JPH0883762A - 塗布装置及びその方法 - Google Patents

塗布装置及びその方法

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JPH0883762A
JPH0883762A JP6242227A JP24222794A JPH0883762A JP H0883762 A JPH0883762 A JP H0883762A JP 6242227 A JP6242227 A JP 6242227A JP 24222794 A JP24222794 A JP 24222794A JP H0883762 A JPH0883762 A JP H0883762A
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rotary
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rotary container
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 回転カップ内にスピンチャックを設け、スピ
ンチャックを回転カップの底部にシール部を介して密着
させて同じ速度で回転させ、スピンチャック上の被処理
基板に塗布液をスピンコートするにあたり、回転軸に関
連する構造を簡素化しかつシール部の擦れを防止するこ
と 【構成】 回転カップ２の蓋体２１の中心部に塗布液と
洗浄液とを供給するための二重管構造の管状体５を、蓋
体２１に対してベアリング５０により回転自在に装着す
る。被処理体の塗布処理を所定枚数行った後管状体５よ
り洗浄液を回転カップ２の内面に噴射しながら回転カッ
プ２を回転させて洗浄を行う。回転カップ２の下方側に
洗浄管状体を通す固定部を設けなくてよいので構造が簡
単であり、回転カップ２とスピンチャック３とは常に同
じ速度で回転するのでシール部が擦れない。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗布装置及びその方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。
【０００３】例えば、被処理基板として矩形状のＬＣＤ
基板を、洗浄装置にて洗浄した後、ＬＣＤ基板にアドヒ
ージョン処理装置にて疎水化処理を施し、冷却処理装置
にて冷却した後、レジスト塗布装置にてフォトレジスト
膜すなわち感光膜を塗布形成する。そして、フォトレジ
ストを加熱処理装置にて加熱してベーキング処理を施し
た後、露光装置にて所定のパターンを露光する。そし
て、露光後のＬＣＤ基板を現像装置にて現像液を塗布し
て現像した後にリンス液により現像液を洗い流し、現像
処理を完了する。
【０００４】上述のレジスト塗布を行う場合、ＬＣＤ基
板等の被処理基板の表面に例えばスピンコーティング法
によってレジスト液を塗布する処理が行われる。図６は
このような塗布処理を行う装置の従来例を示す図であ
り、この塗布装置においては、回転カップ１ａ内にスピ
ンチャック１ｂを設け、このスピンチャック１ｂ上に被
処理基板１０を載置して、上方の蓋１ｃに取り付けられ
たレジスト液供給管１ｄから被処理基板１０の上にレジ
スト液を滴下し、スピンチャック１ｂをシール部Ｃによ
り回転カップ１ａの底面の開口部をシールした状態で回
転カップ１ａと共に回転させて被処理基板１０の表面に
レジスト液が塗布される。
【０００５】回転カップ１ａ及びスピンチャック１ｂの
回転機構に関して説明すると、スピンチャック１ｂは昇
降軸１１の頂部に設けられており、昇降軸１１は回転内
筒１２に嵌着されたスプライン軸受け１３に組み合わせ
られている。従って昇降軸１１はスプライン軸受け１３
と共に回動し、またスプライン軸受け１３に対して昇降
できることになる。回転カップ１ａの下方側には回転外
筒１４が設けられており、回転内筒１２と回転外筒１４
との間には、固定カラー１５が介在し、回転内筒１２と
回転外筒１４とは、固定カラー１５に対し、夫々軸受け
１５ａ、１５ｂを介して回転できるようになっている。
【０００６】そしてスプライン軸受け１３及び回転外筒
１４の外周には夫々同一径の従動プーリ１６、１７が設
けられ、これら従動プーリ１６、１７には、共通のモー
タＭに設けられた駆動プーリＰにより駆動されるベルト
１６ａ、１７ａが夫々掛け渡されている。従って回転カ
ップ１ａ及びスピンチャック１ｂは前記モータＭにより
同速度で回転することとなる。また図中１８は昇降手段
であり、この昇降手段１８によりスピンチャック１ｂが
昇降し、蓋１ｃが開いた状態において回転カップ１ａの
上面開口部から被処理基板１０の受け渡しが行われる。
【０００７】一方外部から洗浄液供給管１９が固定カラ
ー１５内を貫通し、その先端の洗浄液ノズル１９ａがス
ピンチャック１ｂの下方側に位置している。回転カップ
１ａの内壁にレジスト液が付着したままにしておくとそ
の一部が剥離してパーティクルの要因になるため、例え
ば１カセットの処理を行う度に、スピンチャック１ｂを
上昇させ、スピンチャック１ｂと回転カップ１ａの底面
との間に洗浄液ノズル１９を位置させて、ここから洗浄
液例えばシンナーを噴射しながらスピンチャック１ｂ及
び回転カップ１ａを回転させて回転カップ１ａの内面を
洗浄している。
【０００８】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら上述
の塗布装置は次のような問題がある。 （１）洗浄液供給管１９を回転部分の外部から通すため
に、固定カラー１５を介在させて、その両側にスピンチ
ャック１ｂの回転軸である回転内筒１２と回転カップ１
ａの回転軸である回転外筒１４とを設けて、別々の従動
プーリ１６、１７で夫々スピンチャック１ｂ及び回転カ
ップ１ａを回転させているが、加速時あるいは減速時
に、両回転速度が異なってしまう。即ち、回転カップ１
ａの重量が大きい場合にベルトが伸びやすく、加速時に
はベルト１７ａの回転にプーリ１７が遅れてしまい、ま
た減速時には慣性力によりプーリ１７の方が早くなって
しまうからである。このためシール部Ｃが擦れてしま
い、パーティクルが発生してしまう。 （２）固定カラー１５の両側に回転内筒１２と回転外筒
１４とを設けていわば回転軸を二重構造としているため
構造が複雑である。
【０００９】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は、構造が簡単な塗布装置を提供す
ることにある。また他の目的は、回転載置台と回転容器
との間のシール部が擦れることのない塗布装置を提供す
ることにある。更に他の目的は、回転容器内の塗布液の
固着を軽減できる塗布方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、回転
容器と、この回転容器の中に位置し、昇降及び回転自在
な回転載置台とを備え、回転載置台の上に被処理基板を
載せて、被処理基板表面に塗布液を供給すると共に回転
載置台と回転容器とを回転させ、これにより被処理基板
上に塗布膜を形成する塗布装置において、前記回転容器
の上面部に、回転容器の内面に洗浄液を吹き付けるため
の洗浄液供給部を設けたことを特徴とする。
【００１１】請求項２の発明は、請求項１記載の発明に
おいて、回転容器は、上面に被処理基板の搬出入口をな
す開口部が形成された回転カップと、前記開口部を開閉
する蓋体とを含み、前記蓋体に、洗浄液供給部を前記回
転容器と相対的に回動自在に装着したことを特徴とす
る。
【００１２】請求項３の発明は、請求項１または２記載
の発明において、回転容器と回転載置台とは、回転載置
台が回転容器の底壁に密着した状態で共通の回転軸によ
り同じ回転速度で回転することを特徴とする。
【００１３】請求項４の発明は、請求項１、２または３
記載の発明において、洗浄液供給路と塗布液供給路とを
共通の管状体の中に設け、この管状体を回転容器の外側
から回転容器の上面部に回転軸の回りに相対的に回転自
在に装着し、前記洗浄液供給路の先端部が洗浄液供給部
をなすことを特徴とする。
【００１４】請求項５の発明は、回転容器と、この回転
容器の中に位置し、昇降及び回転自在な回転載置台とを
備え、回転載置台の上に被処理基板を載せて、被処理基
板表面に塗布液を供給し、回転載置台と回転容器とを回
転させ、これにより被処理基板上に塗布膜を形成する塗
布方法において、塗布液を供給する前に回転容器の内面
を洗浄液で濡らしておくことを特徴とする。
【００１５】請求項６の発明は、回転容器と、この回転
容器の中に位置し、昇降及び回転自在な回転載置台とを
備え、回転載置台の上に被処理基板を載せて、被処理基
板表面に塗布液を供給し、回転載置台と回転容器とを回
転させ、これにより被処理基板上に塗布膜を形成する塗
布方法において、前記回転容器の上面部に設けた洗浄液
供給部よりの洗浄液により回転容器の内面を濡らしてお
く工程と、前記回転容器の上面部に設けた塗布液供給部
よりの塗布液により被処理基板表面を塗布する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１６】
【作用】回転容器の例えば上面開口部から被処理基板が
回転載置台に受け渡され、前記開口部が蓋体により閉じ
られた後、回転容器と回転載置台とが回転して塗布液の
スピンコーティングが行われる。その後所定枚数の被処
理基板の塗布処理が行われた後蓋体に設けられた洗浄液
供給部から回転容器の内面に向けて洗浄液を噴射しなが
ら回転容器と回転載置台とを回転させて回転容器内面の
洗浄液を行う。
【００１７】洗浄液供給管を回転容器の上部側から配管
しているため、回転容器の下方側の回転軸の内方を通さ
なくて済み、回転容器及び回転載置台の各回転軸の間に
洗浄液供給管を通すための固定カラーを設けなくてよい
ので、構造が簡単になる。また回転容器と回転載置台と
を同じ速度で回転させる場合共通の回転軸を使用できる
ので、回転容器と回転載置台との速度の差を生じること
がなくシール部が擦れることがない。
【００１８】更に回転容器の内面を洗浄液で予め濡らし
ておけば、塗布液が回転容器の内面に付着しにくくなる
ので、塗布液の固着が軽減され、容器の洗浄作業の頻度
を少なくできる。
【００１９】
【実施例】図１は本発明の実施例に係る塗布装置であ
り、図中２は、上面が開口し、垂直軸を中心に回転自在
な回転カップである。この回転カップ２の上面開口部２
Ａには、この開口部を開閉するための蓋体２１が設けら
れている。回転カップ２の底面中央部には開口部２２が
形成されており、その開口縁には、回転カップ２を回転
するための回転筒２３の上縁が接続されている。なおこ
の実施例では、回転カップ２及び蓋体２１は回転容器を
なすものである。
【００２０】前記回転カップ２内には、上記垂直軸を中
心に回転自在な回転載置台例えばスピンチャック３が、
周縁部裏面で回転カップ２の底面の開口部２２をＯリン
グ等のシール部材３０によりシールし塞ぐように設けら
れている。このスピンチャック３は例えばエアシリンダ
よりなる昇降機構３１により昇降する昇降軸３２の頂部
に取り付けられており、昇降軸３２はスプライン軸受け
３３により軸受けされている。前記スプライン軸受け３
３と回転筒２３との間には中間リング３４が介装されて
おり、スプライン軸受け３３と回転筒２３とは中間リン
グ３４により一体化して回転する。なお、前記中間リン
グ３４は、図示しない軸受等からなる構成部材により装
置本体に、回転可能に取付けられている。
【００２１】前記回転筒２３の外周面には従動プーリ４
１が周設されており、この従動プーリ４１には、スピン
モータ４２に連結された駆動プーリ４３によって駆動さ
れるベルト４４が掛け渡されている。従ってスピンモー
タ４２により回転筒２３と昇降軸３２とが一体的に回転
し、また昇降軸３２は昇降機構３１によりスプライン軸
受け３３を介して回転筒２３に対して昇降できることと
なる。前記スピンチャック３は上面部にバキュームチャ
ックを備えていて被処理基板１０例えばＬＣＤ基板（液
晶ディスプレイ用のガラス基板）をチャックする機能を
有しており、昇降軸３２内に形成された図示しないバキ
ューム通路は、昇降軸３２のバキュームシール部３５を
介して外部の図示しないバキュームラインに接続されて
いる。
【００２２】一方前記蓋体２１の中心部には、塗布液で
あるレジスト液及び洗浄液を供給するための管状体５が
ベアリング５０を介して蓋体２１に対して回転チャック
２の回転軸の回りに相対的に回転できるように装着され
ており、ベアリング５０の内方側の取り付け用筒部５０
ａの中に着脱自在に嵌入されている。この管状体５は図
２に示すように外管５１及び内管５２よりなる二重管構
造として構成されており、外管５１と内管５２との間の
空間は図示しないレジスト液の液溜容器に接続されてレ
ジスト液の供給路を構成している。また内管５２は図示
しない洗浄液例えばシンナーの液溜容器に接続されて洗
浄液の供給路を構成し、その先端の洗浄液供給部をなす
ノズルには、回転カップ２の側周内面の上部から下部に
亘って洗浄液を噴射するように複数の噴射孔５３が形成
されている。
【００２３】前記蓋体２１は、図３に示すように昇降部
２４により昇降するアーム２５に装着されており、アー
ム２５の昇降により上面開口部２Ａが開閉されるように
構成されている。なお前記管状体５の途中一部は例えば
このアーム２５に固定される。また、被処理基板１０の
搬入搬出用に搬送アーム１００が別途設けられており、
スピンチャック３と被処理基板の搬送アーム１００との
間の被処理基板１０の受け渡しは、蓋体２１が上昇し上
面開口部２Ａが開いたときにスピンチャック３が昇降手
段３１により回転カップ２の上面より上方に上昇し、ア
ーム１００がスピンチャック３にチャッキングされた被
処理基板１０の下面より低いレベルでスピンチャック３
側に進入することにより行われる。
【００２４】前記回転カップ２の外側には、回転カップ
２を囲むようにドレンカップ６が図示しない固定部に固
定して設けられており、このドレンカップ６は、回転カ
ップ２の底部外縁の排液孔２６から排出された排液を外
部に排出するドレン孔６１と、径方向に向かって屈曲し
た通路が形成された環状の排気路６２と、この排気路６
２に連通し、例えば周方向に４個所形成され、前記排気
路６２に連通すると共に図示しない排気装置に接続され
る排気口６３と、ドレンカップ本体の上部に放射状に形
成された複数の排気路６４とを有している。
【００２５】次に上述装置の作用について述べる。先ず
図３に示したように蓋体２１を回転カップ２から上昇さ
せて開いておき、スピンチャック３を上昇させて搬送ア
ーム１００から被処理基板１０例えばＬＣＤ基板をスピ
ンチャック３に受け渡し、スピンチャック３にバキュー
ム吸着させる。続いてスピンチャック３を降下させてス
ピンチャック３を回転カップ２の底部にシール部材３０
を介して密着させ、これにより回転外筒２３の内部空間
と回転カップ２の内部空間との間をシールし、図４
（ａ）に示すように被処理基板１０の上方の管状体５か
ら塗布液であるレジスト液Ｒを被処理基板１０の中央部
に所定量滴下する。
【００２６】そしてモータ４２（図１参照）を駆動する
と、ベルト４４により回転筒２３が回転すると共に、そ
の回転が中間リング３４及びスプライン軸受け３３を介
して昇降軸３２に伝達されるので、昇降軸３２も回転す
る。従って回転カップ２とスピンチャック３とが同じ回
転速度で同期して回転し、被処理基板１０上のレジスト
液が遠心力により引き伸ばされて被処理基板１０の表面
をコーティングし、これにより所定の膜厚の塗布膜であ
るレジスト層が形成される。
【００２７】その後回転カップ２（スピンチャック３）
の回転を止め、蓋体２１を開き、スピンチャック３を上
昇させて搬送アーム１００（図３参照）に被処理基板１
０を受け渡し、その後新しい被処理基板１０をスピンチ
ャック３に搬送する。こうして所定枚数の被処理基板例
えば１カセット分２５枚の被処理基板の塗布処理が終了
した後回転カップ２内を洗浄する。この洗浄工程は、図
４（ｂ）に示すように管状体５の内管５２内を通ってき
た洗浄液を噴射孔５３より噴射しながら回転カップ２を
スピンチャック２と共に回転させて行われる。即ち洗浄
液例えばシンナーは噴射孔５３より回転している回転カ
ップ２の内面に向けて点線のように噴射される。噴射孔
５３は前記内面の上縁から下縁に亘って洗浄液が噴射さ
れるように設定されるため、内面の全面に亘って洗浄液
により濡らされ、スピンコーティング時に飛散して回転
カップ２の内面に付着し固化したレジストが溶かされて
内面に沿って流れ落ち、排液孔２６及びドレンカップ６
のドレン孔６１を介して外部に排出される。
【００２８】このように蓋体２１に洗浄液供給部（この
例では管状体５の内管５２の先端部であるノズル）を設
ければ、回転カップ２の下方側に洗浄管状体を配管する
ための固定部分が不要であり、従って回転カップ２とス
ピンチャック３との回転軸を分離してその間に固定カラ
ーを介在させるという構成とせずに両回転軸を一体的な
ものとできる。このため回転軸に係る構造を簡素化でき
ると共に、回転カップ２及びスピンチャックの重量の差
にかかわらずつまり慣性モーメントの差にかかわらず回
転軸を共通化して共通のベルト４４により両方共常に同
じ速度で回転するので、回転カップ２及びスピンチャッ
ク３の間をシールしているシール部材３が擦れてパーテ
ィクルが発生することがない。
【００２９】以上において洗浄液供給部を塗布液供給部
とは別に設けてもよく、例えば洗浄液供給管と塗布液供
給管とを同心状とすることなく並べて設けてもよいし、
また塗布液の供給管の先端部を分岐して複数のノズルを
噴射方向を変えて設けてもよい。そして回転カップ２の
洗浄のタイミングは１カセット毎に限らず例えば複数カ
セット毎でもよいし、１枚の被処理基板のコーティング
が終了する度毎であってもよい。
【００３０】ここで本発明では塗布を行う前に洗浄液で
回転カップ２の内面を濡らしておくことが好ましく、こ
のようにすれば塗布処理時にレジスト液が回転カップ２
の内面に付着しても、洗浄液により溶かされて流れ落ち
るので、固着するレジスト液の量が少なくなり、この結
果固着したレジスト液の剥離によるパーティクルの発生
が少なくなるし、また洗浄の頻度を少なくすることがで
きる。この場合上述実施例のように蓋体２１に洗浄液供
給部を設ければ、スピンチャック３を回転カップ２の底
面に密着した位置に置いたまま、洗浄液により回転カッ
プ２の内面を濡らす工程と塗布工程とを続けて行うこと
ができるので、洗浄液により濡らす工程を取り入れたこ
とによる時間の消費は極めて小さく、スループットの低
下を防止できる。なお洗浄液により濡らす工程は、枚葉
毎に行ってもよいし、複数枚の被処理基板の塗布処理終
了後に行ってもよい。
【００３１】上述の塗布装置は単独の装置として使用で
きるが、例えば図５に示すＬＣＤ基板の塗布・現像処理
装置に組み込んで使用することができる。図５において
７１はキャリアステージであり、このキャリアステージ
には、処理前の基板が複数枚収納されるキャリアＣ１及
び処理後の基板が収納されるキャリアＣ２が載置され
る。７２は搬出入ピンセット、７３、７４は基板搬送用
のメインアーム、７５は受け渡し台である。
【００３２】メインアーム７３または７４の搬送路の両
側には、ブラシ洗浄部８１、ジェット水洗部８２、本発
明に係る塗布装置８３、アドヒージョン処理部８４、冷
却処理部８５及び加熱処理部８６、現像処理部８７が設
けられており、塗布・現像処理装置の右端部側には搬出
入ピンセット９１受け渡し台９２を介して露光装置９３
が連結されている。
【００３３】上記のように構成される塗布・現像処理装
置において、カセットＣ１内に収容された未処理の基板
は搬出入ピンセット７２によって取出された後、メイン
アーム７３に受け渡され、そして、ブラシ洗浄部８１内
に搬送される。このブラシ洗浄部８１内にてブラシ洗浄
された基板は必要に応じて引続いてジェット水洗浄部８
２内にて高圧ジェット水により洗浄される。この後、基
板は、アドヒージョン処理部８４にて疎水化処理が施さ
れ、冷却処理部８５にて冷却された後、塗布装置８３に
てフォトレジスト膜すなわち感光膜が塗布形成される。
そして、この後フォトレジストが加熱処理部８６にて加
熱されてプリベーキング処理が施された後、露光装置９
３にて所定のパターンが露光される。そして、露光後の
基板は現像処理部８７内へ搬送され、現像液により現像
された後にリンス液により現像液を洗い流し、現像処理
を完了する。
【００３４】なお、上記説明の塗布・現像処理装置にお
いて、冷却処理部８５、加熱処理部８６に図示しない紫
外線照射機構を設け、基板に紫外線を照射することによ
り基板に付着している異物例えば有機物を酸化除去する
ように構成してもよい。紫外線の照射は、各処理の前、
後、処理中あるいは連続して行う。
【００３５】冷却処理後の基板表面に有機物が付着して
いると、例えば次の工程である塗布処理において塗布む
ら発生の一原因となり均一塗布が阻害される。また、プ
リベーキング処理後の基板表面に有機物が付着している
と、次の工程である露光処理において露光むら発生の一
原因となり現像後のレジストパターン欠陥が発生したり
する。上記紫外線照射により異物を除去しておくことに
より上記不具合を解消することが可能となる。
【００３６】
【発明の効果】本発明装置によれば、回転容器の上面部
に洗浄液供給部を設けているため、回転容器と回転載置
台とを同期して回転させるにあたり、洗浄液供給部を通
すための固定部分が不要になるので回転のための構造が
簡単になる。そして回転容器と回転載置台とを密着させ
て同じ速度で回転させる場合には共通の回転軸を使用で
きるので回転容器と回転載置台との間のシール部が擦れ
てパーティクルが発生するというおそれはない。また本
発明方法によれば回転容器の内面を予め洗浄液で濡らし
ているため、塗布液の固着が軽減され、例えば洗浄の頻
度を少なくすることができ、この場合本発明装置を用い
れば洗浄液で濡らす工程を取り入れたことによる洗浄時
間の消費を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る塗布装置の全体構成を示
す断面図である。
【図２】本発明の実施例に係る塗布装置の要部を示す断
面図である。
【図３】本発明の実施例に係る塗布装置の蓋体の開閉及
び被処理体の受け渡しを説明するための断面図である。
【図４】本発明の実施例に係る塗布装置の作用を示す説
明図である。
【図５】本発明の塗布装置を組み込んだ塗布・現像処理
装置を示す概略斜視図である。
【図６】従来の塗布装置を示す断面図である。
【符号の説明】
２ 回転カップ ２１ 蓋体 ２３ 回転筒 ３ スピンチャック ３０ シール部 ３２ 昇降軸 ３４ 中間リング ４１ 従動プーリ ４４ ベルト ５ 管状体 ５１ 外管 ５２ 内管 ５３ 洗浄液の噴射孔 ６ ドレインカップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ０５Ｃ 11/08

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 回転容器と、この回転容器の中に位置
    し、昇降及び回転自在な回転載置台とを備え、回転載置
    台の上に被処理基板を載せて、被処理基板表面に塗布液
    を供給すると共に回転載置台と回転容器とを回転させ、
    これにより被処理基板上に塗布膜を形成する塗布装置に
    おいて、 前記回転容器の上面部に、回転容器の内面に洗浄液を吹
    き付けるための洗浄液供給部を設けたことを特徴とする
    塗布装置。
  2. 【請求項２】 回転容器は、上面に被処理基板の搬出入
    口をなす開口部が形成された回転カップと、前記開口部
    を開閉する蓋体とを含み、前記蓋体に、洗浄液供給部を
    前記回転容器と相対的に回動自在に装着したことを特徴
    とする請求項１記載の塗布装置。
  3. 【請求項３】 回転容器と回転載置台とは、回転載置台
    が回転容器の底壁に密着した状態で共通の回転軸により
    同じ回転速度で回転することを特徴とする請求項１また
    は２記載の塗布装置。
  4. 【請求項４】 洗浄液供給路と塗布液供給路とを共通の
    管状体の中に設け、この管状体を回転容器の外側から回
    転容器の上面部に回転軸の回りに相対的に回転自在に装
    着し、前記洗浄液供給路の先端部が洗浄液供給部をなす
    ことを特徴とする請求項１、２または３記載の塗布装
    置。
  5. 【請求項５】 回転容器と、この回転容器の中に位置
    し、昇降及び回転自在な回転載置台とを備え、回転載置
    台の上に被処理基板を載せて、被処理基板表面に塗布液
    を供給し、回転載置台と回転容器とを回転させ、これに
    より被処理基板上に塗布膜を形成する塗布方法におい
    て、 塗布液を供給する前に回転容器の内面を洗浄液で濡らし
    ておくことを特徴とする塗布方法。
  6. 【請求項６】 回転容器と、この回転容器の中に位置
    し、昇降及び回転自在な回転載置台とを備え、回転載置
    台の上に被処理基板を載せて、被処理基板表面に塗布液
    を供給し、回転載置台と回転容器とを回転させ、これに
    より被処理基板上に塗布膜を形成する塗布方法におい
    て、 前記回転容器の上面部に設けた洗浄液供給部よりの洗浄
    液により回転容器の内面を濡らしておく工程と、 前記回転容器の上面部に設けた塗布液供給部よりの塗布
    液により被処理基板表面を塗布する工程と、 を含むことを特徴とする塗布方法。
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