JPH09117674A - 単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒、その製造方法及び塩素の製造方法 - Google Patents

単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒、その製造方法及び塩素の製造方法

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JPH09117674A
JPH09117674A JP8242318A JP24231896A JPH09117674A JP H09117674 A JPH09117674 A JP H09117674A JP 8242318 A JP8242318 A JP 8242318A JP 24231896 A JP24231896 A JP 24231896A JP H09117674 A JPH09117674 A JP H09117674A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒
を提供する。 【解決手段】 該触媒は、ＢＥＴ比表面積０．０１〜２
５０ｍ2／ｇ及び水銀加圧多孔度測定法に基づき測定し
た平均気孔直径５０〜３００,０００ｎｍを有する単一
モード又は多モード気孔寸法分布を有しており、その際 ａ）気孔容積の１０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜
１００倍である及び／又は ｂ）気孔容積の１０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜
１００倍である及び／又は ｃ）気孔容積の５０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜
１倍である及び／又は ｄ）気孔容積の５０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜
１倍である及び ｅ）気孔寸法分布の半分の高さの幅が平均気孔直径の
０．６倍より小さい。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、狭い気孔寸法分布
を有する触媒担体及び触媒、それらの製造方法及び使用
に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第５,１９１,１４４号明細書
は、熱水合成により製造される、微孔性範囲（＜２ｎ
ｍ）内で変動することができる極めて均一な気孔寸法
０．２〜１ｎｍを有するゼオライトを開示している。小
さい気孔寸法に基づき、反応することができる分子の寸
法は制限される。ＳｉＯ2バインダーはゼオライトで使
用されるので、これらのゼオライトは７００℃まで安定
であるにすぎず、４００℃以上では化学的抵抗を有して
いず、かつこれらの機械的安定性は不十分である。更
に、該ゼオライトは強酸性表面を有しており、このこと
はその使用を酸触媒反応に制限する。
【０００３】Chem． Ind．, 10 (1993) 48-49は、高熱
分解酸化物（ＳｉＯ2, Ａｌ2Ｏ3, ＴｉＯ2, ＺｒＯ2）
からハロゲン化物をオキシヒドロゲンフレーム内で反応
させることによるメソ気孔範囲（２〜５０ｎｍ）内の触
媒担体を製造する方法を開示している。該担体の気孔寸
法は１０〜７０ｎｍであり、８ｎｍ未満の範囲内の気孔
は形成されない。しかしながら、気孔分布は広い。
【０００４】Chem． Ing． Tech．, 56 (1984) 455-46
3は、メラミンをマクロ気孔形成剤として開示してい
る。しかしながら、熱分解すると亀裂形成が生じる。
【０００５】米国特許第３,７５５,２０４号明細書は、
セラミック粉末、ポリオレフィン（ポリエチレンコポリ
マー）及び可塑化剤（鉱油、ジエチレングリコール、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン）の混合物
を成形し、熱分解しかつ焼結することにより製造された
多孔質セラミック成形体を開示している。熱分解中にセ
ラミック成形体中に生じる亀裂は、可塑化剤を表面活性
剤水溶液で抽出することにより回避することができる
（西独国特許出願公開第２４５９４７５号明細書）。こ
れらは、連続気孔が熱可塑性成形によチャンネル構造と
して導入されたセラミックハネカム成形体である。
【０００６】西独国特許出願公開第２４５９４７５号明
細書は、金属粉末、ポリオレフィン及び可塑化剤を配合
しかつ可塑化剤を熱分解前に溶剤を使用して混合物から
浸出させることよりなる成形された多孔質金属構造を開
示している。
【０００７】西独国特許出願公開第４１２０６８７号明
細書は、ポリオレフィン、可塑剤及びバインダー系と混
和不能である添加物を使用して製造された多孔性の金属
又はセラミックの焼結部材を開示している。該添加物
は、ポリスチレンをベースとするビニル芳香族コポリマ
ーであり、金属とセラミック粒子の間のスペーサとして
２０〜２５０μｍの粒子寸法として導入される。添加物
粒子寸法の変更は、異なった、但し不特定の気孔寸法が
形成されることを可能にする。該気孔寸法分布はバイモ
ードでありかつ広い。それというのも、一面では、添加
物の粒子寸法分布により、かつ他面では金属又はセラミ
ック粒子間の間隙空間により気孔が形成されるからであ
る。
【０００８】欧州特許出願公開第４４４７０８号明細書
は、緻密な金属成形部材の製造方法を開示しかつ欧州特
許出願公開第４４４４７５号明細書は熱可塑性組成物の
成形を介する緻密なセラミック成形体を開示している。
【０００９】欧州特許出願公開第４１３２３１号明細書
は、緻密な無機の焼結成形部材の製造方法を開示してお
り、該方法は、焼結可能な粉末及びバインダーとしてポ
リオキシメチレン又は主成分のオキシメチレン単位を含
有するコポリマーの生の成形材料を押出又は射出成形法
により成形することよりなる。該バインダーは迅速に除
去され、亀裂を生じることも、またガス状酸又は三フッ
化ホウ素での処理によるこれらの生の部材の変形を生じ
ることもない。該バインダー不含の多孔質部材は極めて
低い機械的安定性を有し、かつ充実密度に焼結される。
この方法は、緻密な、セラミック又は金属製構造材料又
は複雑な形状を有する機能材料を製造するために使用さ
れ、これらは触媒担体又は触媒のためには適当でない。
【００１０】この製造方法を使用して、テフロン（欧州
特許出願公開第５１３５００号明細書）、ポリイミド又
は可塑化不能なポリマー（欧州特許出願公開第５１７０
２５号明細書）のような焼結可能な有機ポリマーも緻密
な部品に加工することができる。
【００１１】独国特許出願公開第４１２０６４５号明細
書から、公知方法を使用して極めて微細な粉末又はセラ
ミック粉末（粒子寸法約１μｍ）から一定の気孔分布を
有する機械的に安定な部品を再現可能に製造することは
極めて困難であることが公知である。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、前記
の欠点を排除するための解決手段を提供することであ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明によ
り、ＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ2／ｇ及び水銀
加圧多孔度測定法に基づき測定した平均気孔直径５０〜
３００,０００ｎｍを有する単一モード又は多モード気
孔寸法分布を有する新規のかつ改良された単一モード又
は多モードの触媒担体又は触媒において、 ａ）気孔容積の１０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜
１００倍である及び／又は ｂ）気孔容積の１０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜
１００倍である及び／又は ｃ）気孔容積の５０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜
１倍である及び／又は ｄ）気孔容積の５０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜
１倍である及び ｅ）気孔寸法分布の半分の高さの幅が平均気孔直径の
０．６倍より小さいことにより、及びまた Ａ） Ｉ）元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
ロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウ
ム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、
錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ア
スタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジ
ウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、
銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、イットリウム、
ランタン、アクチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフ
ニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリ
ブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニ
ウム、セリウム、プラセオジムの酸化物、窒化物、炭化
物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又はそれらの混合物か
ら選択される無機粉末及び／又は II）元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチ
モン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマ
リウム、ジスポロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、
ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、
白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジ
ウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタ
ン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガ
ン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム
の金属及び合金、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＶＣ又はそれ
らの混合物、 ＷＣ-コバルト、ＴｉＣ-コバルト、Ｔａ
Ｃ-コバルト、ＶＣ-コバルト又はそれらの混合物、及び
また炭素のうちから選択される金属性粉末及び／又は III）無機酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビ
ジウム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ
素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、
ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビ
スマス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、
鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッ
ケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
ム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウ
ム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、ア
クチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナ
ジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タン
グステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウ
ム、プラセオジム、それらの混合物から選択される金
属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸
塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸
塩、硫酸塩、セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸
塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化
物、水酸化物、ハロゲン化物、亜硫酸塩、セレン化物、
テルル化物、窒化物、硫化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチ
ルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化
物、チオシアン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オ
スニウム酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらの
アンモニウム化合物又はそれらの混合物の群から選択さ
れる活性成分及び／又は IV）テフロン又はポリイミドの群から選択される有機粉
末１５〜７０容量％、 Ｂ）ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又
はエチレン、プロピレン、１−ブテンもしくはイソブテ
ンのコポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレー
トコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、
又は Ｂ1）ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー
５０〜１００重量％と Ｂ2）平均粒子寸法１μｍ未満で、均質にＢ1）中に溶解
又は分散されたポリマー０〜５０重量％の混合物３０〜
８５容量％、の混合物３０〜８５容量％、 Ｃ）分散剤０〜１５容量％からなる混合物を成形し、３
００〜６００℃での残滓熱分解によりバインダーを除去
し、引き続き６００〜１４００℃で前焼結し、かつ所望
により、１回以上の浸漬、含浸、スプレー含浸、沈着、
ハイコーティング、ウォッシュコーティング又は噴霧乾
燥により活性成分IIIを成分Ａ）に又は前焼結した組成
物に施すことよりなり、その際バインダーの熱分解的除
去後の触媒担体又は触媒が、ＢＥＴ比表面積０．０１〜
２５０ｍ2/ｇ及び水銀圧多孔度測定法により測定した気
孔寸法分布５０〜３００．０００ｎｍを有する前記触媒
担体及び触媒の製造方法、及びまた該単一モード又は多
モードの触媒担体又は触媒を、非定常状態のディーコン
法において塩化水素から塩素を製造するため、非定常状
態オキシ水素化においてチルベンゼンの反応させること
によるスチレンの製造のため、エタノールアミンからア
ジリジンを製造するため、トリメチルシクロヘキセノン
を反応させることによるトリメチルフェノールの製造の
ため、還元、水素添加、酸化、脱水素化、酸又は塩基触
媒反応又は流動床における反応のため、ディーゼル排気
ガスから燃焼残留物を除去するため、廃ガスからＮＯｘ
を除去するため、細菌と一緒にバイオ反応器で使用する
ため及び固定した酵素又は微生物と一緒にバイオ触媒と
して使用することにより解決されることが判明した。
【００１４】本発明による触媒担体又は触媒は、有利に
はゼオライトではなくかつＢＥＴ比表面積０．０１〜２
５０ｍ2／ｇ、有利には０．１〜２００ｍ2／ｇ 、特に
有利には０．５〜１２０ｍ2／ｇ及び水銀加圧多孔度測
定法に基づき測定した平均気孔直径５０〜３００,００
０ｎｍ、有利には１００〜５０,０００ｎｍ、特に有利
には１５０〜２５,０００ｎｍを有する単一モード又は
多モード、即ちバイモード、トリモード、テトラモード
又はそれ以上のモード、有利にはバイモード、トリモー
ドの気孔寸法分布を有し、かつ ａ）気孔容積の１０〜９５％、有利には３０〜９５％、
特に有利には５０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１
００倍である及び／又は ｂ）気孔容積の１０〜８０％、有利には３０〜８０％、
特に有利には５０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１
００倍である及び／又は ｃ）気孔容積の５０〜９５％、有利には７０〜９５％、
特に有利には８0〜９５％が平均気孔直径の０．２〜１
倍である及び／又は ｄ）気孔容積の５０〜８０％、有利には６０〜８０％、
特に有利には６５〜８０％が平均気孔直径の０．８〜１
倍である及び ｅ）気孔寸法分布の半分の高さの幅が平均気孔直径の
０．６倍より小さい、即ち０．００１〜０．５９倍、有
利には０．００５〜０．４倍、特に有利には０．１〜
０．３５倍である。
【００１５】本発明による触媒担体又は触媒のうちで有
利であるのは、条件ａ）とｂ）又はａ）とｃ）又はａ）
とｄ）又はｂ）とｃ）又はｂ）とｄ）又はＣ）とｄ）が
同時に満足されているもの、特に有利であるのは、条件
ａ）、ｂ）及びｃ）、又はａ）、ｂ）及びｄ）、又は
ａ）、ｃ）及びｄ）、又はｂ）、ｃ）及びｄ）が同時に
満足されているものであり、特に有利であるのは、４つ
の全ての条件ａ）、ｂ）、ｃ）及びｄ）が同時に満足さ
れるものである。
【００１６】本発明の触媒担体又は触媒は、以下のよう
にして製造することができる：有利には加熱装置を備え
た混合装置、例えばニーダー、押出機又は剪断ローラー
押出機内で、成分Ａ）、無機、金属、有機粉末及び／又
は活性成分、次いで成分Ｃ）の分散剤を、又は先ず成分
Ｃ）、次いで成分Ａ）を、又は成分Ａ）とＣ）を一緒
に、８０〜２５０℃、有利には１００〜２２０℃、特に
有利には１２０〜２００℃で溶融状態の成分Ｂ）のポリ
マーに加える。初期（激しく）混合した組成物を、例え
ば造粒、プレス、ローリング、連続注型、押出又は射出
成形により、特に射出成形により、１２０〜２５０℃、
有利には１４０〜２２０℃、特に有利には１５０〜２０
０℃でかつ５００〜２０００バール、有利には６００〜
１８００バール、特に有利には７００〜１６００バール
の圧力で成形することができる。この場合、４０〜１６
０℃、有利には６０〜１５０℃、特に有利には８０〜１
４０℃の射出成形機温度での成形工程で、任意の所望の
形状、例えば個々の部品の堆積物、又は例えばラッシヒ
リング、サドル、星形リングの形の一体成形体、穿孔し
た及び／又はリブ付き幾何学的成形体、例えばリング、
球、直方体、立方体、円錘体、角錐体、プリズム、八面
体、円筒体、角錐台、及び円錐台のような触媒担体又は
触媒を、一般に更に成形することなく製造することが可
能である。
【００１７】１２０〜２８０℃、特に有利には１８０〜
２００℃で一体成形体を製造するために、車輪形成形
体、ハネカム形成形体、窓枠形成形体を押出成形するこ
とができる。
【００１８】成形工程後に得られた生の成形体は、３０
０〜６００℃、有利には３５０〜６００℃、特に誘導体
００〜６００℃で処理し、かつ引き続き、一般に６００
〜１４００℃、有利には６００〜１１００℃、特に有利
には６００〜８００℃で酸化条件（空気）、不活性ガス
（Ｎ2，Ａｒ，Ｈｅ）又は還元条件（Ｎ2／Ｈ2，Ａｒ／
Ｈ2）下で前焼成することにより、それらの最終的強度
及び気孔分布を有する触媒担体又は触媒に変換すること
ができる。前焼結工程は一般に安定性及び多孔質成形体
の硬度を著しく増大する。８００℃で前焼成した試料の
切断硬度は、一般に１〜８ｋｇ（８００℃）、有利には
１．５〜７ｋｇ（８００℃）、特に有利には２〜６ｋｇ
（８００℃）である。１１００℃で前焼結した試料の場
合には、２０ｋｇまでの切断硬度が達成される。吸水量
は、一般に０．０５〜５ｍｌ／ｇ、有利には０．１〜３
ｍｌ／ｇ、特に有利には０．１〜１ｍｌ／ｇであるの
で、一般に、硬度の重要な減損を伴うことなく、本発明
による触媒担体に一層活性の成分を施すことができる。
計算した活性成分吸収により、該触媒は、使用後に活性
成分を再含浸することにより容易にリサイクルすること
ができる。厳密に単一モードの気孔寸法分布に加えて、
またこのようにして多モード（バイモード、トリモー
ド、テトラモード及びそれ以上のモード）の気孔寸法分
布を製造することができる。この方法は、高強度及び高
熱又は化学的安定性を有する触媒担体及び触媒を製造す
ることを可能にする。成形体の考えられる形状は、造
粒、ローリング、プレス、押出又は射出成形により製造
することができるあらゆる形状である。該成形体は、触
媒反応器内でばらの材料として又は一体成形体の形で使
用することができる。
【００１９】本発明による触媒担体及び触媒のＢＥＴ比
表面積は、一般に０．０１〜２５０ｍ2／ｇ、有利には
０．１〜１５０ｍ2／ｇ、特に有利には１〜１００ｍ2／
ｇ、殊に２〜８ｍ2／ｇ（８００℃）である。
【００２０】平均気孔寸法は、一般に、単に使用される
粉末粒子間の間隙空間により成分Ａ）、無機、金属、有
機粉末及び／又は活性成分の粒子寸法により決定され
る。従って、平均気孔寸法及び気孔寸法分布は、使用さ
れる平均気孔寸法及び粒子寸法分布に左右される。この
ようにして、市販の金属又はセラミック粉末は、本発明
による触媒担体及び触媒のような、機械的に安定な、亀
裂不含の、単一もしくは多モード多孔質材料を製造する
ことを可能にする。従って、狭い気孔寸法分布を、所望
に応じてメソ気孔又はマクロ気孔版にセットすることが
でき、かつ一般に硬度に単分散性の気孔分布をもたら
す。
【００２１】多モードの触媒担体及び触媒を得たい場合
には、多モード寸法分布又は内部多孔性を有する粉末を
使用する。
【００２２】本発明に基づき使用される成分Ａ）の粉末
の平均粒子寸法は、一般に、粒子寸法から０〜３０％、
有利には０〜２０％、特に有利には０〜１０％により偏
移する粒子の８０％、有利には９０％、特に９５％の粒
子寸法で、５ｎｍ〜５００，０００ｎｍ、有利には３０
０〜１００,０００ｎｍ、特に有利には５００〜５０,０
００ｎｍのナノ範囲の結晶質粉末であってもよい。
【００２３】適当な成分Ａ）は、以下のものである： Ｉ）元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
ロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウ
ム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、
錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ア
スタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジ
ウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、
銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、
イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジル
コニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テ
クネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの酸化
物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又は
それらの混合物、有利には元素マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウ
ム、ケイ素、錫、鉛、アンチモン、鉄、コバルト、ニッ
ケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金、銅、
銀、金、亜鉛、イットリウム、ランタン、チタン、ジル
コニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モ
リブデン、タングステン、マンガン、セリウムの酸化
物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩又はそれらの混合物、特
に有利には元素マグネシウム、カルシウム、ストロンチ
ウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、錫、
アンチモン、コバルト、ニッケル、銅、イットリウム、
チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガンの酸
化物、窒化物、炭化物又はそれらの混合物の群から選択
される無機粉末、 II）元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチ
モン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマ
リウム、ジスプロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、
ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、
白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジ
ウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタ
ン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガ
ン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム
の金属及び合金、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＶＣ又はそれ
らの混合物、 ＷＣ-コバルト、ＴｉＣ-コバルト、Ｔａ
Ｃ-コバルト、ＶＣ-コバルト又はそれらの混合物、及び
また炭素、有利には元素ホウ素、アルミニウム、ケイ
素、錫、鉛、アンチモン、セレン、ネオジウム、サマリ
ウム、ジスプロシウム、鉄、コバルト、ラネーコバル
ト、ニッケル、ラネーニッケル、パラジウム、銅、銀、
金、亜鉛、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニ
ウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブ
デン、タングステン、マンガン、セリウム、ＷＣ、Ｔｉ
Ｃ、ＴａＣ、ＶＣの金属及び合金又はそれらの混合物、
ＷＣ-コバルト、ＴｉＣ-コバルト、ＴａＣ-コバルト、
ＶＣ-コバルト又はそれらの混合物、及びまた炭素、特
に有利には元素ホウ素、アルミニウム、ケイ素、錫、ネ
オジウム、サマリウム、ジスプロシウム、鉄、コバル
ト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、銅、
亜鉛、イットリウム、チタン、ジルコニウム、バナジウ
ム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングス
テン、マンガン、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＶＣの金属及
び合金又はそれらの混合物、 ＷＣ-コバルト、ＴｉＣ-
コバルト、ＴａＣ-コバルト、ＶＣ-コバルト又はそれら
の混合物のうちから選択される金属性粉末、 III）無機酸、特にＨ2ＳＯ4，Ｈ3ＰＯ4，ＨＮＯ3及びヘ
テロ多酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウ
ム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、
アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ
素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマ
ス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、鉄、コ
バルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、
ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、
スカンジウム、イットリウム、ランタン、アクチニウ
ム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プ
ラセオジム、それらの混合物から選択される金属、又は
それらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸
塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、
セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン
酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハ
ロゲン化物、硫化物、セレン化物、テルル化物、窒化
物、リン化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチルアセトン酸
塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化物、チオシア
ン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オスニウム酸
塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらのアンモニウ
ム化合物又はそれらの混合物、有利にはリチウム、ナト
リウム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウ
ム、ケイ素、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セ
レン、テルル、ポロニウム、鉄、コバルト、ラネーコバ
ルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウム、ロジウ
ム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、
銀、金、亜鉛、イットリウム、ランタン、チタン、ジル
コニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モ
リブデン、タングステン、マンガン、レニウム、セリウ
ム、それらの混合物から選択される金属、又はそれらの
ホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸
塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸塩、硫酸塩、セレン酸
塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、ク
ロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、硫化物、
セレン化物、テルル化物、窒化物、リン化物、ヒ化物、
酢酸塩、アセチルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金
酸塩、マンガン酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、そ
れらのアンモニウム化合物又はそれらの混合物、特に有
利にはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マ
グネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、
アルミニウム、ケイ素、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビ
スマス、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウ
ム、パラジウム、白金、銅、銀、亜鉛、チタン、ジルコ
ニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリ
ブデン、タングステン、マンガン、セリウム、それらの
混合物から選択される金属、又はそれらの炭酸塩、ケイ
酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビ
スマス酸塩、硫酸塩、バナジウム酸塩、モリブデン酸
塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化物、水酸化物、ハロ
ゲン化物、硫化物、窒化物、炭化物、それらのアンモニ
ウム化合物又はそれらの混合物の群から選択される活性
成分。
【００２４】有利には、金属としてはアルミニウム、
鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、
モリブデン、亜鉛、チタン、ジルコニウム、タングステ
ン、ニオブ、クロム及び炭素の群から選択されるもの、
無機粉末としてはＡｌ2Ｏ3，ＭｇＯ，ＳｉＯ2，Ｔｉ
Ｏ2，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，Ｆｅ2Ｏ3，ＣｏＯ，Ｃ
ｏ2Ｏ3，Ｃｒ2Ｏ3，ＮｉＯ，Ｂ2Ｏ3，Ｃｅ2Ｏ3，ＣｅＯ
2，Ｐｒ2Ｏ3，Ｂ4Ｃ，ＳｉＣ，ＷＣ，ＴｉＣ，ＴａＣ，
Ｓｉ3Ｎ4，ＡｌＮ，ＢＮ，ＴｉＮ及びＺｒＮ又はそれら
の２種以上の混合物の群から選択されるもの、より有利
には、金属としては鉄、コバルト、ニッケル、クロム、
パラジウム、モリブデン及びチタンの群から選択される
もの、無機粉末としてはＳｉＣ，Ｓｉ3Ｎ4，ＢＮ， Ｂ4
Ｃ，ＷＣ，ＴｉＣ，ＴｉＮ、ＺｒＮ及びＡｌＮの群又は
それらの２種以上の混合物から選択されるものが使用さ
れ、特に有利には無機粉末としてはＳｉＣ，Ｓｉ3Ｎ4及
びそれらの混合物から選択されるものが使用される。
【００２５】担体無しの触媒を製造すべき場合には、成
分Ａ）は活性成分III）だけ、及び所望により、IV）テ
フロン又はポリイミドの群から選択される有機粉末から
なっている。
【００２６】適当な成分Ｂ）は、以下のものからなる：
ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又はエ
チレン、プロピレン、１−ブテンもしくはイソブテンの
コポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレートコ
ポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、又は Ｂ1）欧州特許出願公開第４４４４７５号明細書から公
知であるような、ポリオキシメチレンホモポリマー又は
コポリマー５０〜１００重量％、有利には７０〜９0重
量％、特に有利には８０〜８８重量％及び Ｂ2）平均粒子寸法１μｍ未満で、Ｂ1）中に均質に溶解
された又はＢ1）中に分散されたポリマー、有利にはポ
リ−１，３−ジオキソラン、ポリ−１，３−ジオキサ
ン、ポリ−１，３−ジオキセパン、特に有利にはポリ−
１，３−ジオキセパン０〜５０重量％、１０〜３0重量
％、特に有利には１２〜２５重量％の混合物。
【００２７】有機バインダーは、また、ポリアセター
ル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポ
リエチレンメチルメタクリレートのような１種以上の熱
可塑性樹脂とポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレンブタンジオールホルマール、
フタル酸エステル、エチレン-ビニルアセテート及びモ
ンタンエステルワックスのような１種以上の可塑剤との
混合物からなっていてもよい。
【００２８】適当なポリアセタールバインダーは、例え
ば、有利には１０,０００〜５０,０００の分子量を有す
るポリオキシメチレンである。ホルムアルデヒド又はト
リオキサンのホモポリマーとは別に、別の適当なバイン
ダーは、トリオキサンと、例えば環式エーテル例えばエ
チレンオキシド、及び１，３−ジオキソラン又はホルマ
ール例えば１，３−ジオキセパンとのコポリマーもしく
はそれらの混合物、又はホモポリマーのポリ−１，３−
ジオキソラン、ポリ−１，３−ジオキサン、又はポリ−
１，３−ジオキセパンであり、この場合コポリマーの量
は一般にポリマーの１０〜３０重量％である。
【００２９】更に、これらは熱可塑性バインダー、例え
ばポリエチレン、ポリメチルメタクリレートもしくはポ
リエチレン、及び分散剤もしくは滑剤例えばポリエチレ
ングリコール、ステアリン酸、脂肪アルコール、ポリビ
ニルピロリドンもしくはポリビニルアルコールのような
助剤を含有することができる。助剤の量は一般に全材料
の０．１〜１２重量％である。
【００３０】適当な成分Ｃ）は、欧州特許出願公開第４
４４４７５号明細書から公知であるような分散剤、例え
ば有機カルボン酸、アミン、アミド又はマレインイミ
ド、ステアリン酸、ポリビニルピロリドン、ポリビニル
アルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレンオキシド及びモンタンワック
ス、有利には有機カルボン酸、アミン、アミド又はマレ
インイミド、ポリエチレングリコール及びポリエチレン
オキシド、特に有利には有機カルボン酸、アミン、マレ
インイミド、ポリエチレングリコール及びポリエチレン
オキシドである。
【００３１】本発明による触媒担体又は触媒を製造する
（一緒に混合する）ために使用される混合物は、一般に
成分Ａ）１５〜７0重量％、有利には３０〜７０重量
％、特に有利には５０〜６５重量％、成分Ｂ）３０〜８
５重量％、有利には３０〜７０重量％、特に有利には３
５〜５０重量％及び成分Ｃ）０〜１５重量％、有利には
１〜１２重量％、特に有利には２〜８重量％を有するか
又はなっていてもよい。
【００３２】適当な担体材料は、ＡＩ，ＩＩ及びＩＶの
セラミック、金属又は有機粉末である。
【００３３】担体無しの触媒の場合には、活性成分を直
接粉末として使用することができ、又は、担体触媒の場
合には、これらを無機粉末Ｉ）、金属粉末ＩＩ）、有機
粉末ＩＶ）もしくはそれらの混合物に施し、引き続き担
体材料に施すか又は担体材料と一緒に配合することがで
きる。
【００３４】更に、例えばＡｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2，Ｓｉ
Ｃ，Ｓｉ3Ｎ4，Ｃもしくはそれらの混合物の無機もしく
は有機遷移もしくはホイスカーを、本発明による組成物
に添加することができる。
【００３５】本発明による製造方法においては、成分
Ａ）を一般に分散剤Ｃ）を用いて解凝集化し、かつこう
して均一な寸法にした出発粉末を比較的高い成分Ａ）含
量で有機バインダー［成分Ｂ）］に練込む。有機バイン
ダーは、粉末粒子間の一般に均一な寸法のかつ規則的に
配置された間隙空間に充満される。凝集物形成の結果と
して成分Ａ）の出発粉末内に存在するほぼ１００μｍ周
辺のマクロ気孔は、一般に解凝集化により排除される。
狭い単一モード粒子寸法分布を有する粉末を使用するこ
とにより、有機バインダー及び有機分散液の除去によ
り、粉末粒子間に極めて均一な寸法の気孔が残る。一般
に、平均気孔直径は使用粉末の平均粒子直径の２５％で
ある（［単位：ｄｍ／ｋｇ］参照）。多モードの粒子寸
法分布を使用する場合又は多孔質粉末を使用する際に
は、多モード（バイモード、トリモード、テトラモード
又はそれ以上のモード）の気孔分布を製造することもで
き、この際には気孔寸法は粉末粒子間の間隙空間により
及び粉末粒子の内部多孔度により決定される。
【００３６】本発明による触媒は、不均一の担体触媒又
は担体無し触媒であってもよい。担体無しの触媒は不活
性多孔質セラミック又は金属触媒担体に触媒活性成分も
しくは触媒活性成分の先駆物質を浸漬、含浸、噴霧含
浸、噴霧乾燥、沈着、ハイコーティング、ウォッシュコ
ーティングにより被覆することにより製造することがで
きる。
【００３７】更に、本発明は、 Ａ） Ｉ）元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
ロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウ
ム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、
錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ア
スタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジ
ウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、
銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、
イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジル
コニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テ
クネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの酸化
物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又は
それらの混合物の群から選択される無機粉末及び／又は
II）元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチ
モン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマ
リウム、ジスプロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、
ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、
白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジ
ウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタ
ン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガ
ン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム
の金属及び合金、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＶＣ又はそれ
らの混合物、 ＷＣ-コバルト、ＴｉＣ-コバルト、Ｔａ
Ｃ-コバルト、ＶＣ-コバルト又はそれらの混合物、及び
また炭素のうちから選択される金属性粉末及び／又は III）無機酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビ
ジウム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ
素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、
ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビ
スマス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、
鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッ
ケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
ム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウ
ム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、ア
クチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナ
ジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タン
グステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウ
ム、プラセオジム、それらの混合物から選択される金
属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸
塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸
塩、硫酸塩、セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸
塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化
物、水酸化物、ハロゲン化物、硫化物、セレン化物、テ
ルル化物、窒化物、リン化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチ
ルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化
物、チオシアン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オ
スニウム酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらの
アンモニウム化合物又はそれらの混合物の群から選択さ
れる活性成分及び／又は IV）テフロン又はポリイミドの群から選択される有機粉
末１５〜７０容量％、 Ｂ）ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又
はエチレン、プロピレン、１−ブテンもしくはイソブテ
ンのコポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレー
トコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、
又は Ｂ1）ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー
５０〜１００重量％と Ｂ2）平均粒子寸法１μｍ未満で、均質にＢ1）中に溶解
された又はＢ1）中に分散されたポリマー０〜５０重量
％の混合物３０〜８５容量％、 Ｃ）分散剤０〜１５容量％からなる混合物を成形し、ガ
ス状酸で１００〜１６０℃での処理、４００〜６００℃
での熱分解によりバインダーを除去し、引き続き６００
〜１４００℃で前焼結し、かつ所望により、活性成分を
成分Ａ）に又は前焼結した組成物に、１回以上の浸漬、
含浸、スプレー含浸、沈着、ハイコーティング、ウォッ
シュコーティング又は噴霧乾燥により活性成分IIIを成
分Ａ）に又は前焼結した組成物に施すことにより製造さ
れた、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒に関
し、その際バインダーの熱分解的除去後の触媒担体又は
触媒は、ＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ2/ｇ及び水
銀圧多孔度測定法により測定した気孔寸法分布５０〜３
００．０００ｎｍを有する。
【００３８】本発明による触媒担体及び触媒は、一般に
以下の目的に使用するために好適である：還元（水素添
加）、例えばアルキンの水素添加、例えばＣ2，Ｃ3，Ｃ
4混合物中のアセチレンの選択的水素添加、Ｃ4フラクシ
ョン中のビニルアセチレンの選択的水素添加及びブテン
ジオール又はブタンジオールを得るためのブチンジオー
ルの水素添加、アルケンの水素添加、例えばオキソ法に
おける不飽和化合物の水素添加、アミン化水素添加、芳
香族化合物の水素添加、ジオレフィン水素添加例えば熱
分解ガソリン中のジオレフィンの水素添加、脂肪水素添
加、水素添加脱硫例えば例えば硫化水素を得るための無
機硫黄化合物、例えばＣＯＳ，ＣＳ2，ＳＯ2及びＳxの
水素添加、芳香族化合物又はパラフィンの水素添加精
製、有機塩素化合物の水素添加、アルデヒド、カルボン
酸、カルボン酸エステル、ケトン、ニトリル、ニトロ化
合物、オキシム及びオキソ生成物の水素添加、例えばア
ニリンを得るためのニトロベンゼンの水素添加、例えば
ホワイトスプリットを製造するためのカルボニル基及び
芳香族化合物の水素添加、トリメチルヒドロキノンを得
るための水素添加、ヘキサメチレンジアミン、アクリロ
ニトリル、ＮＨ3を得るためのアジポニトリルの水素添
加、ヘキサンジオールを得るためのアジピン酸の水素添
加、シクロヘキシルヒドロペルオキシドのシクロヘキサ
ノールへの水素添加、シトロネルラールを得るための水
素添加、デヒドロリリアールからのリリアールの製造、
アンモニア又はアルカンを用いた還元による排気ガスか
らのＮＯxの除去及び合成ガスからのアルカン、オレフ
ィン、アルコール、アルデヒド及び／又はカルボン酸の
製造、アミノカプロニトリルを得るためのアジポジニト
リルの水素添加、アミノカプロニトリルを得るためのア
ジピン酸のアミン化水素添加；酸化（脱水素化）、例え
ば：アルカンの酸化例えばスチレンを得るためのエチル
ベンゼンの脱水素化又は２，６−ジメチルアニリンを得
るためのジメチルシクロヘキシルアミンの脱水素化、ア
ルケンの脱水素化、アルコールの脱水素化例えばシクロ
ヘキサノンを得るためのシクロヘキサノールの脱水素化
及びエチルヘキサノールからのエチルヘキサン酸および
エチルヘキサナールの製造、アンモ酸化例えばメタンか
らのシアン化水素の製造又はプタロジニトリルを得るた
めのｏ−キシレンのアンモ酸化、芳香族化合物のアンモ
酸化、エポキシ化、酸化性ハロゲン化、酸化性カップリ
ング、クラウス法により硫黄を得るための硫化水素含有
ガスの酸化、オキシ塩素化法による塩化ビニルの製造
（スタウファー法：Stauffer process）、二酸化硫黄を
得るための硫化水素及び／又は有機硫黄化合物の酸化、
ＳＯ2含有ガスからの接触法による硫酸の製造、ｏ−キ
シレン及び空気からの無水フタル酸の製造、炭化水素、
溶剤又はＣＯ汚染排気ガスの触媒燃焼、エチレンのオキ
シ塩素化による二塩化エチレンの製造、アクリル酸を得
るためのプロペンの酸化、メタクロレインからのメタク
リル酸の製造、イソ酪酸からのメタクリル酸の製造、キ
シリジンを得るためのＤＭＣＨＡの脱水素化及びトリメ
チルフェノール得るためのトリメチルシクロヘキサンの
脱水素化、エチレンの酸化エチレンへの酸化、ブタジエ
ンの酸化ブタジエンへの酸化、プロペンのアクロレイン
への酸化、メタクロレインのメタクリル酸への酸化；酸
性もしくは塩基性触媒反応、例えば：例えばエチレンオ
キシド又はプロピレンオキシドのアルコキシル化、例え
ばα−メトキシエチルホルムアミドからＮ−ビニルホル
ムアミドを得るための脱アルコキシル化、アルキル化、
アシル化、水和、例えばエタノールアミンからアジリジ
ンを得るための又はホルムアミドからシアン酸を得るた
めの脱水、アミン化、アルドール反応、オリゴマー化、
重合、ポリマー類似反応、環化、異性化、エステル化、
例えば蒸気及び場合によりＣＯ2を使用した天然ガスの
ガス状炭化水素の分解、プロペンのアクロレインへの酸
化、例えばＮ−ビニルホルムアミドを得るためのＮ−ホ
ルミルアラニンニトリルの離脱反応、例えばメタノール
プロピンにα−メトキシ基への付加。
【００３９】更に、１００〜１００,０００ｎｍの気孔
寸法を有するマクロ孔質担体は、ディーゼル排気ガスか
ら燃焼残渣（煤）を除去するため及びバクテリア（１〜
２μｍ）の使用と組み合わせたバイオ反応器のために適
当である。
【００４０】本発明による方法により製造される触媒担
体又は触媒は、比較的高い機械的強度を有し、かつ従っ
て特に流動床反応のために適当である。
【００４１】流動床反応は、例えばε−カプロラクタム
を得るためのシクロヘキサノンオキシムの転位反応のた
め、例えばベンゾニトリルを得るためののトルエンのア
ンモ酸化もしくはアクリロニトリルを得るためのプロペ
ンのアンモ酸化、ブテンからの無水マレイン酸の製造、
又はニトロベンゼンからのアニリンの製造のために使用
することができる。
【００４２】従って、本発明はまた、単一モード又は多
モードの触媒担体又は触媒を使用することによる非定常
状態のディーコン（Deacon）法において塩化水素から塩
素を製造する方法、単一モード又は多モードの触媒担体
又は触媒を使用することによる非定常状態オキシ脱水素
化においてエチルベンゼンの反応させることによるスチ
レンの製造方法、単一モード又は多モードの触媒担体又
は触媒を使用することによるエタノールアミンからアジ
リジンを製造する方法、単一モード又は多モードの触媒
担体又は触媒を使用することによるトリメチルシクロヘ
キセノンを反応させることによるトリメチルフェノール
の製造方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触
媒を使用することによる還元方法、単一モード又は多モ
ードの触媒担体又は触媒を使用することによる水素添加
方法、単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使
用することによる酸化方法、単一モード又は多モードの
触媒担体又は触媒を使用することによる脱水素化方法、
単一モード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用する
ことによる酸又は塩基触媒反応を実施する方法、単一モ
ード又は多モードの触媒担体又は触媒を使用することに
よる流動床反応を実施する方法、単一モード又は多モー
ドの触媒担体又は触媒を使用することによるディーゼル
排気ガスから燃焼残留物を除去する方法、単一モード又
は多モードの触媒担体又は触媒を使用することによる廃
ガスからＮＯｘを除去する方法、単一モード又は多モー
ドの触媒担体又は触媒を使用することによる細菌と一緒
にバイオ反応器で反応を実施する方法、及び固定した酵
素又は微生物と一緒にバイオ触媒として単一モード又は
多モードの触媒担体又は触媒を使用することによるバイ
オ触媒の存在化に反応を実施する方法に関する。
【００４３】本発明はまた、単一モード又は多モードの
触媒又は触媒担体を使用することによる、非定常状態の
ディーコン法において塩化水素から塩素を製造する方
法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用
することによる、非定常状態オキシ脱水素化においてス
チレンを得るためのエチルベンゼンを反応させる方法、
単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用する
ことによる、エタノールアミンからアジリジンを製造す
る方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体を
使用することによる、トリメチルフェノールを得るため
のトリメチルシクロヘキセノンを反応させる方法、単一
モード又は多モードの触媒又は触媒担体を使用すること
による還元方法、単一モード又は多モードの触媒又は触
媒担体を使用することによる水素添加方法、単一モード
又は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる
酸化方法、単一モード又は多モードの触媒又は触媒担体
を使用することによる、脱水素化方法、単一モード又は
多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、酸
又は塩基触媒反応を実施する方法、単一モード又は多モ
ードの触媒又は触媒担体を使用することによる、流動床
における反応を実施する方法、単一モード又は多モード
の触媒又は触媒担体を使用することによる、ディーゼル
排気ガスから燃焼残留物を除去する方法、単一モード又
は多モードの触媒又は触媒担体を使用することによる、
廃ガスからＮＯｘを除去する方法、単一モード又は多モ
ードの触媒又は触媒担体を使用することによる、細菌の
存在下にバイオ反応器で反応を実施する方法、固定した
酵素又は微生物と一緒に、触媒担体として単一モード又
は多モードの触媒担体を使用することによる、バイオ触
媒の存在下に反応を実施する方法に関する。
【００４４】前記において、適用される触媒担体又は触
媒は、本発明による触媒担体又は触媒である。
【００４５】
【実施例】
例１ 第Ｉ表に記載のセラミック粉末１を、平均分子量１５
０,０００を有するトリオキサンとブタンジオールホル
マール２．５重量％のポリオキシメチレンコポリマー
（ＰＯＭ／ＰＢＤＦ）からなるポリアセタールをベース
とするバインダー、並びに助剤としての平均分子量５
０,０００を有するポリブタンジオールホルマール２０
重量％及び分子量８００を有するポリエチレングリコー
ル５重量％（使用粉末に対して）と一緒に１８０℃で押
出成形して、直径４ｍｍを有する押出物を製造し、該押
出物をマッフル炉内でＮ2雰囲気下で６００℃で１時間
熱分解し、次いで空気中で種々の温度で前焼結した。操
作パラメータは、第Ｉ表に示されており、気孔半径分布
及びその他の押出物の特性は第IIIａ及びｂ表に示され
ている。
【００４６】例２ 第Ｉ表に記載のセラミック粉末２を二軸シグマニーダー
内で２２０℃で分子量１５０,０００及び密度０．９５
ｇ／ｍｌを有するポリエチレン及び分子量４００を有す
るポリエチレンオキシドを添加して混練した。グラニュ
ールをマッフル炉内でＮ2下で６００℃で１時間熱分解
し、次いで空気中で８００℃で２時間前焼結した。操作
パラメータは、第ＩＩ表に示されており、気孔半径分布
及びその他の押出物の特性は第IIIａ及びｂ表に示され
ている。
【００４７】例３ 第Ｉ表に記載のセラミック粉末３を二軸シグマニーダー
内で２００℃で分子量１００,０００及び密度１．０４
ｇ／ｍｌを有するポリエチレン及び分子量４００を有す
るポリエチレンオキシドを添加して混練した。該供給原
料を排出スクリュウを介してグラニュール化した。該グ
ラニュールを回転管型炉内でＮ2下で５００℃で０．５
時間熱分解し、次いで空気５０ｌ／ｈ下でで８００℃で
０．５時間前焼結した。操作パラメータは、第ＩＩ表に
示されており、気孔半径分布及びその他の押出物の特性
は第IIIａ及びｂ表に示されている。
【００４８】例４ 第Ｉ表に記載のセラミック粉末４を二軸シグマニーダー
内で２００℃で、Ｓｉ3Ｎ4（HC STRRCK, LC12）９０重
量％、Ｙ2Ｏ3（ HC STRRCK；グレード・ファイン）５重
量％及びＡｌ2Ｏ3（ALCOA, CT3000SG）５重量％と一緒
に分子量１５０,０００及び密度１．１７ｇ／ｍｌを有
するポリメチルメタクリレート及び分子量４００を有す
るポリエチレンオキシドを添加して混練した。該供給原
料を排出スクリュウを介してグラニュール化した。該グ
ラニュールをマッフル炉内でＮ2下で６００℃で１時間
熱分解し、次いで空気中で６００℃で２時間前焼結し
た。操作パラメータは、第ＩＩ表に示されており、気孔
半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIａ及びｂ表
に示されている。
【００４９】例５ 第Ｉ表に記載のセラミック粉末５を、平均分子量１５
０,０００を有するトリオキサンとブタンジオールホル
マール２．５重量％のポリオキシメチレンコポリマー
（ＰＯＭ／ＰＢＤＦ）からなるポリアセタールをベース
とするバインダー、並びに助剤としての平均分子量５
０,０００を有するポリブタンジオールホルマール２０
重量％及び分子量８００を有するポリエチレングリコー
ル５重量％（使用粉末に対して）と一緒に１８０℃で押
出成形して、直径４ｍｍを有する押出物を製造し、該押
出物をマッフル炉内でＮ2雰囲気下で６００℃で１時間
熱分解し、次いで空気中で８００℃で２時間前焼結し
た。操作パラメータは、第ＩＩ表に示されており、気孔
半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIａ及びｂ表
に示されている。
【００５０】例６ 第Ｉ表に記載のセラミック粉末６を、平均分子量１５
０,０００を有するトリオキサンとブタンジオールホル
マール２．５重量％のポリオキシメチレンコポリマー
（ＰＯＭ／ＰＢＤＦ）からなるポリアセタールをベース
とするバインダー、並びに助剤としての平均分子量５
０,０００を有するポリブタンジオールホルマール２０
重量％及び分子量８００を有するポリエチレングリコー
ル５重量％（使用粉末に対して）と一緒に１８０℃で押
出成形して、直径４ｍｍを有する押出物を製造し、該押
出物をマッフル炉内でＮ2雰囲気下で６００℃で１時間
熱分解し、次いで空気中で１１００℃で２時間前焼結し
た。操作パラメータは、第ＩＩ表に示されており、気孔
半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIａ及びｂ表
に示されている。
【００５１】例７ 最大１μｍを有するバイモードの粒子寸法分布を有する
第Ｉ表に記載のセラミック粉末７を、平均分子量１５
０,０００を有するトリオキサンとブタンジオールホル
マール２．５重量％のポリオキシメチレンコポリマー
（ＰＯＭ／ＰＢＤＦ）からなるポリアセタールをベース
とするバインダー、並びに助剤としての平均分子量５
０,０００を有するポリブタンジオールホルマール２０
重量％及び分子量８００を有するポリエチレングリコー
ル５重量％（使用粉末に対して）と一緒に混練し、１８
０℃で押出成形して、直径４ｍｍを有する押出物を製造
し、該押出物をマッフル炉内で窒素雰囲気下で６００℃
で１時間熱分解し、次いで空気中で８００℃で２時間前
焼結した。操作パラメータは、第ＩＩ表に示されてお
り、気孔半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIａ
及びｂ表に示されている。
【００５２】例８ 最大１μｍを有するバイモードの粒子寸法分布を有する
第Ｉ表に記載のセラミック粉末８を、平均分子量１５
０,０００を有するトリオキサンとブタンジオールホル
マール２．５重量％のポリオキシメチレンコポリマー
（ＰＯＭ／ＰＢＤＦ）からなるポリアセタールをベース
とするバインダー、並びに助剤としての平均分子量５
０,０００を有するポリブタンジオールホルマール２０
重量％及び分子量８００を有するポリエチレングリコー
ル５重量％（使用粉末に対して）と一緒に混練した。冷
却した生成物を、カッターミル内でグラニュール化し
た。該グラニュールを窒素雰囲気下で６００℃で１時間
熱分解し、次いで空気中で１１００℃で２時間前焼結し
た。操作パラメータは、第ＩＩ表に示されており、気孔
半径分布及びその他の押出物の特性は第IIIａ及びｂ表
に示されている。
【００５３】
【表１】
【００５４】
【表２】
【００５５】
【表３】
【００５６】
【表４】
【００５７】比較例Ａ Ｓｉ3Ｎ4（HC STARCK, LC12）５８６ｇをＹ2Ｏ3（HC ST
ARCK；グレードファイン）３２ｇ、α−Ａｌ2Ｏ3（ALCO
A, CT3000SG）３２ｇ、Ｈ2Ｏ １５０及びＨＮＯ3４８ｇ
と一緒に３５分間混練しかつ４５〜１５０℃で押出して
４ｍｍの押出物を得た。
【００５８】該押出物を空気中で６００，８００及び１
１００℃で焼成した。焼成中に、押出物は粉末（切断硬
度＝０ｋｇ）に崩壊した。
【００５９】比較例Ｂ ローン・ポーレンク（Rhone Poulenc）社から市販のα
−Ａｌ2Ｏ3触媒担体ＳＰＨＳ１２は、匹敵するＢＥＴ
５．４ｍ2／ｇ及び全気孔容積（ＴＰＡ）０．５１ｍｌ
／ｇで、本発明に基づき使用されかつ第IIIａ表及び第I
IIｂ表、例Ｎｏ．１ｂ及び図１ｂに示されたＡＬＣＯＡ
からのＡｌ2Ｏ3触媒担体ＣＴ3000ＳＧよりも著しく広い
気孔分布（図１３参照）を有していた。
【００６０】比較例Ｃ 通常の混練及び押出後に、ＺｒＯ2は低い硬度を有して
いる。
【００６１】ＴＯＳＯＨ社のＺｒＯ2粉末（例５の出発
物質）ＴＺ−３ＹＳ ３００ｇ及び押出助剤９ｇを、水
３１ｍｌと混合し、ニーダー内で２．５時間濃密にし、
引き続き押出機で成形して３ｍｍの充実の押出物を得
た。該押出物を１２０℃で２時間乾燥させ、引き続き空
気中で８００℃（例5と同じ焼成温度）で２時間焼成し
た。
【００６２】該充実の押出物で以下の特性が測定され
た：
【００６３】
【表５】
【００６４】比較例Ｄ 高い焼成温度でも従来のＺｒＯ2担体の著しく低い硬度 高い表面積のＺｒ（ＯＨ）4（ＢＥＴ：３１０ｍ2／ｇ）
１００ｇを押出助剤３ｇ及び水４５ｍｌと混合しかつニ
ーダー内で１．５時間混練した。このＺｒＯ2担体を押
出により成形するための試みは成功しなかった。それと
いうのも、該押出物は乾燥過程で再び粉末に崩壊したか
らである（切断硬度＝０ｋｇ）。従って、押出成形して
ない混練した組成物を５００℃で２時間焼成した。５０
０℃で焼成した後の粉末のＢＥＴ表面積は、６８．９ｍ
2／ｇであった。８００℃で２時間焼成した後の粉末の
ＢＥＴ表面積は、１１．２ｍ2／ｇであった。
【００６５】例９［非定常状態のディーコン（Deacon）
法］ 触媒１ Ｓｉ3Ｎ4担体上のＣｕ-Ｋ-Ｆｅ-Ｎａ Ｓｉ3Ｎ4担体の製造 Ｓｉ3Ｎ4（HC STARCK；LC12）９００ｇと、Ｙ2Ｏ3（HC
STARCK；グレードファイン）５０ｇ及びＡｌ2Ｏ3（ALCO
A；CT3000SG）５０ｇとを、平均分子量１５０,０００を
有するトリオキサンとブタンジオールホルマール２．５
重量％のポリオキシメチレンコポリマー（ＰＯＭ／ＰＢ
ＤＦ）２７６ｇからなるポリアセタールをベースとする
バインダー、並びに助剤としての平均分子量５０,００
０を有するポリブタンジオールホルマール６９ｇ及び分
子量８００を有するポリエチレングリコール５０ｇと一
緒に１８０℃で混練し、グラニュール化し、かつマッフ
ル炉内でＮ2下に６００℃で２時間熱分解しかつ１００
０℃で２時間前焼成した。ＢＥＴ表面積２２．３ｍ2／
ｇ及び吸水度０．６ｍｌ／ｇを有するＳｉ3Ｎ4担体が得
られた。
【００６６】Ｓｉ3Ｎ4の含浸 Ｓｉ3Ｎ4担体に、その都度蒸留水に溶解させたＣｕＣｌ
2・２Ｈ2Ｏ ７．０６ｇ、ＫＣｌ ５．５８ｇ、ＮａＣｌ
５．５８ｇ及びＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ ９．２９ｇの溶液
６７．８ｍｌを２回（全溶液１３５．６ｍｌ）を含浸さ
せ、１２０℃で１６時間乾燥させ（それぞれの含浸工程
後に）かつ４５０℃で３時間焼成した。このようにし
て、ＢＥＴ表面積９．９３ｍ2／ｇを有する褐色のグラ
ニュールが得られた。突固め密度は０．９７８ｇ／ｍｌ
（粒子寸法０．５〜１ｍｍ）であった。
【００６７】更なるＦｅＣｌ3-ＮａＣｌ溶液での含浸 予め含浸したＳｉ3Ｎ4担体２５ｇに、再度水１５．９ｍ
ｌ中のＮａＣｌ １．３９ｇ及びＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ
２．２１ｇの溶液をを含浸させ、１２０℃で１６時間乾
燥させかつ４５０℃で３時間焼成した。該触媒の突固め
密度は０．９９５ｇ／ｍｌ（粒子寸法０．５〜１ｍｍ）
であった。該触媒は、銅１．８重量％及び鉄３重量％を
含有していた。
【００６８】触媒２ Ｓｉ3Ｎ4担体上のＣｕ-Ｋ-Ｆｅ-Ｎａ Ｓｉ3Ｎ4担体の製造 ＳｉＣ（HC STARCK；UF15）１０００ｇを、 平均分子量
１５０,０００を有するトリオキサンとブタンジオール
ホルマール２．５重量％のポリオキシメチレンコポリマ
ー（ＰＯＭ／ＰＢＤＦ）２８１ｇからなるポリアセター
ルをベースとするバインダー、並びに助剤としての平均
分子量５０,０００を有するポリブタンジオールホルマ
ール７０ｇ及び分子量８００を有するポリエチレングリ
コール５０ｇと一緒に１８０℃で混練し、ロールミル上
で溶解させて厚さ０．５ｍｍのシートに加工し、小板に
破砕し、かつこれらを回転管型炉内でＮ2下に６００℃
で２時間熱分解しかつ前焼成した。ＢＥＴ表面積２２．
３ｍ2／ｇ及び吸水度０．３５ｍｌ／ｇを有するＳｉ3Ｎ
4担体が得られた。
【００６９】ＳｉＣの含浸 ＳｉＣ小板に、その都度蒸留水に溶解させたＣｕＣｌ2
・２Ｈ2Ｏ ２３．７ｇ、、ＫＣｌ １０．３８ｇ、Ｆｅ
Ｃｌ3・６Ｈ2Ｏ ４２．７８ｇ及びＮａＣｌ ９．２６ｇ
の溶液５３ｍｌを２回（全溶液１０６ｍｌ）を含浸さ
せ、１２０℃で１６時間乾燥させ（それぞれの含浸工程
後に）かつ４５０℃で３時間焼成した。
【００７０】更なるＦｅＣｌ3-ＮａＣｌ溶液での含浸 予め含浸したＳｉＣ小板７０ｇに、再度水１５．９ｍｌ
中のＮａＣｌ １．３９ｇ及びＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ ２．
２１ｇの溶液２２ｍｌ（全溶液２５ｍｌ）を含浸させ、
１２０℃で１６時間乾燥させかつ４５０℃で３時間焼成
した。このようにして、銅３．３重量％及び鉄７．８重
量％を含有する帯赤褐色の小板が得られた。
【００７１】塩素の非定常状態製造のための一般的方法 固定触媒床２０ｍｌを有する加熱式管型反応器に、０．
５〜１ｍｍの触媒寸法フラクションを装填した。乾燥Ｈ
Ｃｌ流を使用した負荷期及び引き続いての不活性ガス
（Ｎ2又はＣＯ2）を用いたフラッシング期後に、再生
（脱塩素化）を純粋な空気又は純粋な酸素を使用して実
施した。このサイクルを繰り返した。
【００７２】ＨＣｌ濃度及び塩素濃度を連続してそれぞ
れオン・ラインＩＲ分析及びオン・ラインＵＶ分析を使
用して高い時間解像力で測定した。脱塩素化中に発生し
た塩素の合した量を、検査目的のために、付加的に湿式
化学的方法（ヨウ素滴定）により測定した。結果は第１
及び２表にまとめられている。
【００７３】
【表６】
【００７４】
【表７】
【００７５】比較例Ｅ［非定常状態ディーコン法］ 比較触媒 （ Ａｌ2Ｏ3担体上のＣｕ-Ｆｅ-Ｋ ）Ａｌ2Ｏ3（Pural
SCF rings）２００ｇに、ＣｕＣｌ2・２Ｈ2Ｏ ３２．１
６ｇ、ＦｅＣｌ3・６Ｈ2Ｏ ５８ｇ、ＫＣｌ ３０ｇ及び
水１１４ｍｌの溶液９２ｍｌを含浸させ（吸水度＝０．
４６ｍｌ／ｇ）、１２０℃で１６時間乾燥させ、４５０
℃で３時間焼成し、かつ引き続き残りの溶液８５ｍｌを
含浸させ、１２０℃で１６時間乾燥させ、４５０℃で３
時間焼成した。該比較触媒は、Ｃｕ３．８重量％及びＦ
ｅ４．５重量％を含有し、 突固め密度：０．９７４ｇ／ｍｌ（０．５〜１ｍｍ寸法
フラクション）； ＢＥＴ表面積：６８．６ｍ2／ｇ であった。
【００７６】触媒に３回含浸させようとした実験では、
該触媒は崩壊した。
【００７７】Ａｌ2Ｏ3上のＣｕ-Ｆｅ-Ｋ 例１〜３の塩素の非定常状態製造のための一般的方法に
類似した方法を使用して、比較触媒Ａｌ2Ｏ3上のＣｕ-
Ｆｅ-Ｋに、３６５℃で及びＨＣｌ ２５％を含有する
（該担体は、高いＨＣｌ濃度には耐えられなかった）Ｈ
Ｃｌガス流４〜５Ｎｌ／ｈで負荷し、ＨＣｌ漏出時間は
１０〜１４分であった。脱塩素化を空気２０Ｎｌ／ｈを
用いて再生温度３６５℃で実施し、脱塩素化時間は６０
分間で、合した塩素量は０．９ｇであり、これから塩素
３４ｋｇ／触媒ｔ・ｈの空時収率時が得られた。
【００７８】脱塩素化を空気２０Ｎｌ／ｈを使用して再
生温度３８０℃で実施した場合、脱塩素化時間は３５分
間及び塩素の合した量は０．７ｇであった、これは塩素
３８ｋｇ／触媒ｔ・ｈの空時収率時に相当する。
【００７９】負荷及び脱塩素化の際の反応器温度４００
℃で、脱塩素化時間（塩素＜２容量％まで）２５分間で
最大塩素濃度Ｃｌ2 ８容量％及び平均塩素濃度Ｃｌ2 ４
容量％が達成された。発生した塩素の合した量は１ｇで
あった、測定された最大空時収率は塩素４０ｋｇ／触媒
ｔ・ｈであった。
【図面の簡単な説明】
【図１】第ＩＩ表に記載の実施例１ｂの気孔寸法分布を
示す図である。
【図２】第ＩＩ表に記載の実施例２の気孔寸法分布を示
す図である。
【図３】第ＩＩ表に記載の実施例３の気孔寸法分布を示
す図である。
【図４】第ＩＩ表に記載の実施例４の気孔寸法分布を示
す図である。
【図５】第ＩＩ表に記載の実施例５の気孔寸法分布を示
す図である。
【図６】第ＩＩ表に記載の実施例６の気孔寸法分布を示
す図である。
【図７】第ＩＩ表に記載の実施例７の気孔寸法分布を示
す図である。
【図８】第ＩＩ表に記載の実施例８の気孔寸法分布を示
す図である。
【図９】第ＩＩ表に記載の比較例Ｂの気孔寸法分布を示
す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/00 Ｂ０１Ｊ 23/10 Ｚ 23/10 27/00 Ｚ 27/00 27/24 Ｚ 27/24 29/00 Ｚ 29/00 37/00 Ｈ 37/00 37/08 37/08 Ｃ０１Ｂ 7/04 Ａ Ｃ０１Ｂ 7/04 6958−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 5/333 Ｃ０７Ｃ 5/333 6958−4Ｈ 15/46 15/46 9155−4Ｈ 37/06 37/06 9155−4Ｈ 39/06 39/06 9159−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 203/00 Ｃ０７Ｄ 203/00 Ｃ１２Ｎ 11/14 Ｃ１２Ｎ 11/14 Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｂ０１Ｄ 53/36 １０４Ａ (72)発明者 ギュンター ラウト ドイツ連邦共和国 ラッツェンブルク ヒ ンデンブルクヘーエ 15 (72)発明者 ウーヴェ ディンガーディッセン ドイツ連邦共和国 ゼーハイム−ユーゲン ハイム リネヴェーク １ (72)発明者 フランツ ヨーゼフ ブレッカー ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー フェン シュヴァンターラーアレー 20 (72)発明者 クレメンス フリック ドイツ連邦共和国 ヘルクスハイム アム ビルトシュテッケル 16

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ2／
    ｇ及び水銀加圧多孔度測定法に基づき測定した平均気孔
    直径５０〜３００,０００ｎｍを有する単一モード又は
    多モード気孔寸法分布を有する単一モード又は多モード
    の触媒担体又は触媒において、 ａ）気孔容積の１０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜
    １００倍である及び／又は ｂ）気孔容積の１０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜
    １００倍である及び／又は ｃ）気孔容積の５０〜９５％が平均気孔直径の０．２〜
    １倍である及び／又は ｄ）気孔容積の５０〜８０％が平均気孔直径の０．８〜
    １倍である及び ｅ）気孔寸法分布の半分の高さの幅が平均気孔直径の
    ０．６倍より小さい ことを特徴とする、単一モード又は多モードの触媒担体
    又は触媒。
  2. 【請求項２】Ａ） Ｉ）元素ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
    ロンチウム、バリウム、ホウ素、アルミニウム、ガリウ
    ム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、
    錫、鉛、アンチモン、セレン、テルル、ポロニウム、ア
    スタチン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジ
    ウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、
    銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジウム、
    イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタン、ジル
    コニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
    ル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テ
    クネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジムの酸化
    物、窒化物、炭化物、ケイ酸塩、アルミノケイ酸塩又は
    それらの混合物の群から選択される無機粉末及び／又は II）元素ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
    ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチ
    モン、セレン、テルル、ポロニウム、ネオジウム、サマ
    リウム、ジスプロシウム、アスタチン、鉄、コバルト、
    ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッケル、ルテニウ
    ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、
    白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、スカンジ
    ウム、イットリウム、ランタン、アクチニウム、チタ
    ン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、
    タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガ
    ン、テクネチウム、レニウム、セリウム、プラセオジム
    の金属及び合金、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＶＣ又はそれ
    らの混合物、 ＷＣ-コバルト、ＴｉＣ-コバルト、Ｔａ
    Ｃ-コバルト、ＶＣ-コバルト又はそれらの混合物、及び
    また炭素のうちから選択される金属性粉末及び／又は III）無機酸、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビ
    ジウム、セシウム、フランシウム、ベリリウム、マグネ
    シウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ
    素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、
    ケイ素、ゲルマニウム、錫、鉛、ヒ素、アンチモン、ビ
    スマス、セレン、テルル、ポロニウム、アスタチン、
    鉄、コバルト、ラネーコバルト、ニッケル、ラネーニッ
    ケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
    ム、イリジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウ
    ム、水銀、スカンジウム、イットリウム、ランタン、ア
    クチニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナ
    ジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タン
    グステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、セリウ
    ム、プラセオジム、それらの混合物から選択される金
    属、又はそれらのホウ酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、硝酸
    塩、リン酸塩、ヒ酸塩、アンチモン酸塩、ビスマス酸
    塩、硫酸塩、セレン酸塩、テルル酸塩、バナジウム酸
    塩、モリブデン酸塩、ニオブ酸塩、クロム酸塩、酸化
    物、水酸化物、ハロゲン化物、硫化物、セレン化物、テ
    ルル化物、窒化物、リン化物、ヒ化物、酢酸塩、アセチ
    ルアセトン酸塩、パラジウム酸塩、白金酸塩、シアン化
    物、チオシアン酸塩、マンガン酸塩、レニウム酸塩、オ
    スニウム酸塩、炭化物、ケイ化物、ホウ化物、それらの
    アンモニウム化合物又はそれらの混合物の群から選択さ
    れる活性成分及び／又は IV）テフロン又はポリイミドの群から選択される有機粉
    末１５〜７０容量％、 Ｂ）ポリエチレンもしくはポリプロピレンポリマー、又
    はエチレン、プロピレン、１−ブテンもしくはイソブテ
    ンのコポリマー、又はポリエチレンメチルメタクリレー
    トコポリマー、又はポリエチレンオキシドコポリマー、
    又は Ｂ1）ポリオキシメチレンホモポリマー又はコポリマー
    ５０〜１００重量％と Ｂ2）平均粒子寸法１μｍ未満で、均質にＢ1）中に溶解
    又は分散されたポリマー０〜５０重量％の混合物３０〜
    ８５容量％、 Ｃ）分散剤０〜１５容量％からなる混合物を成形し、 ３００〜６００℃での熱分解によりバインダーを除去
    し、引き続き６００〜１４００℃で前焼結し、かつ所望
    により、１回以上の浸漬、含浸、スプレー含浸、沈着、
    ハイコーティング、ウォッシュコーティング又は噴霧乾
    燥により活性成分IIIを成分Ａ）に又は前焼結した組成
    物に施すことにより製造された、請求項１に記載の単一
    モード又は多モードの触媒担体又は触媒を製造する方法
    において、バインダーの熱分解的除去後の触媒担体又は
    触媒が、ＢＥＴ比表面積０．０１〜２５０ｍ2/ｇ及び水
    銀圧多孔度測定法により測定した気孔寸法分布５０〜３
    ００．０００ｎｍを有することを特徴とする、単一モー
    ド又は多モードの触媒担体又は触媒を製造する方法。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の単一モード又は多モード
    の触媒又は触媒担体を使用することを特徴とする、非定
    常状態のディーコン法において塩化水素から塩素を製造
    する方法、非定常状態オキシ脱水素化においてエチルベ
    ンゼンの反応させることによるスチレンの製造方法、エ
    タノールアミンからアジリジンを製造する方法、トリメ
    チルシクロヘキセノンを反応させることによるトリメチ
    ルフェノールの製造方法、還元、水素添加、酸化、脱水
    素化、酸又は塩基触媒反応又は流動床における反応方
    法、ディーゼル排気ガスから燃焼残留物を除去する方
    法、廃ガスからＮＯｘを除去する方法、細菌と一緒にバ
    イオ反応器で使用する方法及び固定した酵素又は微生物
    と一緒にバイオ触媒として使用する方法。
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