JPH09124529A - ２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物 - Google Patents
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物Info
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- JPH09124529A JPH09124529A JP8295908A JP29590896A JPH09124529A JP H09124529 A JPH09124529 A JP H09124529A JP 8295908 A JP8295908 A JP 8295908A JP 29590896 A JP29590896 A JP 29590896A JP H09124529 A JPH09124529 A JP H09124529A
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- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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- C07D239/42—One nitrogen atom
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- C07B63/04—Use of additives
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 製造が簡単で、安価で、取り扱いおよび配合
が簡単であり、かつ低濃度で有効な、新規酸化防止剤を
見出す。 【解決手段】 下記式Ｉ 具体的には、例えば で表わされる２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
化合物およびこれらの化合物を酸化防止剤もしくは安定
剤として使用する：
が簡単であり、かつ低濃度で有効な、新規酸化防止剤を
見出す。 【解決手段】 下記式Ｉ 具体的には、例えば で表わされる２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
化合物およびこれらの化合物を酸化防止剤もしくは安定
剤として使用する：
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、下記式Ｉで表わさ
れる２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物に
関する：
れる２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物に
関する：
【化４】 式中、Ｒは、Ｈであるか、または１８個までの炭素原子
を有するアルキル基またはアルケニル基であり、この基
は未置換であるか、または置換基としてＣＮを有する
か、または置換基として少なくとも１個のハロゲンを有
しており、さらにこの基中に存在する１個のＣＨ2基ま
たは隣接していない２個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−および−
Ｃ≡Ｃ−からなる群から選択される基により置き換えら
れていてもよく、
を有するアルキル基またはアルケニル基であり、この基
は未置換であるか、または置換基としてＣＮを有する
か、または置換基として少なくとも１個のハロゲンを有
しており、さらにこの基中に存在する１個のＣＨ2基ま
たは隣接していない２個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−および−
Ｃ≡Ｃ−からなる群から選択される基により置き換えら
れていてもよく、
【０００２】Ａ1およびＡ2は、それぞれ相互に独立し
て、 ａ）１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する
１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていて
もよく、 ｂ）１，４−シクロヘキセニレン基または１，４−シク
ロヘキシレン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ
2基または隣接していない２個のＣＨ2基は、−Ｏ−また
は−Ｓ−により置き換えられていてもよく、 ｃ）ピペリジン−１，４−ジイル、１，４−ビシクロ
［２．２．２］オクチレンまたはナフタレン−２，６−
ジイル基、であり、上記基ａ）およびｂ）は置換基とし
て１個または２個以上のハロゲン原子、シアノ基および
（または）メチル基を有していてもよく、Ｚ1およびＺ2
は、それぞれ相互に独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ
Ｏ−、−ＣＨ2−Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−あるいは単結合であり、そ
して
て、 ａ）１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する
１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていて
もよく、 ｂ）１，４−シクロヘキセニレン基または１，４−シク
ロヘキシレン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ
2基または隣接していない２個のＣＨ2基は、−Ｏ−また
は−Ｓ−により置き換えられていてもよく、 ｃ）ピペリジン−１，４−ジイル、１，４−ビシクロ
［２．２．２］オクチレンまたはナフタレン−２，６−
ジイル基、であり、上記基ａ）およびｂ）は置換基とし
て１個または２個以上のハロゲン原子、シアノ基および
（または）メチル基を有していてもよく、Ｚ1およびＺ2
は、それぞれ相互に独立して、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ
Ｏ−、−ＣＨ2−Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−あるいは単結合であり、そ
して
【０００３】ｍおよびｎは、それぞれ相互に独立して、
０、１、２または３であり、かつまたｍ＋ｎ≧１であ
る、ただし、下記式で表わされる化合物は除外する：
０、１、２または３であり、かつまたｍ＋ｎ≧１であ
る、ただし、下記式で表わされる化合物は除外する：
【化５】 （各式中、ｎ＝１〜３である）。
【０００４】本発明はまた、少なくとも２種の液晶化合
物を含有し、さらに式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノール化合物を含有する液晶媒体に関
する。本発明はさらにまた、一つまたは二つ以上の二重
結合を有する化合物の少なくとも１種および式Ｉで表わ
される化合物である安定剤を含有する安定な液晶混合物
に関する。
物を含有し、さらに式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノール化合物を含有する液晶媒体に関
する。本発明はさらにまた、一つまたは二つ以上の二重
結合を有する化合物の少なくとも１種および式Ｉで表わ
される化合物である安定剤を含有する安定な液晶混合物
に関する。
【０００５】
【従来の技術】自動酸化は多くの天然製品、例えば食料
品および天然ゴム、ならびに例えば重合用のモノマー、
石油製品およびプラスティックのような工業製品の価値
の格別の低下をもたらしうることから、この自動酸化を
できるだけ最低の濃度で防止または軽減する物質の探求
が、広い研究分野でなされている。工業界で現在使用さ
れているフェノール系酸化防止剤は、そのヒドロキシル
基に対するオルト−位置が、通常嵩高の基により置換さ
れているフェノール化合物である。これらの立体的に干
渉されたフェノール化合物の作用は、そのフェノール水
素原子がフェノキシド遊離基の生成を伴って容易に遊離
することに基づいている。
品および天然ゴム、ならびに例えば重合用のモノマー、
石油製品およびプラスティックのような工業製品の価値
の格別の低下をもたらしうることから、この自動酸化を
できるだけ最低の濃度で防止または軽減する物質の探求
が、広い研究分野でなされている。工業界で現在使用さ
れているフェノール系酸化防止剤は、そのヒドロキシル
基に対するオルト−位置が、通常嵩高の基により置換さ
れているフェノール化合物である。これらの立体的に干
渉されたフェノール化合物の作用は、そのフェノール水
素原子がフェノキシド遊離基の生成を伴って容易に遊離
することに基づいている。
【０００６】酸化防止剤の使用は、オイル類、脂肪類お
よびプラスティック類の安定化に基本的に関連する。こ
れらの目的のための酸化防止剤は、無毒でなければなら
ず、低濃度で高い効果を有するべきであり、延長された
期間にわたる貯蔵または加熱によっても、味、匂いまた
は色のいかなる変化も生じさせないものであるべきであ
り、基質中に容易に溶解するか、または容易に分散すべ
きであり、保護される物質に対していかなる有害な作用
も及ぼさないものであるべきであり、低揮発性を有する
べきであり、かつまたできるだけ定量的に分析測定が可
能であるべきである。さらにまた、酸化防止剤は簡単
に、安価に製造されるべきであり、かつまたそれらの取
り扱いおよび配合は簡単でなければならない。
よびプラスティック類の安定化に基本的に関連する。こ
れらの目的のための酸化防止剤は、無毒でなければなら
ず、低濃度で高い効果を有するべきであり、延長された
期間にわたる貯蔵または加熱によっても、味、匂いまた
は色のいかなる変化も生じさせないものであるべきであ
り、基質中に容易に溶解するか、または容易に分散すべ
きであり、保護される物質に対していかなる有害な作用
も及ぼさないものであるべきであり、低揮発性を有する
べきであり、かつまたできるだけ定量的に分析測定が可
能であるべきである。さらにまた、酸化防止剤は簡単
に、安価に製造されるべきであり、かつまたそれらの取
り扱いおよび配合は簡単でなければならない。
【０００７】従来技術は下記式で表わされるフェノール
系酸化防止剤を包含している：
系酸化防止剤を包含している：
【化６】 しかしながら、上記酸化防止剤は全ての要件を満たすも
のではない。特別の欠点には、前記酸化防止剤が比較的
高濃度で使用しなければならない点にある。
のではない。特別の欠点には、前記酸化防止剤が比較的
高濃度で使用しなければならない点にある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、酸化
防止剤に要求される上記の要件の全てを満たす、材料を
見出すことにある。
防止剤に要求される上記の要件の全てを満たす、材料を
見出すことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、ここに
式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
ール化合物が低濃度でも、保護される物質に対していか
なる有害な作用も及ぼすことなく、酸化防止剤として高
い効果を有することが見出された。さらにまた、本発明
による新規な立体的に干渉されているフェノール化合物
は、熱耐性、低粘度および低揮発性の点で際立ってい
る。従って、本発明は式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール化合物に関する。本発明の化
合物はまた、遊離基捕捉剤であり、従って遊離基連鎖反
応により、例えば自動酸化などにより引き起される老化
プロセスを抑制するのに適している。
式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
ール化合物が低濃度でも、保護される物質に対していか
なる有害な作用も及ぼすことなく、酸化防止剤として高
い効果を有することが見出された。さらにまた、本発明
による新規な立体的に干渉されているフェノール化合物
は、熱耐性、低粘度および低揮発性の点で際立ってい
る。従って、本発明は式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール化合物に関する。本発明の化
合物はまた、遊離基捕捉剤であり、従って遊離基連鎖反
応により、例えば自動酸化などにより引き起される老化
プロセスを抑制するのに適している。
【００１０】これらの物質は、その構造に基づいて、特
に低い蒸気圧を有し、従って高温で使用することができ
る。これらの化合物およびその反応生成物は、無色であ
り、従って安定化させる物質のいかなる変色も生じさせ
ない。簡潔にするために、以下の記載において、フェノ
ールは下記式の基を表わし：
に低い蒸気圧を有し、従って高温で使用することができ
る。これらの化合物およびその反応生成物は、無色であ
り、従って安定化させる物質のいかなる変色も生じさせ
ない。簡潔にするために、以下の記載において、フェノ
ールは下記式の基を表わし：
【化７】 Ｃｙｃは１，４−シクロヘキシレン基を表わし、Ｃｈｅ
は１，４−シクロヘキセニレン基を表わし、Ｄｉｏは
１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表わし、Ｄｉ
ｔは１，３−ジチアン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐ
ｈｅは１，４−フェニレン基を表わし、Ｐｙｄはピリジ
ン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐｙｒはピリミジン−
２，５−ジイル基を表わし、そしてＢｉはビシクロ
［２．２．２］オクチレン基を表わすものとする。この
Ｃｙｃおよび（または）Ｐｈｅは未置換であることがで
き、あるいは置換基として１個または２個のＦを有して
いてもよい。
は１，４−シクロヘキセニレン基を表わし、Ｄｉｏは
１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表わし、Ｄｉ
ｔは１，３−ジチアン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐ
ｈｅは１，４−フェニレン基を表わし、Ｐｙｄはピリジ
ン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐｙｒはピリミジン−
２，５−ジイル基を表わし、そしてＢｉはビシクロ
［２．２．２］オクチレン基を表わすものとする。この
Ｃｙｃおよび（または）Ｐｈｅは未置換であることがで
き、あるいは置換基として１個または２個のＦを有して
いてもよい。
【００１１】従って、式Ｉで表わされる化合物は下記付
属式ＩａおよびＩｂで表わされる二環状化合物を包含
し： Ｒ−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉａ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｂ 下記付属式Ｉｃ〜Ｉｇで表わされる三環状化合物を包含
し： Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｃ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｄ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｅ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｆ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ2−Ｚ2−フェノール Ｉｇ
属式ＩａおよびＩｂで表わされる二環状化合物を包含
し： Ｒ−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉａ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｂ 下記付属式Ｉｃ〜Ｉｇで表わされる三環状化合物を包含
し： Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｃ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｄ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｅ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｆ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ2−Ｚ2−フェノール Ｉｇ
【００１２】そして下記付属式Ｉｈ〜Ｉｏで表わされる
四環状化合物を包含する： Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｈ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｉ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｊ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｋ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｌ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｍ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｎ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｏ
四環状化合物を包含する： Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｈ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｉ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｊ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｋ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ2−フェノール Ｉｌ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｍ Ｒ−Ａ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｎ Ｒ−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ1−Ｚ1−Ａ2−フェノール Ｉｏ
【００１３】これらの中で、付属式Ｉａ、Ｉｂ、Ｉｃ、
Ｉｄ、ＩｅおよびＩｆで表わされる化合物は、特に好適
な化合物として挙げられる。式Ｉにおいて、Ｚ1および
Ｚ2は好ましくは、単結合またはＣＨ2ＣＨ2であり、二
番目に好ましくは−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−Ｏ−Ｃ
Ｏ−または−ＣＯ−Ｏ−である。基Ｚ1およびＺ2の一方
が、−（ＣＨ2）4−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2−
である場合には、基Ｚ1およびＺ2のもう一方（存在する
場合）は好ましくは、単結合である。ｎ＋ｍの合計は好
ましくは、１または２である。
Ｉｄ、ＩｅおよびＩｆで表わされる化合物は、特に好適
な化合物として挙げられる。式Ｉにおいて、Ｚ1および
Ｚ2は好ましくは、単結合またはＣＨ2ＣＨ2であり、二
番目に好ましくは−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−Ｏ−Ｃ
Ｏ−または−ＣＯ−Ｏ−である。基Ｚ1およびＺ2の一方
が、−（ＣＨ2）4−または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2−
である場合には、基Ｚ1およびＺ2のもう一方（存在する
場合）は好ましくは、単結合である。ｎ＋ｍの合計は好
ましくは、１または２である。
【００１４】Ｒがアルキル基および（または）アルコキ
シ基である場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状であ
ることができる。この基は好ましくは、直鎖状であっ
て、炭素原子２個、３個、４個、５個、６個または７個
を有し、従って好ましくは、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシまたはヘプト
キシであり、さらにまたメチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、メトキシ、オクトキシ、ノノキシ、
デコキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシま
たはテトラデコキシであることができる。
シ基である場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状であ
ることができる。この基は好ましくは、直鎖状であっ
て、炭素原子２個、３個、４個、５個、６個または７個
を有し、従って好ましくは、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシまたはヘプト
キシであり、さらにまたメチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、メトキシ、オクトキシ、ノノキシ、
デコキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシま
たはテトラデコキシであることができる。
【００１５】オキサアルキルは好ましくは、直鎖状の２
−オキサプロピル（＝メトキシメチル）、２−（＝エト
キシメチル）または３−オキサブチル（＝２- メトキシ
エチル）、２−、３−または４−オキサペンチル、２
−、３−、４−または５−オキサヘキシル、２−、３
−、４−、５−または６−オキサヘプチル、２−、３
−、４−、５−、６−または７−オキサオクチル、２
−、３−、４−、５−、６−、７−または８−オキサノ
ニルあるいは２−、３−、４−、５−、６−、７−、８
−または９−オキサデシルである。
−オキサプロピル（＝メトキシメチル）、２−（＝エト
キシメチル）または３−オキサブチル（＝２- メトキシ
エチル）、２−、３−または４−オキサペンチル、２
−、３−、４−または５−オキサヘキシル、２−、３
−、４−、５−または６−オキサヘプチル、２−、３
−、４−、５−、６−または７−オキサオクチル、２
−、３−、４−、５−、６−、７−または８−オキサノ
ニルあるいは２−、３−、４−、５−、６−、７−、８
−または９−オキサデシルである。
【００１６】Ｒがアルキル基であって、この基中に存在
する１個のＣＨ2基が−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えら
れている場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状である
ことができる。この基は好ましくは、直鎖状であって、
炭素原子２〜１０個を有する。従って、この基は特に、
ビニル、プロプ−１−または−２−エニル、ブト−１
−、−２−または−３−エニル、ペント−１−、−２
−、−３−または−４−エニル、ヘキシ−１−、−２
−、−３−、−４−または−５−エニル、ヘプト−１
−、−２−、−３−、−４−、−５−または−６−エニ
ル、オクト−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、
−６−または−７−エニル、ノン−１−、−２−、−３
−、−４−、−５−、−６−、−７−または−８−エニ
ル、あるいはデク−１−、−２−、−３−、−４−、−
５−、−６−、−７−、−８−または−９−エニルであ
る。
する１個のＣＨ2基が−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えら
れている場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状である
ことができる。この基は好ましくは、直鎖状であって、
炭素原子２〜１０個を有する。従って、この基は特に、
ビニル、プロプ−１−または−２−エニル、ブト−１
−、−２−または−３−エニル、ペント−１−、−２
−、−３−または−４−エニル、ヘキシ−１−、−２
−、−３−、−４−または−５−エニル、ヘプト−１
−、−２−、−３−、−４−、−５−または−６−エニ
ル、オクト−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、
−６−または−７−エニル、ノン−１−、−２−、−３
−、−４−、−５−、−６−、−７−または−８−エニ
ル、あるいはデク−１−、−２−、−３−、−４−、−
５−、−６−、−７−、−８−または−９−エニルであ
る。
【００１７】Ｒがアルキル基であって、この基中に存在
する１個のＣＨ2基が−Ｏ−により置き換えられている
場合および１個のＣＨ2基が−ＣＯ−により置き換えら
れている場合に、これらの基は好ましくは、隣接してい
る。従って、この基は１個のアシルオキシ基−ＣＯ−Ｏ
−または１個のオキシカルボニル基−Ｏ−ＣＯ−を含有
する。これらの基は好ましくは、直鎖状であって、炭素
原子２〜６個を有する。従って、これらの基は特に、ア
セトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペン
タノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチ
ル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセトキシエチ
ル、２−プロピオニルオキシエチル、２−ブチリルオキ
シエチル、３−アセトキシプロピル、３−プロピオニル
オキシプロピル、４−アセトキシブチル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシ
カルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プロポ
キシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、２
−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキシカル
ボニル）エチル、２−（プロポキシカルボニル）エチ
ル、３−（メトキシカルボニル）プロピル、３−（エト
キシカルボニル）プロピルまたは４−（メトキシカルボ
ニル）ブチルである。
する１個のＣＨ2基が−Ｏ−により置き換えられている
場合および１個のＣＨ2基が−ＣＯ−により置き換えら
れている場合に、これらの基は好ましくは、隣接してい
る。従って、この基は１個のアシルオキシ基−ＣＯ−Ｏ
−または１個のオキシカルボニル基−Ｏ−ＣＯ−を含有
する。これらの基は好ましくは、直鎖状であって、炭素
原子２〜６個を有する。従って、これらの基は特に、ア
セトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペン
タノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチ
ル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセトキシエチ
ル、２−プロピオニルオキシエチル、２−ブチリルオキ
シエチル、３−アセトキシプロピル、３−プロピオニル
オキシプロピル、４−アセトキシブチル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシ
カルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プロポ
キシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、２
−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキシカル
ボニル）エチル、２−（プロポキシカルボニル）エチ
ル、３−（メトキシカルボニル）プロピル、３−（エト
キシカルボニル）プロピルまたは４−（メトキシカルボ
ニル）ブチルである。
【００１８】Ｒがアルキル基であって、この基中に存在
する１個のＣＨ2基が未置換のまたは置換基を有する−
ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられている場合および隣接
するＣＨ2基がＣＯまたはＣＯ−ＯまたはＯ−ＣＯによ
り置き換えられている場合に、この基は直鎖状または分
枝鎖状であることができる。この基は好ましくは、直鎖
状であつて、炭素原子４〜１３個を有する。従って、こ
の基は特に、アクリロイルオキシメチル、２−アクリロ
イルオキシエチル、３−アクリロイルオキシプロピル、
４−アクリロイルオキシブチル、５−アクリロイルオキ
シペンチル、６−アクリロイルオキシヘキシル、７−ア
クリロイルオキシヘプチル、８−アクリロイルオキシオ
クチル、９−アクリロイルオキシノニル、１０−アクリ
ロイルオキシデシル、メタアクリロイルオキシメチル、
２−メタアクリロイルオキシエチル、３−メタアクリロ
イルオキシプロピル、４−メタアクリロイルオキシブチ
ル、５−メタアクリロイルオキシペンチル、６−メタア
クリロイルオキシヘキシル、７−メタアクリロイルオキ
シヘプチル、８−メタアクリロイルオキシオクチルおよ
び９−メタアクリロイルオキシノニルである。
する１個のＣＨ2基が未置換のまたは置換基を有する−
ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられている場合および隣接
するＣＨ2基がＣＯまたはＣＯ−ＯまたはＯ−ＣＯによ
り置き換えられている場合に、この基は直鎖状または分
枝鎖状であることができる。この基は好ましくは、直鎖
状であつて、炭素原子４〜１３個を有する。従って、こ
の基は特に、アクリロイルオキシメチル、２−アクリロ
イルオキシエチル、３−アクリロイルオキシプロピル、
４−アクリロイルオキシブチル、５−アクリロイルオキ
シペンチル、６−アクリロイルオキシヘキシル、７−ア
クリロイルオキシヘプチル、８−アクリロイルオキシオ
クチル、９−アクリロイルオキシノニル、１０−アクリ
ロイルオキシデシル、メタアクリロイルオキシメチル、
２−メタアクリロイルオキシエチル、３−メタアクリロ
イルオキシプロピル、４−メタアクリロイルオキシブチ
ル、５−メタアクリロイルオキシペンチル、６−メタア
クリロイルオキシヘキシル、７−メタアクリロイルオキ
シヘプチル、８−メタアクリロイルオキシオクチルおよ
び９−メタアクリロイルオキシノニルである。
【００１９】Ｒがアルキル基またはアルケニル基であっ
て、置換基として少なくとも１個のハロゲンを有する場
合に、この基は好ましくは、直鎖状であり、そしてハロ
ゲンは好ましくは、ＦまたはＣｌである。複数の置換基
を有している場合に、ハロゲンは好ましくは、Ｆであ
る。生成する基はまた、過フッ素化されている基を包含
する。１個の置換基を有する場合に、このフッ素または
塩素置換基はいずれか所望の位置に存在することができ
るが、好ましくはω−位置に存在する。分枝鎖状基Ｒは
一般に、１つよりも少ない鎖分枝を有する。好適な分枝
鎖状基Ｒは、イソプロピル、２−ブチル（＝１−メチル
プロピル）、イソブチル（＝２−メチルプロピル）、２
−メチルブチル、イソペンチル（＝３−メチルブチ
ル）、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−
エチルヘキシル、２−プロピルペンチル、イソプロポキ
シ、２−メチルプロポキシ、２−メチルブトキシ、３−
メチルブトキシ、２−メチルペントキシ、３−メチルペ
ントキシ、２−エチルヘキソキシ、１−メチルヘキソキ
シおよび１−メチルヘプトキシである。
て、置換基として少なくとも１個のハロゲンを有する場
合に、この基は好ましくは、直鎖状であり、そしてハロ
ゲンは好ましくは、ＦまたはＣｌである。複数の置換基
を有している場合に、ハロゲンは好ましくは、Ｆであ
る。生成する基はまた、過フッ素化されている基を包含
する。１個の置換基を有する場合に、このフッ素または
塩素置換基はいずれか所望の位置に存在することができ
るが、好ましくはω−位置に存在する。分枝鎖状基Ｒは
一般に、１つよりも少ない鎖分枝を有する。好適な分枝
鎖状基Ｒは、イソプロピル、２−ブチル（＝１−メチル
プロピル）、イソブチル（＝２−メチルプロピル）、２
−メチルブチル、イソペンチル（＝３−メチルブチ
ル）、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−
エチルヘキシル、２−プロピルペンチル、イソプロポキ
シ、２−メチルプロポキシ、２−メチルブトキシ、３−
メチルブトキシ、２−メチルペントキシ、３−メチルペ
ントキシ、２−エチルヘキソキシ、１−メチルヘキソキ
シおよび１−メチルヘプトキシである。
【００２０】Ｒがアルキル基であって、この基中に存在
する２個または３個以上のＣＨ2基が−Ｏ−および（ま
たは）−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられている場合に、
この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。こ
の基は好ましくは、分枝鎖状であつて、炭素原子３〜１
２個を有する。従って、この基は特に、ビスカルボキシ
メチル、２，２−ビスカルボキシエチル、３，３−ビス
カルボキシプロピル、４，４−ビスカルボキシブチル、
５，５−ビスカルボキシペンチル、６，６−ビスカルボ
キシヘキシル、７，７−ビスカルボキシヘプチル、８，
８−ビスカルボキシオクチル、９，９−ビスカルボキシ
ノニル、１０，１０−ビスカルボキシデシル、ビス（メ
トキシカルボニル）メチル、２，２−ビス（メトキシカ
ルボニル）エチル、３，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）プロピル、４，４−ビス（メトキシカルボニル）ブ
チル、５，５−ビス（メトキシカルボニル）ペンチル、
６，６−ビス（メトキシカルボニル）ヘキシル、７，７
−ビス（メトキシカルボニル）ヘプチル、８，８−ビス
（メトキシカルボニル）オクチル、ビス（エトキシカル
ボニル）メチル、２，２−ビス（エトキシカルボニル）
エチル、３，３−ビス（エトキシカルボニル）プロピ
ル、４，４−ビス（エトキシカルボニル）ブチルおよび
５，５−ビス（エトキシカルボニル）ペンチルである。
する２個または３個以上のＣＨ2基が−Ｏ−および（ま
たは）−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられている場合に、
この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。こ
の基は好ましくは、分枝鎖状であつて、炭素原子３〜１
２個を有する。従って、この基は特に、ビスカルボキシ
メチル、２，２−ビスカルボキシエチル、３，３−ビス
カルボキシプロピル、４，４−ビスカルボキシブチル、
５，５−ビスカルボキシペンチル、６，６−ビスカルボ
キシヘキシル、７，７−ビスカルボキシヘプチル、８，
８−ビスカルボキシオクチル、９，９−ビスカルボキシ
ノニル、１０，１０−ビスカルボキシデシル、ビス（メ
トキシカルボニル）メチル、２，２−ビス（メトキシカ
ルボニル）エチル、３，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）プロピル、４，４−ビス（メトキシカルボニル）ブ
チル、５，５−ビス（メトキシカルボニル）ペンチル、
６，６−ビス（メトキシカルボニル）ヘキシル、７，７
−ビス（メトキシカルボニル）ヘプチル、８，８−ビス
（メトキシカルボニル）オクチル、ビス（エトキシカル
ボニル）メチル、２，２−ビス（エトキシカルボニル）
エチル、３，３−ビス（エトキシカルボニル）プロピ
ル、４，４−ビス（エトキシカルボニル）ブチルおよび
５，５−ビス（エトキシカルボニル）ペンチルである。
【００２１】式Ｉで表わされる化合物の中の好適な狭い
群は、下記付属式Ｉ１〜Ｉ１０で表わされる：
群は、下記付属式Ｉ１〜Ｉ１０で表わされる：
【化８】
【００２２】
【化９】
【００２３】特に好ましい化合物としては、式Ｉ１およ
びＩ２で表わされる化合物が挙げられる。式Ｉで表わさ
れる化合物は、刊行物（例えばHouben−WeylによるMeth
oden derOrganischen Chemie,Georg−Thieme 出版社、S
tuttgart などの標準的学術書）に記載されているよう
なそれ自体公知の方法により、正確には、当該反応に適
する公知の反応条件の下に製造することができる。それ
自体は公知であるが、本明細書には詳細に記載されてい
ない変法を使用することもできる。本発明の新規化合物
は、例えば下記反応経路１および２に従い製造すること
ができる：
びＩ２で表わされる化合物が挙げられる。式Ｉで表わさ
れる化合物は、刊行物（例えばHouben−WeylによるMeth
oden derOrganischen Chemie,Georg−Thieme 出版社、S
tuttgart などの標準的学術書）に記載されているよう
なそれ自体公知の方法により、正確には、当該反応に適
する公知の反応条件の下に製造することができる。それ
自体は公知であるが、本明細書には詳細に記載されてい
ない変法を使用することもできる。本発明の新規化合物
は、例えば下記反応経路１および２に従い製造すること
ができる：
【００２４】
【化１０】反応経路１
【００２５】
【化１１】反応経路２
【００２６】式Ｉで表わされる化合物は広い用途範囲を
有する。これらの化合物は食料品分野および工業製品に
おける安定剤として容易に使用することができる。本発
明はまた、これらの新規化合物を液晶混合物、各液晶成
分、潤滑油、熱転移媒体、燃料、医薬品、ビタミン製
剤、化粧品、食料品、染料、塗料、ポリマー、エラスト
マー、洗剤、溶剤、紙および穀物保護剤のための添加剤
として使用することに関する。式Ｉで表わされる化合物
は、安定化させる材料に、０．０１〜５重量％、好まし
くは０．０１〜２重量％、特に０．０１〜１重量％の濃
度で添加する。それらの棒状構造に基づいて、これらの
化合物が従来技術からの酸化剤に比較して、液晶物性を
干渉しないことから、式Ｉで表わされる化合物は各液晶
成分および液晶混合物の安定剤として特に適している。
有する。これらの化合物は食料品分野および工業製品に
おける安定剤として容易に使用することができる。本発
明はまた、これらの新規化合物を液晶混合物、各液晶成
分、潤滑油、熱転移媒体、燃料、医薬品、ビタミン製
剤、化粧品、食料品、染料、塗料、ポリマー、エラスト
マー、洗剤、溶剤、紙および穀物保護剤のための添加剤
として使用することに関する。式Ｉで表わされる化合物
は、安定化させる材料に、０．０１〜５重量％、好まし
くは０．０１〜２重量％、特に０．０１〜１重量％の濃
度で添加する。それらの棒状構造に基づいて、これらの
化合物が従来技術からの酸化剤に比較して、液晶物性を
干渉しないことから、式Ｉで表わされる化合物は各液晶
成分および液晶混合物の安定剤として特に適している。
【００２７】本発明の新規化合物は特に低い蒸気圧を有
することから、これらの化合物はまた、高温で使用する
ことができる。これらの化合物は液晶に類似する性質を
有し、液晶混合物中で変色を生じさせない。公知の酸化
防止剤とは異なり、これらの化合物は各液晶成分の透明
点に対する有害な作用を有していない。この液晶または
液晶混合物の安定化はそれ自体公知の方法で行われる。
一般に、全成分を相互に、好ましくは高められた温度で
溶解させる。本発明の新規安定剤は好ましくは、トラン
化合物およびアルケニル化合物を含有するＳＴＮ混合物
に使用される。式Ｉで表わされる化合物はまた、個別の
各成分、好ましくはアルケニル化合物およびトラン化合
物に添加することもできる。特に、本発明の新規安定剤
は下記の化合物の分解および重合生成物の抑制に適して
いる：
することから、これらの化合物はまた、高温で使用する
ことができる。これらの化合物は液晶に類似する性質を
有し、液晶混合物中で変色を生じさせない。公知の酸化
防止剤とは異なり、これらの化合物は各液晶成分の透明
点に対する有害な作用を有していない。この液晶または
液晶混合物の安定化はそれ自体公知の方法で行われる。
一般に、全成分を相互に、好ましくは高められた温度で
溶解させる。本発明の新規安定剤は好ましくは、トラン
化合物およびアルケニル化合物を含有するＳＴＮ混合物
に使用される。式Ｉで表わされる化合物はまた、個別の
各成分、好ましくはアルケニル化合物およびトラン化合
物に添加することもできる。特に、本発明の新規安定剤
は下記の化合物の分解および重合生成物の抑制に適して
いる：
【００２８】
【化１２】
【００２９】
【化１３】
【００３０】二重結合は、大気中酸素と特に急速に反応
する。特に、２個のシクロヘキサン環間の二重結合は、
側鎖中の二重結合に比較して酸素に対して敏感である。
本発明の新規安定剤を０．０１〜５重量％、特に０．０
１〜２重量％の濃度で添加することによって、空気から
のＯ2遊離基により開始される老化プロセスを抑制する
ことができる。本発明はまた、少なくとも２種の液晶化
合物を含有し、さらに式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール化合物を含有する液晶媒体に
関する。本発明はさらにまた、一つまたは二つ以上の二
重結合を含有する化合物の少なくとも１種および式Ｉで
表わされる化合物である安定剤を含有する安定な液晶混
合物に関する。
する。特に、２個のシクロヘキサン環間の二重結合は、
側鎖中の二重結合に比較して酸素に対して敏感である。
本発明の新規安定剤を０．０１〜５重量％、特に０．０
１〜２重量％の濃度で添加することによって、空気から
のＯ2遊離基により開始される老化プロセスを抑制する
ことができる。本発明はまた、少なくとも２種の液晶化
合物を含有し、さらに式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール化合物を含有する液晶媒体に
関する。本発明はさらにまた、一つまたは二つ以上の二
重結合を含有する化合物の少なくとも１種および式Ｉで
表わされる化合物である安定剤を含有する安定な液晶混
合物に関する。
【００３１】本発明にかかわる新規液晶媒体は一般に、
２〜２５種、好ましくは３〜１５種のＬＣ成分および式
Ｉで表わされる安定剤からなる。しかしながら、それぞ
れの場合に、これらの新規媒体は２５種以上の成分、例
えば５０種までの成分あるいはこれ以上の成分から構成
することもできる。別の構成成分は好ましくは、ネマテ
ィックまたはネマティック相形成性物質、特にアゾキシ
ベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフェ
ニル化合物、ターフェニル化合物、フェニルまたはシク
ロヘキシルベンゾエート化合物、シクロヘキサンカルボ
ン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化合物、
２〜２５種、好ましくは３〜１５種のＬＣ成分および式
Ｉで表わされる安定剤からなる。しかしながら、それぞ
れの場合に、これらの新規媒体は２５種以上の成分、例
えば５０種までの成分あるいはこれ以上の成分から構成
することもできる。別の構成成分は好ましくは、ネマテ
ィックまたはネマティック相形成性物質、特にアゾキシ
ベンゼン化合物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフェ
ニル化合物、ターフェニル化合物、フェニルまたはシク
ロヘキシルベンゾエート化合物、シクロヘキサンカルボ
ン酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化合物、
【００３２】フェニルシクロヘキサン化合物、シクロヘ
キシルビフェニル化合物、シクロヘキシルシクロヘキサ
ン化合物、シクロヘキシルナフタレン化合物、１，４−
ビス−シクロヘキシルベンゼン化合物、４，４´−ビス
−シクロヘキシルビフェニル化合物、フェニル−または
シクロヘキシル−ピリミジン化合物、フェニル−または
シクロヘキシル−ジオキサン化合物、フェニル−または
シクロヘキシルジチアン化合物、１，２−ジフェニルエ
タン化合物、１，２−ジシクロヘキシルエタン化合物、
１−フェニル−２−シクロヘキシルエタン化合物、ハロ
ゲン化されていてもよいスチルベン化合物、ベンジルフ
ェニルエーテル化合物、トラン化合物および置換ケイ皮
酸化合物からなる群からの物質から選択する。
キシルビフェニル化合物、シクロヘキシルシクロヘキサ
ン化合物、シクロヘキシルナフタレン化合物、１，４−
ビス−シクロヘキシルベンゼン化合物、４，４´−ビス
−シクロヘキシルビフェニル化合物、フェニル−または
シクロヘキシル−ピリミジン化合物、フェニル−または
シクロヘキシル−ジオキサン化合物、フェニル−または
シクロヘキシルジチアン化合物、１，２−ジフェニルエ
タン化合物、１，２−ジシクロヘキシルエタン化合物、
１−フェニル−２−シクロヘキシルエタン化合物、ハロ
ゲン化されていてもよいスチルベン化合物、ベンジルフ
ェニルエーテル化合物、トラン化合物および置換ケイ皮
酸化合物からなる群からの物質から選択する。
【００３３】この種の液晶媒体の成分として適する最も
重要な化合物は下記式ＩＩで表わすことができる特徴を
有する： Ｒ1−Ｌ−Ｇ−Ｅ−Ｒ2 ＩＩ この式において、ＬおよびＥはそれぞれ、１，４−ジ置
換ベンゼンおよびシクロヘキサン環、２−フルオロ−
１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレ
ン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、４，４
´−ジ置換ビフェニル、フェニルシクロヘキサンおよび
シクロヘキシルシクロヘキサン系、２，５−ジ置換ピリ
ミジンおよび１，３−ジオキサン環、２，６−ジ置換ナ
フタレン、ジ−およびテトラヒドロナフタレン、キナゾ
リンおよびテトラヒドロキナゾリンからなる群からの炭
素環状環系または複素環状環系であり、
重要な化合物は下記式ＩＩで表わすことができる特徴を
有する： Ｒ1−Ｌ−Ｇ−Ｅ−Ｒ2 ＩＩ この式において、ＬおよびＥはそれぞれ、１，４−ジ置
換ベンゼンおよびシクロヘキサン環、２−フルオロ−
１，４−フェニレン、３−フルオロ−１，４−フェニレ
ン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、４，４
´−ジ置換ビフェニル、フェニルシクロヘキサンおよび
シクロヘキシルシクロヘキサン系、２，５−ジ置換ピリ
ミジンおよび１，３−ジオキサン環、２，６−ジ置換ナ
フタレン、ジ−およびテトラヒドロナフタレン、キナゾ
リンおよびテトラヒドロキナゾリンからなる群からの炭
素環状環系または複素環状環系であり、
【００３４】 Ｇは、−ＣＨ＝ＣＨ− −Ｎ（Ｏ）＝Ｎ− −ＣＨ＝ＣＹ− −ＣＨ＝Ｎ（Ｏ）− −Ｃ≡Ｃ− −ＣＨ2−ＣＨ2− −ＣＯ−Ｏ− −ＣＨ2−Ｏ− −ＣＯ−Ｓ− −ＣＨ2−Ｓ− −ＣＨ＝Ｎ− −ＣＯＯ−Ｐｈｅ−ＣＯＯ− またはＣ−Ｃ単結合であり、ここでＹはハロゲン、好ま
しくは塩素、あるいは−ＣＮであり、そしてＲ1および
Ｒ2は１８個まで、好ましくは８個までの炭素原子を有
するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシまたは
アルコキシカルボニルオキシであり、この基は未置換で
あるか、または少なくとも１個または２個以上のフッ素
原子により置換されており、あるいはこれらの基の一方
はまた、ＣＮ、ＮＯ2、ＣＦ3、Ｆ、ＣｌまたはＢｒであ
ることができる。
しくは塩素、あるいは−ＣＮであり、そしてＲ1および
Ｒ2は１８個まで、好ましくは８個までの炭素原子を有
するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシまたは
アルコキシカルボニルオキシであり、この基は未置換で
あるか、または少なくとも１個または２個以上のフッ素
原子により置換されており、あるいはこれらの基の一方
はまた、ＣＮ、ＮＯ2、ＣＦ3、Ｆ、ＣｌまたはＢｒであ
ることができる。
【００３５】これらの化合物の大部分において、Ｒ1お
よびＲ2は相互に相違しており、これらの基の一方は通
常、アルキル基またはアルコキシ基であり、そして他方
はアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ＣＮ、
Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ3、ＯＣＨＦ2、ＯＣＨ2ＣＦ3、ＯＣＨ
ＦＣＦ3 、ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3、ＯＣＨ＝ＣＦ2、ＯＣ
Ｆ＝ＣＦ2またはＣＨ＝ＣＦ2である。しかしながら、提
案されているその他の置換基もまた慣用である。多くの
このような化合物またはその混合物は市販されている。
これらの物質は全部、刊行物から公知の方法によって製
造することができる。
よびＲ2は相互に相違しており、これらの基の一方は通
常、アルキル基またはアルコキシ基であり、そして他方
はアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ＣＮ、
Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ3、ＯＣＨＦ2、ＯＣＨ2ＣＦ3、ＯＣＨ
ＦＣＦ3 、ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3、ＯＣＨ＝ＣＦ2、ＯＣ
Ｆ＝ＣＦ2またはＣＨ＝ＣＦ2である。しかしながら、提
案されているその他の置換基もまた慣用である。多くの
このような化合物またはその混合物は市販されている。
これらの物質は全部、刊行物から公知の方法によって製
造することができる。
【００３６】本特許出願書および下記の例において、液
晶化合物の構造は、頭文字で示されており、化学式への
変換は以下の表ＡおよびＢに従い達成される。基ＣnＨ
2n+1およびＣmＨ2m+1は全部、ｎ個またはｍ個の炭素原
子をそれぞれ有する直鎖状アルキル基である。表Ｂのコ
ードは自明である。表Ａにおいて、基本構造に関わる頭
文字のみが示されている。各場合に、この基本構造に関
わる頭文字の後に、ハイフンで分離して、置換基Ｒ1、
Ｒ2、Ｌ1およびＬ2に関するコードが示されている：
晶化合物の構造は、頭文字で示されており、化学式への
変換は以下の表ＡおよびＢに従い達成される。基ＣnＨ
2n+1およびＣmＨ2m+1は全部、ｎ個またはｍ個の炭素原
子をそれぞれ有する直鎖状アルキル基である。表Ｂのコ
ードは自明である。表Ａにおいて、基本構造に関わる頭
文字のみが示されている。各場合に、この基本構造に関
わる頭文字の後に、ハイフンで分離して、置換基Ｒ1、
Ｒ2、Ｌ1およびＬ2に関するコードが示されている：
【００３７】
【表１】
【００３８】好適混合物の成分を表Ａおよび表Ｂに示
す。
す。
【化１４】表Ａ：
【００３９】
【化１５】
【００４０】
【化１６】表Ｂ：
【００４１】
【化１７】
【００４２】
【実施例】以下の例は本発明を説明するものであって、
本発明を制限するものではない。「慣用の仕上げ処理」
の用語は、下記の意味を有するものとする：水を添加
し、この混合物をジクロロメタンにより抽出し、この有
機相を分離採取し、乾燥させ、次いで蒸発させ、この生
成物を結晶化および（または）クロマトグラフィにより
精製する。本明細書の全体をとおして、パーセンテージ
は重量パーセントである。温度は全部、摂氏度で示され
ている。ｍ．ｐ．は融点を表わしそしてｃ．ｐ．は透明
点を表わす。さらにまた、Ｃ＝結晶状態、Ｎ＝ネマティ
ック相、Ｓ＝スメクティック相そしてＩ＝等方性相であ
る。これらの記号間の数値は転移温度である。△ｎは光
学異方性（５８９ｎｍ、２０℃）である。粘度（ｍｍ2
／秒）は２０℃において測定した。
本発明を制限するものではない。「慣用の仕上げ処理」
の用語は、下記の意味を有するものとする：水を添加
し、この混合物をジクロロメタンにより抽出し、この有
機相を分離採取し、乾燥させ、次いで蒸発させ、この生
成物を結晶化および（または）クロマトグラフィにより
精製する。本明細書の全体をとおして、パーセンテージ
は重量パーセントである。温度は全部、摂氏度で示され
ている。ｍ．ｐ．は融点を表わしそしてｃ．ｐ．は透明
点を表わす。さらにまた、Ｃ＝結晶状態、Ｎ＝ネマティ
ック相、Ｓ＝スメクティック相そしてＩ＝等方性相であ
る。これらの記号間の数値は転移温度である。△ｎは光
学異方性（５８９ｎｍ、２０℃）である。粘度（ｍｍ2
／秒）は２０℃において測定した。
【００４３】下記の略語を使用する： ＢｕＬｉ ブチルリチウム ＤＡＳＴ ジエチルアミノスルファトリフルオライド ＤＣＣ ジシクロヘキシルカルボジイミド ＤＩＢＡＬＨ ジイソブチルアルミニウムヒドリド ＤＭＡＰ ２−ジメチルアミノピリジン ＤＤＱ ジクロロジシアノベンゾキノン ＰＯＴ カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド ＮＨ4Ｃｌ 塩化アンモニウム ＴＨＦ テトラヒドロフラン ＴＭＥＤＡ テトラメチルエチレンジアミン ｐＴｓＯＨ ｐ−トルエンスルホン酸
【００４４】Ｉ．例 例１
【化１８】
【００４５】氷酢酸３０ｍｌ中の濃硫酸１０．７ｍｌ
を、０〜５℃で撹拌しながら、ｔｅｒｔ−ブタノール
０．２モルおよび氷酢酸３０ｍｌ中のｐ−トランス−
（４−プロピルシクロヘキシル）フェノール０．１モル
に滴下して添加する。この混合物を室温で一夜にわたり
撹拌し、水およびメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルを添
加し、次いでこの有機相を分離採取し、ＮａＨＣＯ3溶
液および水で洗浄し、次いで慣用の仕上げ処理に付す。
生成物はメタノールから再結晶させる。Ｃ ９１ Ｉ。
を、０〜５℃で撹拌しながら、ｔｅｒｔ−ブタノール
０．２モルおよび氷酢酸３０ｍｌ中のｐ−トランス−
（４−プロピルシクロヘキシル）フェノール０．１モル
に滴下して添加する。この混合物を室温で一夜にわたり
撹拌し、水およびメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルを添
加し、次いでこの有機相を分離採取し、ＮａＨＣＯ3溶
液および水で洗浄し、次いで慣用の仕上げ処理に付す。
生成物はメタノールから再結晶させる。Ｃ ９１ Ｉ。
【００４６】同様にして、下記式で表わされる下記の
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物を製造
する：
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物を製造
する：
【化１９】
【００４７】
【化２０】
【００４８】
【化２１】
【００４９】
【化２２】
【００５０】
【化２３】
【００５１】
【化２４】
【００５２】
【化２５】
【００５３】ＩＩ．安定性試験 ２．１ 標準条件における熱およびＵＶ安定性 下記のアルケニル化合物を標準条件（Ｔ＝１５０℃、Ｎ
2雰囲気下、１００時間）の下に試験した。これらのア
ルケニル化合物は全て熱およびＵＶ安定であった。ガス
−クロマトグラフィ分析は分解生成物および重合生成物
が存在していないことを示した：
2雰囲気下、１００時間）の下に試験した。これらのア
ルケニル化合物は全て熱およびＵＶ安定であった。ガス
−クロマトグラフィ分析は分解生成物および重合生成物
が存在していないことを示した：
【００５４】
【化２６】
【００５５】２．２ 酸素の存在下におけるアルケニル
化合物の安定性試験 この試験は、標準ホスト中で８０℃において行った。選
択したホストは、広いネマティック相範囲を有すること
から、Ｉ３２とＩ５２との１：１混合物であった。 ２．２．１ ３種の相違するアルケニル化合物をそれぞ
れ、１０％の量で、上記標準ホストに添加し、この混合
物を次いで開放フラスコ内で８０℃において１１時間撹
拌した。
化合物の安定性試験 この試験は、標準ホスト中で８０℃において行った。選
択したホストは、広いネマティック相範囲を有すること
から、Ｉ３２とＩ５２との１：１混合物であった。 ２．２．１ ３種の相違するアルケニル化合物をそれぞ
れ、１０％の量で、上記標準ホストに添加し、この混合
物を次いで開放フラスコ内で８０℃において１１時間撹
拌した。
【００５６】
【化２７】
【００５７】２．２．２ 酸化防止剤（０．１％ＢＨ
Ｔ）の存在または不存在の下での各種化合物の熱安定性
の評価 試験条件：ホスト中の化合物２０％、８０℃で１００時
間（撹拌はしない） ホスト： Ｉ３２／Ｉ５２（１：１） 対照： ＣＣＨ−３４
Ｔ）の存在または不存在の下での各種化合物の熱安定性
の評価 試験条件：ホスト中の化合物２０％、８０℃で１００時
間（撹拌はしない） ホスト： Ｉ３２／Ｉ５２（１：１） 対照： ＣＣＨ−３４
【００５８】
【化２８】
【００５９】
【化２９】
【００６０】Ａ：ＢＨＴの不存在 Ｂ：０．１％ＢＨＴが存在
【化３０】 ２．２．３ ＣＶＣ−３−ＶＩの酸化に対する各種安定
剤の効果 試験条件：ホスト中のＣＶＣ−３−ＶＩ２０％、８０
℃、開放フラスコ（撹拌はしない） ホスト： Ｉ３２＋Ｉ５２（１：１）
剤の効果 試験条件：ホスト中のＣＶＣ−３−ＶＩ２０％、８０
℃、開放フラスコ（撹拌はしない） ホスト： Ｉ３２＋Ｉ５２（１：１）
【００６１】
【化３１】
【００６２】ＭＢＰで安定化したＬＣ混合物は、時間経
過に従い黄変する。ＢＨＴは容易に揮発し、従って取り
扱いが難しい。 ２．２．４ ＣＶＣ−３−Ｖ１の酸化に対する各種安定
剤の含有量の評価 試験条件：標準ホスト（Ｉ３２：Ｉ５２＝１：１）中の
ＣＶＣ−３Ｖ１２０％、温度；８０℃、開放フラスコ、
撹拌はしない
過に従い黄変する。ＢＨＴは容易に揮発し、従って取り
扱いが難しい。 ２．２．４ ＣＶＣ−３−Ｖ１の酸化に対する各種安定
剤の含有量の評価 試験条件：標準ホスト（Ｉ３２：Ｉ５２＝１：１）中の
ＣＶＣ−３Ｖ１２０％、温度；８０℃、開放フラスコ、
撹拌はしない
【００６３】
【化３２】
【００６４】
【化３３】
【００６５】ＭＢＰ：黄変；ヘキサンから２回、再結晶
させて精製したＭＢＰ：依然として僅かに帯黄色に変
色。ＭＢＰを含有するＬＣ混合物は両方ともに、４００
時間後に黄変した。 日陰の場所：分解の開始または継続。
させて精製したＭＢＰ：依然として僅かに帯黄色に変
色。ＭＢＰを含有するＬＣ混合物は両方ともに、４００
時間後に黄変した。 日陰の場所：分解の開始または継続。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 255/15 8927−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 255/15 323/11 7419−4Ｈ 323/11 Ｃ０７Ｄ 239/26 Ｃ０７Ｄ 239/26 319/06 319/06 Ｃ０９Ｋ 19/30 9279−4Ｈ Ｃ０９Ｋ 19/30 19/34 9279−4Ｈ 19/34 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (71)出願人 591032596 Ｆｒａｎｋｆｕｒｔｅｒ Ｓｔｒ． 250, Ｄ−64293 Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｆｅｄ ｅｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅ ｒｍａｎｙ (72)発明者 フォルカー・ライフェンラート ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 ヨアヒム・クラウゼ ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250
Claims (6)
- 【請求項１】下記式Ｉで表わされる２，６−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール化合物： 【化１】 式中、 Ｒは、Ｈであるか、または１８個までの炭素原子を有す
るアルキル基またはアルケニル基であり、この基は未置
換であるか、または置換基としてＣＮを有するか、また
は置換基として少なくとも１個のハロゲンを有してお
り、さらにこの基中に存在する１個のＣＨ2 基または隣
接していない２個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−および−Ｃ≡Ｃ
−からなる群から選択される基により置き換えられてい
てもよく、 Ａ1およびＡ2は、それぞれ相互に独立して、 ａ）１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する
１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていて
もよく、 ｂ）１，４−シクロヘキセニレン基または１，４−シク
ロヘキシレン基であり、この基中に存在する１個のＣＨ
2基または隣接していない２個のＣＨ2基は、−Ｏ−また
は−Ｓ−により置き換えられていてもよく、 ｃ）ピペリジン−１，４−ジイル、１，４−ビシクロ
［２．２．２］−オクチレンまたはナフタレン−２，６
−ジイル基、であり、上記基ａ）およびｂ）は置換基と
して１個または２個以上のハロゲン原子、シアノ基およ
び（または）メチル基を有していてもよく、 Ｚ1およびＺ2は、それぞれ相互に独立して、−ＣＯ−Ｏ
−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ2−Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ
Ｈ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−あるいは単結
合であり、そしてｍおよびｎは、それぞれ相互に独立し
て、０、１、２または３であり、かつまたｍ＋ｎ≧１で
ある、 ただし、下記式で表わされる化合物は除外する： 【化２】 （各式中、ｎ＝１〜３である）。 - 【請求項２】下記式Ｉ１で表わされる、請求項１に記載
の２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物： 【化３】 式中、Ｒは請求項１に定義されているとおりである。 - 【請求項３】請求項１または２に記載の２，６−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール化合物の安定剤としての使
用。 - 【請求項４】少なくとも２種の液晶化合物を含有する液
晶媒体であって、請求項１に記載の２，６−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール化合物の少なくとも１種を含有す
ることを特徴とする液晶媒体。 - 【請求項５】式Ｉで表される２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノール化合物の少なくとも１種を０．０１〜５
重量％の量で含有することを特徴とする請求項４に記載
の液晶媒体。 - 【請求項６】請求項４に記載の液晶媒体を含有する電気
光学ディスプレイ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19539141.1A DE19539141B4 (de) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | 2,6-Di-tert.-butylphenole |
| DE19539141.1 | 1995-10-20 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007118315A Division JP4689640B2 (ja) | 1995-10-20 | 2007-04-27 | ２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09124529A true JPH09124529A (ja) | 1997-05-13 |
| JP3980099B2 JP3980099B2 (ja) | 2007-09-19 |
Family
ID=7775382
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29590896A Expired - Lifetime JP3980099B2 (ja) | 1995-10-20 | 1996-10-18 | ２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物 |
| JP2007118315A Expired - Lifetime JP4689640B2 (ja) | 1995-10-20 | 2007-04-27 | ２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007118315A Expired - Lifetime JP4689640B2 (ja) | 1995-10-20 | 2007-04-27 | ２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール化合物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6444278B1 (ja) |
| JP (2) | JP3980099B2 (ja) |
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| KR100637938B1 (ko) * | 1998-02-04 | 2006-10-23 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 액정 조성물, 저항 조정 방법 및 치환된 페놀 |
| JP5170602B1 (ja) * | 2012-05-23 | 2013-03-27 | Ｄｉｃ株式会社 | ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 |
| JP5170603B1 (ja) * | 2012-04-26 | 2013-03-27 | Ｄｉｃ株式会社 | ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 |
| KR20130110172A (ko) * | 2010-09-25 | 2013-10-08 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 호메오트로픽 정렬을 갖는 액정 디스플레이 및 액정 매질 |
| KR101316708B1 (ko) * | 2012-04-26 | 2013-10-10 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 네마틱 액정 조성물 및 이를 사용한 액정 표시 소자 |
| WO2013175645A1 (ja) | 2012-05-23 | 2013-11-28 | Dic株式会社 | ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 |
| JP2014043561A (ja) * | 2012-07-30 | 2014-03-13 | Jnc Corp | 液晶組成物、酸化防止剤および液晶表示素子 |
| WO2014065230A1 (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-01 | Dic株式会社 | ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 |
| WO2014073572A1 (ja) * | 2012-11-08 | 2014-05-15 | Dic株式会社 | ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 |
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| WO2016056455A1 (ja) * | 2014-10-10 | 2016-04-14 | Dic株式会社 | 液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 |
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| FR2835522B1 (fr) * | 2002-02-06 | 2006-04-07 | Robert Vachy | Preparation pour composes sensibles a l'oxydation et son procede de fabrication |
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-
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- 2007-04-27 JP JP2007118315A patent/JP4689640B2/ja not_active Expired - Lifetime
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