JPH084093A - 真空式下水道システムの真空弁制御装置 - Google Patents
真空式下水道システムの真空弁制御装置Info
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- JPH084093A JPH084093A JP3936295A JP3936295A JPH084093A JP H084093 A JPH084093 A JP H084093A JP 3936295 A JP3936295 A JP 3936295A JP 3936295 A JP3936295 A JP 3936295A JP H084093 A JPH084093 A JP H084093A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
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- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E03—WATER SUPPLY; SEWERAGE
- E03F—SEWERS; CESSPOOLS
- E03F1/00—Methods, systems, or installations for draining-off sewage or storm water
- E03F1/006—Pneumatic sewage disposal systems; accessories specially adapted therefore
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 構造が簡単でメンテナンスの容易で、且つ動
作の安定した真空式下水道システムの真空弁制御装置を
提供すること。 【構成】 真空弁（１３）の開により真空ライン（１
５）に連通し該真空弁（１３）の閉に真空ラインから遮
断される吸込管（１２）を具備し、該真空弁（１４）の
開により汚水ます（１０）中の汚水を吸込管（１２）で
吸引し、所定の場所に移送する真空式下水道システムの
真空弁制御装置であって、吸込管（１２）の高さの異な
る２点（１６，１７）間の圧力差により吸込管が空気を
吸い込み始めるレベルに達したことを検出し真空弁（１
３）を閉じる制御手段（２０）を設けた。
作の安定した真空式下水道システムの真空弁制御装置を
提供すること。 【構成】 真空弁（１３）の開により真空ライン（１
５）に連通し該真空弁（１３）の閉に真空ラインから遮
断される吸込管（１２）を具備し、該真空弁（１４）の
開により汚水ます（１０）中の汚水を吸込管（１２）で
吸引し、所定の場所に移送する真空式下水道システムの
真空弁制御装置であって、吸込管（１２）の高さの異な
る２点（１６，１７）間の圧力差により吸込管が空気を
吸い込み始めるレベルに達したことを検出し真空弁（１
３）を閉じる制御手段（２０）を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空弁の開により汚水ま
す中の汚水を吸込管で吸引し、汚水処理場等の所定の場
所に移送する真空式下水道システムの真空弁制御装置に
関するものである。
す中の汚水を吸込管で吸引し、汚水処理場等の所定の場
所に移送する真空式下水道システムの真空弁制御装置に
関するものである。
【０００２】
【従来技術】図５は従来のこの種の真空式下水道システ
ムの構成例を示す図である。同図において、１０は汚水
ますであり、該汚水ます１０内には吸込管１２の先端が
挿入されており、吸込管１２の後端は真空弁の主弁１４
を介して真空タンク（真空系）に連通するライン１５に
接続されている。１３は真空弁本体であり、該真空弁本
体は室１３ｃ内にダイヤフラム１３ｂと該ダイヤフラム
１３ｂを付勢するバネ１３ａを具備している。
ムの構成例を示す図である。同図において、１０は汚水
ますであり、該汚水ます１０内には吸込管１２の先端が
挿入されており、吸込管１２の後端は真空弁の主弁１４
を介して真空タンク（真空系）に連通するライン１５に
接続されている。１３は真空弁本体であり、該真空弁本
体は室１３ｃ内にダイヤフラム１３ｂと該ダイヤフラム
１３ｂを付勢するバネ１３ａを具備している。
【０００３】２００は真空弁の開閉制御を行なう制御装
置であり、該制御装置２００は筒状のケーシング２０１
を具備し、該ケーシング２０１内はセンサ室２０２、第
１室２０３、第２室２０４、第３室２０５、第４室２０
６及び第５室２０７に区分されている。センサ室２０２
はパイプ２０８で汚水ます１０内に配置された圧力セン
サー管１１に接続され、第５室２０７はパイプ２０９で
真空弁本体１３の室１３ｃに接続されている。また、第
５室２０７はブリーザー管２１０を介して外気に接続さ
れている。
置であり、該制御装置２００は筒状のケーシング２０１
を具備し、該ケーシング２０１内はセンサ室２０２、第
１室２０３、第２室２０４、第３室２０５、第４室２０
６及び第５室２０７に区分されている。センサ室２０２
はパイプ２０８で汚水ます１０内に配置された圧力セン
サー管１１に接続され、第５室２０７はパイプ２０９で
真空弁本体１３の室１３ｃに接続されている。また、第
５室２０７はブリーザー管２１０を介して外気に接続さ
れている。
【０００４】第４室２０６はパイプ２１１及びチャッキ
弁２１２を介してライン１５に接続されている。また、
第１室２０３はフィルタ２１３とオリフィス付逆止弁２
１４を介してブリーザー管２１０に接続され、第２室２
０４と第３室２０５はニードル弁２１５を介してパイプ
２１６で接続され、更にパイプ２１６の先端は傘型チェ
ッキ弁２１７を介して第４室２０６に接続されている。
弁２１２を介してライン１５に接続されている。また、
第１室２０３はフィルタ２１３とオリフィス付逆止弁２
１４を介してブリーザー管２１０に接続され、第２室２
０４と第３室２０５はニードル弁２１５を介してパイプ
２１６で接続され、更にパイプ２１６の先端は傘型チェ
ッキ弁２１７を介して第４室２０６に接続されている。
【０００５】図５に示す構成の真空式下水道システムに
おいて、汚水ます１０の汚水Ｑの水位が低下し、待機位
置にあるときは、圧力センサー管１１の下端は汚水面の
上部に位置するから、センサ室２０２と第１室２０３は
大気圧であり、センサ膜２１８は中立状態にある。その
ため空気通路は真空とバネ２１９の力でセンサレバー２
２０は空気通路を塞ぎ、空気は流れない。また、ライン
１５につながっている真空は第３室２０５と第２室２０
４にニードル弁２１５を通して結ばれ、両室とも同圧の
真空になる。そのためバネ２２１の力が勝り、三方向弁
２２２は左へ寄せられた状態を保持する。第５室２０７
はブリーザー管２１０を通して大気に接続されているた
め、真空弁本体１３の室１３ｃは大気圧となり、主弁１
４はバネ１３ａで閉方向に押され、全閉状態となる。
おいて、汚水ます１０の汚水Ｑの水位が低下し、待機位
置にあるときは、圧力センサー管１１の下端は汚水面の
上部に位置するから、センサ室２０２と第１室２０３は
大気圧であり、センサ膜２１８は中立状態にある。その
ため空気通路は真空とバネ２１９の力でセンサレバー２
２０は空気通路を塞ぎ、空気は流れない。また、ライン
１５につながっている真空は第３室２０５と第２室２０
４にニードル弁２１５を通して結ばれ、両室とも同圧の
真空になる。そのためバネ２２１の力が勝り、三方向弁
２２２は左へ寄せられた状態を保持する。第５室２０７
はブリーザー管２１０を通して大気に接続されているた
め、真空弁本体１３の室１３ｃは大気圧となり、主弁１
４はバネ１３ａで閉方向に押され、全閉状態となる。
【０００６】汚水ます１０の汚水の水位が上昇し、圧力
センサー管１１の圧力が上昇すると、センサ膜２１８が
右に移動し、センサレバー２２０に当接する。圧力が約
水柱２００ｍｍＡｑ以上になると、該圧力はバネ２１９
の力と真空圧力に打ち勝ちセンサレバー２２０を空気通
路から離す。これにより空気通路を通して第１室２０３
の空気が第２室２０４に流入し、該第２室２０４内の圧
力は上昇し、第３室２０５より高くなる。該圧力がバネ
２２１の力より強くなると三方弁駆動膜２２２ａが右に
移動し、三方向弁２２２はブリーザー管２１０に連通す
る孔を閉じる。これにより、ライン１５の真空は第４室
２０６、三方向弁２２２の軸通路、第５室２０７、パイ
プ２０９を通り、真空弁本体１３の室１３ｃへつなが
る。これにより真空力がバネ１３ａの力に打ち勝ち主弁
１４を持ち上げ全開状態（吸込管１２とライン１５を連
通する孔を開放状態）にする。
センサー管１１の圧力が上昇すると、センサ膜２１８が
右に移動し、センサレバー２２０に当接する。圧力が約
水柱２００ｍｍＡｑ以上になると、該圧力はバネ２１９
の力と真空圧力に打ち勝ちセンサレバー２２０を空気通
路から離す。これにより空気通路を通して第１室２０３
の空気が第２室２０４に流入し、該第２室２０４内の圧
力は上昇し、第３室２０５より高くなる。該圧力がバネ
２２１の力より強くなると三方弁駆動膜２２２ａが右に
移動し、三方向弁２２２はブリーザー管２１０に連通す
る孔を閉じる。これにより、ライン１５の真空は第４室
２０６、三方向弁２２２の軸通路、第５室２０７、パイ
プ２０９を通り、真空弁本体１３の室１３ｃへつなが
る。これにより真空力がバネ１３ａの力に打ち勝ち主弁
１４を持ち上げ全開状態（吸込管１２とライン１５を連
通する孔を開放状態）にする。
【０００７】真空弁が全開状態になると汚水ます１０の
汚水は吸い上げられ、汚水の液面が下がり始める。圧力
センサ１１の圧力は直ちに降下し、センサ膜２１８が左
へ移動し、センサレバー２２０も元に戻って空気通路を
塞ぐ。降下したライン１５の真空のため、傘型チェッキ
弁２１７は閉じ、第１室２０３と第２室２０４にニード
ル弁２１５を介して、除々に同圧真空へ近づく。このた
め第２室２０４のバネ２２１の力が勝り、三方向弁２２
２を左へ移動させ、上記の状態へ戻る。これにより、第
５室２０７にブリーザー管２１０を通して外気が流入
し、該外気がパイプ２０９を介して真空弁本体１３の室
１３ｃ内に流入し、主弁１４を閉じる。
汚水は吸い上げられ、汚水の液面が下がり始める。圧力
センサ１１の圧力は直ちに降下し、センサ膜２１８が左
へ移動し、センサレバー２２０も元に戻って空気通路を
塞ぐ。降下したライン１５の真空のため、傘型チェッキ
弁２１７は閉じ、第１室２０３と第２室２０４にニード
ル弁２１５を介して、除々に同圧真空へ近づく。このた
め第２室２０４のバネ２２１の力が勝り、三方向弁２２
２を左へ移動させ、上記の状態へ戻る。これにより、第
５室２０７にブリーザー管２１０を通して外気が流入
し、該外気がパイプ２０９を介して真空弁本体１３の室
１３ｃ内に流入し、主弁１４を閉じる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記構成の制御装置２
００には下記のような欠点があった。 （１）真空弁が開いて汚水ます１０内の汚水Ｑの水位が
下がるとセンサレバー２２０は空気通路を閉じる。その
時から、第２室２０４と第３室２０５が同圧真空となっ
て主弁１４が閉じるまでの時間は、当初の第２室２０４
と第３室２０５の差圧に依存する。ここで第２室２０４
は大気圧で一定であるから第３室２０５の真空度に依存
することになる。この結果、真空度が高い場合には真空
弁（主弁１４）が開いている時間が長くなり、低い場合
は短くなる。即ち、ライン１５の真空度が高いときに
は、真空弁の開いている時間が長く且つ吸引力も強いた
め大量の空気を吸い、逆に真空度が低いときは真空弁が
開いている時間が短く且つ吸引力も弱いため殆ど空気を
吸わない傾向になる。
００には下記のような欠点があった。 （１）真空弁が開いて汚水ます１０内の汚水Ｑの水位が
下がるとセンサレバー２２０は空気通路を閉じる。その
時から、第２室２０４と第３室２０５が同圧真空となっ
て主弁１４が閉じるまでの時間は、当初の第２室２０４
と第３室２０５の差圧に依存する。ここで第２室２０４
は大気圧で一定であるから第３室２０５の真空度に依存
することになる。この結果、真空度が高い場合には真空
弁（主弁１４）が開いている時間が長くなり、低い場合
は短くなる。即ち、ライン１５の真空度が高いときに
は、真空弁の開いている時間が長く且つ吸引力も強いた
め大量の空気を吸い、逆に真空度が低いときは真空弁が
開いている時間が短く且つ吸引力も弱いため殆ど空気を
吸わない傾向になる。
【０００９】（２）気液比、即ち吸込管１２で吸い込む
空気と汚水の割合が、真空度に依存する。つまり真空度
が大きいと、気液比が大となり、真空度が小さいと、気
液比が小となる。
空気と汚水の割合が、真空度に依存する。つまり真空度
が大きいと、気液比が大となり、真空度が小さいと、気
液比が小となる。
【００１０】（３）真空度が低い時は空気を殆ど吸わず
に主弁１４を閉じるため管（主にライン）内にエアロッ
クが発生し易い。
に主弁１４を閉じるため管（主にライン）内にエアロッ
クが発生し易い。
【００１１】（４）気液比の調整を微細なニードル弁２
１５で行なっているため、水滴等がニードル弁２１５に
さしかかると該ニードル弁２１５を塞ぐため第１室２０
３と第２室２０４とがなかなか同圧真空とならず主弁１
４がなかなか閉じない。
１５で行なっているため、水滴等がニードル弁２１５に
さしかかると該ニードル弁２１５を塞ぐため第１室２０
３と第２室２０４とがなかなか同圧真空とならず主弁１
４がなかなか閉じない。
【００１２】（５）制御装置２００のケーシング内に水
等の液の浸入を防ぐため、基本的には屋外にブリーザー
管２１０を設置する必要がある。
等の液の浸入を防ぐため、基本的には屋外にブリーザー
管２１０を設置する必要がある。
【００１３】（６）真空ポンプ場に近い真空弁は気液比
を極力小さくすることが望ましいが、通常の真空度−
０．３〜−０．７ｋｇ／ｃｍ2では気液比を小さくする
ことが難しい。即ち空気を必要以上に吸うため真空ポン
プの負担が大きくなる。
を極力小さくすることが望ましいが、通常の真空度−
０．３〜−０．７ｋｇ／ｃｍ2では気液比を小さくする
ことが難しい。即ち空気を必要以上に吸うため真空ポン
プの負担が大きくなる。
【００１４】（７）ニードル弁等の数多くの部品を必要
とし、構造が複雑で、且つメンテナンスに時間がかか
る。
とし、構造が複雑で、且つメンテナンスに時間がかか
る。
【００１５】（８）制御装置の作動力として真空を使用
しているため、真空度の変動により動作が不安定になる
ことがある。
しているため、真空度の変動により動作が不安定になる
ことがある。
【００１６】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、上記（１）乃至（８）の欠点を除去し、構造が簡単
で動作の安定した真空式下水道システムの真空弁制御装
置を提供することを目的とする。
で、上記（１）乃至（８）の欠点を除去し、構造が簡単
で動作の安定した真空式下水道システムの真空弁制御装
置を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、真空弁の開により真空系に連通し該真空弁の
閉により真空系から遮断される吸込管を具備し、該真空
弁の開により汚水ます中の汚水を該吸込管で吸引し、所
定の場所に移送する真空式下水道システムの真空弁制御
装置であって、吸込管により汚水を吸引し、水位が低下
し該吸込管が下端から空気を吸い込み始めたことを検出
する検出手段を設け、吸込管が空気を吸い込み始めたこ
とを検出手段が検出したら真空弁を閉じる制御手段を設
けたことを特徴とする。
本発明は、真空弁の開により真空系に連通し該真空弁の
閉により真空系から遮断される吸込管を具備し、該真空
弁の開により汚水ます中の汚水を該吸込管で吸引し、所
定の場所に移送する真空式下水道システムの真空弁制御
装置であって、吸込管により汚水を吸引し、水位が低下
し該吸込管が下端から空気を吸い込み始めたことを検出
する検出手段を設け、吸込管が空気を吸い込み始めたこ
とを検出手段が検出したら真空弁を閉じる制御手段を設
けたことを特徴とする。
【００１８】また、検出手段は吸込管内の高さの異なる
２点間の圧力差の変化から吸込管が空気を吸い込み始め
たことを検出することを特徴とする。
２点間の圧力差の変化から吸込管が空気を吸い込み始め
たことを検出することを特徴とする。
【００１９】また、制御手段は真空弁を開閉する真空弁
開閉機構と、該真空弁開閉機構を作動させる往復動する
軸と、該軸に取り付けられた第１ダイヤフラムと第２ダ
イヤフラムと、該軸を常時真空弁を閉じる方向に付勢す
るバネと、第１ダイヤフラムの両面にそれぞれ圧力を作
用させる圧力室と、第２ダイヤフラム片面に該軸が真空
弁を開く方向に圧力を作用させる圧力室を設けると共
に、汚水ますの水位上昇を圧力に変換する圧力センサー
管を設け、吸込管内の高さの異なる２点の汚水圧をその
第１ダイヤフラムの両面の圧力室に圧力差がバネの弾発
力に抗して軸を真空弁を開く方向に作用するように導く
と共に、圧力センサー管で発生した圧力を第２ダイヤフ
ラム片面に設けた圧力室に導くことを特徴とする。
開閉機構と、該真空弁開閉機構を作動させる往復動する
軸と、該軸に取り付けられた第１ダイヤフラムと第２ダ
イヤフラムと、該軸を常時真空弁を閉じる方向に付勢す
るバネと、第１ダイヤフラムの両面にそれぞれ圧力を作
用させる圧力室と、第２ダイヤフラム片面に該軸が真空
弁を開く方向に圧力を作用させる圧力室を設けると共
に、汚水ますの水位上昇を圧力に変換する圧力センサー
管を設け、吸込管内の高さの異なる２点の汚水圧をその
第１ダイヤフラムの両面の圧力室に圧力差がバネの弾発
力に抗して軸を真空弁を開く方向に作用するように導く
と共に、圧力センサー管で発生した圧力を第２ダイヤフ
ラム片面に設けた圧力室に導くことを特徴とする。
【００２０】また、第１ダイヤフラムの両面の圧力室に
汚水圧を導く管内に流体抵抗を設け、該流体抵抗に吸込
管内の高さの異なる２点間の差圧の短周期の変動による
軸の短周期の往復動を防止し、且つ第１ダイヤフラムの
動きを遅くし真空弁の吸入空気量を調節する機能を持た
せたことを特徴とする。
汚水圧を導く管内に流体抵抗を設け、該流体抵抗に吸込
管内の高さの異なる２点間の差圧の短周期の変動による
軸の短周期の往復動を防止し、且つ第１ダイヤフラムの
動きを遅くし真空弁の吸入空気量を調節する機能を持た
せたことを特徴とする。
【００２１】また、軸を真空弁を閉じる方向に吸引する
磁石を設けたことを特徴とする。
磁石を設けたことを特徴とする。
【００２２】
【作用】本発明は上記構成を採用することにより、吸込
管が空気を吸い込み始めたことを検出してから、真空弁
を閉じるから、真空度によって吸気がばらつくという問
題がなく、真空度が低くても必ず吸込管から空気が吸い
込まれるため管内のエアーロックが発生しにくくなる。
管が空気を吸い込み始めたことを検出してから、真空弁
を閉じるから、真空度によって吸気がばらつくという問
題がなく、真空度が低くても必ず吸込管から空気が吸い
込まれるため管内のエアーロックが発生しにくくなる。
【００２３】また、真空弁制御装置の作動力に真空を用
いないので真空度に動作が左右されることなく、動作が
安定する。また、ブリーザー管の設置も必要ない。
いないので真空度に動作が左右されることなく、動作が
安定する。また、ブリーザー管の設置も必要ない。
【００２４】吸込管内の高さの異なる２点間の圧力差
は、汚水吸い込み時は大きく、空気吸い込み時は小さく
なるから、この圧力差が急激に小さくなる点から吸込管
が空気を吸い込み始めたことを検出できる。
は、汚水吸い込み時は大きく、空気吸い込み時は小さく
なるから、この圧力差が急激に小さくなる点から吸込管
が空気を吸い込み始めたことを検出できる。
【００２５】また、第１ダイヤフラムの両面の圧力室に
汚水圧を導く管に絞り機構を設け、該絞り機構に吸込管
内の高さの異なる２点間の差圧の短周期の変動による軸
の短周期の移動を防止し且つ第１ダイヤフラムの動きを
遅くし真空弁の吸入空気量を調節する機能を持たせるこ
とにより、吸込管内の高さの異なる２点間の差圧の短周
期の変動による真空弁の開閉を防止し、真空弁の吸入空
気量を調節することができる。
汚水圧を導く管に絞り機構を設け、該絞り機構に吸込管
内の高さの異なる２点間の差圧の短周期の変動による軸
の短周期の移動を防止し且つ第１ダイヤフラムの動きを
遅くし真空弁の吸入空気量を調節する機能を持たせるこ
とにより、吸込管内の高さの異なる２点間の差圧の短周
期の変動による真空弁の開閉を防止し、真空弁の吸入空
気量を調節することができる。
【００２６】また、軸に第２ダイヤフラムを取付けると
共に、汚水ますの水位上昇を圧力に変換するセンサー管
を設け、更に該第２ダイヤフラム片面に軸が真空弁を開
く方向に圧力を作用させる圧力室を設け、該センサー管
で発生した該圧力室に導くことを特徴とする。
共に、汚水ますの水位上昇を圧力に変換するセンサー管
を設け、更に該第２ダイヤフラム片面に軸が真空弁を開
く方向に圧力を作用させる圧力室を設け、該センサー管
で発生した該圧力室に導くことを特徴とする。
【００２７】また、軸を真空弁を閉じる方向に吸引する
磁石を設けたことにより、圧力センサー管に発生した圧
力が第２ダイヤフラムに作用し、該軸が真空弁を開く方
向に移動し、該磁石の付勢力を脱し、該軸の移動に伴っ
て増大するバネの付勢力に抗し一気に移動端まで移動す
るから、真空弁の開閉動作が迅速で且つ安定する。
磁石を設けたことにより、圧力センサー管に発生した圧
力が第２ダイヤフラムに作用し、該軸が真空弁を開く方
向に移動し、該磁石の付勢力を脱し、該軸の移動に伴っ
て増大するバネの付勢力に抗し一気に移動端まで移動す
るから、真空弁の開閉動作が迅速で且つ安定する。
【００２８】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。図１は本発明の真空弁制御装置を用いた真空式下水
道システムの構成を示す図で、図２は真空弁制御装置の
構成を示す図である。同図において、図３と同一符号を
付した部分は同一又は相当部分を示す。同図において、
１８は吸込管１２で汚水吸引と同時に空気を吸引する同
時吸引空気管である。
る。図１は本発明の真空弁制御装置を用いた真空式下水
道システムの構成を示す図で、図２は真空弁制御装置の
構成を示す図である。同図において、図３と同一符号を
付した部分は同一又は相当部分を示す。同図において、
１８は吸込管１２で汚水吸引と同時に空気を吸引する同
時吸引空気管である。
【００２９】２０は制御装置であり、制御装置２０はケ
ーシング２１を具備し、該ケーシング２１は大径部２１
ａと小径２１ｂが一体となった構造である。大径部２１
ａは中央部に弁体２３の軸２４が貫通する隔壁２２が設
けられ、左右室に区分されている。左側の室は中央部に
設けられた第２のダイヤフラム２５により第１室２６と
第２室２７に区分され、右側の室は中央部に設けられた
第１のダイヤフラム２８により第３室２９と第４室３０
に区分されている。また、小径２１ｂは隔壁３１で左右
室に区分され左側の室は前記第４室３０に連通し、右側
の室は隔壁３２で第５室３３と第６室３４に区分されて
いる。
ーシング２１を具備し、該ケーシング２１は大径部２１
ａと小径２１ｂが一体となった構造である。大径部２１
ａは中央部に弁体２３の軸２４が貫通する隔壁２２が設
けられ、左右室に区分されている。左側の室は中央部に
設けられた第２のダイヤフラム２５により第１室２６と
第２室２７に区分され、右側の室は中央部に設けられた
第１のダイヤフラム２８により第３室２９と第４室３０
に区分されている。また、小径２１ｂは隔壁３１で左右
室に区分され左側の室は前記第４室３０に連通し、右側
の室は隔壁３２で第５室３３と第６室３４に区分されて
いる。
【００３０】軸２４の先端に固定された弁体２３は第６
室３４に配置され、該軸２４の後端は第２のダイヤフラ
ム２５の中央部に固定されている。該軸２４は隔壁２２
を貫通し、第１のダイヤフラム２８を嵌挿（第１のダイ
ヤフラム２８は軸２４の後端に固定ネジ２４ａで固定さ
れている）し、更に隔壁３１、隔壁３２を貫通してい
る。軸２４が隔壁２２を貫通する貫通部にはシール機構
３５が、隔壁３１を貫通する貫通部にはシール機構３６
がそれぞれ設けられ、軸２４の隔壁３２の貫通部には弁
体２３で開閉される貫通孔３２ａが設けられている。３
７は第１のダイヤフラム２８を左側に押すバネである。
室３４に配置され、該軸２４の後端は第２のダイヤフラ
ム２５の中央部に固定されている。該軸２４は隔壁２２
を貫通し、第１のダイヤフラム２８を嵌挿（第１のダイ
ヤフラム２８は軸２４の後端に固定ネジ２４ａで固定さ
れている）し、更に隔壁３１、隔壁３２を貫通してい
る。軸２４が隔壁２２を貫通する貫通部にはシール機構
３５が、隔壁３１を貫通する貫通部にはシール機構３６
がそれぞれ設けられ、軸２４の隔壁３２の貫通部には弁
体２３で開閉される貫通孔３２ａが設けられている。３
７は第１のダイヤフラム２８を左側に押すバネである。
【００３１】ケーシング２１の後端壁の軸２４の後端
（磁性体からなる固定ネジ２４ａ）に対向する位置には
磁石３８が設けられている。第６室３４は弁体２３で開
閉され、大気に連通する孔３９が設けられている。吸込
管１２には上下所定の間隔を設けて圧力検出孔１６，１
７が設けられ、圧力検出孔１６はパイプ４１で第４室３
０に連通し、圧力検出孔１７はパイプ４０で第３室２９
に連通し、更に圧力センサー管１１はパイプ４２で第１
室２６に連通する。また、第２室２７は孔４３で大気に
連通している。また、第５室３３はパイプ４４でライン
１５に連通し、第６室３４はパイプ４５で真空弁本体１
３の室１３ｃに連通している。
（磁性体からなる固定ネジ２４ａ）に対向する位置には
磁石３８が設けられている。第６室３４は弁体２３で開
閉され、大気に連通する孔３９が設けられている。吸込
管１２には上下所定の間隔を設けて圧力検出孔１６，１
７が設けられ、圧力検出孔１６はパイプ４１で第４室３
０に連通し、圧力検出孔１７はパイプ４０で第３室２９
に連通し、更に圧力センサー管１１はパイプ４２で第１
室２６に連通する。また、第２室２７は孔４３で大気に
連通している。また、第５室３３はパイプ４４でライン
１５に連通し、第６室３４はパイプ４５で真空弁本体１
３の室１３ｃに連通している。
【００３２】上記構成の真空弁制御装置を用いた真空式
下水道システムにおいて、汚水ます１０の汚水の水位が
上昇し、圧力センサー管１１の圧力が上昇すると、該圧
力はパイプ４２を通って制御装置２０内の第１室２６に
伝えられる。これにより第２のダイヤフラム２５がバネ
３７の弾発力及び磁石３８の磁気吸引力に打ち勝って右
に移動し、軸２４を押すから弁体２３は大気に連通する
孔３９を閉じる。するとライン１５の真空がパイプ４４
を通って第５室３３及び第６室３４に伝えられ、更に真
空弁本体１３の室１３ｃに伝えられる。これにより主弁
１４は引上げられる。
下水道システムにおいて、汚水ます１０の汚水の水位が
上昇し、圧力センサー管１１の圧力が上昇すると、該圧
力はパイプ４２を通って制御装置２０内の第１室２６に
伝えられる。これにより第２のダイヤフラム２５がバネ
３７の弾発力及び磁石３８の磁気吸引力に打ち勝って右
に移動し、軸２４を押すから弁体２３は大気に連通する
孔３９を閉じる。するとライン１５の真空がパイプ４４
を通って第５室３３及び第６室３４に伝えられ、更に真
空弁本体１３の室１３ｃに伝えられる。これにより主弁
１４は引上げられる。
【００３３】この時、圧力センサー管１１の圧力によ
り、第２のダイヤフラム２５が押され、軸２４が動き始
めるとその移動に伴ってバネ３７の弾発力は増大する
が、磁石３８の磁気吸引力は急激に減少（移動距離の２
乗に反比例）するから、軸２４は一気に移動端、即ち弁
体２３が孔３９を閉じる位置まで移動する。ここで第５
室３３、第６室３４及び弁体２３は真空弁１３を開閉す
る真空弁開閉機構を構成する。
り、第２のダイヤフラム２５が押され、軸２４が動き始
めるとその移動に伴ってバネ３７の弾発力は増大する
が、磁石３８の磁気吸引力は急激に減少（移動距離の２
乗に反比例）するから、軸２４は一気に移動端、即ち弁
体２３が孔３９を閉じる位置まで移動する。ここで第５
室３３、第６室３４及び弁体２３は真空弁１３を開閉す
る真空弁開閉機構を構成する。
【００３４】主弁１４は引上げられると、ライン１５と
吸込管１２は連通するから、汚水が吸引され始め、圧力
検出孔１６と圧力検出孔１７の間に差圧が発生し、これ
がパイプ４１とパイプ４０を通して第４室３０と第３室
２９のそれぞれに伝えられる。この差圧は第１のダイヤ
フラム２８を右側へ押す力となり、軸２４を介して弁体
２３は更に右側に押し付けられる。汚水の水位が下がっ
て第１室２６と第２室２７の圧力差が無くなっても、第
４室３０と第３室２９の差圧のために弁体２３は右側に
押し付けられたままとなっている。
吸込管１２は連通するから、汚水が吸引され始め、圧力
検出孔１６と圧力検出孔１７の間に差圧が発生し、これ
がパイプ４１とパイプ４０を通して第４室３０と第３室
２９のそれぞれに伝えられる。この差圧は第１のダイヤ
フラム２８を右側へ押す力となり、軸２４を介して弁体
２３は更に右側に押し付けられる。汚水の水位が下がっ
て第１室２６と第２室２７の圧力差が無くなっても、第
４室３０と第３室２９の差圧のために弁体２３は右側に
押し付けられたままとなっている。
【００３５】汚水の水位が更に下がり、吸込管１２の下
端が空気を吸うようになると、圧力検出孔１６と圧力検
出孔１７の間に差圧が無くなるため、バネ３７により第
１のダイヤフラム２８は左側へ押され、弁体２３は左側
に押し付けられ、隔壁３２の貫通孔３２ａを閉じる。こ
れにより、第６室３４に大気が流入し、該大気はパイプ
４５を通して真空弁本体１３の室１３ｃに流入し、主弁
１４はバネ１３ａに押されて、吸込管１２とライン１５
との間の孔を閉じ、吸込管１２とライン１５の連通を遮
断する。
端が空気を吸うようになると、圧力検出孔１６と圧力検
出孔１７の間に差圧が無くなるため、バネ３７により第
１のダイヤフラム２８は左側へ押され、弁体２３は左側
に押し付けられ、隔壁３２の貫通孔３２ａを閉じる。こ
れにより、第６室３４に大気が流入し、該大気はパイプ
４５を通して真空弁本体１３の室１３ｃに流入し、主弁
１４はバネ１３ａに押されて、吸込管１２とライン１５
との間の孔を閉じ、吸込管１２とライン１５の連通を遮
断する。
【００３６】実際に主弁１４が開いて汚水Ｑを吸引し始
めると同時吸引空気管１８で空気も同時に吸引される。
めると同時吸引空気管１８で空気も同時に吸引される。
【００３７】図３は吸込管１２の高さの異なる圧力検出
孔１６と圧力検出孔１７の間の圧力差の変化の様子を示
す図で、図３（ａ）は汚水吸い込み時の圧力差を、図３
（ｂ）は空気吸い込み時の圧力差を示す。汚水吸い込み
時の圧力差はα1×ｈとなり大きく、空気吸い込み時は
α2×ｈとなり非常に小さくなる。従って、第３室２９
と第４室３０の間にはこの圧力差が加わることになり、
汚水吸い込み時はα1×ｈの差圧で第１のダイヤフラム
２８を右側に押し、空気吸い込み時は第３室２９と第４
室３０の差圧は略零となる。圧力差が非常に小さくなっ
た点が、汚水Ｑのレベルが吸込管１２の下端に達したこ
と、即ち空気を吸引するレベルに達したことになる。
孔１６と圧力検出孔１７の間の圧力差の変化の様子を示
す図で、図３（ａ）は汚水吸い込み時の圧力差を、図３
（ｂ）は空気吸い込み時の圧力差を示す。汚水吸い込み
時の圧力差はα1×ｈとなり大きく、空気吸い込み時は
α2×ｈとなり非常に小さくなる。従って、第３室２９
と第４室３０の間にはこの圧力差が加わることになり、
汚水吸い込み時はα1×ｈの差圧で第１のダイヤフラム
２８を右側に押し、空気吸い込み時は第３室２９と第４
室３０の差圧は略零となる。圧力差が非常に小さくなっ
た点が、汚水Ｑのレベルが吸込管１２の下端に達したこ
と、即ち空気を吸引するレベルに達したことになる。
【００３８】また、圧力検出孔１７と第３室２９を接続
するパイプ４０と圧力検出孔１６と第４室４０を接続す
るパイプ４１のそれぞれに流体の流れに対する流体抵抗
４０ａ、４１ａを設ける。該流体抵抗４０ａ及び４１ａ
には圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の差圧の短周期の
変動による軸２４の短周期の往復動を防止し、第１のダ
イヤフラム２８の動きを遅くし、真空弁の吸入空気量を
調節する機能を持たせるようにする。これにより、真空
弁１３は圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の差圧の短周
期の変動に応答して開閉することがなく、動作が安定す
る。
するパイプ４０と圧力検出孔１６と第４室４０を接続す
るパイプ４１のそれぞれに流体の流れに対する流体抵抗
４０ａ、４１ａを設ける。該流体抵抗４０ａ及び４１ａ
には圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の差圧の短周期の
変動による軸２４の短周期の往復動を防止し、第１のダ
イヤフラム２８の動きを遅くし、真空弁の吸入空気量を
調節する機能を持たせるようにする。これにより、真空
弁１３は圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の差圧の短周
期の変動に応答して開閉することがなく、動作が安定す
る。
【００３９】図４は圧力センサー管に発生する圧力と制
御装置の作動タイミングを示す図で、横軸はタイミング
を、縦軸は水位（ｃｍ）に換算した圧力を示す。同図に
おいて、Ｅは軸２４を右方向（真空弁開方向）に移動さ
せようとする力、Ｆは軸２４を左方向（真空弁閉方向）
に移動させようとする力（バネ３７の弾発力と磁石３８
の磁気吸引力の和）を示す。また、Ｇは制御装置２０が
作動する設定値、Ｈは吸込管１２に汚水が吸い込まれた
時の圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の圧力差、Ｉはシ
ール機構３５、３６等の摩擦力を示す。
御装置の作動タイミングを示す図で、横軸はタイミング
を、縦軸は水位（ｃｍ）に換算した圧力を示す。同図に
おいて、Ｅは軸２４を右方向（真空弁開方向）に移動さ
せようとする力、Ｆは軸２４を左方向（真空弁閉方向）
に移動させようとする力（バネ３７の弾発力と磁石３８
の磁気吸引力の和）を示す。また、Ｇは制御装置２０が
作動する設定値、Ｈは吸込管１２に汚水が吸い込まれた
時の圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の圧力差、Ｉはシ
ール機構３５、３６等の摩擦力を示す。
【００４０】圧力センサー管１１内に発生する圧力は第
１室２６に作用し、制御装置２０の第２のダイヤフラム
２５を右方向に押すが、汚水ます１０内の汚水レベルが
所定レベル（ＨＷＬ）に達すると、該押圧力がバネ３７
の弾発力と磁石３８の磁気吸引力に打ち勝って軸２４を
右方向（真空弁開方向）に弁体２３が孔３９を閉じるま
で移動させる。この時の力ＥとＦの関係はＥ＞Ｆであ
り、制御装置２０は真空弁開動作Ａとなる。弁体２３が
孔３９を閉じると、真空弁１３の主弁１４が開き、汚水
ます１０の汚水Ｑは吸引管１２に吸い上げられ汚水レベ
ルは降下する。
１室２６に作用し、制御装置２０の第２のダイヤフラム
２５を右方向に押すが、汚水ます１０内の汚水レベルが
所定レベル（ＨＷＬ）に達すると、該押圧力がバネ３７
の弾発力と磁石３８の磁気吸引力に打ち勝って軸２４を
右方向（真空弁開方向）に弁体２３が孔３９を閉じるま
で移動させる。この時の力ＥとＦの関係はＥ＞Ｆであ
り、制御装置２０は真空弁開動作Ａとなる。弁体２３が
孔３９を閉じると、真空弁１３の主弁１４が開き、汚水
ます１０の汚水Ｑは吸引管１２に吸い上げられ汚水レベ
ルは降下する。
【００４１】汚水レベルが吸込管下端レベル（ＬＷＬ）
まで下がると、吸引管１２に空気が吸い込まれる。空気
が吸い込まれると圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の間
の差圧は略零となり、Ｅ＜Ｆとなと、軸２４は左方向
（真空弁閉方向）に移動する真空弁閉動作Ｂに移る。
まで下がると、吸引管１２に空気が吸い込まれる。空気
が吸い込まれると圧力検出孔１７と圧力検出孔１６の間
の差圧は略零となり、Ｅ＜Ｆとなと、軸２４は左方向
（真空弁閉方向）に移動する真空弁閉動作Ｂに移る。
【００４２】制御装置２０を上記のように構成すること
により、汚水の水位が下がり、吸込管１２の下端が空気
を吸うようになったことを圧力検出孔１６と圧力検出孔
１７の間の差圧が無くなったことで検出し、真空弁の主
弁１４を閉じて吸込管１２とライン１５の連通を遮断す
るから真空弁の極端な閉鎖遅れが無く、汚水ます１０内
の汚水を吸い終えた後、吸込管１２が一気に大量の空気
を吸い、家の中のトイレ等の水位を下げ、トラップを破
壊するということはない。
により、汚水の水位が下がり、吸込管１２の下端が空気
を吸うようになったことを圧力検出孔１６と圧力検出孔
１７の間の差圧が無くなったことで検出し、真空弁の主
弁１４を閉じて吸込管１２とライン１５の連通を遮断す
るから真空弁の極端な閉鎖遅れが無く、汚水ます１０内
の汚水を吸い終えた後、吸込管１２が一気に大量の空気
を吸い、家の中のトイレ等の水位を下げ、トラップを破
壊するということはない。
【００４３】制御装置２０を上記のように構成すること
により、従来のように真空弁制御装置の作動力に真空を
用いないので、真空を用いることにより生じる上記従来
の問題点が生じることがなく、真空度に動作が作用され
ないから、安定した動作が得られる。
により、従来のように真空弁制御装置の作動力に真空を
用いないので、真空を用いることにより生じる上記従来
の問題点が生じることがなく、真空度に動作が作用され
ないから、安定した動作が得られる。
【００４４】なお、上記実施例では吸込管１２の空気吸
込開始点の汚水レベルを吸込管１２の上下方向の高さの
異なる圧力検出孔１６，１７の間の圧力差の変化より検
出するようにしたが、空気吸込開始の検出手段はこれに
限定されるものではない。
込開始点の汚水レベルを吸込管１２の上下方向の高さの
異なる圧力検出孔１６，１７の間の圧力差の変化より検
出するようにしたが、空気吸込開始の検出手段はこれに
限定されるものではない。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、下
記のような優れた効果が得られる。 （１）吸込管が空気を吸い込み始めたことを検出手段が
検出したら真空弁を閉じるので、真空度によって吸気が
ばらつくという問題がなくなる。
記のような優れた効果が得られる。 （１）吸込管が空気を吸い込み始めたことを検出手段が
検出したら真空弁を閉じるので、真空度によって吸気が
ばらつくという問題がなくなる。
【００４６】（２）また、検出手段は吸込管内の高さの
異なる２点間の圧力差の変化から吸込管が空気を吸い込
み始めたことを検出し、真空弁を閉じるようにするの
で、従来のように真空を用いるのとは異なり構造が簡単
で部品点数が少なく、メンテナンスが容易になる。
異なる２点間の圧力差の変化から吸込管が空気を吸い込
み始めたことを検出し、真空弁を閉じるようにするの
で、従来のように真空を用いるのとは異なり構造が簡単
で部品点数が少なく、メンテナンスが容易になる。
【図１】本発明の真空弁制御装置を用いた真空式下水道
システムの構成を示す図である。
システムの構成を示す図である。
【図２】本発明の真空弁制御装置の構成を示す図であ
る。
る。
【図３】吸込管の高さの異なる圧力検出孔の間の圧力差
の変化の様子を示す図である。
の変化の様子を示す図である。
【図４】センサ管に発生する圧力と制御装置の作動タイ
ミングを示す図である。
ミングを示す図である。
【図５】従来の真空式下水道システムの構成例を示す図
である。
である。
１０ 汚水ます １１ 圧力センサ １２ 吸込管 １３ 真空弁本体 １４ 主弁 １５ ライン １６ 圧力検出孔 １７ 圧力検出孔 １８ 同時吸引空気管 ２０ 制御装置 ２１ ケーシング ２２ 隔壁 ２３ 弁体 ２４ 軸 ２５ ダイヤフラム ２６ 第１室 ２７ 第２室 ２８ ダイヤフラム ２９ 第３室 ３０ 第４室 ３１ 隔壁 ３２ 隔壁 ３３ 第５室 ３４ 第６室 ３５ シール機構 ３６ シール機構 ３７ バネ ３８ 磁石 ３９ 孔 ４０ パイプ ４１ パイプ ４２ パイプ ４３ 孔 ４４ パイプ
Claims (5)
- 【請求項１】 真空弁の開により真空系に連通し該真空
弁の閉により真空系から遮断される吸込管を具備し、該
真空弁の開により汚水ます中の汚水を該吸込管で吸引
し、所定の場所に移送する真空式下水道システムの真空
弁制御装置であって、 前記吸込管により汚水を吸引し、水位が低下し該吸込管
が下端から空気を吸い込み始めたことを検出する検出手
段を設け、 前記吸込管が空気を吸い込み始めたことを前記検出手段
が検出したら前記真空弁を閉じる制御手段を設けたこと
を特徴とする真空式下水道システムの真空弁制御装置。 - 【請求項２】 前記検出手段は前記吸込管内の高さの異
なる２点間の圧力差の変化から前記吸込管が空気を吸い
込み始めたことを検出することを特徴とする請求項１に
記載の真空式下水道システムの真空弁制御装置。 - 【請求項３】 前記制御手段は前記真空弁を開閉する真
空弁開閉機構と、該真空弁開閉機構を作動させる往復動
する軸と、該軸に取り付けられた第１ダイヤフラムと第
２ダイヤフラムと、該軸を常時真空弁を閉じる方向に付
勢するバネと、前記第１ダイヤフラムの両面にそれぞれ
圧力を作用させる圧力室と、前記第２ダイヤフラム片面
に該軸が前記真空弁を開く方向に圧力を作用させる圧力
室を設けると共に、前記汚水ますの水位上昇を圧力に変
換する圧力センサー管を設け、前記吸込管内の高さの異
なる２点の汚水圧をその前記第１ダイヤフラムの両面の
圧力室に圧力差が前記バネの弾発力に抗して前記軸を真
空弁を開く方向に作用するように導くと共に、前記圧力
センサー管で発生した圧力を前記第２ダイヤフラム片面
に設けた圧力室に導くことを特徴とする請求項１に記載
の真空式下水道システムの真空弁制御装置。 - 【請求項４】 前記第１ダイヤフラムの両面のの圧力室
に汚水圧を導く管内に流体抵抗を設け、該流体抵抗に前
記吸込管内の高さの異なる２点間の差圧の短周期の変動
による前記軸の短周期の往復動を防止し且つ前記第１ダ
イヤフラムの動きを遅くし前記真空弁の吸入空気量を調
節する機能を持たせたことを特徴とする請求項３に記載
の真空式下水道システムの真空弁制御装置。 - 【請求項５】 前記軸を前記真空弁を閉じる方向に吸引
する磁石を設けたことを特徴とする請求項３又は４に記
載の真空式下水道システムの真空弁制御装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07039362A JP3079411B2 (ja) | 1994-04-19 | 1995-02-02 | 真空式下水道システムの真空弁制御装置 |
| KR1019950006829A KR100401380B1 (ko) | 1994-04-19 | 1995-03-29 | 진공하수시스템용진공밸브제어기 |
| EP19950104657 EP0678631A3 (en) | 1994-04-19 | 1995-03-29 | Control device for vacuum valve for vacuum sewage system. |
| US08/417,764 US5588458A (en) | 1994-04-19 | 1995-04-06 | Vacuum valve controller for vacuum sewer system |
| CN95105070A CN1065582C (zh) | 1994-04-19 | 1995-04-18 | 真空污水系统用的真空阀控制器 |
Applications Claiming Priority (3)
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| US6467497B1 (en) * | 1999-04-21 | 2002-10-22 | Evac International Oy | Buffer box for use in a vacuum drainage system |
| US6655402B1 (en) * | 2002-06-13 | 2003-12-02 | U.S. Environmental Protection Agency | System and method for vacuum flushing sewer solids |
| JP4105581B2 (ja) * | 2003-04-10 | 2008-06-25 | 株式会社荏原製作所 | 真空弁制御装置 |
| FI117298B (fi) * | 2005-01-25 | 2006-08-31 | Evac Int Oy | Alipaineviemärijärjestelmä |
| US7374669B2 (en) * | 2005-04-26 | 2008-05-20 | Acorn Engineering Co. | Vacuum waste removal system |
| US20090116969A1 (en) * | 2007-11-02 | 2009-05-07 | Mcvicker R Vance | Rail tank car evacuation and transfer system and method |
| CN102428235B (zh) * | 2009-04-03 | 2013-10-23 | 株式会社酉岛制作所 | 真空阀的控制装置 |
| US9828757B2 (en) * | 2010-01-27 | 2017-11-28 | Ip Sensing, Inc. | Distributed control system for a vacuum sewer system |
| US8228190B2 (en) * | 2010-02-24 | 2012-07-24 | Data Flow Systems, Inc. | Valve malfunctioning detection system for a vacuum sewer an associated methods |
| DE102010000609B4 (de) * | 2010-03-02 | 2015-03-12 | Roediger Vacuum Gmbh | Steueranordnung |
| CN102011430B (zh) * | 2010-09-25 | 2012-10-17 | 中国恩菲工程技术有限公司 | 从低位向高位输送液体的液体输送设备及污水提升系统 |
| US10001787B2 (en) * | 2014-06-02 | 2018-06-19 | Aqseptence Group, Inc. | Controller for vacuum sewage system |
| BR112018012522B1 (pt) * | 2015-12-21 | 2022-10-04 | Tetra Laval Holdings & Finance Sa | Métodos para escorva de um conjunto de tanque de armazenamento intermediário e para instalar um comutador, conjunto de tanque de armazenamento intermediário. |
| FI127077B (en) * | 2016-04-19 | 2017-10-31 | Evac Oy | A method for checking a vacuum waste system and a vacuum waste system |
| US10648382B2 (en) * | 2016-10-05 | 2020-05-12 | Parker-Hannifin Corporation | Inerting and venting system |
| US10584473B2 (en) | 2017-12-08 | 2020-03-10 | Legend Energy Advisors | Controlling a vacuum sewer system |
| CN109056975A (zh) * | 2018-08-31 | 2018-12-21 | 杭州电子科技大学 | 一种地漏自控阀收集系统 |
| CN108980446B (zh) * | 2018-08-31 | 2020-03-17 | 杭州电子科技大学 | 一种引线按钮压力切换装置 |
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Family Cites Families (12)
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|---|---|---|---|---|
| US3777778A (en) * | 1972-08-30 | 1973-12-11 | Johnson Service Co | Two-position liquid level controller |
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| US3998736A (en) * | 1976-05-12 | 1976-12-21 | Greenleaf Jr John W | Sewage disposal system |
| US4373838A (en) * | 1981-02-13 | 1983-02-15 | Burton Mechanical Contractors Inc. | Vacuum sewage transport system |
| US4373837A (en) * | 1981-05-28 | 1983-02-15 | T. Y. Lin International | Pier with prestressed resiliant integral deck to absorb docking forces of ships |
| GB2149534B (en) * | 1983-11-08 | 1986-12-10 | Cowells Sewerage Systems Limit | Liquid level control system |
| US4691731A (en) * | 1983-12-08 | 1987-09-08 | Burton Mechanical Contractors, Inc. | Vacuum sewerage system with in pit breather |
| SE449883B (sv) * | 1984-02-10 | 1987-05-25 | Waertsilae Oy Ab | Anordning vid ett vakuumtransportsystem for vetskor t ex vakuumavloppssystem |
| GB2215492B (en) * | 1988-02-04 | 1992-09-30 | Cowells Int Ltd | Liquid level control system |
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| JPH062777A (ja) * | 1992-06-18 | 1994-01-11 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空弁 |
| JP2652494B2 (ja) * | 1992-10-08 | 1997-09-10 | 株式会社イナックス | 真空式下水道システムにおける真空弁ユニット |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1143982A (ja) * | 1997-07-25 | 1999-02-16 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空下水管の空気取入れ装置 |
| JP2011196113A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Ebara Corp | 真空弁の制御装置 |
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