JPH10298119A - フルオロシクロヘキサン誘導体および液晶媒体 - Google Patents
フルオロシクロヘキサン誘導体および液晶媒体Info
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- JPH10298119A JPH10298119A JP10110128A JP11012898A JPH10298119A JP H10298119 A JPH10298119 A JP H10298119A JP 10110128 A JP10110128 A JP 10110128A JP 11012898 A JP11012898 A JP 11012898A JP H10298119 A JPH10298119 A JP H10298119A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】新規で安定な液晶化合物またはメソゲン化合物
およびそれらの製造方法を提供する。 【解決手段】下記式Ｉ 具体的には、例えば で表わされるフルオロシクロヘキサン誘導体およびその
製造方法
およびそれらの製造方法を提供する。 【解決手段】下記式Ｉ 具体的には、例えば で表わされるフルオロシクロヘキサン誘導体およびその
製造方法
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なフルオロシ
クロヘキサン誘導体、これらの化合物の液晶成分として
の使用およびこれらの化合物を含有する液晶媒体、なら
びにこれらの液晶媒体を含有する液晶表示素子および電
気光学表示素子に関する。
クロヘキサン誘導体、これらの化合物の液晶成分として
の使用およびこれらの化合物を含有する液晶媒体、なら
びにこれらの液晶媒体を含有する液晶表示素子および電
気光学表示素子に関する。
【０００２】
【従来技術】フルオロシクロヘキサン単位を含有する化
合物は、例えばＪＰ０５１２５００２、ＪＰ０５２２９
９７９およびＥＰ０１０７７５９に記載されている。し
かしながら、これらの刊行物には２個または３個以上の
フルオロシクロヘキサン単位を有する化合物は記載され
ていない。
合物は、例えばＪＰ０５１２５００２、ＪＰ０５２２９
９７９およびＥＰ０１０７７５９に記載されている。し
かしながら、これらの刊行物には２個または３個以上の
フルオロシクロヘキサン単位を有する化合物は記載され
ていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、特に
ＴＦＴおよびＳＴＮディスプレイ用の液晶成分として適
する、新規で安定な液晶化合物またはメソゲン化合物を
提供することにある。本発明のもう一つの課題は、この
ような化合物の製造方法を提供することにある。
ＴＦＴおよびＳＴＮディスプレイ用の液晶成分として適
する、新規で安定な液晶化合物またはメソゲン化合物を
提供することにある。本発明のもう一つの課題は、この
ような化合物の製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するため、鋭意研究を重ねたところ、液晶媒体、と
くにＴＦＴ及びＳＴＮディスプレイ用の液晶媒体の成分
として適する、安定な液晶化合物またはメソゲン化合物
を見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は
新規な下記式Ｉで表わされるフルオロシクロヘキサン誘
導体に関する：
解決するため、鋭意研究を重ねたところ、液晶媒体、と
くにＴＦＴ及びＳＴＮディスプレイ用の液晶媒体の成分
として適する、安定な液晶化合物またはメソゲン化合物
を見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は
新規な下記式Ｉで表わされるフルオロシクロヘキサン誘
導体に関する：
【化６】 式中、Ｙは炭素原子１〜１０個を有するアルキル基また
はアルコキシ基であり、この基は未置換であるか、また
は置換基として少なくとも１個のハロゲンを有してお
り、あるいはＹは炭素原子２〜１０個を有するアルケニ
ル基またはアルケニルオキシ基であり、この基は未置換
であるか、置換基として少なくとも１個の−ＣＮ、−Ｃ
Ｆ3または−Ｆを有しており、あるいはＹは−ＣＮ、−
Ｆ、−ＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦＣ
Ｆ3または−ＯＣＦ2ＣＦ3であり、
はアルコキシ基であり、この基は未置換であるか、また
は置換基として少なくとも１個のハロゲンを有してお
り、あるいはＹは炭素原子２〜１０個を有するアルケニ
ル基またはアルケニルオキシ基であり、この基は未置換
であるか、置換基として少なくとも１個の−ＣＮ、−Ｃ
Ｆ3または−Ｆを有しており、あるいはＹは−ＣＮ、−
Ｆ、−ＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦＣ
Ｆ3または−ＯＣＦ2ＣＦ3であり、
【０００５】Ｘ1およびＸ2はそれぞれ相互に独立して、
アキシャル位置に存在するＨまたはＦであり、ただしＸ
1およびＸ2 はＸ1およびＸ2により置換されている各個
のシクロヘキサン環において同時にＨではなく、Ｒ1は
Ｈであるか、または炭素原子１〜１２個または２〜１２
個をそれぞれ有するアルキル基またはアルケニル基であ
り、この基は未置換であるか、または置換基として１個
のＣＮまたはＣＦ3を有するか、または置換基として少
なくとも１個のハロゲンを有しており、これらの基中に
存在する１個または２個以上のＣＨ2基はまたそれぞれ
相互に独立して、ヘテロ原子が相互に直接に結合しない
ものとして、
アキシャル位置に存在するＨまたはＦであり、ただしＸ
1およびＸ2 はＸ1およびＸ2により置換されている各個
のシクロヘキサン環において同時にＨではなく、Ｒ1は
Ｈであるか、または炭素原子１〜１２個または２〜１２
個をそれぞれ有するアルキル基またはアルケニル基であ
り、この基は未置換であるか、または置換基として１個
のＣＮまたはＣＦ3を有するか、または置換基として少
なくとも１個のハロゲンを有しており、これらの基中に
存在する１個または２個以上のＣＨ2基はまたそれぞれ
相互に独立して、ヘテロ原子が相互に直接に結合しない
ものとして、
【化７】 −Ｏ−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、
【０００６】Ａ1は、 ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、こ
の基中に存在する１個のＣＨ2基または隣接していない
２個以上のＣＨ2基は−Ｏ−および（または）−Ｓ−に
より置き換えられていてもよく、または ｂ）１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する
１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていて
もよく、または ｃ）１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン、ピペ
リジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイ
ル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，
２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル
からなる群からの基であり、または ｄ）１，４−シクロヘキセニレン基であり、上記基
ａ）、ｂ）およびｄ）は置換基として、ＣＮ、Ｃｌまた
はＦを有していてもよく、
の基中に存在する１個のＣＨ2基または隣接していない
２個以上のＣＨ2基は−Ｏ−および（または）−Ｓ−に
より置き換えられていてもよく、または ｂ）１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する
１個または２個のＣＨ基はＮにより置き換えられていて
もよく、または ｃ）１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン、ピペ
リジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイ
ル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，
２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル
からなる群からの基であり、または ｄ）１，４−シクロヘキセニレン基であり、上記基
ａ）、ｂ）およびｄ）は置換基として、ＣＮ、Ｃｌまた
はＦを有していてもよく、
【０００７】Ｚ1およびＺ2はそれぞれ相互に独立して、
−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ2Ｏ−、−Ｏ−、
−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−
Ｃ≡Ｃ−または単結合であり、ｎは１、２、３または４
であり、そしてｍは０、１または２であり、ただしｍ＋
ｎは１、２、３または４である。
−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ2Ｏ−、−Ｏ−、
−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−
Ｃ≡Ｃ−または単結合であり、ｎは１、２、３または４
であり、そしてｍは０、１または２であり、ただしｍ＋
ｎは１、２、３または４である。
【０００８】本発明はまた、式Ｉで表わされる化合物の
液晶成分としての使用、ならびに本発明による液晶媒体
を含有する液晶表示素子および電気光学表示素子に関す
る。式Ｉで表わされる化合物は液晶媒体の成分として使
用することができ、特にねじれセルの原理、ゲスト−ホ
スト効果、整列相の変形の効果（ＤＡＰ）または電気制
御複屈折の効果（ＥＣＢ）あるいは動的散乱の効果に基
づくディスプレイ用の液晶媒体の成分として使用するこ
とができる。従来、この目的に使用されていた物質の全
部は或る種の欠点有し、例えば熱、光または電場にさら
された場合の不適当な安定性あるいは好ましくない弾性
および（または）誘電物性を有する。
液晶成分としての使用、ならびに本発明による液晶媒体
を含有する液晶表示素子および電気光学表示素子に関す
る。式Ｉで表わされる化合物は液晶媒体の成分として使
用することができ、特にねじれセルの原理、ゲスト−ホ
スト効果、整列相の変形の効果（ＤＡＰ）または電気制
御複屈折の効果（ＥＣＢ）あるいは動的散乱の効果に基
づくディスプレイ用の液晶媒体の成分として使用するこ
とができる。従来、この目的に使用されていた物質の全
部は或る種の欠点有し、例えば熱、光または電場にさら
された場合の不適当な安定性あるいは好ましくない弾性
および（または）誘電物性を有する。
【０００９】ここに、式Ｉで表わされる化合物が、液晶
媒体の成分として格別に適していることが見出された。
これらの化合物を使用するこしによって、特にＴＦＴま
たはＳＴＮディスプレイに適する安定な液晶媒体を得る
ことができる。これらの新規化合物は高い熱安定性の点
で際立っており、これは高い保持比にとって有利であ
る。さらにまた、これらの化合物は比較的低い回転粘度
値を有すると同時に好ましい透明点を示す。式Ｉで表わ
される化合物は、大きい負の誘電異方性を有し、従って
整列相の変形の効果に基くディスプレイに特に適してい
る。式Ｉで表わされる化合物を提供することによって、
各種用途の観点から、液晶混合物の調製に適する液晶物
質の範囲が非常に一般的に相当に拡大される。
媒体の成分として格別に適していることが見出された。
これらの化合物を使用するこしによって、特にＴＦＴま
たはＳＴＮディスプレイに適する安定な液晶媒体を得る
ことができる。これらの新規化合物は高い熱安定性の点
で際立っており、これは高い保持比にとって有利であ
る。さらにまた、これらの化合物は比較的低い回転粘度
値を有すると同時に好ましい透明点を示す。式Ｉで表わ
される化合物は、大きい負の誘電異方性を有し、従って
整列相の変形の効果に基くディスプレイに特に適してい
る。式Ｉで表わされる化合物を提供することによって、
各種用途の観点から、液晶混合物の調製に適する液晶物
質の範囲が非常に一般的に相当に拡大される。
【００１０】式Ｉで表わされる化合物は広い用途範囲を
有する。置換基を選択することによって、これらの化合
物は液晶媒体の主要な構成基材として使用することがで
きる；しかしながら、式Ｉで表わされる化合物はまた、
別の種類の化合物からの液晶基材に添加して、例えばこ
の種の誘電体の誘電異方性および（または）光学異方性
を変えることができ、および（または）そのしきい値電
圧および（または）その粘度を最適にすることができ
る。式Ｉで表わされる化合物は純粋な状態で無色であ
り、そして電気光学用途に対して好ましい温度範囲に位
置する液晶中間相を形成する。これらの化合物は化学物
質、熱および光に対して安定である。
有する。置換基を選択することによって、これらの化合
物は液晶媒体の主要な構成基材として使用することがで
きる；しかしながら、式Ｉで表わされる化合物はまた、
別の種類の化合物からの液晶基材に添加して、例えばこ
の種の誘電体の誘電異方性および（または）光学異方性
を変えることができ、および（または）そのしきい値電
圧および（または）その粘度を最適にすることができ
る。式Ｉで表わされる化合物は純粋な状態で無色であ
り、そして電気光学用途に対して好ましい温度範囲に位
置する液晶中間相を形成する。これらの化合物は化学物
質、熱および光に対して安定である。
【００１１】従って、本発明は、式Ｉで表わされる化合
物およびこれらの化合物を液晶媒体の成分として使用す
ることにも関する。本発明はまた、式Ｉで表わされる少
なくとも１種の化合物を含有する液晶媒体、およびまた
この種の媒体を含有する液晶表示素子、特に電気光学表
示素子に関する。本明細書の全体をとおして、ｎ、ｍ、
Ｒ1、Ｘ1、Ｘ1、Ｚ1、Ｚ2、Ａ1およびＹは、別段の記載
がないかぎり、上記定義のとおりである。
物およびこれらの化合物を液晶媒体の成分として使用す
ることにも関する。本発明はまた、式Ｉで表わされる少
なくとも１種の化合物を含有する液晶媒体、およびまた
この種の媒体を含有する液晶表示素子、特に電気光学表
示素子に関する。本明細書の全体をとおして、ｎ、ｍ、
Ｒ1、Ｘ1、Ｘ1、Ｚ1、Ｚ2、Ａ1およびＹは、別段の記載
がないかぎり、上記定義のとおりである。
【００１２】簡潔にするために、以下の記載において、
Ｃｙｃは１，４−シクロヘキシレン基を表わし、Ｃｈｅ
は１，４−シクロヘキセニレン基を表わし、Ｄｉｏは
１，３−ジオキサン−２，５- ジイル基を表わし、Ｄｉ
ｔは１，３−ジチアン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐ
ｈｅは１，４−フェニレン基を表わし、Ｐｙｄはピリジ
ン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐｙｒはピリミジン−
２，５−ジイル基を表わし、そしてＢｃｏはビシクロ
［２．２．２］オクチレン基を表わすものとする。これ
らのＣｙｃおよび（または）Ｐｈｅは未置換あるいは置
換基として１個または２個以上のＣｌ、ＦまたはＣＮを
有することができる。
Ｃｙｃは１，４−シクロヘキシレン基を表わし、Ｃｈｅ
は１，４−シクロヘキセニレン基を表わし、Ｄｉｏは
１，３−ジオキサン−２，５- ジイル基を表わし、Ｄｉ
ｔは１，３−ジチアン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐ
ｈｅは１，４−フェニレン基を表わし、Ｐｙｄはピリジ
ン−２，５−ジイル基を表わし、Ｐｙｒはピリミジン−
２，５−ジイル基を表わし、そしてＢｃｏはビシクロ
［２．２．２］オクチレン基を表わすものとする。これ
らのＣｙｃおよび（または）Ｐｈｅは未置換あるいは置
換基として１個または２個以上のＣｌ、ＦまたはＣＮを
有することができる。
【００１３】また、Ｗは下記の構造単位を意味する：
【化８】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｚ1およびｎは上記定義のとおりで
ある）。
ある）。
【００１４】式Ｉで表わされる化合物は、下記の付属式
Ｉａで表わされる化合物： Ｒ1−Ｗ−Ｙ Ｉａ 下記の付属式ＩｂおよびＩｃで表わされる化合物：
Ｉａで表わされる化合物： Ｒ1−Ｗ−Ｙ Ｉａ 下記の付属式ＩｂおよびＩｃで表わされる化合物：
【化９】 下記の付属式Ｉｄ〜Ｉｇで表わされる化合物：
【化１０】
【００１５】および下記の付属式Ｉｈ〜Ｉｏで表わされ
る化合物：
る化合物：
【化１１】 を包含する。
【００１６】これらの中で、付属式Ｉａ、Ｉｂ、Ｉｄ、
Ｉｅ、Ｉｆ、Ｉｈ、ＩｉおよびＩｊで表わされる化合物
は、特に好適な化合物として挙げられる。付属式Ｉｂで
表わされる好適化合物には、下記付属式ＩｂａおよびＩ
ｂｂで表わされる化合物が包含される：
Ｉｅ、Ｉｆ、Ｉｈ、ＩｉおよびＩｊで表わされる化合物
は、特に好適な化合物として挙げられる。付属式Ｉｂで
表わされる好適化合物には、下記付属式ＩｂａおよびＩ
ｂｂで表わされる化合物が包含される：
【化１２】 付属式Ｉｃで表わされる好適化合物には、下記付属式Ｉ
ｃａおよびＩｃｂで表わされる化合物が包含される：
ｃａおよびＩｃｂで表わされる化合物が包含される：
【化１３】
【００１７】付属式Ｉｄで表わされる好適化合物には、
下記付属式Ｉｄａ〜Ｉｄｇで表わされる化合物が包含さ
れる：
下記付属式Ｉｄａ〜Ｉｄｇで表わされる化合物が包含さ
れる：
【化１４】 これらの中で、付属式Ｉｄａ、Ｉｄｂ、ＩｄｃおよびＩ
ｄｅで表わされる化合物は、特に好適である。
ｄｅで表わされる化合物は、特に好適である。
【００１８】付属式Ｉｅで表わされる好適化合物には、
下記付属式Ｉｅａ〜Ｉｅｇで表わされる化合物が包含さ
れる：
下記付属式Ｉｅａ〜Ｉｅｇで表わされる化合物が包含さ
れる：
【化１５】 付属式Ｉｆで表わされる好適化合物には、下記付属式Ｉ
ｆａ〜Ｉｆｈで表わされる化合物が包含される：
ｆａ〜Ｉｆｈで表わされる化合物が包含される：
【化１６】
【００１９】これらの中で、付属式Ｉｆａ、Ｉｆｂ、Ｉ
ｆｃおよびＩｆｅで表わされる化合物は、特に好適であ
る。付属式Ｉｇで表わされる好適化合物には、下記付属
式Ｉｇａ〜Ｉｇｅで表わされる化合物が包含される：
ｆｃおよびＩｆｅで表わされる化合物は、特に好適であ
る。付属式Ｉｇで表わされる好適化合物には、下記付属
式Ｉｇａ〜Ｉｇｅで表わされる化合物が包含される：
【化１７】
【００２０】付属式Ｉｈ〜Ｉｏで表わされる好適化合物
には、下記付属式Ｉｐ〜Ｉｗで表わされる化合物が包含
される：
には、下記付属式Ｉｐ〜Ｉｗで表わされる化合物が包含
される：
【化１８】 式Ｉで表わされる好適化合物のグループは、下記付属式
Ｉａ１、Ｉｂ１、Ｉｂ２およびＩｅ１で表わされる化合
物を包含する：
Ｉａ１、Ｉｂ１、Ｉｂ２およびＩｅ１で表わされる化合
物を包含する：
【００２１】
【化１９】
【００２２】各式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｚ1、Ｚ2、ｎお
よびＹは上記定義のとおりであり、そしてＬ1、Ｌ2およ
びＬ4はそれぞれ相互に独立して、ＦまたはＨである。
Ｙは好ましくは、−ＣＮ、−Ｆ、−ＣＦ3、−ＯＣＦ3ま
たは炭素原子１〜１０個を有する直鎖状アルキル基また
は炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基である。ｎ
の好適意味は１または２である。式Ｉにおいて、Ｘ1お
よびＸ2が、Ｘ1およびＸ2により置換されている各個の
シクロヘキサン環において同時にＦではない化合物が好
ましい。前記および後記の式で表わされる化合物におい
て、Ｒ1は好ましくは、炭素原子１〜１０個を有する直
鎖状アルキル基または炭素原子２〜１０個を有するアル
ケニル基であり、さらにまた炭素原子１〜１０個を有す
るアルコキシ基も好適である。
よびＹは上記定義のとおりであり、そしてＬ1、Ｌ2およ
びＬ4はそれぞれ相互に独立して、ＦまたはＨである。
Ｙは好ましくは、−ＣＮ、−Ｆ、−ＣＦ3、−ＯＣＦ3ま
たは炭素原子１〜１０個を有する直鎖状アルキル基また
は炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基である。ｎ
の好適意味は１または２である。式Ｉにおいて、Ｘ1お
よびＸ2が、Ｘ1およびＸ2により置換されている各個の
シクロヘキサン環において同時にＦではない化合物が好
ましい。前記および後記の式で表わされる化合物におい
て、Ｒ1は好ましくは、炭素原子１〜１０個を有する直
鎖状アルキル基または炭素原子２〜１０個を有するアル
ケニル基であり、さらにまた炭素原子１〜１０個を有す
るアルコキシ基も好適である。
【００２３】Ａ1は好ましくは、Ｐｈｅ、Ｃｙｃ、Ｃｈ
ｅ、Ｐｙｄ、ＰｙｒまたはＤｉｏである。式Ｉで表わさ
れる化合物は好ましくは、１個よりも多くない数で基Ｂ
ｃｏ、Ｐｙｄ、Ｐｙｒ、ＤｉｏおよびＤｉｔを含有す
る。１個よりも多くの環Ａ1が存在する場合に、これら
２個の環は同一または相違する意味を有することができ
る。架橋基Ｚ1とＺ2およびＸ1とＸ2にも同じことが当て
はまる。式Ｉおよび全部の付属式において、Ａ1が置換
基として１個または２個のＦまたはＣＮを有する１，４
−フェニレンである化合物はまた、好ましい化合物とし
て挙げられる。Ａ1は好ましくは、下記の基である：
ｅ、Ｐｙｄ、ＰｙｒまたはＤｉｏである。式Ｉで表わさ
れる化合物は好ましくは、１個よりも多くない数で基Ｂ
ｃｏ、Ｐｙｄ、Ｐｙｒ、ＤｉｏおよびＤｉｔを含有す
る。１個よりも多くの環Ａ1が存在する場合に、これら
２個の環は同一または相違する意味を有することができ
る。架橋基Ｚ1とＺ2およびＸ1とＸ2にも同じことが当て
はまる。式Ｉおよび全部の付属式において、Ａ1が置換
基として１個または２個のＦまたはＣＮを有する１，４
−フェニレンである化合物はまた、好ましい化合物とし
て挙げられる。Ａ1は好ましくは、下記の基である：
【００２４】
【化２０】
【００２５】ｍは好ましくは、０または１、特に好まし
くは０である。Ｚ1およびＺ2は相互に独立して、好まし
くは−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であ
り、特に好ましくは単結合である。式Ｉにおいて、Ｒ1
およびＹが同時に、炭素原子１〜１０個を有するアルキ
ル基であり、かつまたｍが０である化合物は、好ましい
化合物として挙げられる。特に好ましい化合物として、
式Ｉにおいて、Ｒ1が炭素原子１〜１０個を有する直鎖
状アルキル基またはアルコキシ基、あるいは炭素原子２
〜１０個を有するアルケニル基であり、そしてＹが炭素
原子１〜１０個を有するアルキル基、炭素原子２〜１０
個を有するアルケニル基、−ＣＮ、−Ｆ、−ＣＨＦ2ま
たは−ＯＣＦ3である化合物がまた挙げられる。
くは０である。Ｚ1およびＺ2は相互に独立して、好まし
くは−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であ
り、特に好ましくは単結合である。式Ｉにおいて、Ｒ1
およびＹが同時に、炭素原子１〜１０個を有するアルキ
ル基であり、かつまたｍが０である化合物は、好ましい
化合物として挙げられる。特に好ましい化合物として、
式Ｉにおいて、Ｒ1が炭素原子１〜１０個を有する直鎖
状アルキル基またはアルコキシ基、あるいは炭素原子２
〜１０個を有するアルケニル基であり、そしてＹが炭素
原子１〜１０個を有するアルキル基、炭素原子２〜１０
個を有するアルケニル基、−ＣＮ、−Ｆ、−ＣＨＦ2ま
たは−ＯＣＦ3である化合物がまた挙げられる。
【００２６】１，４−シクロヘキセニレン基は好ましく
は、下記構造を有する：
は、下記構造を有する：
【化２１】 下記グループの付属式Ｉ１〜Ｉ１６で表わされる化合物
はまた、本発明の好適態様を構成する：
はまた、本発明の好適態様を構成する：
【００２７】
【化２２】
【００２８】
【化２３】
【００２９】上記各式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｚ1、Ｚ2、
Ａ1、ｎ、ｍおよびＹは上記定義のとおりであり、Ｌ1、
Ｌ2およびＬ3はそれぞれ相互に独立して、ＦまたはＨで
あり、そしてＲ2は炭素原子１〜１０個を有するアルキ
ル基または炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基で
ある。下記グループの式Ｉ１ａ〜Ｉ８ａで表わされる化
合物はまた、特に好適な化合物として挙げられる：
Ａ1、ｎ、ｍおよびＹは上記定義のとおりであり、Ｌ1、
Ｌ2およびＬ3はそれぞれ相互に独立して、ＦまたはＨで
あり、そしてＲ2は炭素原子１〜１０個を有するアルキ
ル基または炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基で
ある。下記グループの式Ｉ１ａ〜Ｉ８ａで表わされる化
合物はまた、特に好適な化合物として挙げられる：
【００３０】
【化２４】
【００３１】
【化２５】
【００３２】上記各式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｚ1、Ｚ2、
Ａ1、ｎ、ｍおよびＹは上記定義のとおりであり、Ｌ1、
Ｌ2およびＬ3はそれぞれ相互に独立して、ＦまたはＨで
あり、そしてＲ2は炭素原子１〜１０個を有するアルキ
ル基または炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基で
ある。式Ｉで表わされる化合物の全部において、フルオ
ロシクロヘキサン単位に存在するフッ素原子はアキシャ
ルな位置にあり、一方他の置換基は相互にトランス−配
置にある。この関係は、一例として下記式Ｉ４ａおよび
Ｉ５ａで表わされる化合物を引用して例示することがで
きる：
Ａ1、ｎ、ｍおよびＹは上記定義のとおりであり、Ｌ1、
Ｌ2およびＬ3はそれぞれ相互に独立して、ＦまたはＨで
あり、そしてＲ2は炭素原子１〜１０個を有するアルキ
ル基または炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基で
ある。式Ｉで表わされる化合物の全部において、フルオ
ロシクロヘキサン単位に存在するフッ素原子はアキシャ
ルな位置にあり、一方他の置換基は相互にトランス−配
置にある。この関係は、一例として下記式Ｉ４ａおよび
Ｉ５ａで表わされる化合物を引用して例示することがで
きる：
【００３３】
【化２６】 各式中、Ｒ1 およびＹは上記定義のとおりである。
【００３４】前記および後記の式中に存在するＲ1がア
ルキル基および（または）アルコキシ基である場合に、
この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。こ
の基は好ましくは、直鎖状であって、炭素原子２個、３
個、４個、５個、６個または７個を有し、従って好まし
くは、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ、ヘキソキシまたはヘプトキシであり、さらにま
たメチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、メ
トキシ、オクトキシ、ノノキシ、デコキシ、ウンデコキ
シ、ドデコキシ、トリデコキシまたはテトラデコキシで
あることができる。
ルキル基および（または）アルコキシ基である場合に、
この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。こ
の基は好ましくは、直鎖状であって、炭素原子２個、３
個、４個、５個、６個または７個を有し、従って好まし
くは、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ、ヘキソキシまたはヘプトキシであり、さらにま
たメチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、メ
トキシ、オクトキシ、ノノキシ、デコキシ、ウンデコキ
シ、ドデコキシ、トリデコキシまたはテトラデコキシで
あることができる。
【００３５】オキサアルキルは好ましくは、直鎖状の２
−オキサプロピル（＝メトキシメチル）、２−（＝エト
キシメチル）または３−オキサブチル（＝２- メトキシ
エチル）、２−、３−または４−オキサペンチル、２
−、３−、４−または５−オキサヘキシル、２−、３
−、４−、５−または６−オキサヘプチル、２−、３
−、４−、５−、６−または７−オキサオクチル、２
−、３−、４−、５−、６−、７−または８−オキサノ
ニルあるいは２−、３−、４−、５−、６−、７−、８
−または９−オキサデシルである。
−オキサプロピル（＝メトキシメチル）、２−（＝エト
キシメチル）または３−オキサブチル（＝２- メトキシ
エチル）、２−、３−または４−オキサペンチル、２
−、３−、４−または５−オキサヘキシル、２−、３
−、４−、５−または６−オキサヘプチル、２−、３
−、４−、５−、６−または７−オキサオクチル、２
−、３−、４−、５−、６−、７−または８−オキサノ
ニルあるいは２−、３−、４−、５−、６−、７−、８
−または９−オキサデシルである。
【００３６】Ｒ1がアルキル基であって、この基中に存
在する１個のＣＨ2が−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えら
れている場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状である
ことができる。この基は好ましくは、直鎖状であって、
炭素原子２〜１０個を有する。従って、この基は特に、
ビニル、プロプ−１−または−２−エニル、ブト−１
−、−２−または−３−エニル、ペント−１−、−２
−、−３−または−４−エニル、ヘキシ−１−、−２
−、−３−、−４−または−５−エニル、ヘプト−１
−、−２−、−３−、−４−、−５−または−６−エニ
ル、オクト−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、
−６−または−７−エニル、ノン−１−、−２−、−３
−、−４−、−５−、−６−、−７−または−８−エニ
ル、あるいはデク−１−、−２−、−３−、−４−、−
５−、−６−、−７−、−８−または−９−エニルであ
る。
在する１個のＣＨ2が−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えら
れている場合に、この基は直鎖状または分枝鎖状である
ことができる。この基は好ましくは、直鎖状であって、
炭素原子２〜１０個を有する。従って、この基は特に、
ビニル、プロプ−１−または−２−エニル、ブト−１
−、−２−または−３−エニル、ペント−１−、−２
−、−３−または−４−エニル、ヘキシ−１−、−２
−、−３−、−４−または−５−エニル、ヘプト−１
−、−２−、−３−、−４−、−５−または−６−エニ
ル、オクト−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、
−６−または−７−エニル、ノン−１−、−２−、−３
−、−４−、−５−、−６−、−７−または−８−エニ
ル、あるいはデク−１−、−２−、−３−、−４−、−
５−、−６−、−７−、−８−または−９−エニルであ
る。
【００３７】Ｒ1 がアルキル基であって、この基中に存
在する１個のＣＨ2基が−Ｏ−により置き換えられてい
る場合、および１個のＣＨ2基が−ＣＯ−により置き換
えられている場合に、これらの基は好ましくは、隣接し
ている。従って、これらの基は１個のアシルオキシ基−
ＣＯ−Ｏ−または１個のオキシカルボニル基−Ｏ−ＣＯ
−を含有する。これらの基は好ましくは、直鎖状であっ
て、炭素原子２〜６個を有する。従って、この基は特
に、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキ
シ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセト
キシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキ
シメチル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセトキシ
エチル、２−プロピオニルオキシエチル、２−ブチリル
オキシエチル、３−アセトキシプロピル、３−プロピオ
ニルオキシプロピル、４−アセトキシブチル、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メト
キシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プ
ロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチ
ル、２−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキ
シカルボニル）エチル、２−（プロポキシカルボニル）
エチル、３−（メトキシカルボニル）プロピル、３−
（エトキシカルボニル）プロピルまたは４−（メトキシ
カルボニル）ブチルである。
在する１個のＣＨ2基が−Ｏ−により置き換えられてい
る場合、および１個のＣＨ2基が−ＣＯ−により置き換
えられている場合に、これらの基は好ましくは、隣接し
ている。従って、これらの基は１個のアシルオキシ基−
ＣＯ−Ｏ−または１個のオキシカルボニル基−Ｏ−ＣＯ
−を含有する。これらの基は好ましくは、直鎖状であっ
て、炭素原子２〜６個を有する。従って、この基は特
に、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキ
シ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセト
キシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキ
シメチル、ペンタノイルオキシメチル、２−アセトキシ
エチル、２−プロピオニルオキシエチル、２−ブチリル
オキシエチル、３−アセトキシプロピル、３−プロピオ
ニルオキシプロピル、４−アセトキシブチル、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メト
キシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プ
ロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチ
ル、２−（メトキシカルボニル）エチル、２−（エトキ
シカルボニル）エチル、２−（プロポキシカルボニル）
エチル、３−（メトキシカルボニル）プロピル、３−
（エトキシカルボニル）プロピルまたは４−（メトキシ
カルボニル）ブチルである。
【００３８】Ｒ1がアルキル基であって、この基中に存
在する１個のＣＨ2基が未置換または置換基を有する−
ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられている場合、および隣
接するＣＨ2基がＣＯまたはＣＯ−ＯまたはＯ−ＣＯに
より置き換えられている場合に、この基は直鎖状または
分枝鎖状であることができる。この基は好ましくは、直
鎖状であつて、炭素原子４〜１３個を有する。従って、
この基は特に、アクリロイルオキシメチル、２−アクリ
ロイルオキシエチル、３−アクリロイルオキシプロピ
ル、４−アクリロイルオキシブチル、５−アクリロイル
オキシペンチル、６−アクリロイルオキシヘキシル、７
−アクリロイルオキシヘプチル、８−アクリロイルオキ
シオクチル、９−アクリロイルオキシノニル、１０−ア
クリロイルオキシデシル、メタアクリロイルオキシメチ
ル、２−メタアクリロイルオキシエチル、３−メタアク
リロイルオキシプロピル、４−メタアクリロイルオキシ
ブチル、５−メタアクリロイルオキシペンチル、６−メ
タアクリロイルオキシヘキシル、７−メタアクリロイル
オキシヘプチル、８−メタアクリロイルオキシオクチル
および９−メタアクリロイルオキシノニルである。
在する１個のＣＨ2基が未置換または置換基を有する−
ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられている場合、および隣
接するＣＨ2基がＣＯまたはＣＯ−ＯまたはＯ−ＣＯに
より置き換えられている場合に、この基は直鎖状または
分枝鎖状であることができる。この基は好ましくは、直
鎖状であつて、炭素原子４〜１３個を有する。従って、
この基は特に、アクリロイルオキシメチル、２−アクリ
ロイルオキシエチル、３−アクリロイルオキシプロピ
ル、４−アクリロイルオキシブチル、５−アクリロイル
オキシペンチル、６−アクリロイルオキシヘキシル、７
−アクリロイルオキシヘプチル、８−アクリロイルオキ
シオクチル、９−アクリロイルオキシノニル、１０−ア
クリロイルオキシデシル、メタアクリロイルオキシメチ
ル、２−メタアクリロイルオキシエチル、３−メタアク
リロイルオキシプロピル、４−メタアクリロイルオキシ
ブチル、５−メタアクリロイルオキシペンチル、６−メ
タアクリロイルオキシヘキシル、７−メタアクリロイル
オキシヘプチル、８−メタアクリロイルオキシオクチル
および９−メタアクリロイルオキシノニルである。
【００３９】Ｒ1がアルキル基またはアルケニル基であ
って、１個のＣＮまたはＣＦ3により置換されている場
合に、この基は好ましくは、直鎖状であり、ＣＮまたは
ＣＦ3による置換は、ω−位置にある。Ｒ1がアルキル基
またはアルケニル基であって、少なくとも１個のハロゲ
ンにより置換されている場合に、この基は好ましくは、
直鎖状であり、そしてハロゲンは好ましくは、Ｆまたは
Ｃｌである。多置換されている場合に、ハロゲンは好ま
しくは、Ｆである。この生成基はまた、過フッ素化され
ている基が包含される。１個の置換基を有する場合に、
このフッ素または塩素置換基はいずれか所望の位置に存
在することができるが、好ましくはω−位に存在する。
って、１個のＣＮまたはＣＦ3により置換されている場
合に、この基は好ましくは、直鎖状であり、ＣＮまたは
ＣＦ3による置換は、ω−位置にある。Ｒ1がアルキル基
またはアルケニル基であって、少なくとも１個のハロゲ
ンにより置換されている場合に、この基は好ましくは、
直鎖状であり、そしてハロゲンは好ましくは、Ｆまたは
Ｃｌである。多置換されている場合に、ハロゲンは好ま
しくは、Ｆである。この生成基はまた、過フッ素化され
ている基が包含される。１個の置換基を有する場合に、
このフッ素または塩素置換基はいずれか所望の位置に存
在することができるが、好ましくはω−位に存在する。
【００４０】分枝鎖状側鎖基Ｒ1を有する式Ｉで表わさ
れる化合物は、これらが慣用の液晶基材中で良好な溶解
性を有することから、場合により重要であるが、特にこ
れらが光学活性である場合に、カイラルドーピング剤と
して重要である。この種のスメクティック化合物は、強
誘電性材料用の成分として適している。
れる化合物は、これらが慣用の液晶基材中で良好な溶解
性を有することから、場合により重要であるが、特にこ
れらが光学活性である場合に、カイラルドーピング剤と
して重要である。この種のスメクティック化合物は、強
誘電性材料用の成分として適している。
【００４１】この種の分枝鎖状基は一般に、１個よりも
多くない側鎖を有する。好適な分枝鎖状基Ｒ1は、イソ
プロピル、２−ブチル（＝１−メチルプロピル）、イソ
ブチル（＝２−メチルプロピル）、２−メチルブチル、
イソペンチル（＝３−メチルブチル）、２−メチルペン
チル、３−メチルペンチル、２−エチルヘキシル、２−
プロピルペンチル、イソプロポキシ、２−メチルプロポ
キシ、２−メチルブトキシ、３−メチルブトキシ、２−
メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、２−エチル
ヘキソキシ、１−メチルヘキソキシおよび１−メチルヘ
プトキシである。式Ｉは、これらの化合物のラセミ体お
よび光学対掌体およびまたその混合物を包含する。式Ｉ
およびその付属式で表わされる化合物の中で、その分子
中に存在する基の少なくとも１個が前記の好適な意味の
一つを有する化合物は好ましい化合物として挙げられ
る。
多くない側鎖を有する。好適な分枝鎖状基Ｒ1は、イソ
プロピル、２−ブチル（＝１−メチルプロピル）、イソ
ブチル（＝２−メチルプロピル）、２−メチルブチル、
イソペンチル（＝３−メチルブチル）、２−メチルペン
チル、３−メチルペンチル、２−エチルヘキシル、２−
プロピルペンチル、イソプロポキシ、２−メチルプロポ
キシ、２−メチルブトキシ、３−メチルブトキシ、２−
メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、２−エチル
ヘキソキシ、１−メチルヘキソキシおよび１−メチルヘ
プトキシである。式Ｉは、これらの化合物のラセミ体お
よび光学対掌体およびまたその混合物を包含する。式Ｉ
およびその付属式で表わされる化合物の中で、その分子
中に存在する基の少なくとも１個が前記の好適な意味の
一つを有する化合物は好ましい化合物として挙げられ
る。
【００４２】式Ｉで表わされる化合物において、好適な
立体異性体は、その分子中に存在する環Ｃｙｃとピペリ
ジンとがトランス−１，４−ジ置換されている化合物で
ある。前記式において、その分子中に１個または２個以
上のＰｙｄ、Ｐｙｒおよび（または）Ｄｉｏ基を有する
化合物はそれぞれ、２種の２，５−位置異性体を包含す
る。式Ｉで表わされる化合物の若干の非常に特に好適な
小さいグループは下記付属式Ｉ１７〜Ｉ４２で表わされ
る：
立体異性体は、その分子中に存在する環Ｃｙｃとピペリ
ジンとがトランス−１，４−ジ置換されている化合物で
ある。前記式において、その分子中に１個または２個以
上のＰｙｄ、Ｐｙｒおよび（または）Ｄｉｏ基を有する
化合物はそれぞれ、２種の２，５−位置異性体を包含す
る。式Ｉで表わされる化合物の若干の非常に特に好適な
小さいグループは下記付属式Ｉ１７〜Ｉ４２で表わされ
る：
【００４３】
【化２７】
【００４４】
【化２８】
【００４５】
【化２９】
【００４６】
【化３０】
【００４７】上記各式中、Ｒ1、Ｒ2 、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ4、
ｎおよびＹは上記定義のとおりである。このグループか
らの非常に特に好ましい化合物は、式Ｉ１７、Ｉ２６、
Ｉ２７、Ｉ３０、Ｉ３８およびＩ３９で表わされる化合
物である。式Ｉで表わされる化合物は、刊行物（例えば
Houben-WeylによるMethoden derOrganishen Chemie［有
機化学の方法］、Georg-Thieme出版社、Stuttgartなど
の標準的学術書）に記載されているようなそれ自体公知
の方法により、当該反応に適する公知の反応条件の下に
製造することができる。本明細書には詳細に記載されて
いないがそれ自体は公知である変法を使用することもで
きる。
ｎおよびＹは上記定義のとおりである。このグループか
らの非常に特に好ましい化合物は、式Ｉ１７、Ｉ２６、
Ｉ２７、Ｉ３０、Ｉ３８およびＩ３９で表わされる化合
物である。式Ｉで表わされる化合物は、刊行物（例えば
Houben-WeylによるMethoden derOrganishen Chemie［有
機化学の方法］、Georg-Thieme出版社、Stuttgartなど
の標準的学術書）に記載されているようなそれ自体公知
の方法により、当該反応に適する公知の反応条件の下に
製造することができる。本明細書には詳細に記載されて
いないがそれ自体は公知である変法を使用することもで
きる。
【００４８】式Ｉで表わされる新規なアキシャルにフッ
素化されている化合物は一般的方法によって合成するこ
とができ、これらの方法はまた、本発明の主題である。
式ＩＩ：
素化されている化合物は一般的方法によって合成するこ
とができ、これらの方法はまた、本発明の主題である。
式ＩＩ：
【化３１】 で表わされるアキシャルにフッ素化されているシクロヘ
キサン化合物を製造するためのこの方法において、式Ｉ
ＩＩ Ｒ3（ＣＨ2）q−（Ｂ）p−ＭＧ ＩＩＩ で表わされる不飽和出発化合物にフッ化水素を付加す
る。
キサン化合物を製造するためのこの方法において、式Ｉ
ＩＩ Ｒ3（ＣＨ2）q−（Ｂ）p−ＭＧ ＩＩＩ で表わされる不飽和出発化合物にフッ化水素を付加す
る。
【００４９】上記各式において、Ｂは
【化３２】 であり、
【００５０】Ｒ3 はＨであるか、または炭素原子１〜１
２個を有するアルキル基またはアルケニル基であり、こ
の基は未置換であるか、または置換基として１個のＣＮ
またはＣＦ3を有するか、または置換基として少なくと
も１個のハロゲンを有しており、これらの基中に存在す
る１個または２個以上のＣＨ2基はまたそれぞれ相互に
独立して、ヘテロ原子が相互に直接に結合しないものと
して、
２個を有するアルキル基またはアルケニル基であり、こ
の基は未置換であるか、または置換基として１個のＣＮ
またはＣＦ3を有するか、または置換基として少なくと
も１個のハロゲンを有しており、これらの基中に存在す
る１個または２個以上のＣＨ2基はまたそれぞれ相互に
独立して、ヘテロ原子が相互に直接に結合しないものと
して、
【化３３】 −Ｏ−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、ｐ
は１、２、３、４または５であり、ｑは０または１であ
り、そして
は１、２、３、４または５であり、ｑは０または１であ
り、そして
【００５１】Ｘ1 、Ｘ2およびＺ1は上記定義のとおりで
あり、そしてＭＧはメソゲン基である。この方法では、
エカトリアルにフッ素化されている化合物は生成されな
いか、または少量生成されるのみであり、特に多フッ素
化の場合に、分子内反応は生じない。「メソゲン基」の
用語は当業者に公知であり（例えば、H.Kelker、H.Hatz
によるHandbook of Liquid Crystals）、そして環員、
任意に存在する架橋基および側鎖基からなる棒状基を表
わす。Ｂが１つ以上存在する場合に、これらはそれぞれ
同一または相違する意味を有することができる。
あり、そしてＭＧはメソゲン基である。この方法では、
エカトリアルにフッ素化されている化合物は生成されな
いか、または少量生成されるのみであり、特に多フッ素
化の場合に、分子内反応は生じない。「メソゲン基」の
用語は当業者に公知であり（例えば、H.Kelker、H.Hatz
によるHandbook of Liquid Crystals）、そして環員、
任意に存在する架橋基および側鎖基からなる棒状基を表
わす。Ｂが１つ以上存在する場合に、これらはそれぞれ
同一または相違する意味を有することができる。
【００５２】ＭＧは好ましくは、下記の基である：
【化３４】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2、Ａ1、Ｚ2、ｍおよびＹは上記定義の
とおりである）。ｐは好ましくは、１、２または３であ
り、そしてｑは好ましくは、０である。
とおりである）。ｐは好ましくは、１、２または３であ
り、そしてｑは好ましくは、０である。
【００５３】分子状フッ素との反応による対応するシク
ロヘキサン化合物からのフルオロシクロヘキサン化合物
の製造は公知である（例えば、S.RozenおよびC.Galによ
るJ.Org.Chem.,52(1987)2769)。しかしながら、この反
応は低収率をもたらすのみである。さらにまた、フッ素
は極めて反応性であることから、官能性化された出発化
合物の場合に、望ましくない副反応が生じ、かつまた大
規模合成を技術的に格別に複雑にする。三級シクロヘキ
サノール化合物としてＤＡＳＴ（ジエチルアミノサルフ
ァトリフルオライド）を使用する場合に［この方法はフ
ルオロシクロヘキサン化合物の製造について種々の刊行
物（例えばＪＰ０５１２５００２、ＪＰ０５２２９９７
９）に記載されている］、その毒性、爆発性およびＤＡ
ＳＴが高価であることから、工業的規模では実行するこ
とはできない。さらにまた、フルオロシクロヘキサン化
合物は対応する不飽和出発化合物にフッ化水素を付加す
ることによって得ることができる。
ロヘキサン化合物からのフルオロシクロヘキサン化合物
の製造は公知である（例えば、S.RozenおよびC.Galによ
るJ.Org.Chem.,52(1987)2769)。しかしながら、この反
応は低収率をもたらすのみである。さらにまた、フッ素
は極めて反応性であることから、官能性化された出発化
合物の場合に、望ましくない副反応が生じ、かつまた大
規模合成を技術的に格別に複雑にする。三級シクロヘキ
サノール化合物としてＤＡＳＴ（ジエチルアミノサルフ
ァトリフルオライド）を使用する場合に［この方法はフ
ルオロシクロヘキサン化合物の製造について種々の刊行
物（例えばＪＰ０５１２５００２、ＪＰ０５２２９９７
９）に記載されている］、その毒性、爆発性およびＤＡ
ＳＴが高価であることから、工業的規模では実行するこ
とはできない。さらにまた、フルオロシクロヘキサン化
合物は対応する不飽和出発化合物にフッ化水素を付加す
ることによって得ることができる。
【００５４】この方法は、加圧下にフッ化水素を用いる
ことによって、またはアミン／フッ化水素付加物を用い
ることによって達成することができる（例えば、A.V.Gr
osseおよびC.B.LinnによるJ.Org.Chem.,3(1938)26;G.A.
Olah、M.NojimaおよびI.KerekesによるSynthesis(1973),
779;G.A.Olah、X-Y.Li、Q.WangおよびG.K.S.Prakashによ
るSynthesis(1993)693)。しかしながら、一般に、適宜
に置換されている二重結合を有する出発化合物へのフッ
化水素の付加は、生成物の均一な配置を予想させるもの
ではない。すなわち、この式Ｉで表わされる化合物の製
造において、アキシャルにフッ素化された生成物および
エカトリアルにフッ素化された生成物の両方が生成さ
れ、従って所望のアキシャルにフッ素化された生成物の
収率は非常に低くなるものと言うことができる。
ことによって、またはアミン／フッ化水素付加物を用い
ることによって達成することができる（例えば、A.V.Gr
osseおよびC.B.LinnによるJ.Org.Chem.,3(1938)26;G.A.
Olah、M.NojimaおよびI.KerekesによるSynthesis(1973),
779;G.A.Olah、X-Y.Li、Q.WangおよびG.K.S.Prakashによ
るSynthesis(1993)693)。しかしながら、一般に、適宜
に置換されている二重結合を有する出発化合物へのフッ
化水素の付加は、生成物の均一な配置を予想させるもの
ではない。すなわち、この式Ｉで表わされる化合物の製
造において、アキシャルにフッ素化された生成物および
エカトリアルにフッ素化された生成物の両方が生成さ
れ、従って所望のアキシャルにフッ素化された生成物の
収率は非常に低くなるものと言うことができる。
【００５５】この結果は多フッ素化の場合に特に不利で
ある。２以上の二重結合を有する化合物は酸触媒反応に
おいて分子内炭素−炭素結合を形成する傾向を有するこ
とが知られている。従って、２以上の二重結合を有する
出発化合物の多フッ素化の場合に、フッ化水素の付加は
追加の望ましくない副生成物の生成をもたらし、これに
よってアキシャルにフッ素化された生成物の収率は減少
されるものと予想しなければならない。式ＩＩで表わさ
れるアキシャルにフッ素化されたシクロヘキサン化合物
を、上記の欠点を伴うことなくいかにすれば製造するこ
とができるかについて開示している刊行物はない。従っ
て、本発明のもう一つの目的は、エカトリアルにフッ素
化されている化合物を生成させないか、あるいは少量で
のみ生成させ、かつまた多フッ素化の場合に、分子内反
応を生じさせない、式ＩＩで表わされるアキシャルにフ
ッ素化されたシクロヘキサン化合物の製造方法を提供す
ることにある。この製造はできるだけ危険を伴わないも
のであるべきであり、経済的であるべきであり、かつま
た大規模工業規模で環境適応性であるべきである。
ある。２以上の二重結合を有する化合物は酸触媒反応に
おいて分子内炭素−炭素結合を形成する傾向を有するこ
とが知られている。従って、２以上の二重結合を有する
出発化合物の多フッ素化の場合に、フッ化水素の付加は
追加の望ましくない副生成物の生成をもたらし、これに
よってアキシャルにフッ素化された生成物の収率は減少
されるものと予想しなければならない。式ＩＩで表わさ
れるアキシャルにフッ素化されたシクロヘキサン化合物
を、上記の欠点を伴うことなくいかにすれば製造するこ
とができるかについて開示している刊行物はない。従っ
て、本発明のもう一つの目的は、エカトリアルにフッ素
化されている化合物を生成させないか、あるいは少量で
のみ生成させ、かつまた多フッ素化の場合に、分子内反
応を生じさせない、式ＩＩで表わされるアキシャルにフ
ッ素化されたシクロヘキサン化合物の製造方法を提供す
ることにある。この製造はできるだけ危険を伴わないも
のであるべきであり、経済的であるべきであり、かつま
た大規模工業規模で環境適応性であるべきである。
【００５６】式ＩＩＩで表わされる対応する不飽和出発
化合物にフッ化水素を付加することによって、式ＩＩで
表わされるアキシャルにフッ素化されたシクロヘキサン
化合物を製造した場合に、エカトリアルにフッ素化化合
物は生成されないか、あるいは少量でのみ生成され、か
つまた多フッ素化の場合に、分子内反応が生じないこと
が見出された。この方法は実施が簡単である、すなわち
式ＩＩＩで表わされる出発化合物を純粋物質としてまた
は適当な溶媒中で、−７８℃〜＋５０℃、好ましくは−
３０℃〜＋４０℃の温度において反応させる。相違する
位置に二重結合を有する式ＩＩＩで表わされる化合物の
混合物から出発することもできる。好適溶媒は、ハロゲ
ン化炭化水素類あるいはエーテル類、特に好ましくは、
ジクロロメタン、トリクロロメタン、トリクロロエタ
ン、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフランであ
る。
化合物にフッ化水素を付加することによって、式ＩＩで
表わされるアキシャルにフッ素化されたシクロヘキサン
化合物を製造した場合に、エカトリアルにフッ素化化合
物は生成されないか、あるいは少量でのみ生成され、か
つまた多フッ素化の場合に、分子内反応が生じないこと
が見出された。この方法は実施が簡単である、すなわち
式ＩＩＩで表わされる出発化合物を純粋物質としてまた
は適当な溶媒中で、−７８℃〜＋５０℃、好ましくは−
３０℃〜＋４０℃の温度において反応させる。相違する
位置に二重結合を有する式ＩＩＩで表わされる化合物の
混合物から出発することもできる。好適溶媒は、ハロゲ
ン化炭化水素類あるいはエーテル類、特に好ましくは、
ジクロロメタン、トリクロロメタン、トリクロロエタ
ン、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフランであ
る。
【００５７】フッ化水素は、追加の添加剤を用いること
なく低温および（または）加圧下に使用することがで
き、あるいは別法としてアミン付加物の形態で使用する
ことができる。好適アミン付加物は、ピリジン、ポリビ
ニルピリジンおよびトリアルキルアミン、例えばトリエ
チルアミンまたはトリブチルアミンの付加物である。ピ
リジン中のフッ化水素溶液は特に好ましいものとして挙
げられ、この場合のフッ化水素の重量割合は好ましく
は、当該溶液に基き７０％である。この新規方法の好適
態様として、アルケンおよびフッ化水素を１．０〜１０
のモル比で用いる態様が挙げられる。式Ｉで表わされる
化合物を製造するための出発物質は、所望により、これ
らを反応混合物から単離することなく、これらを式Ｉで
表わされる化合物に直ちにさらに変換することによっ
て、その場で生成することもできる。これらの新規化合
物は、例えば下記の反応経路に従い製造することができ
る： 経路 １：
なく低温および（または）加圧下に使用することがで
き、あるいは別法としてアミン付加物の形態で使用する
ことができる。好適アミン付加物は、ピリジン、ポリビ
ニルピリジンおよびトリアルキルアミン、例えばトリエ
チルアミンまたはトリブチルアミンの付加物である。ピ
リジン中のフッ化水素溶液は特に好ましいものとして挙
げられ、この場合のフッ化水素の重量割合は好ましく
は、当該溶液に基き７０％である。この新規方法の好適
態様として、アルケンおよびフッ化水素を１．０〜１０
のモル比で用いる態様が挙げられる。式Ｉで表わされる
化合物を製造するための出発物質は、所望により、これ
らを反応混合物から単離することなく、これらを式Ｉで
表わされる化合物に直ちにさらに変換することによっ
て、その場で生成することもできる。これらの新規化合
物は、例えば下記の反応経路に従い製造することができ
る： 経路 １：
【００５８】
【化３５】
【００５９】経路 ２：
【化３６】
【００６０】 ａ）ＲＣＨ2ＰＰｈ ３ ＋Ｂｒ-、ＫＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）エチレングリコール、触媒ＴｓＯＨ、トルエン ｃ）ＬｉＡｌＨ4、ＴＨＦ ｄ）ＰＰｈ3、ＣＢｒ4、ＣＨ3ＣＮ ｅ）ＰＰｈ3、ＤＭＰＵ ｆ）ＨＣＯＯＨ、トルエン
【００６１】経路 ３：
【化３７】
【００６２】ａ）ＫＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2
【００６３】経路 ４：
【化３８】
【００６４】ａ）ＫＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）ＰＰｈ3 、ＤＭＰＵ
【化３９】 ｄ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2
【００６５】経路 ５：
【化４０】
【００６６】ａ）ＫＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）ＰＰｈ3、ＣＨ3ＣＮ
【化４１】 ｅ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2
【００６７】経路 ６：
【化４２】
【００６８】ａ）ＴｓＯＨ／Ｈ2Ｏ ｂ）ＴｓＯＨ ｃ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2
【００６９】経路 ７：
【化４３】
【００７０】ａ）Ｈ2S+1ＣSＣＨ2ＰＰｈ３ ＋Ｂｒ- 、
ＫＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2
ＫＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2
【００７１】経路 ８：
【化４４】
【００７２】ａ）Ｈ2S+lＣSＣＨ2ＰＰｈ３ ＋Ｂｒ- 、Ｋ
ＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2 式Ｉで表わされるエステル化合物はまた、アルコール化
合物またはフェノール化合物（あるいはその反応性誘導
体）を用いて対応するカルボン酸化合物（あるいはその
反応性誘導体）をエステル化することによって、あるい
はＤＣＣ法（ＤＣＣ＝ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド）によって得ることもできる。対応するカルボン酸化
合物およびアルコール化合物またはフェノール化合物は
公知であるか、または公知方法と同様にして製造するこ
とができる。
ＯｔＢｕ、ＴＨＦ ｂ）ＨＦ／ピリジン、ＣＨ2Ｃｌ2 式Ｉで表わされるエステル化合物はまた、アルコール化
合物またはフェノール化合物（あるいはその反応性誘導
体）を用いて対応するカルボン酸化合物（あるいはその
反応性誘導体）をエステル化することによって、あるい
はＤＣＣ法（ＤＣＣ＝ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド）によって得ることもできる。対応するカルボン酸化
合物およびアルコール化合物またはフェノール化合物は
公知であるか、または公知方法と同様にして製造するこ
とができる。
【００７３】式Ｉにおいて、Ｚ1またはＺ2が−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−である化合物のもう一つの製造方法において、アリ
ールハライド化合物を三級アミンの存在およびパラジウ
ム触媒の存在の下に、オレフィンと反応させる（R.F.He
ckによるAcc.Chem.Res.,12(1979)146参照）。適当なア
リールハライド化合物の例は、クロライド、ブロマイド
およびアイオダイド、特にブロマイドおよびアイオダイ
ドである。このカプリング反応の達成に必要な三級アミ
ン、例えばトリエチルアミンなどはまた、溶媒としても
適している。適当なパラジウム触媒はパラジウム塩、特
にＰｄ（ＩＩ）アセテートおよび有機リン（ＩＩＩ）化
合物、例えばトリアリールホスフィンである。この反応
は不活性溶媒の存在または不存在下に、０℃〜１５０
℃、好ましくは２０℃〜１００℃で行うことができる。
Ｈ−である化合物のもう一つの製造方法において、アリ
ールハライド化合物を三級アミンの存在およびパラジウ
ム触媒の存在の下に、オレフィンと反応させる（R.F.He
ckによるAcc.Chem.Res.,12(1979)146参照）。適当なア
リールハライド化合物の例は、クロライド、ブロマイド
およびアイオダイド、特にブロマイドおよびアイオダイ
ドである。このカプリング反応の達成に必要な三級アミ
ン、例えばトリエチルアミンなどはまた、溶媒としても
適している。適当なパラジウム触媒はパラジウム塩、特
にＰｄ（ＩＩ）アセテートおよび有機リン（ＩＩＩ）化
合物、例えばトリアリールホスフィンである。この反応
は不活性溶媒の存在または不存在下に、０℃〜１５０
℃、好ましくは２０℃〜１００℃で行うことができる。
【００７４】適当な溶媒の例は、アセトニトリルなどの
ニトリル類、あるいはベンゼンまたはトルエンなどの炭
化水素類である。出発物質として使用されるアリールハ
ライド化合物およびオレフィン化合物は多くが市販され
ており、あるいは刊行物から公知の方法によって、例え
ば対応する基本化合物のハロゲン化によって、あるいは
対応するアルコール化合物またはハロゲン化化合物を脱
離反応に付すことによって製造することができる。この
方法で、例えばスチルベン誘導体を製造することができ
る。スチルベン化合物はまた、Ｗｉｔｔｉｇ法により４
−置換ベンズアルデヒドを対応するリンイリドと反応さ
せることによって製造することもできる。しかしなが
ら、オレフィンの代わりにモノ置換アセチレンを用いる
ことによって、式Ｉで表わされるトラン化合物を製造す
ることもできる(Synthesis,627(1980)またはTetrahedro
n Lett.,27,1171(1986))。
ニトリル類、あるいはベンゼンまたはトルエンなどの炭
化水素類である。出発物質として使用されるアリールハ
ライド化合物およびオレフィン化合物は多くが市販され
ており、あるいは刊行物から公知の方法によって、例え
ば対応する基本化合物のハロゲン化によって、あるいは
対応するアルコール化合物またはハロゲン化化合物を脱
離反応に付すことによって製造することができる。この
方法で、例えばスチルベン誘導体を製造することができ
る。スチルベン化合物はまた、Ｗｉｔｔｉｇ法により４
−置換ベンズアルデヒドを対応するリンイリドと反応さ
せることによって製造することもできる。しかしなが
ら、オレフィンの代わりにモノ置換アセチレンを用いる
ことによって、式Ｉで表わされるトラン化合物を製造す
ることもできる(Synthesis,627(1980)またはTetrahedro
n Lett.,27,1171(1986))。
【００７５】さらにまた、この芳香族化合物のカプリン
グは、アリールハライド化合物とアリールスズ化合物と
の反応によって行うこともできる。これらの反応は、例
えばパラジウム（０）錯体などの触媒を添加して、炭化
水素類などの不活性溶媒中で高温において、例えば沸騰
キシレン中で、保護気体雰囲気中において行うと好まし
い。アルキニル化合物とアリールハライド化合物とのカ
プリング反応は、A.O.King、E.Negishi、F.J.Villaniおよ
びA.SilveiraによりJ.Org.Chem.,43,358(1978)に記載の
方法と同様に行うことができる。式Ｉにおいて、Ｚ1ま
たはＺ2 が−Ｃ≡Ｃ−であるトラン化合物はまた、Frits
ch-Buttenberg-Wiechell転位(Ann.,279,319,1984)によ
って製造することもでき、この場合に１，１−ジアリー
ル−２−ハロエチレンを強塩基の存在下に転位させ、ジ
アリールアセチレンを生成させる。
グは、アリールハライド化合物とアリールスズ化合物と
の反応によって行うこともできる。これらの反応は、例
えばパラジウム（０）錯体などの触媒を添加して、炭化
水素類などの不活性溶媒中で高温において、例えば沸騰
キシレン中で、保護気体雰囲気中において行うと好まし
い。アルキニル化合物とアリールハライド化合物とのカ
プリング反応は、A.O.King、E.Negishi、F.J.Villaniおよ
びA.SilveiraによりJ.Org.Chem.,43,358(1978)に記載の
方法と同様に行うことができる。式Ｉにおいて、Ｚ1ま
たはＺ2 が−Ｃ≡Ｃ−であるトラン化合物はまた、Frits
ch-Buttenberg-Wiechell転位(Ann.,279,319,1984)によ
って製造することもでき、この場合に１，１−ジアリー
ル−２−ハロエチレンを強塩基の存在下に転位させ、ジ
アリールアセチレンを生成させる。
【００７６】式Ｉで表わされるトラン化合物はまた、対
応するスチルベン化合物を臭素化し、次いでこの生成物
を脱ヒドロハロゲン化に付すことによって製造すること
もできる。この方法で、ここでは詳細に説明されていな
いが、この反応のそれ自体公知の変法を使用することも
できる。式Ｉで表わされるエーテル化合物は、対応する
ヒドロキシル化合物、好ましくは対応するフェノール化
合物のエステル化によって得られる。この場合に、ヒド
ロキシル化合物を先ず、対応する金属誘導体に変換す
る、例えばＮａＨ、ＮａＮＨ2、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｎ
ａ2ＣＯ3またはＫ2ＣＯ3で処理することによって対応す
るアルカリ金属アルコキシドまたはアルカリ金属フェノ
キシドに変換すると有利である。このアルコキシドまた
はフェノキシドは次いで、有利には例えばアセトン、
１，２−ジメトキシエタン、ＤＭＦまたはジメチルスル
ホキシドなどの不活性溶媒中で約２０℃〜１００℃の温
度において、相当するアルキルハライド、アルキルスル
ホネートまたはジアルキル硫酸と、あるいは別法とし
て、過剰量の水性または水性−アルコール性ＮａＯＨま
たはＫＯＨと反応させることができる。
応するスチルベン化合物を臭素化し、次いでこの生成物
を脱ヒドロハロゲン化に付すことによって製造すること
もできる。この方法で、ここでは詳細に説明されていな
いが、この反応のそれ自体公知の変法を使用することも
できる。式Ｉで表わされるエーテル化合物は、対応する
ヒドロキシル化合物、好ましくは対応するフェノール化
合物のエステル化によって得られる。この場合に、ヒド
ロキシル化合物を先ず、対応する金属誘導体に変換す
る、例えばＮａＨ、ＮａＮＨ2、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｎ
ａ2ＣＯ3またはＫ2ＣＯ3で処理することによって対応す
るアルカリ金属アルコキシドまたはアルカリ金属フェノ
キシドに変換すると有利である。このアルコキシドまた
はフェノキシドは次いで、有利には例えばアセトン、
１，２−ジメトキシエタン、ＤＭＦまたはジメチルスル
ホキシドなどの不活性溶媒中で約２０℃〜１００℃の温
度において、相当するアルキルハライド、アルキルスル
ホネートまたはジアルキル硫酸と、あるいは別法とし
て、過剰量の水性または水性−アルコール性ＮａＯＨま
たはＫＯＨと反応させることができる。
【００７７】上記出発物質は公知であるか、または公知
化合物と同様に製造することができる。本発明による液
晶媒体は好ましくは、本発明による１種または２種以上
の化合物以外に、追加の構成成分として、２〜４０種、
好ましくは４〜３０種の成分を含有する。これらの媒体
は非常に特に好ましくは、本発明による１種または２種
以上の化合物以外に、７〜２５種の成分を含有する。こ
れらの追加の構成成分は好ましくは、ネマティックまた
はネマティック相形成性（モノトロピックまたはアイソ
トロピック）物質、特にアゾキシベンゼン化合物、ベン
ジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物、ターフェ
ニル化合物、フェニルまたはシクロヘキシルベンゾエー
ト化合物、シクロヘキサンカルボン酸のフェニルまたは
シクロヘキシルエステル化合物、シクロヘキシル安息香
酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化合物、シ
クロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のフェニルまた
はシクロヘキシルエステル化合物、安息香酸のシクロヘ
キシルフェニルエステル化合物、シクロヘキサンカルボ
ン酸のシクロヘキシルフェニルエステル化合物、シクロ
ヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のシクロヘキシルフ
ェニルエステル化合物、
化合物と同様に製造することができる。本発明による液
晶媒体は好ましくは、本発明による１種または２種以上
の化合物以外に、追加の構成成分として、２〜４０種、
好ましくは４〜３０種の成分を含有する。これらの媒体
は非常に特に好ましくは、本発明による１種または２種
以上の化合物以外に、７〜２５種の成分を含有する。こ
れらの追加の構成成分は好ましくは、ネマティックまた
はネマティック相形成性（モノトロピックまたはアイソ
トロピック）物質、特にアゾキシベンゼン化合物、ベン
ジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物、ターフェ
ニル化合物、フェニルまたはシクロヘキシルベンゾエー
ト化合物、シクロヘキサンカルボン酸のフェニルまたは
シクロヘキシルエステル化合物、シクロヘキシル安息香
酸のフェニルまたはシクロヘキシルエステル化合物、シ
クロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のフェニルまた
はシクロヘキシルエステル化合物、安息香酸のシクロヘ
キシルフェニルエステル化合物、シクロヘキサンカルボ
ン酸のシクロヘキシルフェニルエステル化合物、シクロ
ヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のシクロヘキシルフ
ェニルエステル化合物、
【００７８】フェニルシクロヘキサン化合物、シクロヘ
キシルビフェニル化合物、フェニルシクロヘキシルシク
ロヘキサン化合物、シクロヘキシルシクロヘキサン化合
物、シクロヘキシルシクロヘキシルシクロヘキセン化合
物、１，４−ビス−シクロヘキシルベンゼン化合物、
４，４´−ビス−シクロヘキシルビフェニル化合物、フ
ェニル−またはシクロヘキシル−ピリミジン化合物、フ
ェニル−またはシクロヘキシル−ピリジン化合物、フェ
ニル−またはシクロヘキシル−ジオキサン化合物、フェ
ニル−またはシクロヘキシル−１，３−ジチアン化合
物、１，２−ジフェニルエタン化合物、１，２−ジシク
ロヘキシルエタン化合物、１−フェニル−２−シクロヘ
キシルエタン化合物、１−シクロヘキシル−２−（４−
フェニルシクロヘキシル）エタン化合物、１−シクロヘ
キシル−２−ビフェニリルエタン化合物、１−フェニル
−２−シクロヘキシルフェニルエタン化合物、ハロゲン
化されていてもよいスチルベン化合物、ベンジルフェニ
ルエーテル化合物、トラン化合物および置換ケイ皮酸化
合物からなる群からの物質から選択される。これらの化
合物中に存在する、１，４−フェニレン基はまたフッ素
化されていてもよい。
キシルビフェニル化合物、フェニルシクロヘキシルシク
ロヘキサン化合物、シクロヘキシルシクロヘキサン化合
物、シクロヘキシルシクロヘキシルシクロヘキセン化合
物、１，４−ビス−シクロヘキシルベンゼン化合物、
４，４´−ビス−シクロヘキシルビフェニル化合物、フ
ェニル−またはシクロヘキシル−ピリミジン化合物、フ
ェニル−またはシクロヘキシル−ピリジン化合物、フェ
ニル−またはシクロヘキシル−ジオキサン化合物、フェ
ニル−またはシクロヘキシル−１，３−ジチアン化合
物、１，２−ジフェニルエタン化合物、１，２−ジシク
ロヘキシルエタン化合物、１−フェニル−２−シクロヘ
キシルエタン化合物、１−シクロヘキシル−２−（４−
フェニルシクロヘキシル）エタン化合物、１−シクロヘ
キシル−２−ビフェニリルエタン化合物、１−フェニル
−２−シクロヘキシルフェニルエタン化合物、ハロゲン
化されていてもよいスチルベン化合物、ベンジルフェニ
ルエーテル化合物、トラン化合物および置換ケイ皮酸化
合物からなる群からの物質から選択される。これらの化
合物中に存在する、１，４−フェニレン基はまたフッ素
化されていてもよい。
【００７９】本発明による媒体の追加の成分として適す
る最も重要な化合物は、下記式１、２、３、４および５
で表わすことができる特徴を有する： Ｒ´−Ｌ−Ｅ−Ｒ´´ １ Ｒ´−Ｌ−ＣＯＯ−Ｅ−Ｒ´´ ２ Ｒ´−Ｌ−ＯＯＣ−Ｅ−Ｒ´´ ３ Ｒ´−Ｌ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｅ−Ｒ´´ ４ Ｒ´−Ｌ−Ｃ≡Ｃ−Ｅ−Ｒ´´ ５
る最も重要な化合物は、下記式１、２、３、４および５
で表わすことができる特徴を有する： Ｒ´−Ｌ−Ｅ−Ｒ´´ １ Ｒ´−Ｌ−ＣＯＯ−Ｅ−Ｒ´´ ２ Ｒ´−Ｌ−ＯＯＣ−Ｅ−Ｒ´´ ３ Ｒ´−Ｌ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｅ−Ｒ´´ ４ Ｒ´−Ｌ−Ｃ≡Ｃ−Ｅ−Ｒ´´ ５
【００８０】式１、２、３、４および５において、Ｌお
よびＥは同一または異なっていてもよく、それぞれ相互
に独立して、−Ｐｈｅ−、−Ｃｙｃ−、−Ｐｈｅ−Ｐｈ
ｅ−、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−、−Ｐ
ｙｒ−、−Ｄｉｏ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙ
ｃ−から形成される群からの二価の基およびそれらの鏡
像基であり、これらの基において、Ｐｈｅは未置換の、
またはフッ素置換されている１，４−フェニレンであ
り、Ｃｙｃはトランス−１，４−シクロヘキシレンまた
は１，４−シクロヘキセニレンであり、Ｐｙｒはピリミ
ジン−２，５−ジイルまたはピリジン−２，５−ジイル
であり、Ｄｉｏは１，３−ジオキサン−２，５−ジイル
であり、そしてＧは２−（トランス−１，４−シクロヘ
キシル）エチル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジ
ン−２，５−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，５
−ジイルである。
よびＥは同一または異なっていてもよく、それぞれ相互
に独立して、−Ｐｈｅ−、−Ｃｙｃ−、−Ｐｈｅ−Ｐｈ
ｅ−、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−、−Ｐ
ｙｒ−、−Ｄｉｏ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙ
ｃ−から形成される群からの二価の基およびそれらの鏡
像基であり、これらの基において、Ｐｈｅは未置換の、
またはフッ素置換されている１，４−フェニレンであ
り、Ｃｙｃはトランス−１，４−シクロヘキシレンまた
は１，４−シクロヘキセニレンであり、Ｐｙｒはピリミ
ジン−２，５−ジイルまたはピリジン−２，５−ジイル
であり、Ｄｉｏは１，３−ジオキサン−２，５−ジイル
であり、そしてＧは２−（トランス−１，４−シクロヘ
キシル）エチル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジ
ン−２，５−ジイルまたは１，３−ジオキサン−２，５
−ジイルである。
【００８１】基ＬおよびＥのうちの一方は、好ましくは
Ｃｙｃ、ＰｈｅまたはＰｙｒである。Ｅは好ましくは、
Ｃｙｃ、ＰｈｅまたはＰｈｅ- Ｃｙｃである。本発明に
よる媒体は好ましくは、式１、２、３、４および５にお
いて、ＬおよびＥがＣｙｃ、ＰｈｅおよびＰｙｒからな
る群から選ばれる化合物から選択される１種または２種
以上の成分、および同時に、式１、２、３、４および５
において、基ＬおよびＥのうちの一方がＣｙｃ、Ｐｈｅ
およびＰｙｒからなる群から選ばれ、他方の基が−Ｐｈ
ｅ−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ
−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−からなる群か
ら選ばれる化合物から選択される１種または２種以上の
成分、およびまた任意に、式１、２、３、４および５に
おいて、基ＬおよびＥが−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ
−Ｃｙｃ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−から
なる群から選ばれる化合物から選択される１種または２
種以上の成分を含有する。
Ｃｙｃ、ＰｈｅまたはＰｙｒである。Ｅは好ましくは、
Ｃｙｃ、ＰｈｅまたはＰｈｅ- Ｃｙｃである。本発明に
よる媒体は好ましくは、式１、２、３、４および５にお
いて、ＬおよびＥがＣｙｃ、ＰｈｅおよびＰｙｒからな
る群から選ばれる化合物から選択される１種または２種
以上の成分、および同時に、式１、２、３、４および５
において、基ＬおよびＥのうちの一方がＣｙｃ、Ｐｈｅ
およびＰｙｒからなる群から選ばれ、他方の基が−Ｐｈ
ｅ−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ
−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−からなる群か
ら選ばれる化合物から選択される１種または２種以上の
成分、およびまた任意に、式１、２、３、４および５に
おいて、基ＬおよびＥが−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｃｙｃ
−Ｃｙｃ−、−Ｇ−Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−から
なる群から選ばれる化合物から選択される１種または２
種以上の成分を含有する。
【００８２】式１、２、３、４および５で表わされる化
合物の狭い付属群において、Ｒ´およびＲ´´はそれぞ
れ相互に独立して、８個までの炭素原子を有するアルキ
ル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ア
ルケニルオキシまたはアルカノイルオキシである。この
狭い付属群を以下でグループＡと称し、これらの化合物
を付属式１ａ、２ａ、３ａ、４ａおよび５ａで識別す
る。これらの化合物の大部分において、Ｒ´およびＲ´
´は相互に相違しており、これらの基の一方は通常、ア
ルキル、アルケニル、アルコキシまたはアルコキシアル
キルである。
合物の狭い付属群において、Ｒ´およびＲ´´はそれぞ
れ相互に独立して、８個までの炭素原子を有するアルキ
ル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ア
ルケニルオキシまたはアルカノイルオキシである。この
狭い付属群を以下でグループＡと称し、これらの化合物
を付属式１ａ、２ａ、３ａ、４ａおよび５ａで識別す
る。これらの化合物の大部分において、Ｒ´およびＲ´
´は相互に相違しており、これらの基の一方は通常、ア
ルキル、アルケニル、アルコキシまたはアルコキシアル
キルである。
【００８３】式１、２、３、４および５で表わされる化
合物のもう一つの狭い付属群はグループＢとして知られ
ており、これらの化合物において、Ｒ´´は、−Ｆ、−
Ｃｌ、−ＮＣＳまたは−（Ｏ） iＣＨ3-(k+l)ＦkＣｌ1で
ある（ここで、ｉは０または１であり、そしてｋ＋ｌは
１、２または３である）；Ｒ´´がこの意味を有する化
合物を付属式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで識別
する。付属式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで表わ
される化合物の中で、Ｒ´´が、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＮＣ
Ｓ、−ＣＦ3 、−ＯＣＨＦ2または−ＯＣＦ3である化合
物は特に好ましい化合物として挙げられる。付属式１
ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで表わされる化合物に
おいて、Ｒ´は付属式１ａ〜５ａで表わされる化合物に
ついて定義されているとおりであり、好ましくはアルキ
ル、アルケニル、アルコキシまたはアルコキシアルキル
である。
合物のもう一つの狭い付属群はグループＢとして知られ
ており、これらの化合物において、Ｒ´´は、−Ｆ、−
Ｃｌ、−ＮＣＳまたは−（Ｏ） iＣＨ3-(k+l)ＦkＣｌ1で
ある（ここで、ｉは０または１であり、そしてｋ＋ｌは
１、２または３である）；Ｒ´´がこの意味を有する化
合物を付属式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで識別
する。付属式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで表わ
される化合物の中で、Ｒ´´が、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＮＣ
Ｓ、−ＣＦ3 、−ＯＣＨＦ2または−ＯＣＦ3である化合
物は特に好ましい化合物として挙げられる。付属式１
ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで表わされる化合物に
おいて、Ｒ´は付属式１ａ〜５ａで表わされる化合物に
ついて定義されているとおりであり、好ましくはアルキ
ル、アルケニル、アルコキシまたはアルコキシアルキル
である。
【００８４】式１、２、３、４および５で表わされる化
合物のさらにもう一つの狭い付属群において、Ｒ´´
は、−ＣＮである；この付属群は下記のグループＣとし
て知られており、この付属群の化合物を対応して、付属
式１ｃ、２ｃ、３ｃ、４ｃおよび５ｃで表わす。この付
属式１ｃ、２ｃ、３ｃ、４ｃおよび５ｃで表わされる化
合物において、Ｒ´は付属式１ａ〜５ａで表わされる化
合物について定義されているとおりであり、好ましくは
アルキル、アルコキシまたはアルケニルである。グルー
プＡ、ＢおよびＣの好適化合物に加えて、提案されてい
る他の種々の置換基を有する式１、２、３、４および５
で表わされる別の化合物も慣用である。これらの物質の
全部は刊行物から公知の方法もしくはその類似方法によ
り得ることができる。
合物のさらにもう一つの狭い付属群において、Ｒ´´
は、−ＣＮである；この付属群は下記のグループＣとし
て知られており、この付属群の化合物を対応して、付属
式１ｃ、２ｃ、３ｃ、４ｃおよび５ｃで表わす。この付
属式１ｃ、２ｃ、３ｃ、４ｃおよび５ｃで表わされる化
合物において、Ｒ´は付属式１ａ〜５ａで表わされる化
合物について定義されているとおりであり、好ましくは
アルキル、アルコキシまたはアルケニルである。グルー
プＡ、ＢおよびＣの好適化合物に加えて、提案されてい
る他の種々の置換基を有する式１、２、３、４および５
で表わされる別の化合物も慣用である。これらの物質の
全部は刊行物から公知の方法もしくはその類似方法によ
り得ることができる。
【００８５】本発明による媒体は好ましくは、本発明に
よる式Ｉで表わされる化合物に加えて、グループＡおよ
び（または）グループＢおよび（または）グループＣか
ら選択される１種または２種以上の化合物を含有する。
本発明による媒体中に存在するこれらのグループからの
化合物の重量割合は好ましくは、下記のとおりである： グループＡ：０〜９０％、好ましくは２０−９０％、特
に３０−９０％、 グループＢ：０〜８０％、好ましくは１０−８０％、特
に１０−６５％、 グループＣ：０〜８０％、好ましくは５−８０％、特に
５−５０％。 本発明による特定の媒体中に存在するグループＡおよび
（または）グループＢおよび（または）グループＣの成
分の重量割合の合計は好ましくは、５％〜９０％、特に
０％〜９０％である。
よる式Ｉで表わされる化合物に加えて、グループＡおよ
び（または）グループＢおよび（または）グループＣか
ら選択される１種または２種以上の化合物を含有する。
本発明による媒体中に存在するこれらのグループからの
化合物の重量割合は好ましくは、下記のとおりである： グループＡ：０〜９０％、好ましくは２０−９０％、特
に３０−９０％、 グループＢ：０〜８０％、好ましくは１０−８０％、特
に１０−６５％、 グループＣ：０〜８０％、好ましくは５−８０％、特に
５−５０％。 本発明による特定の媒体中に存在するグループＡおよび
（または）グループＢおよび（または）グループＣの成
分の重量割合の合計は好ましくは、５％〜９０％、特に
０％〜９０％である。
【００８６】本発明による媒体は好ましくは、本発明に
よる化合物を１−４０％、特に好ましくは５−３０％の
割合で含有する。さらに好ましい媒体は、本発明による
化合物を４０％よりも多い割合で、特に４５−９０％の
割合で含有する。この媒体は好ましくは、３種、４種ま
たは５種の本発明による化合物を含有する。本発明によ
る媒体は、それ自体慣用の方法により製造することがで
きる。一般に、諸成分を、有利には高められた温度で、
相互に溶解する。液晶媒体は適当な添加剤を用いること
によって、これらの媒体を従来開示されている全ての型
式の液晶表示素子で使用することができるような方法で
本発明に従い変性することができる。この種の添加剤は
当業者に公知であり、刊行物に詳細に記載されている
（H.Kelker/R.HatzによるHandbook of Liquid Crystal
s,Verlag Chemie,Weinheim,1980）。例えば、着色ゲス
ト−ホスト系を製造するために多色性染料を添加するこ
とができ、誘電異方性、粘度および（または）ネマティ
ック相の配向を変える物質を添加することができる。
よる化合物を１−４０％、特に好ましくは５−３０％の
割合で含有する。さらに好ましい媒体は、本発明による
化合物を４０％よりも多い割合で、特に４５−９０％の
割合で含有する。この媒体は好ましくは、３種、４種ま
たは５種の本発明による化合物を含有する。本発明によ
る媒体は、それ自体慣用の方法により製造することがで
きる。一般に、諸成分を、有利には高められた温度で、
相互に溶解する。液晶媒体は適当な添加剤を用いること
によって、これらの媒体を従来開示されている全ての型
式の液晶表示素子で使用することができるような方法で
本発明に従い変性することができる。この種の添加剤は
当業者に公知であり、刊行物に詳細に記載されている
（H.Kelker/R.HatzによるHandbook of Liquid Crystal
s,Verlag Chemie,Weinheim,1980）。例えば、着色ゲス
ト−ホスト系を製造するために多色性染料を添加するこ
とができ、誘電異方性、粘度および（または）ネマティ
ック相の配向を変える物質を添加することができる。
【００８７】
【発明の実施の形態】下記の例は本発明を説明しようと
するものであり、本発明を制限するものではない。本明
細書全体をとおして、パーセントデータは重量パーセン
トである。温度は全部が摂氏度で示されている。ｍ．
ｐ．＝融点であり、ｃｌ．ｐ＝透明点である。さらにま
た、Ｃ＝結晶状態、Ｎ＝ネマティック相、Ｓ＝スメクテ
ィック相そしてＩ＝アイソトロピック相である。２種の
記号間の数字は変換温度を摂氏度で示すものである。△
ｎは光学異方性を表わす（５８９ｎｍ、２０℃）。粘度
（ｍｍ2 ／秒）は２０℃で測定した。
するものであり、本発明を制限するものではない。本明
細書全体をとおして、パーセントデータは重量パーセン
トである。温度は全部が摂氏度で示されている。ｍ．
ｐ．＝融点であり、ｃｌ．ｐ＝透明点である。さらにま
た、Ｃ＝結晶状態、Ｎ＝ネマティック相、Ｓ＝スメクテ
ィック相そしてＩ＝アイソトロピック相である。２種の
記号間の数字は変換温度を摂氏度で示すものである。△
ｎは光学異方性を表わす（５８９ｎｍ、２０℃）。粘度
（ｍｍ2 ／秒）は２０℃で測定した。
【００８８】「慣用の仕上げ処理」は、必要に応じて、
水を添加し、この混合物をメチレンクロライド、ジエチ
ルエーテルまたはトルエンにより抽出し、この有機相を
分離採取し、乾燥させ、次いで蒸発させ、この生成物を
減圧下で蒸留することによって、あるいは結晶化および
（または）クロマトグラフイによって精製することを意
味する。下記の略語を使用する： ＴＨＦ テトラヒドロフラン ＫＯｔＢｕ カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド ＲＴ 室温
水を添加し、この混合物をメチレンクロライド、ジエチ
ルエーテルまたはトルエンにより抽出し、この有機相を
分離採取し、乾燥させ、次いで蒸発させ、この生成物を
減圧下で蒸留することによって、あるいは結晶化および
（または）クロマトグラフイによって精製することを意
味する。下記の略語を使用する： ＴＨＦ テトラヒドロフラン ＫＯｔＢｕ カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド ＲＴ 室温
【００８９】例１ ビシクロヘキシル−４，４´−ジオン２９．１ｇおよび
プロピルトリフェニルホスホニウムブロマイド１２３ｇ
を、ＴＨＦ ３００ｍｌに懸濁した。この溶液を０℃に
冷却させ、次いでＴＨＦ １００ｍｌ中のカリウムｔｅ
ｒｔ−ブトキシド３６ｇを滴下して添加し、この混合物
をＲＴで一夜にわたり撹拌した。慣用の仕上げ処理に付
し、４，４´−ジプロピリデンビシクロヘキシルを得
た。 例２ ４，４´−ジプロピリデンビシクロヘキシル２５ｇを、
ジクロロメタン５０ｍｌに溶解し、この溶液を、ピリジ
ン中のフッ化水素の−２０℃に冷却した７０％溶液に、
撹拌しながら滴下して添加した。この混合物をＲＴで一
夜にわたり撹拌し、次いで例３５と同様に仕上げ処理
し、４，４´−ジフルオロ−４，４´−ジプロピルビシ
クロヘキシルを得た。対応する先駆化合物から同様にし
て、本発明による下記化合物が得られる：
プロピルトリフェニルホスホニウムブロマイド１２３ｇ
を、ＴＨＦ ３００ｍｌに懸濁した。この溶液を０℃に
冷却させ、次いでＴＨＦ １００ｍｌ中のカリウムｔｅ
ｒｔ−ブトキシド３６ｇを滴下して添加し、この混合物
をＲＴで一夜にわたり撹拌した。慣用の仕上げ処理に付
し、４，４´−ジプロピリデンビシクロヘキシルを得
た。 例２ ４，４´−ジプロピリデンビシクロヘキシル２５ｇを、
ジクロロメタン５０ｍｌに溶解し、この溶液を、ピリジ
ン中のフッ化水素の−２０℃に冷却した７０％溶液に、
撹拌しながら滴下して添加した。この混合物をＲＴで一
夜にわたり撹拌し、次いで例３５と同様に仕上げ処理
し、４，４´−ジフルオロ−４，４´−ジプロピルビシ
クロヘキシルを得た。対応する先駆化合物から同様にし
て、本発明による下記化合物が得られる：
【００９０】例３〜１６
【化４５】
【００９１】
【表１】
【００９２】例１７〜２２
【化４６】
【００９３】
【表２】
【００９４】例２３〜２９
【化４７】
【００９５】
【表３】
【００９６】例３０ メチル（４−オキソシクロヘキシル）アセテート６４．
４ｇおよびプロピルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド１３７．９ｇをＴＨＦ ５００ｍｌ中に導入し、この
混合物を窒素雰囲気下に撹拌しながら−１０℃に冷却さ
せた。ＴＨＦ４００ｍｌ中のカリウムｔｅｒｔ−ブトキ
シド４０．１７ｇの溶液を次いで、同一温度で撹拌化し
ながら滴下して添加し、この混合物を次いで、ＲＴでさ
らに２時間撹拌した。慣用の仕上げ処理に付し、メチル
（４−プロピリデンシクロヘキシル）アセテートを得
た。 例３１ 水素化リチウムアルミニウム２５．２ｇをＴＨＦ １０
０ｍｌ中に導入し、次いでＴＨＦ ２００ｍｌ中のメチ
ル（４−プロピリデンシクロヘキシル）アセテート５
４．２ｇの溶液を、この反応混合物が穏やかに沸騰して
いるような速度で撹拌しながら滴下して添加した。この
混合物を次いで、さらに３時間還流させ、ＲＴに冷却さ
せ、次いで水５０ｍｌを滴下して加水分解した。生成さ
れた沈殿が溶解されるまで１８％塩酸を次いで添加し
た。慣用の仕上げ処理に付し、２−（４−プロピリデン
シクロヘキシル）エタノールを得た（沸点：１０ｍｍＨ
ｇで１１０℃）。
４ｇおよびプロピルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド１３７．９ｇをＴＨＦ ５００ｍｌ中に導入し、この
混合物を窒素雰囲気下に撹拌しながら−１０℃に冷却さ
せた。ＴＨＦ４００ｍｌ中のカリウムｔｅｒｔ−ブトキ
シド４０．１７ｇの溶液を次いで、同一温度で撹拌化し
ながら滴下して添加し、この混合物を次いで、ＲＴでさ
らに２時間撹拌した。慣用の仕上げ処理に付し、メチル
（４−プロピリデンシクロヘキシル）アセテートを得
た。 例３１ 水素化リチウムアルミニウム２５．２ｇをＴＨＦ １０
０ｍｌ中に導入し、次いでＴＨＦ ２００ｍｌ中のメチ
ル（４−プロピリデンシクロヘキシル）アセテート５
４．２ｇの溶液を、この反応混合物が穏やかに沸騰して
いるような速度で撹拌しながら滴下して添加した。この
混合物を次いで、さらに３時間還流させ、ＲＴに冷却さ
せ、次いで水５０ｍｌを滴下して加水分解した。生成さ
れた沈殿が溶解されるまで１８％塩酸を次いで添加し
た。慣用の仕上げ処理に付し、２−（４−プロピリデン
シクロヘキシル）エタノールを得た（沸点：１０ｍｍＨ
ｇで１１０℃）。
【００９７】２−（４−プロピリデンシクロヘキシル）
エタノール４０．４ｇ、トリフェニルホスフィン６９．
５ｇおよびアセトニトリル５００ｍｌを−５℃に冷却さ
せた。アセトニトリル１００ｍｌ中のテトラブロモメタ
ン９９．５ｇを次いで、撹拌しながら添加し、この混合
物をＲＴで一夜にわたり撹拌した。溶媒を次いで除去
し、この残留物を慣用の仕上げ処理に付し、１−（２−
ブロモエチル）−４−プロピリデンシクロヘキサンを得
た。 例３３ １−（２−ブロモエチル）−４−プロピリデンシクロヘ
キサン４３．７ｇ、トリフェニルホスフィン４５．９ｇ
およびトリエチルアミン０．５ｍｌを、１，３−ジメチ
ルテトラヒドロピリミドン１１０ｍｌ中に溶解し、この
混合物を７５℃で窒素雰囲気下に一夜にわたり撹拌し
た。慣用の仕上げ処理に付し、トリフェニル［２−（４
−プロピリデンシクロヘキシル）エチル］ホスホニウム
ブロマイドを得た。
エタノール４０．４ｇ、トリフェニルホスフィン６９．
５ｇおよびアセトニトリル５００ｍｌを−５℃に冷却さ
せた。アセトニトリル１００ｍｌ中のテトラブロモメタ
ン９９．５ｇを次いで、撹拌しながら添加し、この混合
物をＲＴで一夜にわたり撹拌した。溶媒を次いで除去
し、この残留物を慣用の仕上げ処理に付し、１−（２−
ブロモエチル）−４−プロピリデンシクロヘキサンを得
た。 例３３ １−（２−ブロモエチル）−４−プロピリデンシクロヘ
キサン４３．７ｇ、トリフェニルホスフィン４５．９ｇ
およびトリエチルアミン０．５ｍｌを、１，３−ジメチ
ルテトラヒドロピリミドン１１０ｍｌ中に溶解し、この
混合物を７５℃で窒素雰囲気下に一夜にわたり撹拌し
た。慣用の仕上げ処理に付し、トリフェニル［２−（４
−プロピリデンシクロヘキシル）エチル］ホスホニウム
ブロマイドを得た。
【００９８】例３４ ４−プロピルシクロヘキサノン５７．０ｇおよびトリフ
ェニル［２−（４−プロピリデンシクロヘキシル）エチ
ル］ホスホニウムブロマイド２５．０ｇを窒素雰囲気下
にＴＨＦ １５０ｍｌ中に導入し、次いでこの混合物を
−１０℃に冷却させた。ＴＨＦ １００ｍｌ中のカリウ
ムｔｅｒｔ−ブトキシド５．６１ｇの溶液を撹拌しなが
ら滴下して添加し、この混合物をＲＴでさらに２時間撹
拌した。慣用の仕上げ処理に付し、４−［２−（４−プ
ロピルシクロヘキシリデン）エチル］プロピリデンシク
ロヘキサンを得た。
ェニル［２−（４−プロピリデンシクロヘキシル）エチ
ル］ホスホニウムブロマイド２５．０ｇを窒素雰囲気下
にＴＨＦ １５０ｍｌ中に導入し、次いでこの混合物を
−１０℃に冷却させた。ＴＨＦ １００ｍｌ中のカリウ
ムｔｅｒｔ−ブトキシド５．６１ｇの溶液を撹拌しなが
ら滴下して添加し、この混合物をＲＴでさらに２時間撹
拌した。慣用の仕上げ処理に付し、４−［２−（４−プ
ロピルシクロヘキシリデン）エチル］プロピリデンシク
ロヘキサンを得た。
【００９９】例３５ ４−［２−（４−プロピルシクロヘキシリデン）エチ
ル］プロピリデンシクロヘキサン６８．０ｇを、ジクロ
ロメタン３０ｍｌに溶解し、次いで−１５℃に冷却した
ピリジン中フッ化水素の７０％溶液を滴下して添加し
た。この混合物を１０℃で１０分間撹拌し、次いでこの
反応バッチを氷３００ｇと炭酸水素ナトリウム５０ｇと
の混合物に注ぎ入れた。ヘキサンにより抽出し、次いで
溶媒を除去した後に、残留物を短いシリカ−ゲルフリッ
トを用いて予備精製し（溶離液：石油エーテル／酢酸エ
チル １／１）、この溶離液を蒸発させ、残留物を得
た。この残留物をヘキサンから再結晶させ、１−フルオ
ロ−４−［２−（１−フルオロ−４−プロピルシクロヘ
キシル）エチル］プロピルシクロヘキサンを得た（Ｃ
７８ ＳｍＢ １０４ Ｉ、△ε −４．６、△ｎ
０．０４８）。対応する先駆化合物から同様にして、本
発明による下記の化合物が得られる： 例３６〜５１
ル］プロピリデンシクロヘキサン６８．０ｇを、ジクロ
ロメタン３０ｍｌに溶解し、次いで−１５℃に冷却した
ピリジン中フッ化水素の７０％溶液を滴下して添加し
た。この混合物を１０℃で１０分間撹拌し、次いでこの
反応バッチを氷３００ｇと炭酸水素ナトリウム５０ｇと
の混合物に注ぎ入れた。ヘキサンにより抽出し、次いで
溶媒を除去した後に、残留物を短いシリカ−ゲルフリッ
トを用いて予備精製し（溶離液：石油エーテル／酢酸エ
チル １／１）、この溶離液を蒸発させ、残留物を得
た。この残留物をヘキサンから再結晶させ、１−フルオ
ロ−４−［２−（１−フルオロ−４−プロピルシクロヘ
キシル）エチル］プロピルシクロヘキサンを得た（Ｃ
７８ ＳｍＢ １０４ Ｉ、△ε −４．６、△ｎ
０．０４８）。対応する先駆化合物から同様にして、本
発明による下記の化合物が得られる： 例３６〜５１
【０１００】
【化４８】
【０１０１】
【表４】
【０１０２】例５４〜６２
【化４９】
【０１０３】
【表６】
【０１０４】例６３〜６５
【化５０】
【０１０５】
【表８】
【０１０６】例６６〜７２
【化５１】
【０１０７】
【表９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 19/34 Ｃ０９Ｋ 19/34 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (71)出願人 591032596 Ｆｒａｎｋｆｕｒｔｅｒ Ｓｔｒ． 250, Ｄ−64293 Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｆｅｄ ｅｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅ ｒｍａｎｙ (72)発明者 ペール・キルシュ ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 樽見 和明 ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 ヨアヒム・クラウゼ ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 ロルフ・サンダー ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250 (72)発明者 アンドレアス・ルール ドイツ連邦共和国 デー−64293 ダルム シュタット フランクフルター シュトラ ーセ 250
Claims (10)
- 【請求項１】下記式Ｉで表わされるフルオロシクロヘキ
サン誘導体： 【化１】 式中、 Ｙは炭素原子１〜１０個を有するアルキル基またはアル
コキシ基であり、この基は未置換であるか、または置換
基として少なくとも１個のハロゲンを有しており、ある
いはＹは炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基また
はアルケニルオキシ基であり、この基は未置換である
か、または置換基として少なくとも１個の−ＣＮ、−Ｃ
Ｆ3または−Ｆを有しており、あるいはＹは−ＣＮ、−
Ｆ、−ＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦＣ
Ｆ3または−ＯＣＦ2ＣＦ3であり、 Ｘ1およびＸ2はそれぞれ相互に独立して、アキシャル位
置に存在するＨまたはＦであり、ただしＸ1およびＸ2
はＸ1およびＸ2により置換されている各個のシクロヘキ
サン環において同時にＨではなく、 Ｒ1 はＨであるか、または炭素原子１〜１２個または２
〜１２個をそれぞれ有するアルキル基またはアルケニル
基であり、この基は未置換であるか、または置換基とし
て１個のＣＮまたはＣＦ3を有するか、または置換基と
して少なくとも１個のハロゲンを有しており、これらの
基中に存在する１個または２個以上のＣＨ2基はまたそ
れぞれ相互に独立して、ヘテロ原子が相互に直接に結合
しないものとして、 【化２】 −Ｏ−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられていてもよく、 Ａ1は、 ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、こ
の基中に存在する１個のＣＨ2基または隣接していない
２個以上のＣＨ2基は−Ｏ−および（または）−Ｓ−に
より置き換えられていてもよく、または ｂ）１，４−フェニレン基であり、この基中に存在する
１個または２個のＣＨ基はまたＮにより置き換えられて
いてもよく、または ｃ）１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン、ピペ
リジン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイ
ル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，
２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル
からなる群からの基であり、または ｄ）１，４−シクロヘキセニレン基であり、 上記基ａ）、ｂ）およびｄ）は置換基として、ＣＮ、Ｃ
ｌまたはＦを有していてもよく、 Ｚ1およびＺ2はそれぞれ相互に独立して、−ＣＯ−Ｏ
−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ2Ｏ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2
−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−また
は単結合であり、 ｎは１、２、３または４であり、そしてｍは０、１また
は２であり、 ただしｍ＋ｎは１、２、３または４である。 - 【請求項２】式Ｉにおいて、Ｘ1 およびＸ2は、Ｘ1 およ
びＸ2により置換されている各個のシクロヘキサン環に
おいて同時にＦではないことを特徴とする、請求項１に
記載のフルオロシクロヘキサン誘導体。 - 【請求項３】式Ｉにおいて、Ｚ1は−ＣＨ2ＣＨ2−、−
ＣＨ＝ＣＨ−または単結合であることを特徴とする、請
求項１または２に記載のフルオロシクロヘキサン誘導
体。 - 【請求項４】式Ｉにおいて、Ｒ1は炭素原子１〜１０個
を有する直鎖状アルキル基またはアルコキシ基あるいは
炭素原子２〜１０個を有するアルケニル基であり、そし
てＹは炭素原子１〜１０個を有するアルキル基、炭素原
子２〜１０個を有するアルケニル基、−ＣＮ、−Ｆ、−
ＯＣＨＦ2または−ＯＣＦ3であることを特徴とする、請
求項１、２または３に記載のフルオロシクロヘキサン誘
導体。 - 【請求項５】式Ｉにおいて、Ｒ1およびＹは同時に、炭
素原子１〜１０個を有するアルキル基であり、そしてｍ
は０であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか
１項に記載のフルオロシクロヘキサン誘導体。 - 【請求項６】式ＩＩ： 【化３】 で表わされるアキシャルにフッ素化されているシクロヘ
キサン化合物の製造方法であって、式ＩＩＩ Ｒ3（ＣＨ2）q−（Ｂ）p−ＭＧ ＩＩＩ で表わされる不飽和出発化合物フッ化水素を付加するこ
とを特徴とする、前記製造方法：上記各式中、Ｂは 【化４】 であり、 Ｒ3 はＨであるか、または炭素原子１〜１２個を有する
アルキル基またはアルケニル基であり、この基は未置換
であるか、または置換基として１個のＣＮまたはＣＦ3
を有し、または置換基として少なくとも１個のハロゲン
を有しており、これらの基中に存在する１個または２個
以上のＣＨ2基はまたそれぞれ相互に独立して、ヘテロ
原子が相互に直接に結合しないものとして、 【化５】 または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−により置き換えられていてもよ
く、 ｐは１、２、３、４または５であり、 ｑは０または１であり、そしてＸ1 、Ｘ2およびＺ1は上
記定義のとおりであり、そしてＭＧはメソゲン基であ
る。 - 【請求項７】請求項１〜５に記載の式Ｉで表わされる化
合物の液晶媒体の成分としての使用。 - 【請求項８】少なくとも２種の液晶成分を含有する液晶
媒体であって、式Ｉで表わされる少なくとも１種の化合
物を含有することを特徴とする液晶媒体。 - 【請求項９】請求項８に記載の液晶媒体を含有すること
を特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項１０】請求項８に記載の液晶媒体を誘電体とし
て含有することを特徴とする電気光学表示素子。
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