晶の目的化合物６７
０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.90(3H,s),4.82(2
H,s),6.91(1H,d,J=8Hz),7.16(1H,dd,J=7,8Hz),7.36(1H,
m),7.62(1H,d,J=8Hz),7.82(1H,s),7.86(1H,dd,J=2,8H
z),8.12(1H,dd,J=2,8Hz),8.18(1H,d,J=2Hz),10.07(1H,
s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 1765, 1692, 1
611, 1604, 1589 （６）２−（２−メトキシカルボニルメチルオキシフェ
ニル）ベンゾフラン−５−カルボン酸 上記（５）で得られた、２−［２−（５−ホルミルベン
ゾフラニル）］フェノキシ酢酸メチルエステル６４５ｍ
ｇを、ジメチルアセトアミド１８ｍｌに溶解して、２−
メチル−２−ブテン１．０ｍｌを加えた。この溶液に亜
塩素酸ナトリウム１．５０ｇ及びリン酸二水素ナトリウ
ム二水和物１．５０ｇの９ｍｌ水溶液を加え、室温で２
時間撹拌した。反応液を１規定塩酸中にあけ、塩化メチ
レンで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、
水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下溶媒を留去した。残渣をエチルエーテルで洗
い、白色結晶の目的化合物６７０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：3.90(3H,s),
4.83(2H,s),6.91(1H,d,J=8Hz),7.15(1H,t,J=7Hz),7.34
(1H,m),7.54(1H,d,J=9Hz),7.75(1H,s),8.03(1H,dd,J=2,
9Hz),8.11(1H,dd,J=2,8Hz),8.40(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3077, 2957, 2
913, 2659, 2553, 1764,1681, 1615
【０１３３】
【実施例２】２−［２−［５−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバモイ
ル）ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸メチルエステル 上記実施例１（６）で得られた、２−（２−メトキシカ
ルボニルメチルオキシフェニル）ベンゾフラン−５−カ
ルボン酸１５０ｍｇを、クロロホルム５ｍｌに懸濁さ
せ、トリエチルアミン１００ｍｇ、ベンズヒドリルアミ
ン１３５ｍｇ及びジメチルアミノピリジン１０ｍｇを加
えた。反応液に、２，４，６−トリイソプロピルベンゼ
ンスルホニルクロリドを７５ｍｇずつ１５分おきに３
回、計２２５ｍｇ加え、室温で２時間撹拌した。反応液
を１規定塩酸中にあけ、塩化メチレンで抽出した。有機
層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／酢酸エ
チル＝２４／１- ２３／２）により精製して、白色結晶
の目的化合物１８８ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :3.89(3H,s),4.80(2H,
s),6.50(1H,d,J=8Hz),6.71(1H,d,J=8Hz),6.89(1H,d,J=8
Hz),7.15(1H,t,J=7Hz),7.27-7.40(11H,m),7.54(1H,d,J=
9Hz),7.77(1H,s),7.80(1H,dd,J=1,9Hz),8.09-8.13(2H,
m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3429, 3306, 3
061, 3031, 1762, 1739,1633, 1612, 1587
ル）ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸メチルエステル 上記実施例１（６）で得られた、２−（２−メトキシカ
ルボニルメチルオキシフェニル）ベンゾフラン−５−カ
ルボン酸１５０ｍｇを、クロロホルム５ｍｌに懸濁さ
せ、トリエチルアミン１００ｍｇ、ベンズヒドリルアミ
ン１３５ｍｇ及びジメチルアミノピリジン１０ｍｇを加
えた。反応液に、２，４，６−トリイソプロピルベンゼ
ンスルホニルクロリドを７５ｍｇずつ１５分おきに３
回、計２２５ｍｇ加え、室温で２時間撹拌した。反応液
を１規定塩酸中にあけ、塩化メチレンで抽出した。有機
層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／酢酸エ
チル＝２４／１- ２３／２）により精製して、白色結晶
の目的化合物１８８ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :3.89(3H,s),4.80(2H,
s),6.50(1H,d,J=8Hz),6.71(1H,d,J=8Hz),6.89(1H,d,J=8
Hz),7.15(1H,t,J=7Hz),7.27-7.40(11H,m),7.54(1H,d,J=
9Hz),7.77(1H,s),7.80(1H,dd,J=1,9Hz),8.09-8.13(2H,
m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3429, 3306, 3
061, 3031, 1762, 1739,1633, 1612, 1587
【０１３４】
【実施例３】２−［２−［５−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバモイ
ル）ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸 上記実施例２で得られた、２−［２−［５−（Ｎ−ジフ
ェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニル］］フェノ
キシ酢酸メチルエステル１２０ｍｇを、ジオキソラン６
ｍｌ及び１５％水酸化カリウム水溶液３ｍｌに溶解し
て、窒素気流下２時間加熱還流させた。反応液を室温に
した後、１規定塩酸中にあけ、クロロホルム−メタノー
ル混合溶媒（９７：３）で抽出した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をエチルエーテルで洗い、白色結
晶の目的化合物１０８ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD):4.78(2H,s),6.48(1H,
s),6.95(1H,d,J=8Hz),7.14(1H,t,J=7Hz),7.27-7.40(12
H,m),7.55(1H,d,J=8Hz),7.79(1H,dd,J=2,9Hz),7.82(1H,
s),8.10(1H,dd,J=1,8Hz),8.13(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3424, 3332, 3
059, 3030, 2928, 2586,1744, 1637, 1611, 1586
ル）ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸 上記実施例２で得られた、２−［２−［５−（Ｎ−ジフ
ェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニル］］フェノ
キシ酢酸メチルエステル１２０ｍｇを、ジオキソラン６
ｍｌ及び１５％水酸化カリウム水溶液３ｍｌに溶解し
て、窒素気流下２時間加熱還流させた。反応液を室温に
した後、１規定塩酸中にあけ、クロロホルム−メタノー
ル混合溶媒（９７：３）で抽出した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をエチルエーテルで洗い、白色結
晶の目的化合物１０８ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD):4.78(2H,s),6.48(1H,
s),6.95(1H,d,J=8Hz),7.14(1H,t,J=7Hz),7.27-7.40(12
H,m),7.55(1H,d,J=8Hz),7.79(1H,dd,J=2,9Hz),7.82(1H,
s),8.10(1H,dd,J=1,8Hz),8.13(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3424, 3332, 3
059, 3030, 2928, 2586,1744, 1637, 1611, 1586
【０１３５】
【実施例４】２−［２−［５−［Ｎ−（１−ブチル）カルバモイル］
ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸メチルエステル 上記実施例１（６）で得られた、２−（２−メトキシカ
ルボニルメチルオキシフェニル）ベンゾフラン−５−カ
ルボン酸及び１−ブチルアミンを用いて、実施例２と同
様にして、白色結晶の目的化合物を収率７４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3):δppm ：0.99(3H,t,J=7Hz),
1.40-1.54(2H,m),1.59-1.68(2H,m),3.50(2H,dt,J=6,7H
z),3.90(3H,s),4.81(2H,s),6.13(1H,br.s),6.89(1H,d,J
=8Hz),7.15(1H,t,J=7Hz),7.33(1H,dt,J=2,8Hz),7.53(1
H,d,J=9Hz),7.73(1H,dd,J=2,8Hz),7.76(1H,s),8.05(1H,
d,J=2Hz),8.11(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３３１６， ２９５７， ２９３３， １７６５，
１７４８， １６３２，１６１１， １５８９
ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸メチルエステル 上記実施例１（６）で得られた、２−（２−メトキシカ
ルボニルメチルオキシフェニル）ベンゾフラン−５−カ
ルボン酸及び１−ブチルアミンを用いて、実施例２と同
様にして、白色結晶の目的化合物を収率７４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3):δppm ：0.99(3H,t,J=7Hz),
1.40-1.54(2H,m),1.59-1.68(2H,m),3.50(2H,dt,J=6,7H
z),3.90(3H,s),4.81(2H,s),6.13(1H,br.s),6.89(1H,d,J
=8Hz),7.15(1H,t,J=7Hz),7.33(1H,dt,J=2,8Hz),7.53(1
H,d,J=9Hz),7.73(1H,dd,J=2,8Hz),7.76(1H,s),8.05(1H,
d,J=2Hz),8.11(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３３１６， ２９５７， ２９３３， １７６５，
１７４８， １６３２，１６１１， １５８９
【０１３６】
【実施例５】２−［２−［５−［Ｎ−（１−ブチル）カルバモイル］
ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸 上記実施例４で得られた、２−［２−［５−［Ｎ−（１
−ブチル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキ
シ酢酸メチルエステルを用いて、実施例３と同様にし
て、白色結晶の目的化合物を収率８３％で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３＋ＣＤ３ＯＤ） δppm
：0.98(3H,t,J=7Hz),1.40-1.50(2H,m),1.60-1.68(2H,
m),3.47(2H,t,J=7Hz),4.78(2H,s),6.93(1H,d,J=8Hz),7.
14(1H,t,J=8Hz),7.34(1H,m),7.53(1H,d,J=8Hz),7.70(1
H,dd,J=2,8Hz),7.82(1H,s),8.04(1H,d,J=2Hz),8.10(1H,
dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3310, 2958, 2
931, 2872, 2676, 2575,1751, 1714, 1634, 1610
ベンゾフラニル］］フェノキシ酢酸 上記実施例４で得られた、２−［２−［５−［Ｎ−（１
−ブチル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキ
シ酢酸メチルエステルを用いて、実施例３と同様にし
て、白色結晶の目的化合物を収率８３％で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３＋ＣＤ３ＯＤ） δppm
：0.98(3H,t,J=7Hz),1.40-1.50(2H,m),1.60-1.68(2H,
m),3.47(2H,t,J=7Hz),4.78(2H,s),6.93(1H,d,J=8Hz),7.
14(1H,t,J=8Hz),7.34(1H,m),7.53(1H,d,J=8Hz),7.70(1
H,dd,J=2,8Hz),7.82(1H,s),8.04(1H,d,J=2Hz),8.10(1H,
dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3310, 2958, 2
931, 2872, 2676, 2575,1751, 1714, 1634, 1610
【０１３７】
【実施例６】２−［２−［１−（３−エトキシカルボニル）プロピル
オキシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン酸 （１）４−［２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例１（４）で得られた、２−（２−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾフラン−５−アルデヒド及び４−ブロ
モ酪酸エチルエステルを用いて、実施例１（５）と同様
にして白色結晶の目的化合物を収率８４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.27-2.35(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),4.16(2H,q,J=7Hz),
4.24(2H,t,J=6Hz),7.02(1H,d,J=8Hz),7.10(1H,t,J=8H
z),7.36(1H,m),7.41(1H,s),7.62(1H,d,J=8Hz),7.85(1H,
d,J=1Hz),8.07(1H,dd,J=2,8Hz),8.15(1H,d,J=1Hz),10.0
7(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2973, 2964, 1
729, 1688, 1605, 1586,1568 （２）２−［２−［１−（３−エトキシカルボニル）プ
ロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン
酸 上記実施例６（１）で得られた、４−［２−［２−（５
−ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチル
エステルを用いて、実施例１（６）と同様にして、白色
結晶の目的化合物を収率９０％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.27(3H,t,J=7Hz),
2.27-2.35(2H,m),2.62(2H,t,J=7Hz),4.17(2H,q,J=7Hz),
4.24(2H,t,J=6Hz),7.02(1H,d,J=8Hz),7.10(1H,t,J=8H
z),7.35(1H,m),7.39(1H,s),7.57(1H,d,J=9Hz),8.05-8.1
0(2H,m),8.42(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2944, 2904, 2
879, 2651, 2542, 1727,1686, 1612, 1590 （１’）４−（２−アセチルフェノキシ）酪酸エチルエ
ステル ２′−ヒドロキシアセトフェノン及び４−ブロモ酪酸エ
チルエステルを用いて、実施例１（１）と同様にして、
目的化合物を収率６７％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.15-2.23(2H,m),2.54(2H,m),2.63(3H,s),4.10-4.18(4
H,m),6.94(1H,d,J=8Hz),6.99(1H,t,J=7Hz),7.44(1H,dt,
J=2,8Hz),7.73(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 2981, 2940,
1734, 1675, 1597, 1579 （２’）４−［２−（１−ヒドロキシイミノエチル）フ
ェノキシ］酪酸エチルエステル 上記（１’）で得られた、４−（２−アセチルフェノキ
シ）酪酸エチルエステルを用いて、実施例１（２）と同
様にして、目的化合物を収率９２％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.07-2.17(2H,m),2.24(3H,s),2.50(2H,t,J=7Hz),4.04(2
H,t,J=6Hz),4.15(2H,q,J=7Hz),6.90(1H,d,J=8Hz),6.95
(1H,t,J=7Hz),7.28-7.34(2H,m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 3246, 2981,
2939, 2877, 1734, 1599, 1580 （３’）４−［２−［１−（４−ホルミルフェノキシイ
ミノ）エチル］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記（２’）で得られた、４−［２−（１−ヒドロキシ
イミノエチル）フェノキシ］酪酸エチルエステル及び４
−フルオロベンズアルデヒドを用いて、実施例１（３）
と同様にして、目的化合物を収率３６％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.23(3H,t,J=7Hz),
2.10-2.18(2H,m),2.44(3H,s),2.50(2H,t,J=7Hz),4.06-
4.16(4H,m),6.95(1H,d,J=8Hz),7.01(1H,t,J=7Hz),7.37-
7.44(4H,m),7.86(2H,dt,J=2,9Hz),9.91(1H,s) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ｆｉｌ
ｍ）： ２９８０， ２９３９， １７３３， １６９
７， １５９９， １５８２ （４’）４−［２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記（３’）で得られた、４−［２−［１−（４−ホル
ミルフェノキシイミノ）エチル］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステルを用いて、実施例１（４）と同様にして、白
色結晶の目的化合物を収率５６％で得た。 ＮＭＲスペクトル及び赤外吸収スペクトルは、前記実施
例６（１）と一致した。
オキシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン酸 （１）４−［２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例１（４）で得られた、２−（２−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾフラン−５−アルデヒド及び４−ブロ
モ酪酸エチルエステルを用いて、実施例１（５）と同様
にして白色結晶の目的化合物を収率８４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.27-2.35(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),4.16(2H,q,J=7Hz),
4.24(2H,t,J=6Hz),7.02(1H,d,J=8Hz),7.10(1H,t,J=8H
z),7.36(1H,m),7.41(1H,s),7.62(1H,d,J=8Hz),7.85(1H,
d,J=1Hz),8.07(1H,dd,J=2,8Hz),8.15(1H,d,J=1Hz),10.0
7(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2973, 2964, 1
729, 1688, 1605, 1586,1568 （２）２−［２−［１−（３−エトキシカルボニル）プ
ロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン
酸 上記実施例６（１）で得られた、４−［２−［２−（５
−ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチル
エステルを用いて、実施例１（６）と同様にして、白色
結晶の目的化合物を収率９０％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.27(3H,t,J=7Hz),
2.27-2.35(2H,m),2.62(2H,t,J=7Hz),4.17(2H,q,J=7Hz),
4.24(2H,t,J=6Hz),7.02(1H,d,J=8Hz),7.10(1H,t,J=8H
z),7.35(1H,m),7.39(1H,s),7.57(1H,d,J=9Hz),8.05-8.1
0(2H,m),8.42(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2944, 2904, 2
879, 2651, 2542, 1727,1686, 1612, 1590 （１’）４−（２−アセチルフェノキシ）酪酸エチルエ
ステル ２′−ヒドロキシアセトフェノン及び４−ブロモ酪酸エ
チルエステルを用いて、実施例１（１）と同様にして、
目的化合物を収率６７％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.15-2.23(2H,m),2.54(2H,m),2.63(3H,s),4.10-4.18(4
H,m),6.94(1H,d,J=8Hz),6.99(1H,t,J=7Hz),7.44(1H,dt,
J=2,8Hz),7.73(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 2981, 2940,
1734, 1675, 1597, 1579 （２’）４−［２−（１−ヒドロキシイミノエチル）フ
ェノキシ］酪酸エチルエステル 上記（１’）で得られた、４−（２−アセチルフェノキ
シ）酪酸エチルエステルを用いて、実施例１（２）と同
様にして、目的化合物を収率９２％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.07-2.17(2H,m),2.24(3H,s),2.50(2H,t,J=7Hz),4.04(2
H,t,J=6Hz),4.15(2H,q,J=7Hz),6.90(1H,d,J=8Hz),6.95
(1H,t,J=7Hz),7.28-7.34(2H,m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 3246, 2981,
2939, 2877, 1734, 1599, 1580 （３’）４−［２−［１−（４−ホルミルフェノキシイ
ミノ）エチル］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記（２’）で得られた、４−［２−（１−ヒドロキシ
イミノエチル）フェノキシ］酪酸エチルエステル及び４
−フルオロベンズアルデヒドを用いて、実施例１（３）
と同様にして、目的化合物を収率３６％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.23(3H,t,J=7Hz),
2.10-2.18(2H,m),2.44(3H,s),2.50(2H,t,J=7Hz),4.06-
4.16(4H,m),6.95(1H,d,J=8Hz),7.01(1H,t,J=7Hz),7.37-
7.44(4H,m),7.86(2H,dt,J=2,9Hz),9.91(1H,s) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ｆｉｌ
ｍ）： ２９８０， ２９３９， １７３３， １６９
７， １５９９， １５８２ （４’）４−［２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記（３’）で得られた、４−［２−［１−（４−ホル
ミルフェノキシイミノ）エチル］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステルを用いて、実施例１（４）と同様にして、白
色結晶の目的化合物を収率５６％で得た。 ＮＭＲスペクトル及び赤外吸収スペクトルは、前記実施
例６（１）と一致した。
【０１３８】
【実施例７】４−［２−［２−［５−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル ］ 上記実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−
（３−エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニ
ル］ベンゾフラン−５−カルボン酸及びベンズヒドリル
アミンを用いて、実施例２と同様にして、白色結晶の目
的化合物を６７％の収率で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm ：1.25(3H,t,
J=7Hz),2.25-2.33(2H,m),2.60(2H,t,J=7Hz),4.15(2H,q,
J=7Hz),4.22(2H,d、J=6Hz),6.50(1H,d,J=8Hz),6.71(1H,
d,J=8Hz),7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.26-7.
43(12H,m),7.54(1H,d,J=9Hz),7.79(1H,dd,J=2,8Hz),8.0
6(1H,dd,J=2,8Hz),8.08(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3304, 3062, 3
031, 2979, 1731, 1634,1612, 1587
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル ］ 上記実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−
（３−エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニ
ル］ベンゾフラン−５−カルボン酸及びベンズヒドリル
アミンを用いて、実施例２と同様にして、白色結晶の目
的化合物を６７％の収率で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm ：1.25(3H,t,
J=7Hz),2.25-2.33(2H,m),2.60(2H,t,J=7Hz),4.15(2H,q,
J=7Hz),4.22(2H,d、J=6Hz),6.50(1H,d,J=8Hz),6.71(1H,
d,J=8Hz),7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.26-7.
43(12H,m),7.54(1H,d,J=9Hz),7.79(1H,dd,J=2,8Hz),8.0
6(1H,dd,J=2,8Hz),8.08(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3304, 3062, 3
031, 2979, 1731, 1634,1612, 1587
【０１３９】
【実施例８】４−［２−［２−［５−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 上記実施例７で得られた、４−［２−［２−［５−（Ｎ
−ジフェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニル］］
フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施例３と
同様にして、白色結晶の目的化合物を９４％の収率で得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：2.26-2.33(2
H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),4.19-4.28(2H,m),6.48(1H,s),
7.05(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.27-7.44(12H,
m),7.56(1H,d,J=8Hz),7.81(1H,dd,J=2,8Hz),8.06(1H,d
d,J=2,8Hz),8.13(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3301, 3063, 3
033, 2947, 1715, 1636,1612, 1586
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 上記実施例７で得られた、４−［２−［２−［５−（Ｎ
−ジフェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニル］］
フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施例３と
同様にして、白色結晶の目的化合物を９４％の収率で得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：2.26-2.33(2
H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),4.19-4.28(2H,m),6.48(1H,s),
7.05(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.27-7.44(12H,
m),7.56(1H,d,J=8Hz),7.81(1H,dd,J=2,8Hz),8.06(1H,d
d,J=2,8Hz),8.13(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3301, 3063, 3
033, 2947, 1715, 1636,1612, 1586
【０１４０】
【実施例９】４−［２−［２−［５−［Ｎ−（１−ブチル）カルバモ
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエス
テル 上記実施例６で得られた、２−［２−［１−（３−エト
キシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及び１−ブチルアミンを用いて、
実施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率９
４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：0.98(3H,t,J=7Hz),
1.26(3H,t,J=7Hz),1.40-1.54(2H,m),1.60-1.68(2H,m),
2.26-2.34(3H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),3.50(2H,dt,J=6,7H
z),4.16(2H,q,J=7Hz),4.22(2H,t,J=6Hz),6.13(1H,br.
s),7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=7Hz),7.32(1H,m),7.
35(1H,s),7.53(1H,d,J=9Hz),7.71(1H,dd,J=2,9Hz),8.03
(1H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3308, 2961, 2
942, 2874, 1736, 1632,1613, 1590
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエス
テル 上記実施例６で得られた、２−［２−［１−（３−エト
キシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及び１−ブチルアミンを用いて、
実施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率９
４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：0.98(3H,t,J=7Hz),
1.26(3H,t,J=7Hz),1.40-1.54(2H,m),1.60-1.68(2H,m),
2.26-2.34(3H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),3.50(2H,dt,J=6,7H
z),4.16(2H,q,J=7Hz),4.22(2H,t,J=6Hz),6.13(1H,br.
s),7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=7Hz),7.32(1H,m),7.
35(1H,s),7.53(1H,d,J=9Hz),7.71(1H,dd,J=2,9Hz),8.03
(1H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3308, 2961, 2
942, 2874, 1736, 1632,1613, 1590
【０１４１】
【実施例１０】４−［２−［２−［５−［Ｎ−（１−ブチル）カルバモ
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 上記実施例９で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ
−（１−ブチル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フ
ェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施例３と同
様にして、白色結晶の目的化合物を９８％の収率で得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：0.99(3H,t,J=
7Hz),1.42-1.50(2H,m),1.60-1.68(2H,m),2.26-2.34(2H,
m),2.63(2H,t,J=7Hz),3.45-3.50(2H,m),4.23(2H,t,J=6H
z),7.02(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=7Hz),7.34(1H,m),7.
39(1H,s),7.53(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,dd,J=2,9Hz),8.04
(1H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3354, 2961, 2
933, 2872, 2703, 2624,2553, 1717, 1634, 1611, 1587
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 上記実施例９で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ
−（１−ブチル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フ
ェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施例３と同
様にして、白色結晶の目的化合物を９８％の収率で得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：0.99(3H,t,J=
7Hz),1.42-1.50(2H,m),1.60-1.68(2H,m),2.26-2.34(2H,
m),2.63(2H,t,J=7Hz),3.45-3.50(2H,m),4.23(2H,t,J=6H
z),7.02(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=7Hz),7.34(1H,m),7.
39(1H,s),7.53(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,dd,J=2,9Hz),8.04
(1H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3354, 2961, 2
933, 2872, 2703, 2624,2553, 1717, 1634, 1611, 1587
【０１４２】
【実施例１１】４−［２−［２−［５−［４−（２−メトキシフェニ
ル）ピペラジルカルボニル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 上記実施例６で得られた、２−［２−［１−（３−エト
キシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及び４−（２−メトキシフェニ
ル）ピペラジンを用いて、実施例２と同様にして、目的
化合物を収率９３％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.26-2.34(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),3.00-3.20(4H,br.
s),3.65-4.10(4H,br.s),3.88(3H,s),4.16(2H,q,J=7Hz),
4.22(2H,t,J=6Hz),6.89(1H,d,J=8Hz),6.93-6.96(2H,m),
7.00-7.07(2H,m),7.09(1H,t,J=8Hz),7.31-7.36(2H,m),
7.38(1H,dd,J=2,8Hz),7.54(1H,d,J=8Hz),7.71(1H,d,J=1
Hz),8.07(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2940, 2833, 2
816, 1732, 1634, 1611,1587
ル）ピペラジルカルボニル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 上記実施例６で得られた、２−［２−［１−（３−エト
キシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及び４−（２−メトキシフェニ
ル）ピペラジンを用いて、実施例２と同様にして、目的
化合物を収率９３％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.26(3H,t,J=7Hz),
2.26-2.34(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),3.00-3.20(4H,br.
s),3.65-4.10(4H,br.s),3.88(3H,s),4.16(2H,q,J=7Hz),
4.22(2H,t,J=6Hz),6.89(1H,d,J=8Hz),6.93-6.96(2H,m),
7.00-7.07(2H,m),7.09(1H,t,J=8Hz),7.31-7.36(2H,m),
7.38(1H,dd,J=2,8Hz),7.54(1H,d,J=8Hz),7.71(1H,d,J=1
Hz),8.07(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2940, 2833, 2
816, 1732, 1634, 1611,1587
【０１４３】
【実施例１２】４−［２−［２−［５−［４−（２−メトキシフェニ
ル）ピペラジルカルボニル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 上記実施例１１で得られた、４−［２−［２−［５−
［４−（２−メトキシフェニル）ピペラジルカルボニ
ル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステ
ルを用いて、実施例３と同様にして、白色結晶の目的化
合物を９４％の収率で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：1.21(3H,t,J=
7Hz),2.26-2.34(2H,m),2.62(2H,t,J=7Hz),3.00-3.25(4
H,br.s),3.65-4.10(4H,br.s),4.22(2H,t,J=6Hz),6.90(1
H,d,J=8Hz),6.93-6.97(2H,m),7.00-7.07(2H,m),7.09(1
H,t,J=8Hz),7.31-7.39(3H,m),7.54(1H,d,J=9Hz),7.72(1
H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3424, 3061, 2
943, 2921, 2833, 2818,1729, 1712, 1694, 1630, 160
1, 1586
ル）ピペラジルカルボニル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 上記実施例１１で得られた、４−［２−［２−［５−
［４−（２−メトキシフェニル）ピペラジルカルボニ
ル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステ
ルを用いて、実施例３と同様にして、白色結晶の目的化
合物を９４％の収率で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：1.21(3H,t,J=
7Hz),2.26-2.34(2H,m),2.62(2H,t,J=7Hz),3.00-3.25(4
H,br.s),3.65-4.10(4H,br.s),4.22(2H,t,J=6Hz),6.90(1
H,d,J=8Hz),6.93-6.97(2H,m),7.00-7.07(2H,m),7.09(1
H,t,J=8Hz),7.31-7.39(3H,m),7.54(1H,d,J=9Hz),7.72(1
H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3424, 3061, 2
943, 2921, 2833, 2818,1729, 1712, 1694, 1630, 160
1, 1586
【０１４４】
【実施例１３】２−［２−［１−（４−エトキシカルボニル）ブチルオ
キシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン酸 （１）５−［２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］吉草酸エチルエステル 上記実施例１（４）で得られた、２−（２−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾフラン−５−アルデヒド及び５−ブロ
モ吉草酸エチルエステルを用いて、実施例１（５）と同
様にして、白色結晶の目的化合物を収率７９％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.27(3H,t,J=7Hz),
1.89-2.07(4H,m),2.46(2H,t,J=7Hz),4.14-4.21(4H,m),
7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,dd,J=7,8Hz),7.35(1H,m),7.
49(1H,s),7.62(1H,d,J=8Hz),7.85(1H,dd,J=2,9Hz),8.07
(1H,dd,J=2,8Hz),8.17(1H,d,J=2Hz),10.07(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2942, 2876, 1
723, 1690, 1602, 1589,1566 （２）２−［２−［１−（４−エトキシカルボニル）ブ
チルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン酸 上記実施例１３（１）で得られた、５−［２−［２−
（５−ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］吉草酸
エチルエステルを用いて、実施例１（６）と同様にし
て、白色結晶の目的化合物を収率９０％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.27(3H,t,J=7Hz),
1.90-2.10(4H,m),2.46(2H,t,J=7Hz),4.14-4.21(4H,m),
7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=7Hz),7.34(1H,m),7.46
(1H,s),7.56(1H,d,J=9Hz),8.08(1H,dd,J=1,9Hz),8.44(1
H,d,J=1Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３０７２， ２９８６， ２９３７， ２８７６，
２６５１， ２５４４，１７２７， １６８６， １６
１４， １５９１， １５６７
キシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン酸 （１）５−［２−［２−（５−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］吉草酸エチルエステル 上記実施例１（４）で得られた、２−（２−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾフラン−５−アルデヒド及び５−ブロ
モ吉草酸エチルエステルを用いて、実施例１（５）と同
様にして、白色結晶の目的化合物を収率７９％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.27(3H,t,J=7Hz),
1.89-2.07(4H,m),2.46(2H,t,J=7Hz),4.14-4.21(4H,m),
7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,dd,J=7,8Hz),7.35(1H,m),7.
49(1H,s),7.62(1H,d,J=8Hz),7.85(1H,dd,J=2,9Hz),8.07
(1H,dd,J=2,8Hz),8.17(1H,d,J=2Hz),10.07(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2942, 2876, 1
723, 1690, 1602, 1589,1566 （２）２−［２−［１−（４−エトキシカルボニル）ブ
チルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−５−カルボン酸 上記実施例１３（１）で得られた、５−［２−［２−
（５−ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］吉草酸
エチルエステルを用いて、実施例１（６）と同様にし
て、白色結晶の目的化合物を収率９０％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.27(3H,t,J=7Hz),
1.90-2.10(4H,m),2.46(2H,t,J=7Hz),4.14-4.21(4H,m),
7.01(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=7Hz),7.34(1H,m),7.46
(1H,s),7.56(1H,d,J=9Hz),8.08(1H,dd,J=1,9Hz),8.44(1
H,d,J=1Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３０７２， ２９８６， ２９３７， ２８７６，
２６５１， ２５４４，１７２７， １６８６， １６
１４， １５９１， １５６７
【０１４５】
【実施例１４】５−［２−［２−［５−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸エチル
エステル 上記実施例１３で得られた、２−［２−［１−（４−エ
トキシカルボニル）ブチルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及びベンズヒドリルアミンを用い
て、実施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物を収
率６７％で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm ：1.23(3H,t,
J=7Hz),1.87-2.06(4H,m),2.44(2H,t,J=7Hz),4.09-4.19
(4H,m),6.50(1H,d,J=8Hz),6.72(1H,d,J=8Hz),7.00(1H,
d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=7Hz),7.27-7.39(11H,m),7.42(1
H,s),7.54(1H,d,J=9Hz),7.79(1H,dd,J=2,8Hz),8.06(1H,
dd,J=2,8Hz),8.10(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3308, 3061, 3
031, 2941, 2873, 1732,1635, 1612, 1586
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸エチル
エステル 上記実施例１３で得られた、２−［２−［１−（４−エ
トキシカルボニル）ブチルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及びベンズヒドリルアミンを用い
て、実施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物を収
率６７％で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm ：1.23(3H,t,
J=7Hz),1.87-2.06(4H,m),2.44(2H,t,J=7Hz),4.09-4.19
(4H,m),6.50(1H,d,J=8Hz),6.72(1H,d,J=8Hz),7.00(1H,
d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=7Hz),7.27-7.39(11H,m),7.42(1
H,s),7.54(1H,d,J=9Hz),7.79(1H,dd,J=2,8Hz),8.06(1H,
dd,J=2,8Hz),8.10(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3308, 3061, 3
031, 2941, 2873, 1732,1635, 1612, 1586
【０１４６】
【実施例１５】５−［２−［２−［５−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸 上記実施例１４で得られた、５−［２−［２−［５−
（Ｎ−ジフェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］吉草酸エチルエステルを用いて、実
施例３と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率８９
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：1.91-2.08(4
H,m),2.46(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),6.48(1H,s),
7.00(1H,d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=7Hz),7.22-7.40(11H,
m),7.52-7.55(2H,m),7.73(1H,dd,J=2,9Hz),8.06(1H,dd,
J=2,8Hz),8.15(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3330, 3059, 3
032, 2958, 2879, 1714,1637, 1612, 1585
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸 上記実施例１４で得られた、５−［２−［２−［５−
（Ｎ−ジフェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］吉草酸エチルエステルを用いて、実
施例３と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率８９
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：1.91-2.08(4
H,m),2.46(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),6.48(1H,s),
7.00(1H,d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=7Hz),7.22-7.40(11H,
m),7.52-7.55(2H,m),7.73(1H,dd,J=2,9Hz),8.06(1H,dd,
J=2,8Hz),8.15(1H,d,J=2Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3330, 3059, 3
032, 2958, 2879, 1714,1637, 1612, 1585
【０１４７】
【実施例１６】５−［２−［２−［５−［Ｎ−（１−ブチル）カルバモ
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸エチルエ
ステル 上記実施例１３で得られた、２−［２−［１−（４−エ
トキシカルボニル）ブチルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及び１−ブチルアミンを用いて、
実施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率６
８％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.98(3H,t,J=7Hz),
1.26(3H,t,J=7Hz),1.40-1.68(4H,m),1.89-2.07(4H,m),
2.45(2H,t,J=7Hz),3.47-3.53(2H,m),4.13-4.20(4H,m),
6.14(1H,br.s),7.00(1H,d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=8Hz),7.
33(1H,m),7.41(1H,s),7.52(1H,d,J=9Hz),7.71(1H,dd,J=
2,8Hz),8.04(1H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3324, 2960, 2
934, 2871, 1732, 1632,1610, 1591
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸エチルエ
ステル 上記実施例１３で得られた、２−［２−［１−（４−エ
トキシカルボニル）ブチルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−５−カルボン酸及び１−ブチルアミンを用いて、
実施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率６
８％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：1.98(3H,t,J=7Hz),
1.26(3H,t,J=7Hz),1.40-1.68(4H,m),1.89-2.07(4H,m),
2.45(2H,t,J=7Hz),3.47-3.53(2H,m),4.13-4.20(4H,m),
6.14(1H,br.s),7.00(1H,d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=8Hz),7.
33(1H,m),7.41(1H,s),7.52(1H,d,J=9Hz),7.71(1H,dd,J=
2,8Hz),8.04(1H,d,J=2Hz),8.06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3324, 2960, 2
934, 2871, 1732, 1632,1610, 1591
【０１４８】
【実施例１７】５−［２−［２−［５−［Ｎ−（１−ブチル）カルバモ
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸 上記実施例１６で得られた、５−［２−［２−［５−
［Ｎ−（１−ブチル）カルバモイル］ベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］吉草酸エチルエステルを用いて、実
施例３と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率９３
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：0.98(3H,t,J=
7Hz),1.40-1.50(2H,m),1.60-1.68(2H,m),1.93-2.08(4H,
m),2.47(2H,t,J=7Hz),3.47(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6
Hz),7.00(1H,d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=8Hz),7.34(1H,m),
7.50-7.53(2H,m),7.66(1H,dd,J=2,8Hz),8.04-8.08(2H,
m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3374, 2955, 2
931, 2870, 2612, 1700,1618, 1607, 1584
イル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］吉草酸 上記実施例１６で得られた、５−［２−［２−［５−
［Ｎ−（１−ブチル）カルバモイル］ベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］吉草酸エチルエステルを用いて、実
施例３と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率９３
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm ：0.98(3H,t,J=
7Hz),1.40-1.50(2H,m),1.60-1.68(2H,m),1.93-2.08(4H,
m),2.47(2H,t,J=7Hz),3.47(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6
Hz),7.00(1H,d,J=8Hz),7.08(1H,t,J=8Hz),7.34(1H,m),
7.50-7.53(2H,m),7.66(1H,dd,J=2,8Hz),8.04-8.08(2H,
m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3374, 2955, 2
931, 2870, 2612, 1700,1618, 1607, 1584
【０１４９】
【実施例１８】２−（２−ベンジルオキシフェル）ベンゾフラン−６−
カルボン酸 （１）３−メトキシ−４−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシベンズアルデヒド バニリン１５．０ｇを、乾燥した塩化メチレン２００ｍ
ｌに溶解して、窒素気流下、氷冷して、トリフルオロメ
タンスルホン酸無水物２０．０ｍｌを反応溶液温度を０
- ５℃に保ちながら滴下した。１時間撹拌した後、塩化
メチレンで希釈して、０．５規定塩酸、水及び飽和食塩
水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エ
チル＝１７／３- ３／１）により精製して、油状の目的
化合物２７．１ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：4.00(3H,s),7.42(1
H,d,J=8Hz),7.52(1H,dd,J=2,8Hz),7.57(1H,d,J=2Hz),1
0.00(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 1708, 1606 （２）３−メトキシ−４−トリメチルシリルエチニルベ
ンズアルデヒド 上記実施例１８（１）で得られた、３−メトキシ−４−
トリフルオロメタンスルホニルベンズアルデヒド０．７
０ｇを、乾燥したジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解し
て、トリエチルアミン１．５５ｍｌ、トリメチルシリル
アセチレン２．１０ｍｌ及びビストリフェニルホスフィ
ンパラジウム（II) クロリド０．２０ｇを加え、９０℃
で２時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、水にあ
け、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食
塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒
を留去した。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝１７／３
- ４／１）により精製して、油状の目的化合物０．３８
ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：0.28(3H,s),3.95(3
H,s),7.37(1H,d,J=1Hz),7.39(1H,dd,J=1,8Hz),7.59(1H,
d,J=8Hz),9.96(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 2961, 2845,
2732, 2157, 1701, 1597, 1567 （３）４−エチニル−３−メトキシベンズアルデヒド 上記実施例１８（２）で得られた、３−メトキシ−４−
トリメチルシリルエチニルベンズアルデヒド３７０ｍｇ
を、メタノール１５ｍｌに溶解して、炭酸カリウム４２
０ｍｇを加え、室温で３時間撹拌した。反応液を水にあ
け、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食
塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒
を留去した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー
（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝２３／２- ４
／１）により精製した後、エチルエーテル−ヘキサンよ
り再結晶して淡黄色結晶の目的化合物１９０ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.51(1H,s),3.98(3
H,s),7.40-7.44(2H,m),7.63(1H,d,J=8Hz),9.99(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3251, 3211, 2
856, 1680, 1601, 1566 （４）２−ベンジルオキシブロモベンゼン ２−ブロモフェノール２．３９ｇを、乾燥したジメチル
ホルムアミド３０ｍｌに溶解して、炭酸カリウム３．２
０ｇ及びベンジルブロミド２．４０ｇを加え、室温で１
６時間、続いて６０℃で３時間撹拌した。反応液を室温
に冷却した後、水にあけ、エチルエーテルで抽出した。
有機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／
エチルエーテル＝４７／３- ４／１）により精製して、
油状の目的化合物３．４５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：5.17(2H,s),6.85(1
H,dt,J=1,7Hz),6.94(1H,dd,J=1,8Hz),7.21-7.42(4H,m),
7.47-7.50(2H,m),7.56(1H,dd,J=1,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 3065, 3033,
2934, 2913, 2871, 1588, 1573 （５）４−エチニル−３−メトキシ−１−ジメトキシメ
チルベンゼン 上記実施例１８（３）で得られた、４−エチニル−３−
メトキシベンズアルデヒド１．００ｇを、メタノール１
５ｍｌに溶解して、オルトギ酸メチル０．６７ｇ及びｐ
−トルエンスルホン酸一水和物２０ｍｇを加え、４０℃
で２時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、炭酸水
素ナトリウム水にあけ、エチルエーテルで抽出した。有
機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチル
エーテル＝２２／３- １７／３）により精製して、油状
の目的化合物１．２４ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.31(1H,s),3.33(6
H,s),3.93(3H,s),5.37(1H,s),7.00(1H,d,J=8Hz),7.02(1
H,s),7.46(1H,d,J=8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 3283, 2939,
2909, 2832, 2107, 1609, 1571 （６）４−（２−ベンジルオキシフェニル）エチニル−
３−メトキシ−１−ジメトキシメチルベンゼン 上記実施例１８（５）で得られた、４−エチニル−３−
メトキシ−１−ジメトキシメチルベンゼン１．１８ｇ
を、乾燥したジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解し
て、２−ベンジルオキシブロモベンゼン１．６６ｇ、ト
リエチルアミン２．４０ｍｌ及びビストリフェニルホス
フィンパラジウム（II）クロリド０．１２ｇを加え、１
１０℃で２時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、
水にあけ、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び
飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝７
／３）により精製して、淡黄色結晶の目的化合物０．８
８ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.34(6H,s),3.85(3
H,s),5.21(2H,s),5.39(1H,s),6.93-7.02(4H,m),7.24-7.
40(4H,m),7.48(1H,d,J=8Hz),7.53-7.62(3H,m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2983, 2956, 2
937, 2900, 2833, 1608,1595, 1574, 1567 （７）２−（２−ベンジルオキシフェニル）ベンゾフラ
ン−６−アルデヒド 上記実施例１８（６）で得られた、４−（２−ベンジル
オキシフェニル）エチニル−３−メトキシ−１−ジメト
キシメチルベンゼン４．１３ｇを、１，３−ジメチル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジ
ノン８０ｍｌに溶解して、塩化リチウム１．３６ｇを加
え、１６０℃で撹拌しながら、１時間おきに５回、塩化
リチウムを１．５０ｇずつ追加した。同温度で更に１０
時間撹拌した後、反応液を室温に冷却して水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し
た。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４７／３- ４６／４）
により精製した後、アセトン−エチルエーテルより再結
晶して、淡黄色結晶の目的化合物０．７４ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：5.28(2H,s),7.08-7.
16(2H,m),7.35-7.47(5H,m),7.50-7.53(2H,m),7.63(1H,
d,J=8Hz),7.75(1H,dd,J=1,8Hz),8.00(1H,s),8.14(1H,d
d,J=2,8Hz),10.06(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 1684, 1615, 1
602, 1579, 1556 （８）２−（２−ベンジルオキシフェル）ベンゾフラン
−６−カルボン酸 上記実施例１８（７）で得られた、２−（２−ベンジル
オキシフェニル）ベンゾフラン−６−アルデヒドを用い
て、実施例１（６）と同様にして、白色結晶の目的化合
物を収率７５％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm :5.28(2H,s),7.
08-7.15(2H,m),7.31-7.49(5H,m),7.51-7.65(3H,m),7.92
(1H,dd,J=1,8Hz),8.13(1H,dd,J=2,8Hz),8.21(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3071, 3030, 2
871, 2683, 2644, 2562,1685, 1618, 1604, 1582, 1557
カルボン酸 （１）３−メトキシ−４−トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシベンズアルデヒド バニリン１５．０ｇを、乾燥した塩化メチレン２００ｍ
ｌに溶解して、窒素気流下、氷冷して、トリフルオロメ
タンスルホン酸無水物２０．０ｍｌを反応溶液温度を０
- ５℃に保ちながら滴下した。１時間撹拌した後、塩化
メチレンで希釈して、０．５規定塩酸、水及び飽和食塩
水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エ
チル＝１７／３- ３／１）により精製して、油状の目的
化合物２７．１ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：4.00(3H,s),7.42(1
H,d,J=8Hz),7.52(1H,dd,J=2,8Hz),7.57(1H,d,J=2Hz),1
0.00(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 1708, 1606 （２）３−メトキシ−４−トリメチルシリルエチニルベ
ンズアルデヒド 上記実施例１８（１）で得られた、３−メトキシ−４−
トリフルオロメタンスルホニルベンズアルデヒド０．７
０ｇを、乾燥したジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解し
て、トリエチルアミン１．５５ｍｌ、トリメチルシリル
アセチレン２．１０ｍｌ及びビストリフェニルホスフィ
ンパラジウム（II) クロリド０．２０ｇを加え、９０℃
で２時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、水にあ
け、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食
塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒
を留去した。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝１７／３
- ４／１）により精製して、油状の目的化合物０．３８
ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：0.28(3H,s),3.95(3
H,s),7.37(1H,d,J=1Hz),7.39(1H,dd,J=1,8Hz),7.59(1H,
d,J=8Hz),9.96(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 2961, 2845,
2732, 2157, 1701, 1597, 1567 （３）４−エチニル−３−メトキシベンズアルデヒド 上記実施例１８（２）で得られた、３−メトキシ−４−
トリメチルシリルエチニルベンズアルデヒド３７０ｍｇ
を、メタノール１５ｍｌに溶解して、炭酸カリウム４２
０ｍｇを加え、室温で３時間撹拌した。反応液を水にあ
け、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食
塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒
を留去した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー
（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝２３／２- ４
／１）により精製した後、エチルエーテル−ヘキサンよ
り再結晶して淡黄色結晶の目的化合物１９０ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.51(1H,s),3.98(3
H,s),7.40-7.44(2H,m),7.63(1H,d,J=8Hz),9.99(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3251, 3211, 2
856, 1680, 1601, 1566 （４）２−ベンジルオキシブロモベンゼン ２−ブロモフェノール２．３９ｇを、乾燥したジメチル
ホルムアミド３０ｍｌに溶解して、炭酸カリウム３．２
０ｇ及びベンジルブロミド２．４０ｇを加え、室温で１
６時間、続いて６０℃で３時間撹拌した。反応液を室温
に冷却した後、水にあけ、エチルエーテルで抽出した。
有機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／
エチルエーテル＝４７／３- ４／１）により精製して、
油状の目的化合物３．４５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：5.17(2H,s),6.85(1
H,dt,J=1,7Hz),6.94(1H,dd,J=1,8Hz),7.21-7.42(4H,m),
7.47-7.50(2H,m),7.56(1H,dd,J=1,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 3065, 3033,
2934, 2913, 2871, 1588, 1573 （５）４−エチニル−３−メトキシ−１−ジメトキシメ
チルベンゼン 上記実施例１８（３）で得られた、４−エチニル−３−
メトキシベンズアルデヒド１．００ｇを、メタノール１
５ｍｌに溶解して、オルトギ酸メチル０．６７ｇ及びｐ
−トルエンスルホン酸一水和物２０ｍｇを加え、４０℃
で２時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、炭酸水
素ナトリウム水にあけ、エチルエーテルで抽出した。有
機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチル
エーテル＝２２／３- １７／３）により精製して、油状
の目的化合物１．２４ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.31(1H,s),3.33(6
H,s),3.93(3H,s),5.37(1H,s),7.00(1H,d,J=8Hz),7.02(1
H,s),7.46(1H,d,J=8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film): 3283, 2939,
2909, 2832, 2107, 1609, 1571 （６）４−（２−ベンジルオキシフェニル）エチニル−
３−メトキシ−１−ジメトキシメチルベンゼン 上記実施例１８（５）で得られた、４−エチニル−３−
メトキシ−１−ジメトキシメチルベンゼン１．１８ｇ
を、乾燥したジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解し
て、２−ベンジルオキシブロモベンゼン１．６６ｇ、ト
リエチルアミン２．４０ｍｌ及びビストリフェニルホス
フィンパラジウム（II）クロリド０．１２ｇを加え、１
１０℃で２時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、
水にあけ、エチルエーテルで抽出した。有機層を水及び
飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去した。残渣を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／エチルエーテル＝７
／３）により精製して、淡黄色結晶の目的化合物０．８
８ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：3.34(6H,s),3.85(3
H,s),5.21(2H,s),5.39(1H,s),6.93-7.02(4H,m),7.24-7.
40(4H,m),7.48(1H,d,J=8Hz),7.53-7.62(3H,m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2983, 2956, 2
937, 2900, 2833, 1608,1595, 1574, 1567 （７）２−（２−ベンジルオキシフェニル）ベンゾフラ
ン−６−アルデヒド 上記実施例１８（６）で得られた、４−（２−ベンジル
オキシフェニル）エチニル−３−メトキシ−１−ジメト
キシメチルベンゼン４．１３ｇを、１，３−ジメチル−
３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジ
ノン８０ｍｌに溶解して、塩化リチウム１．３６ｇを加
え、１６０℃で撹拌しながら、１時間おきに５回、塩化
リチウムを１．５０ｇずつ追加した。同温度で更に１０
時間撹拌した後、反応液を室温に冷却して水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し
た。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４７／３- ４６／４）
により精製した後、アセトン−エチルエーテルより再結
晶して、淡黄色結晶の目的化合物０．７４ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm ：5.28(2H,s),7.08-7.
16(2H,m),7.35-7.47(5H,m),7.50-7.53(2H,m),7.63(1H,
d,J=8Hz),7.75(1H,dd,J=1,8Hz),8.00(1H,s),8.14(1H,d
d,J=2,8Hz),10.06(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 1684, 1615, 1
602, 1579, 1556 （８）２−（２−ベンジルオキシフェル）ベンゾフラン
−６−カルボン酸 上記実施例１８（７）で得られた、２−（２−ベンジル
オキシフェニル）ベンゾフラン−６−アルデヒドを用い
て、実施例１（６）と同様にして、白色結晶の目的化合
物を収率７５％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm :5.28(2H,s),7.
08-7.15(2H,m),7.31-7.49(5H,m),7.51-7.65(3H,m),7.92
(1H,dd,J=1,8Hz),8.13(1H,dd,J=2,8Hz),8.21(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3071, 3030, 2
871, 2683, 2644, 2562,1685, 1618, 1604, 1582, 1557
【０１５０】
【実施例１９】Ｎ−ジフェニルメチル−２−（２−ベンジルオキシ）ベ
ンゾフラン−６−カルボキサミド 上記実施例１８で得られた、２−（２−ベンジルオキシ
フェニル）ベンゾフラン−６−カルボン酸及びベンズヒ
ドリルアミンを用いて、実施例２と同様にして、白色結
晶の目的化合物を収率８６％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :5.27(2H,s),6.49(1H,
d,J=8Hz),6.71(1H,d,J=8Hz),7.07-7.14(2H,m),7.27-7.5
6(18H,m),7.66(1H,dd,J=1,8Hz),8.02(1H,s),8.10(1H,d
d,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3433, 3324, 3
062, 3031, 1638, 1602,1583
ンゾフラン−６−カルボキサミド 上記実施例１８で得られた、２−（２−ベンジルオキシ
フェニル）ベンゾフラン−６−カルボン酸及びベンズヒ
ドリルアミンを用いて、実施例２と同様にして、白色結
晶の目的化合物を収率８６％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :5.27(2H,s),6.49(1H,
d,J=8Hz),6.71(1H,d,J=8Hz),7.07-7.14(2H,m),7.27-7.5
6(18H,m),7.66(1H,dd,J=1,8Hz),8.02(1H,s),8.10(1H,d
d,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3433, 3324, 3
062, 3031, 1638, 1602,1583
【０１５１】
【実施例２０】Ｎ−ジフェニルメチル−２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾフラン−６−カルボキサミド 上記実施例１９で得られた、Ｎ−ジフェニルメチル−２
−（２−ベンジルオキシフェニル）ベンゾフラン−６−
カルボキサミド１８５ｍｇを、メタノール１０ｍｌに懸
濁させて、１０％パラジウム−カーボン２０ｍｇを加
え、水素雰囲気下常圧で、室温で４時間続いて６０℃で
６時間撹拌した。触媒を濾過した後、濾液を減圧下濃縮
して、酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して、白色結晶
の目的化合物１３５ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :6.50(1H,d,J=8Hz),6.
72(1H,d,J=8Hz),6.82(1H,s),6.99(1H,d,J=8Hz),7.03(1
H,t,J=8Hz),7.19(1H,s),7.26-7.40(11H,m),7.64(1H,d,J
=8Hz),7.73(1H,dd,J=1,8Hz),7.78(1H,dd,J=1,8Hz),8.05
(1H,s) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３２８７， ３０６２， ３０３０， １６３８，
１６０７， １５８０
ル）ベンゾフラン−６−カルボキサミド 上記実施例１９で得られた、Ｎ−ジフェニルメチル−２
−（２−ベンジルオキシフェニル）ベンゾフラン−６−
カルボキサミド１８５ｍｇを、メタノール１０ｍｌに懸
濁させて、１０％パラジウム−カーボン２０ｍｇを加
え、水素雰囲気下常圧で、室温で４時間続いて６０℃で
６時間撹拌した。触媒を濾過した後、濾液を減圧下濃縮
して、酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して、白色結晶
の目的化合物１３５ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :6.50(1H,d,J=8Hz),6.
72(1H,d,J=8Hz),6.82(1H,s),6.99(1H,d,J=8Hz),7.03(1
H,t,J=8Hz),7.19(1H,s),7.26-7.40(11H,m),7.64(1H,d,J
=8Hz),7.73(1H,dd,J=1,8Hz),7.78(1H,dd,J=1,8Hz),8.05
(1H,s) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３２８７， ３０６２， ３０３０， １６３８，
１６０７， １５８０
【０１５２】
【実施例２１】４−［２−［２−［６−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 上記実施例２０で得られた、Ｎ−ジフェニルメチル−２
−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾフラン−６−カル
ボキサミド及び４−ブロモ酪酸エチルエステルを用い
て、実施例１（５）と同様にして、白色結晶の目的化合
物を収率８５％で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :1.25(3H,t,J
=7Hz),2.26-2.34(2H,m),2,61(2H,t,J=7Hz),4.15(2H,q,J
=7Hz),4.22(2H,t,J=6Hz),6.50(1H,d,J=8Hz),6.73(1H,d,
J=8Hz),7.01(1H,d,J=9Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.27-7.40
(12H,m),7.63(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,dd,J=1,8Hz),8.03
(1H,s),8.07(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3317, 3062, 3
030, 2978, 2938, 1733,1632, 1603, 1582
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 上記実施例２０で得られた、Ｎ−ジフェニルメチル−２
−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾフラン−６−カル
ボキサミド及び４−ブロモ酪酸エチルエステルを用い
て、実施例１（５）と同様にして、白色結晶の目的化合
物を収率８５％で得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :1.25(3H,t,J
=7Hz),2.26-2.34(2H,m),2,61(2H,t,J=7Hz),4.15(2H,q,J
=7Hz),4.22(2H,t,J=6Hz),6.50(1H,d,J=8Hz),6.73(1H,d,
J=8Hz),7.01(1H,d,J=9Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.27-7.40
(12H,m),7.63(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,dd,J=1,8Hz),8.03
(1H,s),8.07(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3317, 3062, 3
030, 2978, 2938, 1733,1632, 1603, 1582
【０１５３】
【実施例２２】４−［２−［２−［６−（Ｎ−ジフェニルメチルカルバ
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 上記実施例２１で得られた、４−［２−［２−［６−
（Ｎ−ジフェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率９５％
で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm :2.25-2.33(2H,
m),2.62(2H,t,J=7Hz),4.23(2H,t,J=6Hz),6.49(1H,m),7.
02(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.27-7.40(13H,m),
7.64(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,dd,J=1,8Hz),8.02(1H,s),8.
06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3327, 3062, 3
030, 2931, 1709, 1630,1602, 1582
モイル）ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 上記実施例２１で得られた、４−［２−［２−［６−
（Ｎ−ジフェニルメチルカルバモイル）ベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率９５％
で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3+CD3OD) δppm :2.25-2.33(2H,
m),2.62(2H,t,J=7Hz),4.23(2H,t,J=6Hz),6.49(1H,m),7.
02(1H,d,J=8Hz),7.09(1H,t,J=8Hz),7.27-7.40(13H,m),
7.64(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,dd,J=1,8Hz),8.02(1H,s),8.
06(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3327, 3062, 3
030, 2931, 1709, 1630,1602, 1582
【０１５４】
【実施例２３】４−［２−［２−（５−ジフェニルメチルアミノベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル （１）４−［２−［２−（５−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸２．００ｇを乾燥したトルエン
２０ｍｌに懸濁させ、トリエチルアミン０．８８ｇ及び
アジ化ジフェニルホスホリル２．０９ｇを加え、加熱環
流下２時間撹拌した。反応液にベンジルアルコール５．
０ｍｌを加え、引き続き加熱環流下８時間撹拌した。反
応液を室温に冷却した後水にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／
酢酸エチル＝４／１）により精製した後、エチルエーテ
ル−ヘキサンより再結晶して、白色結晶の目的化合物
１．９１ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7Hz),2.
25-2.32(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),4.16(2H,q,J=7Hz),4.
21(2H,t,J=6Hz),5.23(2H,s),6.68(1H,br.s),6.99(1H,d,
J=8Hz),7.07(1H,t,J=8Hz),7.15(1H,dd,J=2,9Hz),7.26-
7.46(8H,m),7.74(1H,br.s),8.04(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3363, 1732, 1
715, 1603, 1557 （２）４−［２−［２−（５−ベンジルオキシカルボニ
ルジフェニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキ
シ］酪酸エチルエステル 上記実施例２３（１）で得られた、４−［２−［２−
（５−ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル２００ｍｇを、
乾燥したジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解して、窒素
気流下、水素化ナトリウム（油性、５５％）２４ｍｇを
加え、室温で１５分間撹拌した。反応液にα−ブロモジ
フェニルメタン１５６ｍｇを加え、６０℃で３時間撹拌
した。反応液を室温に冷却した後、１規定塩酸にあけ、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留
去した。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により精
製して、目的化合物２１７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.25(3H,t,J=7Hz),2.
22-2.32(2H,m),2.58(2H,t,J=7Hz),4.14(2H,q,J=7Hz),4.
19(2H,t,J=6Hz),5.16(2H,s),6.69(1H,s),6.77(1H,dd,J=
1,9Hz),6.98(1H,d,J=8Hz),7.05(1H,t,J=8Hz),7.12-7.35
(19H,m),8.00(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2960, 2943,
1728, 1693, 1603, 1587 （３）４−［２−［２−（５−ジフェニルメチルアミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例２３（２）で得られた、４−［２−［２−
（５−ベンジルオキシカルボニルジフェニルメチルアミ
ノ）ベンゾフラニル］フェノキシ］酪酸エチルエステル
１９７ｍｇを、メタノール３ｍｌ及び酢酸エチル１ｍｌ
の混合溶媒に溶解して、１０％パラジウム−カーボン２
０ｍｇを加え、水素雰囲気下、常圧で、室温で１２時間
撹拌した。触媒を濾過した後、濾液を減圧下濃縮した。
残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、
目的化合物９０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.23(3H,t,J=7Hz),2.
17-2.28(2H,m),2.55(2H,t,J=7Hz),4.11(2H,q,J=7Hz),4.
14(2H,t,J=6Hz),5.53(1H,s),6.58(1H,dd,J=2,9Hz),6.65
(1H,d,J=2Hz),6.93(1H,d,J=8Hz),7.02(1H,t,J=7Hz),7.1
0(1H,s),7.21-7.42(12H,m),7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 3425, 2985,
2942, 2877, 1728, 1619, 1600, 1586
フラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル （１）４−［２−［２−（５−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸２．００ｇを乾燥したトルエン
２０ｍｌに懸濁させ、トリエチルアミン０．８８ｇ及び
アジ化ジフェニルホスホリル２．０９ｇを加え、加熱環
流下２時間撹拌した。反応液にベンジルアルコール５．
０ｍｌを加え、引き続き加熱環流下８時間撹拌した。反
応液を室温に冷却した後水にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水及び飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／
酢酸エチル＝４／１）により精製した後、エチルエーテ
ル−ヘキサンより再結晶して、白色結晶の目的化合物
１．９１ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7Hz),2.
25-2.32(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),4.16(2H,q,J=7Hz),4.
21(2H,t,J=6Hz),5.23(2H,s),6.68(1H,br.s),6.99(1H,d,
J=8Hz),7.07(1H,t,J=8Hz),7.15(1H,dd,J=2,9Hz),7.26-
7.46(8H,m),7.74(1H,br.s),8.04(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3363, 1732, 1
715, 1603, 1557 （２）４−［２−［２−（５−ベンジルオキシカルボニ
ルジフェニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキ
シ］酪酸エチルエステル 上記実施例２３（１）で得られた、４−［２−［２−
（５−ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル２００ｍｇを、
乾燥したジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解して、窒素
気流下、水素化ナトリウム（油性、５５％）２４ｍｇを
加え、室温で１５分間撹拌した。反応液にα−ブロモジ
フェニルメタン１５６ｍｇを加え、６０℃で３時間撹拌
した。反応液を室温に冷却した後、１規定塩酸にあけ、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留
去した。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により精
製して、目的化合物２１７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.25(3H,t,J=7Hz),2.
22-2.32(2H,m),2.58(2H,t,J=7Hz),4.14(2H,q,J=7Hz),4.
19(2H,t,J=6Hz),5.16(2H,s),6.69(1H,s),6.77(1H,dd,J=
1,9Hz),6.98(1H,d,J=8Hz),7.05(1H,t,J=8Hz),7.12-7.35
(19H,m),8.00(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2960, 2943,
1728, 1693, 1603, 1587 （３）４−［２−［２−（５−ジフェニルメチルアミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例２３（２）で得られた、４−［２−［２−
（５−ベンジルオキシカルボニルジフェニルメチルアミ
ノ）ベンゾフラニル］フェノキシ］酪酸エチルエステル
１９７ｍｇを、メタノール３ｍｌ及び酢酸エチル１ｍｌ
の混合溶媒に溶解して、１０％パラジウム−カーボン２
０ｍｇを加え、水素雰囲気下、常圧で、室温で１２時間
撹拌した。触媒を濾過した後、濾液を減圧下濃縮した。
残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、
目的化合物９０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.23(3H,t,J=7Hz),2.
17-2.28(2H,m),2.55(2H,t,J=7Hz),4.11(2H,q,J=7Hz),4.
14(2H,t,J=6Hz),5.53(1H,s),6.58(1H,dd,J=2,9Hz),6.65
(1H,d,J=2Hz),6.93(1H,d,J=8Hz),7.02(1H,t,J=7Hz),7.1
0(1H,s),7.21-7.42(12H,m),7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 3425, 2985,
2942, 2877, 1728, 1619, 1600, 1586
【０１５５】
【実施例２４】４−［２−［２−（５−ジフェニルメチルアミノベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸 実施例２３で得られた、４−［２−［２−（５−ジフェ
ニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸
エチルエステルを用いて、実施例３と同様にして、目的
化合物を収率９７％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.22-2.30(2H,m),2.6
3(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.54(1H,s),6.60(1H,
dd,J=2,9Hz),6.65(1H,d,J=2Hz),6.95(1H,d,J=8Hz),7.04
(1H,t,J=8Hz),7.08(1H,s),7.22-7.44(12H,m),7.99(1H,d
d,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3416, 3061, 3
028, 2930, 1709, 1619,1599, 1585
フラニル）］フェノキシ］酪酸 実施例２３で得られた、４−［２−［２−（５−ジフェ
ニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸
エチルエステルを用いて、実施例３と同様にして、目的
化合物を収率９７％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.22-2.30(2H,m),2.6
3(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.54(1H,s),6.60(1H,
dd,J=2,9Hz),6.65(1H,d,J=2Hz),6.95(1H,d,J=8Hz),7.04
(1H,t,J=8Hz),7.08(1H,s),7.22-7.44(12H,m),7.99(1H,d
d,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3416, 3061, 3
028, 2930, 1709, 1619,1599, 1585
【０１５６】
【実施例２５】４−［２−［２−［５−ビス（４−フルオロフェニル）
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル （１）４−［２−［２−［５−ベンジルオキシカルボニ
ル［ビス（４−フルオロフェニル）メチル］アミノベン
ゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル 実施例２３（１）で得られた、４−［２−［２−（５−
ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニル）］フ
ェノキシ］酪酸エチルエステル及びビス（４−フルオロ
フェニル）メチルクロリドを用いて、実施例２３（２）
と同様にして、目的化合物を収率９１％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.25(3H,t,J=7Hz),2.
23-2.31(2H,m),2.58(2H,t,J=7Hz),4.15(2H,q,J=7Hz),4.
19(2H,t,J=6Hz),5.15(2H,s),6.62(1H,s),6.72(1H,dd,J=
2,8Hz),6.90-7.35(19H,m),8.02(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2985, 2964,
2884, 1728, 1694, 1606 （２）４−［２−［２−［５−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪
酸エチルエステル 上記実施例２５（１）で得られた、４−［２−［２−
［５−ベンジルオキシカルボニル［ビス（４−フルオロ
フェニル）メチル］アミノベンゾフラニル］］フェノキ
シ］酪酸エチルエステルを用いて、実施例２３（３）と
同様にして、目的化合物を収率８１％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.24(3H,t,J=7Hz),2.
21-2.29(2H,m),2.56(2H,t,J=7Hz),4.07(1H,s),4.10-4.1
9(4H,m),5.50(1H,s),6.58(1H,dd,J=2,9Hz),6.61(1H,d,J
=2Hz),6.96(1H,d,J=9Hz),6.99-7.07(5H,m),7.10(1H,s),
7.24-7.37(6H,m),8.00(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2985, 2943,
1728, 1619, 1604
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル （１）４−［２−［２−［５−ベンジルオキシカルボニ
ル［ビス（４−フルオロフェニル）メチル］アミノベン
ゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル 実施例２３（１）で得られた、４−［２−［２−（５−
ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニル）］フ
ェノキシ］酪酸エチルエステル及びビス（４−フルオロ
フェニル）メチルクロリドを用いて、実施例２３（２）
と同様にして、目的化合物を収率９１％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.25(3H,t,J=7Hz),2.
23-2.31(2H,m),2.58(2H,t,J=7Hz),4.15(2H,q,J=7Hz),4.
19(2H,t,J=6Hz),5.15(2H,s),6.62(1H,s),6.72(1H,dd,J=
2,8Hz),6.90-7.35(19H,m),8.02(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2985, 2964,
2884, 1728, 1694, 1606 （２）４−［２−［２−［５−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪
酸エチルエステル 上記実施例２５（１）で得られた、４−［２−［２−
［５−ベンジルオキシカルボニル［ビス（４−フルオロ
フェニル）メチル］アミノベンゾフラニル］］フェノキ
シ］酪酸エチルエステルを用いて、実施例２３（３）と
同様にして、目的化合物を収率８１％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.24(3H,t,J=7Hz),2.
21-2.29(2H,m),2.56(2H,t,J=7Hz),4.07(1H,s),4.10-4.1
9(4H,m),5.50(1H,s),6.58(1H,dd,J=2,9Hz),6.61(1H,d,J
=2Hz),6.96(1H,d,J=9Hz),6.99-7.07(5H,m),7.10(1H,s),
7.24-7.37(6H,m),8.00(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2985, 2943,
1728, 1619, 1604
【０１５７】
【実施例２６】４−［２−［２−［５−ビス（４−フルオロフェニル）
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例２５で得られた、４−［２−［２−［５−ビス
（４−フルオロフェニル）メチルアミノベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、目的化合物を収率８５％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.22-2.30(2H,m),2.6
3(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.49(1H,s),6.57(1H,
dd,J=3,9Hz),6.61(1H,d,J=8Hz),6.96(1H,d,J=8Hz),6.99
-7.07(5H,m),7.08(1H,s),7.24-7.36(6H,m),7.99(1H,dd,
J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3412, 3068, 2
928, 1710, 1618, 1602
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例２５で得られた、４−［２−［２−［５−ビス
（４−フルオロフェニル）メチルアミノベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、目的化合物を収率８５％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.22-2.30(2H,m),2.6
3(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.49(1H,s),6.57(1H,
dd,J=3,9Hz),6.61(1H,d,J=8Hz),6.96(1H,d,J=8Hz),6.99
-7.07(5H,m),7.08(1H,s),7.24-7.36(6H,m),7.99(1H,dd,
J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3412, 3068, 2
928, 1710, 1618, 1602
【０１５８】
【実施例２７】４−［２−［２−（５−アミノベンゾフラニル）］フェ
ノキシ］酪酸エチルエステル 実施例２３（１）で得られた、４−［２−［２−（５−
ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニル）］フ
ェノキシ］酪酸エチルエステル８２０ｍｇを、メタノー
ル５０ｍｌに溶解して、１０％パラジウム−カーボン８
２ｍｇを加え、水素雰囲気下、常圧で、室温で１時間撹
拌した。触媒を濾過した後、濾液を減圧下濃縮した。残
渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒：塩化メチレン／酢酸エチル２３／２〜９／１）によ
り精製した後、エチルエーテル−ヘキサンより再結晶し
て、淡紅色結晶の目的化合物４７０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7Hz),2.
24-2.32(2H,m),2.60(2H,t,J=7Hz),3.64(2H,br.s),4.12-
4.22(4H,m),6.67(1H,dd,J=2,8Hz),6.89(1H,d,J=2Hz),6.
98(1H,d,J=9Hz),7.06(1H,t,J=8Hz),7.17(1H,s),7.26-7.
31(2H,m),8.02(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3466, 3366, 2
980, 2964, 2903, 2874,1724, 1627, 1603, 1584
ノキシ］酪酸エチルエステル 実施例２３（１）で得られた、４−［２−［２−（５−
ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニル）］フ
ェノキシ］酪酸エチルエステル８２０ｍｇを、メタノー
ル５０ｍｌに溶解して、１０％パラジウム−カーボン８
２ｍｇを加え、水素雰囲気下、常圧で、室温で１時間撹
拌した。触媒を濾過した後、濾液を減圧下濃縮した。残
渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒：塩化メチレン／酢酸エチル２３／２〜９／１）によ
り精製した後、エチルエーテル−ヘキサンより再結晶し
て、淡紅色結晶の目的化合物４７０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7Hz),2.
24-2.32(2H,m),2.60(2H,t,J=7Hz),3.64(2H,br.s),4.12-
4.22(4H,m),6.67(1H,dd,J=2,8Hz),6.89(1H,d,J=2Hz),6.
98(1H,d,J=9Hz),7.06(1H,t,J=8Hz),7.17(1H,s),7.26-7.
31(2H,m),8.02(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3466, 3366, 2
980, 2964, 2903, 2874,1724, 1627, 1603, 1584
【０１５９】
【実施例２８】４−［２−［２−［５−ビス［４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例２７で得られた、４−［２−［２−（５−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル１
００ｍｇを、乾燥した塩化メチレン３ｍｌに溶解して、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン１２０ｍｇ及びビ
ス［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチルクロ
リド１２０ｍｇを加え、室温で、２４時間撹拌した。反
応液を水にあけ、塩化メチレンで抽出して、水及び飽和
食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶
媒を留去した。残渣を、薄層クロマトグラフィー（展開
溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により分離し
て、Ｒｆ値０．５の部分を酢酸エチルで溶出して、油状
の目的化合物６５ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.90(12H,d,J=7Hz),
1.24(3H,t,J=7Hz),1.81-1.89(2H,m),2.21-2.28(2H,m),
2.45(4H,d,J=7Hz),2.56(2H,t,J=7Hz),4.10-4.19(4H,m),
5.48(1H,s),6.59(1H,dd,J=2,9Hz),6.66(1H,d,J=2Hz),6.
94-7.12(3H,m),7.10(4H,d,J=8Hz),7.23-7.30(2H,m),7.2
9(4H,d,J=8Hz),7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2958, 2927,
2870, 1728, 1619, 1598
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例２７で得られた、４−［２−［２−（５−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル１
００ｍｇを、乾燥した塩化メチレン３ｍｌに溶解して、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン１２０ｍｇ及びビ
ス［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチルクロ
リド１２０ｍｇを加え、室温で、２４時間撹拌した。反
応液を水にあけ、塩化メチレンで抽出して、水及び飽和
食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶
媒を留去した。残渣を、薄層クロマトグラフィー（展開
溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により分離し
て、Ｒｆ値０．５の部分を酢酸エチルで溶出して、油状
の目的化合物６５ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.90(12H,d,J=7Hz),
1.24(3H,t,J=7Hz),1.81-1.89(2H,m),2.21-2.28(2H,m),
2.45(4H,d,J=7Hz),2.56(2H,t,J=7Hz),4.10-4.19(4H,m),
5.48(1H,s),6.59(1H,dd,J=2,9Hz),6.66(1H,d,J=2Hz),6.
94-7.12(3H,m),7.10(4H,d,J=8Hz),7.23-7.30(2H,m),7.2
9(4H,d,J=8Hz),7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2958, 2927,
2870, 1728, 1619, 1598
【０１６０】
【実施例２９】４−［２−［２−［５−ビス［４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例２８で得られた、４−［２−［２−［５−ビス
［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチルアミノ
ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを
用いて、実施例３と同様にして、目的化合物を収率９６
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.89(12H,d,J=7Hz),
1.78-1.91(2H,m),2.22-2.29(2H,m),2.45(4H,d,J=7Hz),
2.63(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.48(1H,s),6.59
(1H,dd,J=3,9Hz),6.65(1H,d,J=2Hz),6.89-7.15(3H,m),
7.10(4H,d,J=8Hz),7.21-7.34(2H,m),7.29(4H,d,J=8Hz),
7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3410, 3022, 2
954, 2924, 2869, 1710,1618, 1598, 1585
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例２８で得られた、４−［２−［２−［５−ビス
［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチルアミノ
ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを
用いて、実施例３と同様にして、目的化合物を収率９６
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.89(12H,d,J=7Hz),
1.78-1.91(2H,m),2.22-2.29(2H,m),2.45(4H,d,J=7Hz),
2.63(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.48(1H,s),6.59
(1H,dd,J=3,9Hz),6.65(1H,d,J=2Hz),6.89-7.15(3H,m),
7.10(4H,d,J=8Hz),7.21-7.34(2H,m),7.29(4H,d,J=8Hz),
7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3410, 3022, 2
954, 2924, 2869, 1710,1618, 1598, 1585
【０１６１】
【実施例３０】４−［２−［２−［５−ビス（４−メトキシフェニル）
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル 実施例２７で得られた、４−［２−［２−（５−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル及
びビス（４−メトキシフェニル）メチルクロリドを用い
て、実施例２８と同様にして、目的化合物を収率４５％
で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：１．２４（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．２１−２．２９（２Ｈ，
ｍ），２．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．７９
（６Ｈ，ｓ），４．１０−４．１９（４Ｈ，ｍ），５．
４５（１Ｈ，ｓ），６．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，９
Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），６．８７
（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１
０（１Ｈ，ｓ），７．２２−７．３１（２Ｈ，ｍ），
７．２９（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），８．００（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ） 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＣＨＣ
ｌ３）： ２９６０， ２９３８， ２８４０， １７
２８， １６１１， １５８６
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル 実施例２７で得られた、４−［２−［２−（５−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル及
びビス（４−メトキシフェニル）メチルクロリドを用い
て、実施例２８と同様にして、目的化合物を収率４５％
で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：１．２４（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．２１−２．２９（２Ｈ，
ｍ），２．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．７９
（６Ｈ，ｓ），４．１０−４．１９（４Ｈ，ｍ），５．
４５（１Ｈ，ｓ），６．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，９
Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），６．８７
（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１
０（１Ｈ，ｓ），７．２２−７．３１（２Ｈ，ｍ），
７．２９（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），８．００（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ） 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＣＨＣ
ｌ３）： ２９６０， ２９３８， ２８４０， １７
２８， １６１１， １５８６
【０１６２】
【実施例３１】４−［２−［２−［５−ビス（４−メトキシフェニル）
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例３０で得られた、４−［２−［２−［５−ビス
（４−メトキシフェニル）メチルアミノベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、目的化合物を収率９４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.22-2.30(2H,m),2.6
3(2H,t,J=7Hz),3.79(6H,s),4.17(2H,t,J=6Hz),5.44(1H,
s),6.58(1H,dd,J=2,9Hz),6.61(1H,d,J=2Hz),6.87(4H,d,
J=9Hz),6.95(1H,d,J=8Hz),7.04(1H,t,J=8Hz),7.08(1H,
s),7.22-7.35(2H,m),7.30(4H,d,J=9Hz),7.99(1H,dd,J=
2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3399, 2952, 2
933, 2836, 1709, 1610,1585
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例３０で得られた、４−［２−［２−［５−ビス
（４−メトキシフェニル）メチルアミノベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、目的化合物を収率９４％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.22-2.30(2H,m),2.6
3(2H,t,J=7Hz),3.79(6H,s),4.17(2H,t,J=6Hz),5.44(1H,
s),6.58(1H,dd,J=2,9Hz),6.61(1H,d,J=2Hz),6.87(4H,d,
J=9Hz),6.95(1H,d,J=8Hz),7.04(1H,t,J=8Hz),7.08(1H,
s),7.22-7.35(2H,m),7.30(4H,d,J=9Hz),7.99(1H,dd,J=
2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3399, 2952, 2
933, 2836, 1709, 1610,1585
【０１６３】
【実施例３２】４−［２−［２−（６−アミノベンゾフラニル）］フェ
ノキシ］酪酸エチルエステル （１）２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾフラン−
６−アルデヒド 上記実施例１８（６）で得られた、４−（２−ベンジル
オキシフェニル）エチニル−３−メトキシ−１−ジメト
キシメチルベンゼン９．５０ｇ及び塩化ピリジニウム４
２．４ｇを、２００℃で２時間撹拌した。反応液を１０
０℃に冷却し、ジメチルホルムアミド２０ｍｌを加え、
室温まで冷却し、１規定塩酸３０ｍｌ及び酢酸エチル３
０ｍｌを加えた。室温にて３０分撹拌後、酢酸エチルで
希釈して、水及び飽和食塩水で洗滌した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。
残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル＝４／１）により精製して、粉末の
目的化合物４．４０ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm :6.98-7.07(2H,m),
7.31(1H,m),7.56(1H,s),7.81(1H,d,J=8.2Hz),7.86(1H,
d,J=8.0Hz),7.94(1H,dd,J=1.4,7.9Hz),8.13(1H,s),10.0
6(1H,s),10.68(1H,s, 重水で消失) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3246, 1622, 1
611, 1573, 1426, 1300,916, 763 （２）４−［２−［２−（６−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例３２（１）で得られた、２−（２−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾフラン−６−アルデヒド２．５ｇと
４−ブロモ酪酸エチルエステルを用いて、実施例１
（５）と同様にして、白色結晶の目的化合物を２．３ｇ
得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7.2Hz),
2.31(2H,m),2.61(2H,t,J=7.3Hz),4.16(2H,m),4.23(2H,
t,J=6.3Hz),7.02(1H,d,J=8.4Hz),7.09-7.13(1H,m),7.35
-7.40(2H,m),7.71(1H,d,J=8Hz),7.78(1H,dd,J=1.3,8.0H
z),8.01(1H,s),8.11(1H,dd,J=1.5,7.9Hz),10.07(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2987, 1728, 1
683, 1613, 1422, 1249,1018 （３）２−［２−［１−（３−エトキシカルボニル）プ
ロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−６−カルボン
酸 上記実施例３２（２）で得られた、４−［２−［２−
（６−ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エ
チルエステル２．３ｇを用いて、実施例１（６）と同様
にして、白色結晶の目的化合物を１．８ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm :1.17(3H,t,J=7.2H
z),2.16(2H,m),2.57(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.23(2
H,t,J=6.4Hz),7.13(1H,t,J=7.4Hz),7.22(1H,d,J=8.4H
z),7.41-7.46(2H,m),7.76(1H,d,J=8.1Hz),7.87(1H,dd,J
=1.3,8.1Hz),8.01(1H,dd,J=1.6,7.7Hz),8.12(1H,s),12.
95(1H,br.s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2979, 1741, 1
683, 1495, 1425, 1304,1250, 1170 （４）４−［２−［２−（６−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 上記実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−
（３−エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニ
ル］ベンゾフラン−６−カルボン酸１．８ｇを用いて、
実施例２３（１）と同様にして、白色結晶の目的化合物
を１．２ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm :1.16(3H,t,J=7.2H
z),2.15(2H,m),2.55(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.20(2
H,t,J=6.4Hz),5.19(2H,s),7.26-7.47(8H,m),7.55(1H,d,
J=8.5Hz),7.87(1H,s),7.93(1H,dd,J=1.6,7.8Hz),9.96(1
H,s), 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3337, 1733, 1
545, 1496, 1218, 1054,751 （５）４−［２−［２−（６−アミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例３２（４）で得られた、４−［２−［２−
（６−ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例２７と同様にして、収率８０％で白色結晶の目的化合
物を得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7Hz),2.
24-2.32(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),3.70(2H,s),4.16(2H,
q,J=7Hz),4.19(2H,t,J=6Hz),6.63(1H,dd,J=2,8Hz),6.84
(1H,s),6.96(1H,d,J=8Hz),7.05(1H,t,J=8Hz),7.19(1H,
s),7.24(1H,m),7.36(1H,d,J=8Hz),7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3391, 3296, 3
202, 3064, 2982, 2964,1724, 1625, 1597, 1583
ノキシ］酪酸エチルエステル （１）２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾフラン−
６−アルデヒド 上記実施例１８（６）で得られた、４−（２−ベンジル
オキシフェニル）エチニル−３−メトキシ−１−ジメト
キシメチルベンゼン９．５０ｇ及び塩化ピリジニウム４
２．４ｇを、２００℃で２時間撹拌した。反応液を１０
０℃に冷却し、ジメチルホルムアミド２０ｍｌを加え、
室温まで冷却し、１規定塩酸３０ｍｌ及び酢酸エチル３
０ｍｌを加えた。室温にて３０分撹拌後、酢酸エチルで
希釈して、水及び飽和食塩水で洗滌した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。
残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル＝４／１）により精製して、粉末の
目的化合物４．４０ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm :6.98-7.07(2H,m),
7.31(1H,m),7.56(1H,s),7.81(1H,d,J=8.2Hz),7.86(1H,
d,J=8.0Hz),7.94(1H,dd,J=1.4,7.9Hz),8.13(1H,s),10.0
6(1H,s),10.68(1H,s, 重水で消失) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3246, 1622, 1
611, 1573, 1426, 1300,916, 763 （２）４−［２−［２−（６−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例３２（１）で得られた、２−（２−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾフラン−６−アルデヒド２．５ｇと
４−ブロモ酪酸エチルエステルを用いて、実施例１
（５）と同様にして、白色結晶の目的化合物を２．３ｇ
得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7.2Hz),
2.31(2H,m),2.61(2H,t,J=7.3Hz),4.16(2H,m),4.23(2H,
t,J=6.3Hz),7.02(1H,d,J=8.4Hz),7.09-7.13(1H,m),7.35
-7.40(2H,m),7.71(1H,d,J=8Hz),7.78(1H,dd,J=1.3,8.0H
z),8.01(1H,s),8.11(1H,dd,J=1.5,7.9Hz),10.07(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2987, 1728, 1
683, 1613, 1422, 1249,1018 （３）２−［２−［１−（３−エトキシカルボニル）プ
ロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−６−カルボン
酸 上記実施例３２（２）で得られた、４−［２−［２−
（６−ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エ
チルエステル２．３ｇを用いて、実施例１（６）と同様
にして、白色結晶の目的化合物を１．８ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm :1.17(3H,t,J=7.2H
z),2.16(2H,m),2.57(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.23(2
H,t,J=6.4Hz),7.13(1H,t,J=7.4Hz),7.22(1H,d,J=8.4H
z),7.41-7.46(2H,m),7.76(1H,d,J=8.1Hz),7.87(1H,dd,J
=1.3,8.1Hz),8.01(1H,dd,J=1.6,7.7Hz),8.12(1H,s),12.
95(1H,br.s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2979, 1741, 1
683, 1495, 1425, 1304,1250, 1170 （４）４−［２−［２−（６−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 上記実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−
（３−エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニ
ル］ベンゾフラン−６−カルボン酸１．８ｇを用いて、
実施例２３（１）と同様にして、白色結晶の目的化合物
を１．２ｇ得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm :1.16(3H,t,J=7.2H
z),2.15(2H,m),2.55(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.20(2
H,t,J=6.4Hz),5.19(2H,s),7.26-7.47(8H,m),7.55(1H,d,
J=8.5Hz),7.87(1H,s),7.93(1H,dd,J=1.6,7.8Hz),9.96(1
H,s), 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3337, 1733, 1
545, 1496, 1218, 1054,751 （５）４−［２−［２−（６−アミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例３２（４）で得られた、４−［２−［２−
（６−ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例２７と同様にして、収率８０％で白色結晶の目的化合
物を得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.26(3H,t,J=7Hz),2.
24-2.32(2H,m),2.61(2H,t,J=7Hz),3.70(2H,s),4.16(2H,
q,J=7Hz),4.19(2H,t,J=6Hz),6.63(1H,dd,J=2,8Hz),6.84
(1H,s),6.96(1H,d,J=8Hz),7.05(1H,t,J=8Hz),7.19(1H,
s),7.24(1H,m),7.36(1H,d,J=8Hz),7.99(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3391, 3296, 3
202, 3064, 2982, 2964,1724, 1625, 1597, 1583
【０１６４】
【実施例３３】４−［２−［２−［６−ビス［４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例３２で得られた、４−［２−［２−（６−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル及
びビス［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチル
クロリドを用いて、実施例２８と同様にして、目的化合
物を収率４１％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.90(12H,d,J=7Hz),
1.25(3H,t,J=7Hz),1.80-1.90(2H,m),2.22-2.30(2H,m),
2.45(4H,d,J=7Hz),2.58(2H,t,J=7Hz),4.11-4.19(4H,m),
4.35(1H,br.s),5.50(1H,s),6.57(1H,dd,J=2,8Hz),6.61
(1H,s),6.94(1H,d,J=8Hz),7.01(1H,t,J=7Hz),7.11(4H,
d,J=8Hz),7.15(1H,s),7.18-7.33(2H,m),7.28(4H,d,J=8H
z),7.93(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 3432, 2958,
2926, 2870, 1728, 1627, 1601
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例３２で得られた、４−［２−［２−（６−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル及
びビス［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチル
クロリドを用いて、実施例２８と同様にして、目的化合
物を収率４１％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.90(12H,d,J=7Hz),
1.25(3H,t,J=7Hz),1.80-1.90(2H,m),2.22-2.30(2H,m),
2.45(4H,d,J=7Hz),2.58(2H,t,J=7Hz),4.11-4.19(4H,m),
4.35(1H,br.s),5.50(1H,s),6.57(1H,dd,J=2,8Hz),6.61
(1H,s),6.94(1H,d,J=8Hz),7.01(1H,t,J=7Hz),7.11(4H,
d,J=8Hz),7.15(1H,s),7.18-7.33(2H,m),7.28(4H,d,J=8H
z),7.93(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 3432, 2958,
2926, 2870, 1728, 1627, 1601
【０１６５】
【実施例３４】４−［２−［２−［６−ビス［４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例３３で得られた、４−［２−［２−［６−ビス
［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチルアミノ
ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを
用いて、実施例３と同様にして、目的化合物を収率９７
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.90(12H,d,J=7Hz),
1.78-1.90(2H,m),2.23-2.31(2H,m),2.45(4H,d,J=7Hz),
2.66(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.50(1H,s),6.56
(1H,dd,J=2,8Hz),6.61(1H,s),6.94(1H,d,J=8Hz),7.01(1
H,t,J=7Hz),7.11(4H,d,J=8Hz),7.14(1H,s),7.18-7.33(2
H,m),7.28(4H,d,J=8Hz),7.92(1H,dd,J=1,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3415, 3023, 2
954, 2924, 2869, 1710,1626, 1601, 1586
ル）フェニル］メチルアミノベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例３３で得られた、４−［２−［２−［６−ビス
［４−（２−メチルプロピル）フェニル］メチルアミノ
ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを
用いて、実施例３と同様にして、目的化合物を収率９７
％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :0.90(12H,d,J=7Hz),
1.78-1.90(2H,m),2.23-2.31(2H,m),2.45(4H,d,J=7Hz),
2.66(2H,t,J=7Hz),4.18(2H,t,J=6Hz),5.50(1H,s),6.56
(1H,dd,J=2,8Hz),6.61(1H,s),6.94(1H,d,J=8Hz),7.01(1
H,t,J=7Hz),7.11(4H,d,J=8Hz),7.14(1H,s),7.18-7.33(2
H,m),7.28(4H,d,J=8Hz),7.92(1H,dd,J=1,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3415, 3023, 2
954, 2924, 2869, 1710,1626, 1601, 1586
【０１６６】
【実施例３５】４−［２−［２−［６−ビス（４−メトキシフェニル）
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル 実施例３２で得られた、４−［２−［２−（６−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル及
びビス（４−メトキシフェニル）メチルクロリドを用い
て、実施例２８と同様にして、目的化合物を収率６２％
で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.25(3H,t,J=7Hz),2.
23-2.30(2H,m),2.59(2H,t,J=7Hz),3.79(6H,s),4.12-4.1
9(4H,m),4.28(1H,br.s),5.47(1H,s),6.56(1H,dd,J=2,9H
z),6.60(1H,s),6.87(4H,d,J=9Hz),6.94(1H,d,J=8Hz),7.
01(1H,t,J=7Hz),7.16(1H,s),7.19-7.34(2H,m),7.29(4H,
d,J=9Hz),7.93(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CDCl3): 3399, 2956,
2935, 2836, 1731, 1626, 1610, 1585
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル 実施例３２で得られた、４−［２−［２−（６−アミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル及
びビス（４−メトキシフェニル）メチルクロリドを用い
て、実施例２８と同様にして、目的化合物を収率６２％
で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :1.25(3H,t,J=7Hz),2.
23-2.30(2H,m),2.59(2H,t,J=7Hz),3.79(6H,s),4.12-4.1
9(4H,m),4.28(1H,br.s),5.47(1H,s),6.56(1H,dd,J=2,9H
z),6.60(1H,s),6.87(4H,d,J=9Hz),6.94(1H,d,J=8Hz),7.
01(1H,t,J=7Hz),7.16(1H,s),7.19-7.34(2H,m),7.29(4H,
d,J=9Hz),7.93(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CDCl3): 3399, 2956,
2935, 2836, 1731, 1626, 1610, 1585
【０１６７】
【実施例３６】４−［２−［２−［６−ビス（４−メトキシフェニル）
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例３５で得られた、４−［２−［２−［６−ビス
（４−メトキシフェニル）メチルアミノベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、目的化合物を収率８６％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.24-2.31(2H,m),2.6
6(2H,t,J=7Hz),3.79(6H,s),4.18(2H,t,J=6Hz),5.47(1H,
s),6.56(1H,dd,J=2,8Hz),6.59(1H,s),6.87(4H,d,J=9H
z),6.94(1H,d,J=9Hz),7.01(1H,t,J=8Hz),7.14(1H,s),7.
17-7.37(2H,m),7.28(4H,d,J=9Hz),7.93(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3414, 2954, 2
934, 2836, 1709, 1626,1610, 1585
メチルアミノベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例３５で得られた、４−［２−［２−［６−ビス
（４−メトキシフェニル）メチルアミノベンゾフラニ
ル］］フェノキシ］酪酸エチルエステルを用いて、実施
例３と同様にして、目的化合物を収率８６％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :2.24-2.31(2H,m),2.6
6(2H,t,J=7Hz),3.79(6H,s),4.18(2H,t,J=6Hz),5.47(1H,
s),6.56(1H,dd,J=2,8Hz),6.59(1H,s),6.87(4H,d,J=9H
z),6.94(1H,d,J=9Hz),7.01(1H,t,J=8Hz),7.14(1H,s),7.
17-7.37(2H,m),7.28(4H,d,J=9Hz),7.93(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3414, 2954, 2
934, 2836, 1709, 1626,1610, 1585
【０１６８】
【実施例３７】４−［２−［２−［５−［Ｎ−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及びビス（４−フル
オロフェニル）メチルアミン２６８ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的化合物４５０ｍｇを
得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：８．０７−８．
０５（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
７，１．７Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈ
ｚ），７．３６−７．２６（６Ｈ，ｍ），７．１１−
７．００（６Ｈ，ｍ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），
４．２１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１５（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ），２．３２−２．２６（２Ｈ，ｍ），１．
２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及びビス（４−フル
オロフェニル）メチルアミン２６８ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的化合物４５０ｍｇを
得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：８．０７−８．
０５（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
７，１．７Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈ
ｚ），７．３６−７．２６（６Ｈ，ｍ），７．１１−
７．００（６Ｈ，ｍ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），
４．２１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１５（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ），２．３２−２．２６（２Ｈ，ｍ），１．
２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）
【０１６９】
【実施例３８】４−［２−［２−［５−［Ｎ−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例３７で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
ビス（４−フルオロフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル４２
０ｍｇを用い、実施例３と同様にして、白色結晶の目的
化合物３７１ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :12.19(1H,b
r.s),9.29(1H,d,J=8.6Hz),8.32(1H,d,J=1.5Hz),7.98(1
H,dd,J=7.8,1.5Hz),7.90(1H,dd,J=8.6,1.5Hz),7.69(1H,
d,J=8.6Hz),7.46-7.39(6H,m),7.22-7.18(5H,m),7.12(1
H,t,J=7.8Hz),6.46(1H,d,J=8.6Hz),4.21(2H,t,J=6.3H
z),2.50(2H,t,J=7.3Hz),2.17-2.10(2H,m)
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例３７で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
ビス（４−フルオロフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル４２
０ｍｇを用い、実施例３と同様にして、白色結晶の目的
化合物３７１ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :12.19(1H,b
r.s),9.29(1H,d,J=8.6Hz),8.32(1H,d,J=1.5Hz),7.98(1
H,dd,J=7.8,1.5Hz),7.90(1H,dd,J=8.6,1.5Hz),7.69(1H,
d,J=8.6Hz),7.46-7.39(6H,m),7.22-7.18(5H,m),7.12(1
H,t,J=7.8Hz),6.46(1H,d,J=8.6Hz),4.21(2H,t,J=6.3H
z),2.50(2H,t,J=7.3Hz),2.17-2.10(2H,m)
【０１７０】
【実施例３９】４−［２−［２−［５−［Ｎ−ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及びビス（４−メト
キシフェニル）メチルアミン２９７ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的化合物４６５ｍｇを
得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :8.07-8.05(2H,m),7.7
8(1H,dd,J=8.7,1.7Hz),7.53(1H,d,J=8.7Hz),7.35-7.31
(2H,m),7.25(4H,d,J=8.8Hz),7.09(1H,t,J=7.2Hz),7.01
(1H,d,J=8.0Hz),6.89(4H,d,J=8.8Hz),6.64(1H,d,J=7.6H
z),6.39(1H,d,J=7.6Hz),4.21(2H,t,J=6.2Hz),4.15(2H,
q,J=7.3Hz),3.80(6H,s),2.60(2H,t,J=7.2Hz),2.32-2.26
(2H,m),1.25(3H,t,J=7.3Hz)
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及びビス（４−メト
キシフェニル）メチルアミン２９７ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的化合物４６５ｍｇを
得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :8.07-8.05(2H,m),7.7
8(1H,dd,J=8.7,1.7Hz),7.53(1H,d,J=8.7Hz),7.35-7.31
(2H,m),7.25(4H,d,J=8.8Hz),7.09(1H,t,J=7.2Hz),7.01
(1H,d,J=8.0Hz),6.89(4H,d,J=8.8Hz),6.64(1H,d,J=7.6H
z),6.39(1H,d,J=7.6Hz),4.21(2H,t,J=6.2Hz),4.15(2H,
q,J=7.3Hz),3.80(6H,s),2.60(2H,t,J=7.2Hz),2.32-2.26
(2H,m),1.25(3H,t,J=7.3Hz)
【０１７１】
【実施例４０】４−［２−［２−［５−［Ｎ−ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例３９で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
ビス（４−メトキシフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル４４
０ｍｇを用い、実施例３と同様にして、白色結晶の目的
化合物４０２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :12.20(1H,br.s),9.15
(1H,d,J=8.7Hz),8.31(1H,d,J=1.5Hz),7.97(1H,dd,J=8.
1,1.5Hz),7.89(1H,dd,J=8.6,1.5Hz),7.67(1H,d,J=8.6H
z),7.45(1H,s),7.41(1H,m),7.29(4H,d,J=8.7Hz),7.21(1
H,d,J=8.1Hz),7.12(1H,t,J=7.5Hz),6.91(4H,d,J=8.7H
z),6.34(1H,d,J=8.7Hz),4.21(2H,t,J=6.3Hz),3.74(6H,
s),2.50(2H,t,J=7.5Hz),2.17-2.10(2H,m)
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例３９で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
ビス（４−メトキシフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル４４
０ｍｇを用い、実施例３と同様にして、白色結晶の目的
化合物４０２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :12.20(1H,br.s),9.15
(1H,d,J=8.7Hz),8.31(1H,d,J=1.5Hz),7.97(1H,dd,J=8.
1,1.5Hz),7.89(1H,dd,J=8.6,1.5Hz),7.67(1H,d,J=8.6H
z),7.45(1H,s),7.41(1H,m),7.29(4H,d,J=8.7Hz),7.21(1
H,d,J=8.1Hz),7.12(1H,t,J=7.5Hz),6.91(4H,d,J=8.7H
z),6.34(1H,d,J=8.7Hz),4.21(2H,t,J=6.3Hz),3.74(6H,
s),2.50(2H,t,J=7.5Hz),2.17-2.10(2H,m)
【０１７２】
【実施例４１】４−［２−［２−［５−［Ｎ−（１，２−ジフェニルエ
チル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］
酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及び１，２−ジフェ
ニルエチルアミン０．２４ｍｌを用いて、実施例２と同
様にして、白色結晶の目的化合物４２０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :8.05(1H,dd,J=8.0,1.
7Hz),7.95(1H,d,J=1.7Hz),7.64(1H,dd,J=8.4,1.7Hz),7.
50(1H,d,J=8.4Hz),7.36-7.18(10H,m),7.15-7.13(2H,m),
7.08(1H,t,J=7.2Hz),7.00(1H,d,J=8.0Hz),6.45(1H,d,J=
7.7Hz),5.51(1H,dd,J=7.7,7.2Hz),4.22(2H,t,J=6.2Hz),
4.16(2H,q,J=7.3Hz),3.27(2H,d,J=7.2Hz),2.61(2H,t,J=
7.2Hz),2.33-2.26(2H,m),1.26(3H,t,J=7.3Hz)
チル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］
酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及び１，２−ジフェ
ニルエチルアミン０．２４ｍｌを用いて、実施例２と同
様にして、白色結晶の目的化合物４２０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :8.05(1H,dd,J=8.0,1.
7Hz),7.95(1H,d,J=1.7Hz),7.64(1H,dd,J=8.4,1.7Hz),7.
50(1H,d,J=8.4Hz),7.36-7.18(10H,m),7.15-7.13(2H,m),
7.08(1H,t,J=7.2Hz),7.00(1H,d,J=8.0Hz),6.45(1H,d,J=
7.7Hz),5.51(1H,dd,J=7.7,7.2Hz),4.22(2H,t,J=6.2Hz),
4.16(2H,q,J=7.3Hz),3.27(2H,d,J=7.2Hz),2.61(2H,t,J=
7.2Hz),2.33-2.26(2H,m),1.26(3H,t,J=7.3Hz)
【０１７３】
【実施例４２】４−［２−［２−［５−［Ｎ−（１，２−ジフェニルエ
チル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］
酪酸 実施例４１で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
（１，２−ジフェニルエチル）カルバモイル］ベンゾフ
ラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル４０５ｍｇ
を用い、実施例３と同様にして、白色結晶の目的化合物
３５３ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :12.04(1H,br.s),8.91
(1H,d,J=8.6Hz),8.17(1H,d,J=1.5Hz),7.97(1H,dd,J=7.
7,1.5Hz),7.76(1H,dd,J=8.7,1.5Hz),7.65(1H,d,J=8.7H
z),7.50-7.32(8H,m),7.28-7.10(6H,m),5.31(1H,m),4.22
(2H,t,J=6.4Hz),3.21(1H,dd,J=13.8,10.2Hz),3.09(1H,d
d,J=13.8,5.5Hz),2.50(2H,t,J=7.3Hz),2.18-2.11(2H,m)
チル）カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］
酪酸 実施例４１で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
（１，２−ジフェニルエチル）カルバモイル］ベンゾフ
ラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル４０５ｍｇ
を用い、実施例３と同様にして、白色結晶の目的化合物
３５３ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :12.04(1H,br.s),8.91
(1H,d,J=8.6Hz),8.17(1H,d,J=1.5Hz),7.97(1H,dd,J=7.
7,1.5Hz),7.76(1H,dd,J=8.7,1.5Hz),7.65(1H,d,J=8.7H
z),7.50-7.32(8H,m),7.28-7.10(6H,m),5.31(1H,m),4.22
(2H,t,J=6.4Hz),3.21(1H,dd,J=13.8,10.2Hz),3.09(1H,d
d,J=13.8,5.5Hz),2.50(2H,t,J=7.3Hz),2.18-2.11(2H,m)
【０１７４】
【実施例４３】４−［２−［２−［５−［Ｎ−［１−（４−メトキシフ
ェニル）−１−メチルエチル］カルバモイル］ベンゾフ
ラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及び１−（４−メト
キシフェニル）−１−メチルエチルアミンを用いて、実
施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物３８２ｍｇ
を得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :8.06(1H,dd,J=8.0,1.
7Hz),8.00(1H,d,J=1.7Hz),7.72(1H,dd,J=8.7,1.7Hz),7.
52(1H,d,J=8.7Hz),7.43(2H,d,J=8.8Hz),7.35-7.30(2H,
m),7.09(1H,t,J=7.2Hz),7.01(1H,d,J=8.0Hz),6.89(2H,
d,J=8.8Hz),6.42(1H,s),4.22(2H,t,J=6.2Hz),4.16(2H,
q,J=7.0Hz),3.81(3H,s),2.61(2H,t,J=7.3Hz),2.33-2.26
(2H,m),1.85(6H,s),1.26(3H,t,J=7.0Hz)
ェニル）−１−メチルエチル］カルバモイル］ベンゾフ
ラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル 実施例６（２）で得られた、２−［２−［１−（３−エ
トキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾ
フラン−５−カルボン酸３００ｍｇ及び１−（４−メト
キシフェニル）−１−メチルエチルアミンを用いて、実
施例２と同様にして、白色結晶の目的化合物３８２ｍｇ
を得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm :8.06(1H,dd,J=8.0,1.
7Hz),8.00(1H,d,J=1.7Hz),7.72(1H,dd,J=8.7,1.7Hz),7.
52(1H,d,J=8.7Hz),7.43(2H,d,J=8.8Hz),7.35-7.30(2H,
m),7.09(1H,t,J=7.2Hz),7.01(1H,d,J=8.0Hz),6.89(2H,
d,J=8.8Hz),6.42(1H,s),4.22(2H,t,J=6.2Hz),4.16(2H,
q,J=7.0Hz),3.81(3H,s),2.61(2H,t,J=7.3Hz),2.33-2.26
(2H,m),1.85(6H,s),1.26(3H,t,J=7.0Hz)
【０１７５】
【実施例４４】４−［２−［２−［５−［Ｎ−［１−（４−メトキシフ
ェニル）−１−メチル エチル］カルバモイル］ベンゾフ
ラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例４３で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
［１−（４−メトキシフェニル）−１−メチルエチル］
カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エ
チルエステル３３０ｍｇを用い、実施例３と同様にし
て、白色結晶の目的化合物２７５ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：１２．２１（１
Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．３９（１Ｈ，ｓ），８．２４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝７．５，１．３Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．５，１．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｓ），７．４２（１Ｈ，
ｍ），７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
８Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），
３．７２（３Ｈ，ｓ），２．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
４Ｈｚ），２．１８−２．１１（２Ｈ，ｍ），１．６８
（６Ｈ，ｓ）
ェニル）−１−メチル エチル］カルバモイル］ベンゾフ
ラニル］］フェノキシ］酪酸 実施例４３で得られた、４−［２−［２−［５−［Ｎ−
［１−（４−メトキシフェニル）−１−メチルエチル］
カルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エ
チルエステル３３０ｍｇを用い、実施例３と同様にし
て、白色結晶の目的化合物２７５ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：１２．２１（１
Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．３９（１Ｈ，ｓ），８．２４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝７．５，１．３Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．５，１．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｓ），７．４２（１Ｈ，
ｍ），７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
８Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），
３．７２（３Ｈ，ｓ），２．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
４Ｈｚ），２．１８−２．１１（２Ｈ，ｍ），１．６８
（６Ｈ，ｓ）
【０１７６】
【実施例４５】４−［２−［２−（５−ヒドロキシベンゾフラニル）］
フェノキシ］酪酸エチルエステル 水０．１５ｍｌに濃硫酸０．０５３ｍｌを加えて調製し
た希硫酸に、実施例２７で得られた、４−［２−［２−
（５−アミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル１００ｍｇを溶解した後、氷を１５０ｍｇ加
えて冷却した。この反応液に、亜硝酸ナトリウム２４ｍ
ｇの０．０７ｍｌ水溶液を、液温が１５〜２０℃に保た
れるように１５分間かけて加えた。亜硝酸ナトリウム水
溶液を加え終えてから５分間撹拌した後、氷３００ｍｇ
と尿素２．２ｍｇを加えた。反応液を無水硫酸ナトリウ
ム１１１ｍｇ、水０．０７４ｍｌ及び濃硫酸０．０８ｍ
ｌの混合液中に、８０℃で滴下した後、１５分間加熱撹
拌した。反応液を放冷後、飽和食塩水にあけ、クロロホ
ルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した。残渣を、５ｍｌのメタノー
ルに溶解し、濃硫酸１滴を加えて、３０分間加熱環流し
た。放冷後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水にあ
け、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶出
溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／９７〜５／９５）に
より精製した後、エーテルから再結晶を行い、白色結晶
の目的化合物２０．２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :8.03(1H,dd,
J=7.9,1.8Hz),7.37-7.27(2H,m),7.21(1H,s),7.10-6.97
(3H,m),6.79(1H,dd,J=8.8,2.6Hz),4.67(1H,s),4.20(2H,
t,J=6.2Hz),3.70(3H,s),2.62(2H,t,J=7.3Hz),2.34-2.24
(2H,m)
フェノキシ］酪酸エチルエステル 水０．１５ｍｌに濃硫酸０．０５３ｍｌを加えて調製し
た希硫酸に、実施例２７で得られた、４−［２−［２−
（５−アミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチ
ルエステル１００ｍｇを溶解した後、氷を１５０ｍｇ加
えて冷却した。この反応液に、亜硝酸ナトリウム２４ｍ
ｇの０．０７ｍｌ水溶液を、液温が１５〜２０℃に保た
れるように１５分間かけて加えた。亜硝酸ナトリウム水
溶液を加え終えてから５分間撹拌した後、氷３００ｍｇ
と尿素２．２ｍｇを加えた。反応液を無水硫酸ナトリウ
ム１１１ｍｇ、水０．０７４ｍｌ及び濃硫酸０．０８ｍ
ｌの混合液中に、８０℃で滴下した後、１５分間加熱撹
拌した。反応液を放冷後、飽和食塩水にあけ、クロロホ
ルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した。残渣を、５ｍｌのメタノー
ルに溶解し、濃硫酸１滴を加えて、３０分間加熱環流し
た。放冷後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水にあ
け、クロロホルムで３回抽出した。有機層を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶出
溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／９７〜５／９５）に
より精製した後、エーテルから再結晶を行い、白色結晶
の目的化合物２０．２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :8.03(1H,dd,
J=7.9,1.8Hz),7.37-7.27(2H,m),7.21(1H,s),7.10-6.97
(3H,m),6.79(1H,dd,J=8.8,2.6Hz),4.67(1H,s),4.20(2H,
t,J=6.2Hz),3.70(3H,s),2.62(2H,t,J=7.3Hz),2.34-2.24
(2H,m)
【０１７７】
【実施例４６】４−［２−［２−（５−ジフェニルメチルオキシベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 実施例４５で得られた、４−［２−［２−（５−ヒドロ
キシベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステ
ル４１．５ｍｇを、ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解
し、水素化ナトリウム６．１ｍｇを加え、室温で３０分
間撹拌した後、ジフェニルメチルブロミド３７．８ｍｇ
を加えて室温で３時間撹拌した。反応液を水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を、水及び飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去
した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶
媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／９９- ２／９８）によ
り精製後、エーテル−アセトンから再結晶を行い、白色
結晶の目的化合物３８．２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：８．０１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．８Ｈｚ），７．４６（４
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．３８−７．２５（８
Ｈ，ｍ），７．１６（１Ｈ，ｓ），７．０９−６．９５
（４Ｈ，ｍ），６．２４（１Ｈ，ｓ），４．１８（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），３．６７（３Ｈ，ｓ），
２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．３２−
２．２２（２Ｈ，ｍ）
フラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 実施例４５で得られた、４−［２−［２−（５−ヒドロ
キシベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステ
ル４１．５ｍｇを、ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解
し、水素化ナトリウム６．１ｍｇを加え、室温で３０分
間撹拌した後、ジフェニルメチルブロミド３７．８ｍｇ
を加えて室温で３時間撹拌した。反応液を水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を、水及び飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去
した。残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶
媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／９９- ２／９８）によ
り精製後、エーテル−アセトンから再結晶を行い、白色
結晶の目的化合物３８．２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δｐｐｍ ：８．０１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．８Ｈｚ），７．４６（４
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．３８−７．２５（８
Ｈ，ｍ），７．１６（１Ｈ，ｓ），７．０９−６．９５
（４Ｈ，ｍ），６．２４（１Ｈ，ｓ），４．１８（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），３．６７（３Ｈ，ｓ），
２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．３２−
２．２２（２Ｈ，ｍ）
【０１７８】
【実施例４７】４−［２−［２−（５−ジフェニルメチルオキシベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸 実施例４６で得られた、４−［２−［２−（５−ジフェ
ニルメチルオキシベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸
エチルエステル２８ｍｇを用いて、実施例３と同様にし
て、白色結晶の目的化合物２６．７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :8.00(1H,dd,
J=7.7,1.7Hz),7.46(4H,d,J=7.4Hz),7.36-7.24(8H,m),7.
15(1H,s),7.09-7.03(2H,m),6.97-6.94(2H,m),6.24(1H,
s),4.18(2H,t,J=6.1Hz),2.64(2H,t,J=7.3Hz),2.30-2.23
(2H,m)
フラニル）］フェノキシ］酪酸 実施例４６で得られた、４−［２−［２−（５−ジフェ
ニルメチルオキシベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸
エチルエステル２８ｍｇを用いて、実施例３と同様にし
て、白色結晶の目的化合物２６．７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３） δppm :8.00(1H,dd,
J=7.7,1.7Hz),7.46(4H,d,J=7.4Hz),7.36-7.24(8H,m),7.
15(1H,s),7.09-7.03(2H,m),6.97-6.94(2H,m),6.24(1H,
s),4.18(2H,t,J=6.1Hz),2.64(2H,t,J=7.3Hz),2.30-2.23
(2H,m)
【０１７９】
【実施例４８】４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１０１ｍｇ及びビス（４−フ
ルオロフェニル）メチルアミン７２ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的物１２６ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
2Hz),2.16(2H,m),2.56(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.23
(2H,t,J=6.4Hz),6.47(1H,d,J=8.6Hz),7.13(1H,t,J=7.8H
z),7.15-7.23(5H,m),7.41-7.47(6H,m),7.75(1H,d,J=8.1
Hz),7.87(1H,dd,J=1.3,8.1Hz),7.98(1H,dd,J=1.5,8.0H
z),8.23(1H,s),9.32(1H,d,J=8.7Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3303, 1734, 1
631, 1508, 1225, 833,753
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１０１ｍｇ及びビス（４−フ
ルオロフェニル）メチルアミン７２ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的物１２６ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
2Hz),2.16(2H,m),2.56(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.23
(2H,t,J=6.4Hz),6.47(1H,d,J=8.6Hz),7.13(1H,t,J=7.8H
z),7.15-7.23(5H,m),7.41-7.47(6H,m),7.75(1H,d,J=8.1
Hz),7.87(1H,dd,J=1.3,8.1Hz),7.98(1H,dd,J=1.5,8.0H
z),8.23(1H,s),9.32(1H,d,J=8.7Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3303, 1734, 1
631, 1508, 1225, 833,753
【０１８０】
【実施例４９】４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−フルオロフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例４８で得られた、４−［２−［２−［６−［Ｎ−
ビス（４−フルオロフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル１０
０ｍｇを用いて、実施例３と同様にして、白色結晶の目
的物８１ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：2.14(2H,m),2.4
9(2H,t,J=6.3Hz),4.22(2H,t,J=6.5Hz),6.47(1H,d,J=8.5
Hz),7.13(1H,t,J=7.3Hz),7.17-7.23(5H,m),7.40-7.46(6
H,m),7.76(1H,d,J=8.2Hz),7.86(1H,dd,J=0.9Hz,8.6Hz),
7.99(1H,dd,J=1.7Hz,7.7Hz),8.23(1H,s),9.29(1H,d,J=
8.4Hz), 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3300, 1694, 1
633, 1508, 1243, 1224,1160
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例４８で得られた、４−［２−［２−［６−［Ｎ−
ビス（４−フルオロフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル１０
０ｍｇを用いて、実施例３と同様にして、白色結晶の目
的物８１ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：2.14(2H,m),2.4
9(2H,t,J=6.3Hz),4.22(2H,t,J=6.5Hz),6.47(1H,d,J=8.5
Hz),7.13(1H,t,J=7.3Hz),7.17-7.23(5H,m),7.40-7.46(6
H,m),7.76(1H,d,J=8.2Hz),7.86(1H,dd,J=0.9Hz,8.6Hz),
7.99(1H,dd,J=1.7Hz,7.7Hz),8.23(1H,s),9.29(1H,d,J=
8.4Hz), 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3300, 1694, 1
633, 1508, 1243, 1224,1160
【０１８１】
【実施例５０】４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１００ｍｇ及びビス（４−メ
トキシフェニル）メチルアミン７９ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的物１３１ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
0Hz),2.16(2H,m),2.56(2H,t,J=7.3Hz),3.74(6H,s),4.06
(2H,m),4.23(2H,t,J=6.3Hz),6.34(1H,d,J=8.8Hz),6.89-
6.92(4H,m),7.13(1H,t,J=7.5Hz),7.22(1H,d,J=8.1Hz),
7.27-7.31(4H,m),7.40-7.45(2H,m),7.74(1H,d,J=8.2H
z),7.86(1H,dd,J=1.3,8.1Hz),7.98(1H,dd,J=1.6,7.8H
z),8.22(1H,s),9.17(1H,d,J=8.7Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3303, 1726, 1
628, 1512, 1248, 1179,1035
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１００ｍｇ及びビス（４−メ
トキシフェニル）メチルアミン７９ｍｇを用いて、実施
例２と同様にして、白色結晶の目的物１３１ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
0Hz),2.16(2H,m),2.56(2H,t,J=7.3Hz),3.74(6H,s),4.06
(2H,m),4.23(2H,t,J=6.3Hz),6.34(1H,d,J=8.8Hz),6.89-
6.92(4H,m),7.13(1H,t,J=7.5Hz),7.22(1H,d,J=8.1Hz),
7.27-7.31(4H,m),7.40-7.45(2H,m),7.74(1H,d,J=8.2H
z),7.86(1H,dd,J=1.3,8.1Hz),7.98(1H,dd,J=1.6,7.8H
z),8.22(1H,s),9.17(1H,d,J=8.7Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3303, 1726, 1
628, 1512, 1248, 1179,1035
【０１８２】
【実施例５１】４−［２−［２−［６−［Ｎ−ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例５０で得られた、４−［２−［２−［６−［Ｎ−
ビス（４−メトキシフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル１０
０ｍｇを用いて，実施例３と同様にして、白色結晶の目
的物８７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：2.14(2H,m),2.4
5(2H,t,J=7.2Hz),3.74(6H,s),4.22(2H,t,J=6.4Hz),6.34
(1H,d,J=8.7Hz),6.91(4H,d,J=8.6Hz),7.13(1H,t,J=7.6H
z),7.22(1H,d,J=8.4Hz),7.29(4H,d,J=8.6Hz),7.40-7.44
(2H,m),7.75(1H,d,J=8.2Hz),7.86(1H,dd,J=1.0,8.1Hz),
7.99(1H,dd,J=1.2,7.9Hz),8.22(1H,s),9.17(1H,d,J=8.7
Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3312, 1713, 1
632, 1511, 1250, 1175,1031
ニル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例５０で得られた、４−［２−［２−［６−［Ｎ−
ビス（４−メトキシフェニル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル１０
０ｍｇを用いて，実施例３と同様にして、白色結晶の目
的物８７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：2.14(2H,m),2.4
5(2H,t,J=7.2Hz),3.74(6H,s),4.22(2H,t,J=6.4Hz),6.34
(1H,d,J=8.7Hz),6.91(4H,d,J=8.6Hz),7.13(1H,t,J=7.6H
z),7.22(1H,d,J=8.4Hz),7.29(4H,d,J=8.6Hz),7.40-7.44
(2H,m),7.75(1H,d,J=8.2Hz),7.86(1H,dd,J=1.0,8.1Hz),
7.99(1H,dd,J=1.2,7.9Hz),8.22(1H,s),9.17(1H,d,J=8.7
Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3312, 1713, 1
632, 1511, 1250, 1175,1031
【０１８３】
【実施例５２】４−［２−［２−［６−［Ｎ−（１，２−ジフェニルエ
チル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１０２ｍｇと１，２−ジフェ
ニルエチルアミン６４μｌを用いて、実施例２と同様に
して、白色結晶の目的物１５０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
3Hz),2.16(2H,m),2.56(2H,t,J=7.3Hz),3.07-3.24(2H,
m),4.06(2H,m),4.23(2H,t,J=6.4Hz),5.31(1H,m),7.11-
7.45(13H,m),7.49(2H,d,J=7.5Hz),7.20(1H,d,J=1.6Hz),
7.99(1H,dd,J=1.5,8.0Hz),8.91(1H,d,J=8.6Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３３３３， ２９５９， １７２４， １６２７，
１５３２， １２４２，１１８０
チル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸エチルエステル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１０２ｍｇと１，２−ジフェ
ニルエチルアミン６４μｌを用いて、実施例２と同様に
して、白色結晶の目的物１５０ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
3Hz),2.16(2H,m),2.56(2H,t,J=7.3Hz),3.07-3.24(2H,
m),4.06(2H,m),4.23(2H,t,J=6.4Hz),5.31(1H,m),7.11-
7.45(13H,m),7.49(2H,d,J=7.5Hz),7.20(1H,d,J=1.6Hz),
7.99(1H,dd,J=1.5,8.0Hz),8.91(1H,d,J=8.6Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＫＢｒ）：
３３３３， ２９５９， １７２４， １６２７，
１５３２， １２４２，１１８０
【０１８４】
【実施例５３】４−［２−［２−［６−［Ｎ−（１，２−ジフェニルエ
チル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例５２で得られた、４−［２−［２−［６−［Ｎ−
（１，２−ジフェニルエチル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル１０
０ｍｇを用いて、実施例３と同様にして、白色結晶の目
的物８２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル （ＤＭＳＯ−ｄ６） δppm ：2.14
(2H,m),2.49(2H,t,J=7.3Hz),3.07-3.25(2H,m),4.22(2H,
t,J=6.5Hz),5.31(1H,m),7.11-7.50(14H,m),7.73(2H,s),
7.98(1H,dd,J=1.6,7.8Hz),8.08(1H,s),8.91(1H,d,J=8.6
Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3306, 2958, 1
712, 1631, 1530, 1495,1299, 1248
チル）メチルカルバモイル］ベンゾフラニル］］フェノ
キシ］酪酸 実施例５２で得られた、４−［２−［２−［６−［Ｎ−
（１，２−ジフェニルエチル）メチルカルバモイル］ベ
ンゾフラニル］］フェノキシ］酪酸エチルエステル１０
０ｍｇを用いて、実施例３と同様にして、白色結晶の目
的物８２ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル （ＤＭＳＯ−ｄ６） δppm ：2.14
(2H,m),2.49(2H,t,J=7.3Hz),3.07-3.25(2H,m),4.22(2H,
t,J=6.5Hz),5.31(1H,m),7.11-7.50(14H,m),7.73(2H,s),
7.98(1H,dd,J=1.6,7.8Hz),8.08(1H,s),8.91(1H,d,J=8.6
Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3306, 2958, 1
712, 1631, 1530, 1495,1299, 1248
【０１８５】
【実施例５４】４−［２−［２−（６−ジフェニルメチルアミノベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル （１）４−［２−［２−（６−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１．８ｇを用いて、実施例２
３（１）と同様にして、白色結晶の目的物１．２ｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
2Hz),2.15(2H,m),2.55(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.20
(2H,t,J=6.4Hz),5.19(2H,s),7.26-7.47(8H,m),7.55(1H,
d,J=8.5Hz),7.87(1H,s),7.93(1H,dd,J=1.6,7.8Hz),9.96
(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3337, 1733, 1
545, 1496, 1218, 1054,751 （２）４−［２−［２−（６−ベンジルオキシカルボニ
ルジフェニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキ
シ］酪酸エチルエステル 上記実施例５４（１）で得られた、４−［２−［２−
（６−ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル２００ｍｇ及び
α−ブロモジフェニルメタン１１５ｍｇを用いて、実施
例２３（２）と同様にして、目的化合物２０６ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.14(3H,t,J=7.
2Hz),2.12(2H,m),2.53(2H,t,J=7.3Hz),4.04(2H,m),4.19
(2H,t,J=6.3Hz),5.08(2H,s),6.63(1H,s),6.90(1H,dd,J=
1.0,8.2Hz),7.07(1H,t,J=7.4Hz),7.12-7.39(18H,m),7.4
5(1H,d,J=8.2Hz),7.88(1H,dd,J=1.5,7.8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2985, 1727,
1694, 1494, 1449, 1396, 1296 （３）４−［２−［２−（６−ジフェニルメチルアミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例５４（２）で得られた、４−［２−［２−
（６−ベンジルオキシカルボニルジフェニルメチルアミ
ノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル
２００ｍｇを用いて、実施例２３（３）と同様にして、
目的化合物１０９ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
0Hz),2.12(2H,m),2.53(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.16
(2H,t,J=6.4Hz),5.73(1H,d,J=6.2Hz),6.66-6.69(2H,m,D
2Oにより1H消失),6.79(1H,dd,J=1.8,8.4Hz),7.02(1H,t,
J=7.2Hz),7.06-7.14(2H,m),7.22-7.39(8H,m),7.44-7.46
(4H,m),7.80(1H,dd,J=1.5,7.9Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＣＨＣ
ｌ３）： ３４２９， ２９８４， １７２８， １６
２７， １４９５， １１６５， １１２４
フラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル （１）４−［２−［２−（６−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエ
ステル 実施例３２（３）で得られた、２−［２−［１−（３−
エトキシカルボニル）プロピルオキシ］フェニル］ベン
ゾフラン−６−カルボン酸１．８ｇを用いて、実施例２
３（１）と同様にして、白色結晶の目的物１．２ｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
2Hz),2.15(2H,m),2.55(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.20
(2H,t,J=6.4Hz),5.19(2H,s),7.26-7.47(8H,m),7.55(1H,
d,J=8.5Hz),7.87(1H,s),7.93(1H,dd,J=1.6,7.8Hz),9.96
(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3337, 1733, 1
545, 1496, 1218, 1054,751 （２）４−［２−［２−（６−ベンジルオキシカルボニ
ルジフェニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキ
シ］酪酸エチルエステル 上記実施例５４（１）で得られた、４−［２−［２−
（６−ベンジルオキシカルボニルアミノベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル２００ｍｇ及び
α−ブロモジフェニルメタン１１５ｍｇを用いて、実施
例２３（２）と同様にして、目的化合物２０６ｍｇを得
た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.14(3H,t,J=7.
2Hz),2.12(2H,m),2.53(2H,t,J=7.3Hz),4.04(2H,m),4.19
(2H,t,J=6.3Hz),5.08(2H,s),6.63(1H,s),6.90(1H,dd,J=
1.0,8.2Hz),7.07(1H,t,J=7.4Hz),7.12-7.39(18H,m),7.4
5(1H,d,J=8.2Hz),7.88(1H,dd,J=1.5,7.8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3): 2985, 1727,
1694, 1494, 1449, 1396, 1296 （３）４−［２−［２−（６−ジフェニルメチルアミノ
ベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル 上記実施例５４（２）で得られた、４−［２−［２−
（６−ベンジルオキシカルボニルジフェニルメチルアミ
ノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸エチルエステル
２００ｍｇを用いて、実施例２３（３）と同様にして、
目的化合物１０９ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル (DMSO-d6) δppm ：1.16(3H,t,J=7.
0Hz),2.12(2H,m),2.53(2H,t,J=7.3Hz),4.06(2H,m),4.16
(2H,t,J=6.4Hz),5.73(1H,d,J=6.2Hz),6.66-6.69(2H,m,D
2Oにより1H消失),6.79(1H,dd,J=1.8,8.4Hz),7.02(1H,t,
J=7.2Hz),7.06-7.14(2H,m),7.22-7.39(8H,m),7.44-7.46
(4H,m),7.80(1H,dd,J=1.5,7.9Hz) 赤外吸収スペクトル νｍａｘ ｃｍ−１（ＣＨＣ
ｌ３）： ３４２９， ２９８４， １７２８， １６
２７， １４９５， １１６５， １１２４
【０１８６】
【実施例５５】４−［２−［２−（６−ジフェニルメチルアミノベンゾ
フラニル）］フェノキシ］酪酸 実施例５４で得られた、４−［２−［２−（６−ジフェ
ニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸
エチルエステル１０２ｍｇを用いて、実施例３と同様に
して、白色結晶の目的化合物５７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル （ＤＭＳＯ−ｄ６） δppm ：2.09
(2H,m),2.47(2H,t,J=7.3Hz),4.15(2H,t,J=6.4Hz),5.73
(1H,d,J=5.7Hz),6.66-6.69(2H,m,D2Oにより1H消失),6.8
9(1H,dd,J=1.7,8.5Hz),7.01(1H,t,J=7.3Hz),7.11(1H,d,
J=8.3Hz),7.14(1H,s),7.21-7.36(8H,m),7.44-7.46(4H,
m),7.80(1H,dd,J=1.6,7.8Hz)
フラニル）］フェノキシ］酪酸 実施例５４で得られた、４−［２−［２−（６−ジフェ
ニルメチルアミノベンゾフラニル）］フェノキシ］酪酸
エチルエステル１０２ｍｇを用いて、実施例３と同様に
して、白色結晶の目的化合物５７ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル （ＤＭＳＯ−ｄ６） δppm ：2.09
(2H,m),2.47(2H,t,J=7.3Hz),4.15(2H,t,J=6.4Hz),5.73
(1H,d,J=5.7Hz),6.66-6.69(2H,m,D2Oにより1H消失),6.8
9(1H,dd,J=1.7,8.5Hz),7.01(1H,t,J=7.3Hz),7.11(1H,d,
J=8.3Hz),7.14(1H,s),7.21-7.36(8H,m),7.44-7.46(4H,
m),7.80(1H,dd,J=1.6,7.8Hz)
【０１８７】
【実施例５６】２−［２−［１−（３−シアノ）プロピルオキシ］フェ
ニル］ベンゾフラン−６−カルボン酸 （１）４−［２−［２−（６−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］ブチロニトリル 実施例３２（１）で得られた、２−（２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾフラン−６−アルデヒド及び４−ブロモ
ブチロニトリルを用いて、実施例１（５）と同様にし
て、白色結晶の目的化合物を収率３５％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm:2.30-2.38(2H,m),2.68
(2H,t,J=7Hz),4.33(2H,t,J=6Hz),7.04(1H,d,J=8Hz),7.1
5(1H,t,J=8Hz),7.28(1H,d,J=1Hz),7.40(1H,m),7.72(1H,
d,J=8Hz),7.80(1H,d,J=8Hz),8.02(1H,s),8.11(1H,dd,J=
2,8Hz),10.08(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2246, 1684, 1
612, 1578, 1557 （２）２−［２−［１−（３−シアノ）プロピルオキ
シ］フェニル］ベンゾフラン−６−カルボン酸 実施例５６（１）で得られた、４−［２−［２−（６−
ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］ブチロニトリ
ルを用いて、実施例１（６）と同様にして、白色結晶の
目的化合物を収率７９％で得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm:2.20-2.27(2H,m),2.
76(2H,t,J=7Hz),4.27(2H,t,J=6Hz),7.16(1H,t,J=8Hz),
7.25(1H,d,J=8Hz),7.43-7.49(2H,m),7.78(1H,d,J=8Hz),
7.87(1H,d,J=8Hz),8.01(1H,dd,J=2,8Hz),8.12(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2944, 2885, 2
591, 2241, 1680, 1618,1603, 1583, 1558
ニル］ベンゾフラン−６−カルボン酸 （１）４−［２−［２−（６−ホルミルベンゾフラニ
ル）］フェノキシ］ブチロニトリル 実施例３２（１）で得られた、２−（２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾフラン−６−アルデヒド及び４−ブロモ
ブチロニトリルを用いて、実施例１（５）と同様にし
て、白色結晶の目的化合物を収率３５％で得た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm:2.30-2.38(2H,m),2.68
(2H,t,J=7Hz),4.33(2H,t,J=6Hz),7.04(1H,d,J=8Hz),7.1
5(1H,t,J=8Hz),7.28(1H,d,J=1Hz),7.40(1H,m),7.72(1H,
d,J=8Hz),7.80(1H,d,J=8Hz),8.02(1H,s),8.11(1H,dd,J=
2,8Hz),10.08(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2246, 1684, 1
612, 1578, 1557 （２）２−［２−［１−（３−シアノ）プロピルオキ
シ］フェニル］ベンゾフラン−６−カルボン酸 実施例５６（１）で得られた、４−［２−［２−（６−
ホルミルベンゾフラニル）］フェノキシ］ブチロニトリ
ルを用いて、実施例１（６）と同様にして、白色結晶の
目的化合物を収率７９％で得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm:2.20-2.27(2H,m),2.
76(2H,t,J=7Hz),4.27(2H,t,J=6Hz),7.16(1H,t,J=8Hz),
7.25(1H,d,J=8Hz),7.43-7.49(2H,m),7.78(1H,d,J=8Hz),
7.87(1H,d,J=8Hz),8.01(1H,dd,J=2,8Hz),8.12(1H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 2944, 2885, 2
591, 2241, 1680, 1618,1603, 1583, 1558
【０１８８】
【実施例５７】Ｎ−ジフェニルメチル−２−［２−［１−（３−シア
ノ）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−６−カ
ルボキサミド 実施例５６で得られた、２−［２−［１−（３−シア
ノ）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−６−カ
ルボン酸及びベンズヒドリルアミンを用いて、実施例２
と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率８１％で得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm:2.29-2.36(2H,m),2.67
(2H,t,J=7Hz),4.31(2H,t,J=6Hz),6.50(1H,d,J=8Hz),6.7
3(1H,d,J=8Hz),7.02(1H,d,J=8Hz),7.13(1H,t,J=7Hz),7.
22-7.41(???H,m),7.64(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,m),8.04(1
H,s),8.07(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3337, 3069, 2
944, 2880, 2247, 1634,1602, 1583
ノ）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−６−カ
ルボキサミド 実施例５６で得られた、２−［２−［１−（３−シア
ノ）プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフラン−６−カ
ルボン酸及びベンズヒドリルアミンを用いて、実施例２
と同様にして、白色結晶の目的化合物を収率８１％で得
た。 ＮＭＲスペクトル(CDCl3) δppm:2.29-2.36(2H,m),2.67
(2H,t,J=7Hz),4.31(2H,t,J=6Hz),6.50(1H,d,J=8Hz),6.7
3(1H,d,J=8Hz),7.02(1H,d,J=8Hz),7.13(1H,t,J=7Hz),7.
22-7.41(???H,m),7.64(1H,d,J=8Hz),7.70(1H,m),8.04(1
H,s),8.07(1H,dd,J=2,8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3337, 3069, 2
944, 2880, 2247, 1634,1602, 1583
【０１８９】
【実施例５８】Ｎ−ジフェニルメチル−２−［２−［１−［３−（５−
テトラゾリル）］プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−６−カルボキサミド 実施例５７で得られた、Ｎ−ジフェニルメチル−２−
［２−［１−（３−シアノ）プロピルオキシ］フェニ
ル］ベンゾフラン−６−カルボキサミド１２０ｍｇをト
ルエン５ｍｌに懸濁させ、トリｎ−ブチルチンアジド２
５０ｍｇを加え、窒素雰囲気下１３０℃で、２日間攪拌
した。反応液を室温にして、２％水酸化ナトリウム水溶
液５ｍｌを加え、１時間攪拌した。反応液を１規定塩酸
中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水及び飽
和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をエチルエーテルで洗い、白色結
晶の目的化合物９８ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm:2.34-2.42(2H,m),3.
16(2H,t,J=8Hz),4.29(2H,t,J=6Hz),6.46(1H,d,J=9Hz),
7.14(1H,t,J=8Hz),7.21-7.46(14H,m),7.75(1H,d,J=8H
z),7.88(1H,dd,J=1,8Hz),8.00(1H,dd,J=2,8Hz),8.25(1
H,s),9.30(1H,d,J=9Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3424, 3244, 3
030, 2886, 2776, 2741,1625, 1603 以下に上記実施例の構造式一覧表を示す。
テトラゾリル）］プロピルオキシ］フェニル］ベンゾフ
ラン−６−カルボキサミド 実施例５７で得られた、Ｎ−ジフェニルメチル−２−
［２−［１−（３−シアノ）プロピルオキシ］フェニ
ル］ベンゾフラン−６−カルボキサミド１２０ｍｇをト
ルエン５ｍｌに懸濁させ、トリｎ−ブチルチンアジド２
５０ｍｇを加え、窒素雰囲気下１３０℃で、２日間攪拌
した。反応液を室温にして、２％水酸化ナトリウム水溶
液５ｍｌを加え、１時間攪拌した。反応液を１規定塩酸
中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、水及び飽
和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をエチルエーテルで洗い、白色結
晶の目的化合物９８ｍｇを得た。 ＮＭＲスペクトル(DMSO-d6) δppm:2.34-2.42(2H,m),3.
16(2H,t,J=8Hz),4.29(2H,t,J=6Hz),6.46(1H,d,J=9Hz),
7.14(1H,t,J=8Hz),7.21-7.46(14H,m),7.75(1H,d,J=8H
z),7.88(1H,dd,J=1,8Hz),8.00(1H,dd,J=2,8Hz),8.25(1
H,s),9.30(1H,d,J=9Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr): 3424, 3244, 3
030, 2886, 2776, 2741,1625, 1603 以下に上記実施例の構造式一覧表を示す。
【０１９０】尚、以下において、Ｐｈは、フェニル基、
Ｍｅは、メチル基、Ｅｔは、エチル基、Ｐｉｐｅは、ピ
ペラジノ基、Ｂｎは、ベンジル基、ｉＢｕは、イソブチ
ル基を示す。
Ｍｅは、メチル基、Ｅｔは、エチル基、Ｐｉｐｅは、ピ
ペラジノ基、Ｂｎは、ベンジル基、ｉＢｕは、イソブチ
ル基を示す。
【０１９１】
【化１０】
【０１９２】
【化１１】
【０１９３】
【化１２】
【０１９４】上記の実施例と同様の方法を行うことによ
り、下記の化合物を製造することができる。
り、下記の化合物を製造することができる。
【０１９５】
【化１３】
【０１９６】
【化１４】
【０１９７】
【化１５】
【０１９８】
【化１６】
【０１９９】
【化１７】
【０２００】
【化１８】
【０２０１】
【化１９】
【０２０２】
【化２０】
【０２０３】
【化２１】
【０２０４】
【化２２】
【０２０５】
【化２３】
【０２０６】
【化２４】
【０２０７】
【化２５】
【０２０８】
【化２６】
【０２０９】
【化２７】
【０２１０】
【化２８】
【０２１１】
【化２９】
【０２１２】
【化３０】
【０２１３】
【化３１】
【０２１４】
【化３２】
【０２１５】
【化３３】
【０２１６】
【化３４】
【０２１７】
【化３５】
【０２１８】
【化３６】
【０２１９】以下に、試験例をあげて本発明を更に具体
的に説明する。
的に説明する。
【０２２０】
【試験例１】（１）ラット前立腺からの５α−リダクターゼの調製 成熟雄ラット（３５０〜４００ｇ：Sprague-Dawley）の
前立腺腹葉をはさみで小片に細切後、組織の約３倍量の
緩衝液〔0.33Ｍシュクロース、１ｍＭジチオスレイトー
ル、５０μＭニコチンアミドアデニンジヌクレオチドホ
スフェート−還元体(NADPH),0.001 ％フェニルメチルス
ルホニルフルオライド(PMSF)を含む２０ｍＭリン酸カリ
ウム緩衝液（pH7.4)を加え、まずポリトロン(KINEMATIC
A,GmbH)で、ついでテフロン・ガラスホモゲナイザーで
ホモゲナイズした。ホモゲナイズした前立腺組織懸濁液
を遠心分離（140000×ｇ, ６０分間）し、沈渣に組織の
約３倍量の上記緩衝液を加えて懸濁し、再び遠心分離
（140000×ｇ, ６０分間）して、洗浄した。この沈渣を
ラット５α−リダクターゼとし、上記緩衝液を加えて蛋
白質量を３０〜４０mg／mlに調製後、−８０℃で凍結保
存した。なお蛋白質量の測定には、バイオ−ラド蛋白分
析法(Bio-Rad Protein Assay) を用い、蛋白標準品とし
てブロビンγ−グロブリン(Cohn Fraction II,Sigma)を
用いた。（２）ラットの５α−リダクターゼ阻害試験 ラットの５α−リダクターゼ（蛋白質量 １mg），１μ
Ｍ〔14Ｃ〕テストステロン、１ｍＭジチオスレイトー
ル、５００μＭ NADPHを含む４０ｍＭリン酸カリウム緩
衝液（pH6.5)0.5ml にジメチルスルホキシドまたはエタ
ノールに溶解した検体５μｌ（試験化合物の最終濃度：
１０-6Ｍ）を加えて、３７℃で１５- ３０分間インキュ
ベーションした。なお、対照群には溶媒のみを加えた。
その後、テストステロン、５α−ジヒドロテストステロ
ン、アンドロステンダイオン各々１０μｇを含む酢酸エ
チル２mlを加えて反応を停止し、遠心分離（1400×ｇ,
５分間）した後、酢酸エチル分画を別の試験管に移し、
窒素ガス噴霧下で蒸発乾固した。ステロイドを酢酸エチ
ル４０μｌ中に溶解し、薄層クロマトプレート(LK5DFsi
lica plate, Whatman) にスポットし、酢酸エチル：シ
クロヘキサン（１：１）混合液にて室温で２度展開し
た。ステロイド分画は紫外線および１％硫酸セシウム・
１０％硫酸水溶液を用いての加熱染色により同定した。
薄層クロマトプレート上の放射活性はバイオ・イメージ
アナライザー（富士写真フィルム（株））を用いて測定
した。酵素活性は、加えた〔14Ｃ〕テストステロンのう
ち〔14Ｃ〕５α−ジヒドロテストステロンとなった割合
（変換率（％））で表示した。また検体のラット５α−
リダクターゼ阻害活性は、次式を用いて求めた。 ラットの５α−リダクターゼ阻害活性＝［１−（検体添
加群の変換率）／（対照群の変換率）］×100(％) その結果、本願発明化合物は、良好な、５α−リダクタ
ーゼ阻害活性を示した。
前立腺腹葉をはさみで小片に細切後、組織の約３倍量の
緩衝液〔0.33Ｍシュクロース、１ｍＭジチオスレイトー
ル、５０μＭニコチンアミドアデニンジヌクレオチドホ
スフェート−還元体(NADPH),0.001 ％フェニルメチルス
ルホニルフルオライド(PMSF)を含む２０ｍＭリン酸カリ
ウム緩衝液（pH7.4)を加え、まずポリトロン(KINEMATIC
A,GmbH)で、ついでテフロン・ガラスホモゲナイザーで
ホモゲナイズした。ホモゲナイズした前立腺組織懸濁液
を遠心分離（140000×ｇ, ６０分間）し、沈渣に組織の
約３倍量の上記緩衝液を加えて懸濁し、再び遠心分離
（140000×ｇ, ６０分間）して、洗浄した。この沈渣を
ラット５α−リダクターゼとし、上記緩衝液を加えて蛋
白質量を３０〜４０mg／mlに調製後、−８０℃で凍結保
存した。なお蛋白質量の測定には、バイオ−ラド蛋白分
析法(Bio-Rad Protein Assay) を用い、蛋白標準品とし
てブロビンγ−グロブリン(Cohn Fraction II,Sigma)を
用いた。（２）ラットの５α−リダクターゼ阻害試験 ラットの５α−リダクターゼ（蛋白質量 １mg），１μ
Ｍ〔14Ｃ〕テストステロン、１ｍＭジチオスレイトー
ル、５００μＭ NADPHを含む４０ｍＭリン酸カリウム緩
衝液（pH6.5)0.5ml にジメチルスルホキシドまたはエタ
ノールに溶解した検体５μｌ（試験化合物の最終濃度：
１０-6Ｍ）を加えて、３７℃で１５- ３０分間インキュ
ベーションした。なお、対照群には溶媒のみを加えた。
その後、テストステロン、５α−ジヒドロテストステロ
ン、アンドロステンダイオン各々１０μｇを含む酢酸エ
チル２mlを加えて反応を停止し、遠心分離（1400×ｇ,
５分間）した後、酢酸エチル分画を別の試験管に移し、
窒素ガス噴霧下で蒸発乾固した。ステロイドを酢酸エチ
ル４０μｌ中に溶解し、薄層クロマトプレート(LK5DFsi
lica plate, Whatman) にスポットし、酢酸エチル：シ
クロヘキサン（１：１）混合液にて室温で２度展開し
た。ステロイド分画は紫外線および１％硫酸セシウム・
１０％硫酸水溶液を用いての加熱染色により同定した。
薄層クロマトプレート上の放射活性はバイオ・イメージ
アナライザー（富士写真フィルム（株））を用いて測定
した。酵素活性は、加えた〔14Ｃ〕テストステロンのう
ち〔14Ｃ〕５α−ジヒドロテストステロンとなった割合
（変換率（％））で表示した。また検体のラット５α−
リダクターゼ阻害活性は、次式を用いて求めた。 ラットの５α−リダクターゼ阻害活性＝［１−（検体添
加群の変換率）／（対照群の変換率）］×100(％) その結果、本願発明化合物は、良好な、５α−リダクタ
ーゼ阻害活性を示した。
【０２２１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/41 ＡＤＵ Ａ６１Ｋ 31/41 ＡＤＵ Ｃ０７Ｄ 209/10 Ｃ０７Ｄ 209/10 307/80 307/80 307/81 307/81 333/54 333/54 333/56 333/56 333/58 333/58 405/12 ２５７ 405/12 ２５７ 409/12 ２５７ 409/12 ２５７ Ｃ１２Ｎ 9/99 Ｃ１２Ｎ 9/99 //(Ｃ０７Ｄ 405/12 257:04 307:79） (Ｃ０７Ｄ 409/12 257:04 333:56） (72)発明者 杉岡 由規 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 掘越 大能 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 浜田 孝和 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内
Claims (19)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、 Ｒ1 は、一般式−Ｅ−Ｒ12を有する基（式中、 Ｅは、酸素原子、硫黄原子、低級アルキル基で置換され
ていてもよいイミノ基、カルボニル基、又は、低級アル
キル基で置換されていてもよいカルバモイル基を示し、 Ｒ12は、アラルキル基を示す。）を示し、 Ｒ2 は、一般式−Ｇ−Ｊ−Ｑを有する基（式中、 Ｇは、酸素原子、硫黄原子、低級アルキル基で置換され
ていてもよいイミノ基、カルボニル基、又は、低級アル
キル基で置換されていてもよいカルバモイル基を示し、 Ｊは、アルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン
基を示し、これらの基は、酸素原子で中断されていても
よく、 Ｑは、カルボキシ基、置換されていてもよいカルバモイ
ル基又はテトラゾイル基を示す。）を示し、 Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及び
Ｒ11は、同一又は異なって、水素原子、水酸基、アミノ
基、ニトロ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基又は低級アルキルチオ基を示し、 Ｘは、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基を示す。］で表
わされる化合物、その薬理上許容される塩及びエステ
ル。 - 【請求項２】Ｒ1 が、５位又は６位に置換している請求
項１に記載の化合物、その薬理上許容される塩及びエス
テル。 - 【請求項３】請求項１乃至２より選択されるいずれか一
項において、 Ｅが、低級アルキル基で置換されていてもよいイミノ
基、又は、低級アルキル基で置換されていてもよいカル
バモイル基である化合物、その薬理上許容される塩及び
エステル。 - 【請求項４】請求項１乃至２より選択されるいずれか一
項において、 Ｅが、イミノ基又はカルバモイル基である化合物、その
薬理上許容される塩及びエステル。 - 【請求項５】請求項１乃至４より選択されるいずれか一
項において、 Ｒ12が、アリールアルキル基又はジアリールアルキル基
である化合物、その薬理上許容される塩及びエステル。 - 【請求項６】請求項１乃至５より選択されるいずれか一
項において、 Ｇが、酸素原子又は硫黄原子である化合物、その薬理上
許容される塩及びエステル。 - 【請求項７】請求項１乃至６より選択されるいずれか一
項において、 Ｊが、炭素数２乃至６個のアルキレン基、炭素数２乃至
６個のアルケニレン基又は炭素数２乃至６個のアルキニ
レン基である化合物、その薬理上許容される塩及びエス
テル。 - 【請求項８】請求項１乃至６より選択されるいずれか一
項において、 Ｊが、炭素数２乃至６個のアルキレン基である化合物、
その薬理上許容される塩及びエステル。 - 【請求項９】請求項１乃至６より選択されるいずれか一
項において、 Ｊが、炭素数２乃至４個のアルキレン基である化合物、
その薬理上許容される塩及びエステル。 - 【請求項１０】請求項１乃至９より選択されるいずれか
一項において、 Ｑが、カルボキシ基又はテトラゾイル基である化合物、
その薬理上許容される塩及びエステル。 - 【請求項１１】請求項１乃至１０より選択されるいずれ
か一項において、 Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及び
Ｒ11が、同一又は異なって、水素原子、水酸基、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基である化
合物、その薬理上許容される塩及びエステル。 - 【請求項１２】請求項１乃至１０より選択されるいずれ
か一項において、 Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10及び
Ｒ11が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又
は低級アルコキシ基である化合物、その薬理上許容され
る塩及びエステル。 - 【請求項１３】請求項１乃至１２より選択されるいずれ
か一項において、 Ｘが、酸素原子である化合物、その薬理上許容される塩
及びエステル。 - 【請求項１４】一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、 Ｒ13は、低級アルキル基、シクロアルキル基、５乃至７
員複素環基、アリール基又はアラルキル基を示し、 Ｒ14は、ホルミル基、シアノ基、カルボキシ基、カルバ
モイル基、低級アルキル基、シクロアルキル基、５乃至
７員複素環基、アリール基又はアラルキル基を示し、 Ｒ15は、保護基を示し、 Ｘは、酸素原子、硫黄原子又はイミノ基を示す。）で表
わされる化合物を、Ｒ15基が除去される反応条件で処理
することを特徴とする 一般式（ＩＩＩ） 【化３】 （式中、 Ｒ13、Ｒ14及びＸは前記と同意義を示す。］で表わされ
る化合物の製造方法。 - 【請求項１５】請求項１乃至１３より選択されるいずれ
か一項において記載された化合物、その薬理上許容され
る塩又はエステルを有効成分として含有する医薬。 - 【請求項１６】請求項１乃至１３より選択されるいずれ
か一項において記載された化合物、その薬理上許容され
る塩又はエステルを有効成分として含有する５α−リダ
クターゼ阻害剤。 - 【請求項１７】請求項１乃至１３より選択されるいずれ
か一項において記載された化合物、その薬理上許容され
る塩又はエステルを有効成分として含有するアンドロゲ
ン作用に基づく疾患の予防剤又は治療剤。 - 【請求項１８】請求項１乃至１３より選択されるいずれ
か一項において記載された化合物、その薬理上許容され
る塩又はエステルを有効成分として含有する良性前立腺
肥大症、座瘡、脂漏症、女性多毛症、男性禿頭症及び／
又は前立腺癌の予防剤又は治療剤。 - 【請求項１９】請求項１乃至１３より選択されるいずれ
か一項において記載された化合物、その薬理上許容され
る塩又はエステルの良性前立腺肥大症及び／又は前立腺
癌の予防剤又は治療剤としての使用。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7283086A JPH09124632A (ja) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | ベンゾヘテロ環誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7283086A JPH09124632A (ja) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | ベンゾヘテロ環誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09124632A true JPH09124632A (ja) | 1997-05-13 |
Family
ID=17661042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7283086A Pending JPH09124632A (ja) | 1995-10-31 | 1995-10-31 | ベンゾヘテロ環誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09124632A (ja) |
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