JP2000096698A - 真空弁強制作動機器 - Google Patents
真空弁強制作動機器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構造であるにもかかわらず、安全且つ
確実に真空弁を強制作動させることができ、汚水ます内
に溜っている汚水を簡単に排出することができる真空弁
強制作動機器を提供すること。 【解決手段】 コントローラ１１の大気開放室１８にホ
ース４３によって強制作動ボール４１を接続する。強制
作動ボール４１は内部が空洞の弾性体であって所定位置
に空気抜き孔を設けた構造である。強制作動ボール４１
を握りつぶした後手を放すと、強制作動ボール４１は弾
性体の反発力で元の形に瞬時に戻り、大気開放室１８を
数秒間負圧にする。これによってシャフト１４が真空弁
４を開く方向に移動し、真空弁４を強制的に開にする。
その後空気抜き孔から強制作動ボール４１内に徐々に空
気が入って大気開放室１８が大気圧に戻る。
確実に真空弁を強制作動させることができ、汚水ます内
に溜っている汚水を簡単に排出することができる真空弁
強制作動機器を提供すること。 【解決手段】 コントローラ１１の大気開放室１８にホ
ース４３によって強制作動ボール４１を接続する。強制
作動ボール４１は内部が空洞の弾性体であって所定位置
に空気抜き孔を設けた構造である。強制作動ボール４１
を握りつぶした後手を放すと、強制作動ボール４１は弾
性体の反発力で元の形に瞬時に戻り、大気開放室１８を
数秒間負圧にする。これによってシャフト１４が真空弁
４を開く方向に移動し、真空弁４を強制的に開にする。
その後空気抜き孔から強制作動ボール４１内に徐々に空
気が入って大気開放室１８が大気圧に戻る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空式汚水収集シス
テムで使用する真空弁を簡便に強制作動させることがで
きる真空弁強制作動機器に関するものである。
テムで使用する真空弁を簡便に強制作動させることがで
きる真空弁強制作動機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、家庭や工場などから排出された汚
水を一旦地下に埋設された真空弁ユニット内の汚水ます
に溜め、該汚水が所定量溜ると真空弁ユニット内に設置
した真空弁が開いて該汚水を真空下水管に排出し、真空
ポンプ場などに送る真空式汚水収集システムが利用され
ている。
水を一旦地下に埋設された真空弁ユニット内の汚水ます
に溜め、該汚水が所定量溜ると真空弁ユニット内に設置
した真空弁が開いて該汚水を真空下水管に排出し、真空
ポンプ場などに送る真空式汚水収集システムが利用され
ている。
【０００３】図４は従来の真空弁制御装置の構成例を示
す図である。同図において、１は汚水ますであり、汚水
ます１内には吸込管３の一端が挿入され、吸込管３の他
端は真空弁４の弁体６を介して真空系に連通する真空下
水管５に接続されている。４は真空弁であり、真空弁４
はピストン室４ｃ内にダイヤフラム４ｂとダイヤフラム
４ｂを付勢するバネ４ａを収納し、また弁体６を具備し
ている。
す図である。同図において、１は汚水ますであり、汚水
ます１内には吸込管３の一端が挿入され、吸込管３の他
端は真空弁４の弁体６を介して真空系に連通する真空下
水管５に接続されている。４は真空弁であり、真空弁４
はピストン室４ｃ内にダイヤフラム４ｂとダイヤフラム
４ｂを付勢するバネ４ａを収納し、また弁体６を具備し
ている。
【０００４】そして汚水ます１内の汚水の水位が上昇し
て一定量溜ると、圧力センサ管２内の圧力が上昇して所
定の正圧になり、該圧力はパイプ３３を通ってコントロ
ーラ１１の第１室１７に伝えられ（このとき隔壁１５と
センサーダイヤフラム１６で仕切られて構成される大気
開放室１８は大気開放口１８ａによって常に大気圧に維
持されている）、センサーダイヤフラム１６がバネ２８
の弾発力及び磁石２９の磁気吸引力に打ち勝って右に移
動し、シャフト１４を押し、弁体１３は大気に連通する
開口３０を閉じる。つまりコントローラ１１は作動状態
となる。これにより真空下水管５の真空が逆止弁３８と
パイプ３５を通って第５室２４及び第６室２５に伝えら
れ、更にパイプ３６を通って真空弁４のピストン室４ｃ
に伝えられ、弁体６は引き上げられ、真空弁４が開く。
これによって汚水ます１内の汚水は吸込管３により吸い
込まれて真空下水管５に移送されていく。
て一定量溜ると、圧力センサ管２内の圧力が上昇して所
定の正圧になり、該圧力はパイプ３３を通ってコントロ
ーラ１１の第１室１７に伝えられ（このとき隔壁１５と
センサーダイヤフラム１６で仕切られて構成される大気
開放室１８は大気開放口１８ａによって常に大気圧に維
持されている）、センサーダイヤフラム１６がバネ２８
の弾発力及び磁石２９の磁気吸引力に打ち勝って右に移
動し、シャフト１４を押し、弁体１３は大気に連通する
開口３０を閉じる。つまりコントローラ１１は作動状態
となる。これにより真空下水管５の真空が逆止弁３８と
パイプ３５を通って第５室２４及び第６室２５に伝えら
れ、更にパイプ３６を通って真空弁４のピストン室４ｃ
に伝えられ、弁体６は引き上げられ、真空弁４が開く。
これによって汚水ます１内の汚水は吸込管３により吸い
込まれて真空下水管５に移送されていく。
【０００５】吸込管３に汚水が流れている間は、吸込管
３の高さの異なる差圧検出口９，１０の間に差圧が発生
するためコントローラ１１は作動状態のままであり、真
空弁４は開状態を維持する。
３の高さの異なる差圧検出口９，１０の間に差圧が発生
するためコントローラ１１は作動状態のままであり、真
空弁４は開状態を維持する。
【０００６】汚水の水位が下がり、吸込管３の下端が空
気を吸うようになると、両差圧検出口９，１０間の差圧
は無くなるためバネ２８によりダイヤフラム１９は左側
へ押されて移動し、弁体１３は左側に移動して図示する
位置に戻り、開口２６を閉じる。つまりコントローラ１
１は待機状態に切り代わる。
気を吸うようになると、両差圧検出口９，１０間の差圧
は無くなるためバネ２８によりダイヤフラム１９は左側
へ押されて移動し、弁体１３は左側に移動して図示する
位置に戻り、開口２６を閉じる。つまりコントローラ１
１は待機状態に切り代わる。
【０００７】これにより第６室２５に大気が流入し、該
大気はパイプ３６を通して真空弁４のピストン室４ｃに
流入し、弁体６はバネ４ａに押されて真空下水管５を自
動的に閉じ、真空下水管５への空気の流入が防止され
る。
大気はパイプ３６を通して真空弁４のピストン室４ｃに
流入し、弁体６はバネ４ａに押されて真空下水管５を自
動的に閉じ、真空下水管５への空気の流入が防止され
る。
【０００８】ところで真空弁ユニットのメンテナンス
は、人が汚水ます１の中に直接入って行なう場合が多
く、そのため汚水ます１内に溜っている汚水をメンテナ
ンス時に簡単に排出できるように真空弁４を簡便に強制
動作させる必要があった。
は、人が汚水ます１の中に直接入って行なう場合が多
く、そのため汚水ます１内に溜っている汚水をメンテナ
ンス時に簡単に排出できるように真空弁４を簡便に強制
動作させる必要があった。
【０００９】そこで従来は以下に示す２つの方法でコン
トローラ１１を強制的に作動させていた。
トローラ１１を強制的に作動させていた。
【００１０】大気開放口１８ａにホースを接続し、大
気開放室１８内の空気を人が吸い込むことによってセン
サーダイヤフラム１６を右方向に移動させ、これによっ
て真空弁４を強制動作させる方法。
気開放室１８内の空気を人が吸い込むことによってセン
サーダイヤフラム１６を右方向に移動させ、これによっ
て真空弁４を強制動作させる方法。
【００１１】大気開放口１８ａにハンドポンプを接続
し、ハンドポンプによって大気開放室１８内を負圧にし
てセンサーダイヤフラム１６を右方向に移動させ、これ
によって真空弁４を強制動作させる方法。
し、ハンドポンプによって大気開放室１８内を負圧にし
てセンサーダイヤフラム１６を右方向に移動させ、これ
によって真空弁４を強制動作させる方法。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の
方法については、真空弁ユニット内の汚水から発生する
ガスを人が吸い込むことになるため危険な作業であっ
た。
方法については、真空弁ユニット内の汚水から発生する
ガスを人が吸い込むことになるため危険な作業であっ
た。
【００１３】また上記の方法については、コントロー
ラ１１が作動して真空弁４が開いて汚水を吸い始めた
ら、ハンドポンプを操作して大気開放室１８を直ちに大
気圧に戻す必要があるが、ハンドポンプの操作を誤った
り、手間取ると、真空弁４が開きっぱなしになってしま
い、大量の空気を真空下水管５内に吸い込ませることに
なり、管路内の真空度が低下する恐れがあった。
ラ１１が作動して真空弁４が開いて汚水を吸い始めた
ら、ハンドポンプを操作して大気開放室１８を直ちに大
気圧に戻す必要があるが、ハンドポンプの操作を誤った
り、手間取ると、真空弁４が開きっぱなしになってしま
い、大量の空気を真空下水管５内に吸い込ませることに
なり、管路内の真空度が低下する恐れがあった。
【００１４】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
ありその目的は、簡単な構造であるにもかかわらず、安
全且つ確実に真空弁を強制作動させることができ、汚水
ます内に溜っている汚水を簡単に排出することができる
真空弁強制作動機器を提供することにある。
ありその目的は、簡単な構造であるにもかかわらず、安
全且つ確実に真空弁を強制作動させることができ、汚水
ます内に溜っている汚水を簡単に排出することができる
真空弁強制作動機器を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明は、先端が汚水ます内に配置された吸込管と汚
水を吸い込んで移送させる真空系との間に配置される真
空弁に所望の開閉圧力を供給してこれを開閉する真空弁
開閉機構と、該真空弁開閉機構を作動させて真空弁を開
閉するように往復動するシャフトと、該シャフトに取り
付けられたセンサーダイヤフラムと、該シャフトを真空
弁を閉じる方向に付勢するバネと、センサーダイヤフラ
ムの一方の面側に設けられる室と、センサーダイヤフラ
ムの他方の面側に設けられる大気開放室と、前記汚水ま
すの汚水の水位変化を圧力に変換して変換した圧力を前
記センサーダイヤフラムの一方の面側に設けた室に導く
ことでシャフトを真空弁を開く方向に移動させる圧力セ
ンサ管とを具備する真空弁制御装置に取り付けられる真
空弁強制作動機器であって、前記真空弁強制作動機器
は、前記真空弁制御装置の大気開放室に接続されて、大
気開放室の圧力を一旦負圧にすることでシャフトを真空
弁を開く方向に移動させた後に徐々に該大気開放室を大
気圧に戻す構造に構成されていることを特徴とする。ま
た前記真空弁強制作動機器は、内部が空洞の弾性体であ
ってその所定位置に空気抜き孔を設けた強制作動部材を
前記真空弁制御装置の大気開放室に接続することで構成
されていることを特徴とする。
め本発明は、先端が汚水ます内に配置された吸込管と汚
水を吸い込んで移送させる真空系との間に配置される真
空弁に所望の開閉圧力を供給してこれを開閉する真空弁
開閉機構と、該真空弁開閉機構を作動させて真空弁を開
閉するように往復動するシャフトと、該シャフトに取り
付けられたセンサーダイヤフラムと、該シャフトを真空
弁を閉じる方向に付勢するバネと、センサーダイヤフラ
ムの一方の面側に設けられる室と、センサーダイヤフラ
ムの他方の面側に設けられる大気開放室と、前記汚水ま
すの汚水の水位変化を圧力に変換して変換した圧力を前
記センサーダイヤフラムの一方の面側に設けた室に導く
ことでシャフトを真空弁を開く方向に移動させる圧力セ
ンサ管とを具備する真空弁制御装置に取り付けられる真
空弁強制作動機器であって、前記真空弁強制作動機器
は、前記真空弁制御装置の大気開放室に接続されて、大
気開放室の圧力を一旦負圧にすることでシャフトを真空
弁を開く方向に移動させた後に徐々に該大気開放室を大
気圧に戻す構造に構成されていることを特徴とする。ま
た前記真空弁強制作動機器は、内部が空洞の弾性体であ
ってその所定位置に空気抜き孔を設けた強制作動部材を
前記真空弁制御装置の大気開放室に接続することで構成
されていることを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態を
用いてなる真空弁制御装置の構成例を示す図、図２は本
発明の一実施形態にかかる真空弁強制作動機器４０のコ
ントローラ１１への具体的取付例を示す側面図（図１の
コントローラ１１を右側から見た側面に相当する）、図
３は強制作動ボール４１の側断面図である。
基づいて詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態を
用いてなる真空弁制御装置の構成例を示す図、図２は本
発明の一実施形態にかかる真空弁強制作動機器４０のコ
ントローラ１１への具体的取付例を示す側面図（図１の
コントローラ１１を右側から見た側面に相当する）、図
３は強制作動ボール４１の側断面図である。
【００１７】これらの図において前記図４と同一部分に
は同一符号を付している。図１の真空弁制御装置と図４
の真空弁制御装置は略同じ構成であり、異なる点は、本
実施形態の方は、前記大気開放室１８の大気開放口１８
ａに着脱自在に本発明にかかる真空弁強制作動機器４０
を取り付けた点である。以下各構成部分を詳細に説明す
る。
は同一符号を付している。図１の真空弁制御装置と図４
の真空弁制御装置は略同じ構成であり、異なる点は、本
実施形態の方は、前記大気開放室１８の大気開放口１８
ａに着脱自在に本発明にかかる真空弁強制作動機器４０
を取り付けた点である。以下各構成部分を詳細に説明す
る。
【００１８】図１においてコントローラ１１は、ケーシ
ング１２内にシャフト１４を貫通する隔壁１５を設けて
左右に区分し、さらに左側の室はセンサーダイヤフラム
１６によって第１室１７と大気開放室（第２室）１８と
に区分されており、また右側の室はダイヤフラム１９に
よって第３室２０と第４室２１に区分されている。また
ケーシング１２右端の部分は隔壁２２，２３によって第
５室２４と第６室２５に区分されている。
ング１２内にシャフト１４を貫通する隔壁１５を設けて
左右に区分し、さらに左側の室はセンサーダイヤフラム
１６によって第１室１７と大気開放室（第２室）１８と
に区分されており、また右側の室はダイヤフラム１９に
よって第３室２０と第４室２１に区分されている。また
ケーシング１２右端の部分は隔壁２２，２３によって第
５室２４と第６室２５に区分されている。
【００１９】シャフト１４の先端に固定された弁体１３
は第６室２５に配置され、シャフト１４の後端はセンサ
ーダイヤフラム１６の中央部に固定（又は当接）されて
いる。なおシャフト１４は隔壁１５を貫通し、ダイヤフ
ラム１９を嵌挿（ダイヤフラム９はシャフト１４に固定
されている）し、隔壁２２，２３を貫通している。シャ
フト１４が隔壁１５を貫通する貫通部には図示しないシ
ール機構が設けられ、また隔壁２２を貫通する部分にも
図示しないシール機構が設けられ、シャフト１４の隔壁
２３の貫通部には弁体１３で開閉される開口２６が設け
られている。２８はダイヤフラム１９を左側に押すバネ
である。
は第６室２５に配置され、シャフト１４の後端はセンサ
ーダイヤフラム１６の中央部に固定（又は当接）されて
いる。なおシャフト１４は隔壁１５を貫通し、ダイヤフ
ラム１９を嵌挿（ダイヤフラム９はシャフト１４に固定
されている）し、隔壁２２，２３を貫通している。シャ
フト１４が隔壁１５を貫通する貫通部には図示しないシ
ール機構が設けられ、また隔壁２２を貫通する部分にも
図示しないシール機構が設けられ、シャフト１４の隔壁
２３の貫通部には弁体１３で開閉される開口２６が設け
られている。２８はダイヤフラム１９を左側に押すバネ
である。
【００２０】センサーダイヤフラム１６の中央に取り付
けた磁性体１４ａに対向するケーシング１２内壁には磁
石２９が取り付けられている。第６室２５には弁体１３
で開閉され、大気に連通する孔３０が設けられている。
けた磁性体１４ａに対向するケーシング１２内壁には磁
石２９が取り付けられている。第６室２５には弁体１３
で開閉され、大気に連通する孔３０が設けられている。
【００２１】吸込管３には上下に所定間隔をあけて差圧
検出口９，１０が設けられ、差圧検出口９はパイプ３１
で第４室２１に連通し、差圧検出口１０はパイプ３２で
第３室２０に連通し、さらに圧力センサ管２はパイプ３
３で第１室１７に連通している。また第５室２４はパイ
プ３５を通り逆止弁３８で真空下水管５に連通すると共
に該パイプ３５から分岐した補助真空槽３７に連通し、
第６室２５はパイプ３６で真空弁４のピストン室４ｃに
連通している。
検出口９，１０が設けられ、差圧検出口９はパイプ３１
で第４室２１に連通し、差圧検出口１０はパイプ３２で
第３室２０に連通し、さらに圧力センサ管２はパイプ３
３で第１室１７に連通している。また第５室２４はパイ
プ３５を通り逆止弁３８で真空下水管５に連通すると共
に該パイプ３５から分岐した補助真空槽３７に連通し、
第６室２５はパイプ３６で真空弁４のピストン室４ｃに
連通している。
【００２２】ここで大気開放室１８の大気開放口１８ａ
には本発明にかかる真空弁強制作動機器４０を着脱自在
に取り付けている。真空弁強制作動機器４０は図２に示
すように、強制作動ボール（強制作動部材）４１とホー
ス４３とによって構成されており、ホース４３の一端を
大気開放口１８ａに接続し、その他端を継手４５を介し
て強制作動ボール４１に接続して構成されている。
には本発明にかかる真空弁強制作動機器４０を着脱自在
に取り付けている。真空弁強制作動機器４０は図２に示
すように、強制作動ボール（強制作動部材）４１とホー
ス４３とによって構成されており、ホース４３の一端を
大気開放口１８ａに接続し、その他端を継手４５を介し
て強制作動ボール４１に接続して構成されている。
【００２３】強制作動ボール４１は図３に示すように、
ゴム材を略球状に成型して構成されており、その上部に
空気が除々にぬけるような小さな径の空気抜き孔４７を
設け、またその下部に円筒状のホース接続口４９を設け
て構成されている。なおホース４３は例えばシリコンホ
ースで構成する。
ゴム材を略球状に成型して構成されており、その上部に
空気が除々にぬけるような小さな径の空気抜き孔４７を
設け、またその下部に円筒状のホース接続口４９を設け
て構成されている。なおホース４３は例えばシリコンホ
ースで構成する。
【００２４】上記図１に示す構成の真空弁制御装置にお
いて、汚水ます１の汚水の水位が上昇し、圧力センサ管
２の圧力が上昇すると、該正圧はパイプ３３を通ってコ
ントローラ１１内の第１室１７に伝えられる。これによ
りセンサーダイヤフラム１６がバネ２８の弾発力及び磁
石２９の磁気吸引力に打ち勝って右に移動し、シャフト
１４を押すから弁体１３は大気に連通する孔３０を閉じ
る。そして真空下水管５からの真空及び真空弁４が作動
していない間に補助真空槽３７に貯蓄された真空が、パ
イプ３５を通って第５室２４及び第６室２５に伝えら
れ、さらに真空弁４のピストン室４ｃに伝えられる。こ
の結果、弁体６は引き上げられて真空弁４は開く。
いて、汚水ます１の汚水の水位が上昇し、圧力センサ管
２の圧力が上昇すると、該正圧はパイプ３３を通ってコ
ントローラ１１内の第１室１７に伝えられる。これによ
りセンサーダイヤフラム１６がバネ２８の弾発力及び磁
石２９の磁気吸引力に打ち勝って右に移動し、シャフト
１４を押すから弁体１３は大気に連通する孔３０を閉じ
る。そして真空下水管５からの真空及び真空弁４が作動
していない間に補助真空槽３７に貯蓄された真空が、パ
イプ３５を通って第５室２４及び第６室２５に伝えら
れ、さらに真空弁４のピストン室４ｃに伝えられる。こ
の結果、弁体６は引き上げられて真空弁４は開く。
【００２５】このとき圧力センサ管２の圧力により、ダ
イヤフラム１６が押され、シャフト１４が動き始めると
その移動にともなってバネ２８の弾発力は増大するが、
磁石２９の磁気吸引力は急激に減少（移動距離の２乗に
反比例）するから、シャフト１４は一気に移動端、即ち
弁体１３が孔３０を閉じる位置まで移動する。ここで第
５室２４、第６室２５及び弁体１３は真空弁４を開閉す
る真空弁開閉機構を構成する。
イヤフラム１６が押され、シャフト１４が動き始めると
その移動にともなってバネ２８の弾発力は増大するが、
磁石２９の磁気吸引力は急激に減少（移動距離の２乗に
反比例）するから、シャフト１４は一気に移動端、即ち
弁体１３が孔３０を閉じる位置まで移動する。ここで第
５室２４、第６室２５及び弁体１３は真空弁４を開閉す
る真空弁開閉機構を構成する。
【００２６】弁体６が引き上げられると、真空下水管５
と吸込管３は連通するから、汚水が吸引され始め、差圧
検出口９，１０の間に差圧が発生し、これがパイプ３１
と３２を通して第４室２１と第３室２０のそれぞれに伝
えられる。この差圧はダイヤフラム１９を右側へ押す力
となり、シャフト１４を介して弁体１３は右に押し付け
られる。即ち汚水の水位が下がって第１室１７と大気開
放室１８の圧力差が無くなっても、汚水が吸込管３内を
流れている間は、第４室２１と第３室２０の差圧のため
に弁体１３は右側に押し付けられたままとなっている。
と吸込管３は連通するから、汚水が吸引され始め、差圧
検出口９，１０の間に差圧が発生し、これがパイプ３１
と３２を通して第４室２１と第３室２０のそれぞれに伝
えられる。この差圧はダイヤフラム１９を右側へ押す力
となり、シャフト１４を介して弁体１３は右に押し付け
られる。即ち汚水の水位が下がって第１室１７と大気開
放室１８の圧力差が無くなっても、汚水が吸込管３内を
流れている間は、第４室２１と第３室２０の差圧のため
に弁体１３は右側に押し付けられたままとなっている。
【００２７】汚水の水位がさらに下がり、吸込管３の下
端が空気を吸うようになると、差圧検出口９，１０の間
に差圧が無くなるため、バネ２８によりダイヤフラム１
９は左側に押され、弁体１３は左側に押し付けられ、隔
壁２３の開口２６を閉じる。これにより第６室２５に大
気が流入し、該大気はパイプ３６を通して真空弁４のピ
ストン室４ｃに流入し、弁体６はバネ４ａに押されて、
真空下水管５を閉じる。
端が空気を吸うようになると、差圧検出口９，１０の間
に差圧が無くなるため、バネ２８によりダイヤフラム１
９は左側に押され、弁体１３は左側に押し付けられ、隔
壁２３の開口２６を閉じる。これにより第６室２５に大
気が流入し、該大気はパイプ３６を通して真空弁４のピ
ストン室４ｃに流入し、弁体６はバネ４ａに押されて、
真空下水管５を閉じる。
【００２８】一方真空弁４が閉じているときにこれを強
制的に開かせて汚水ます１内の汚水を強制的に排出させ
ようとする場合は、図１，図２に示すようにコントロー
ラ１１の大気開放口１８ａに真空弁強制作動機器４０の
ホース４３の一端を接続し、次に強制作動ボール４１を
握りつぶす。これによって強制作動ボール４１の中及び
コントローラ１１の大気開放室１８は一瞬正圧になる
が、空気抜き孔４７から空気は抜け大気圧に戻る。
制的に開かせて汚水ます１内の汚水を強制的に排出させ
ようとする場合は、図１，図２に示すようにコントロー
ラ１１の大気開放口１８ａに真空弁強制作動機器４０の
ホース４３の一端を接続し、次に強制作動ボール４１を
握りつぶす。これによって強制作動ボール４１の中及び
コントローラ１１の大気開放室１８は一瞬正圧になる
が、空気抜き孔４７から空気は抜け大気圧に戻る。
【００２９】ここで握った強制作動ボール４１を放す
と、強制作動ボール４１はゴムの反発力で元の形へ瞬時
に戻り、大気開放室１８は数秒間負圧になる。このため
センサーダイヤフラム１６は右側に移動し、弁体１３は
開口３０を閉じ、コントローラ１１は作動状態となり、
真空弁４は開となって汚水ます１内の汚水を吸引し始め
る。
と、強制作動ボール４１はゴムの反発力で元の形へ瞬時
に戻り、大気開放室１８は数秒間負圧になる。このため
センサーダイヤフラム１６は右側に移動し、弁体１３は
開口３０を閉じ、コントローラ１１は作動状態となり、
真空弁４は開となって汚水ます１内の汚水を吸引し始め
る。
【００３０】次に強制作動ボール４１の空気抜き孔４７
（図３参照）から空気が少しずつ流入し始めるので、大
気開放室１８は自然に大気圧に戻る。真空弁４は汚水が
吸込管３内を流れている間は前述のように差圧検出口
９，１０の差圧により開状態を維持する。汚水を吸い終
えて吸込管３が空気を吸引し始めると該差圧はなくな
り、真空弁４は自動的に閉じる。
（図３参照）から空気が少しずつ流入し始めるので、大
気開放室１８は自然に大気圧に戻る。真空弁４は汚水が
吸込管３内を流れている間は前述のように差圧検出口
９，１０の差圧により開状態を維持する。汚水を吸い終
えて吸込管３が空気を吸引し始めると該差圧はなくな
り、真空弁４は自動的に閉じる。
【００３１】このように真空弁強制作動機器４０を使用
すると、真空弁４を強制的に作動させることができ、且
つ特別な操作を行なわなくてもその後真空弁は自動的に
閉じる。
すると、真空弁４を強制的に作動させることができ、且
つ特別な操作を行なわなくてもその後真空弁は自動的に
閉じる。
【００３２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明にかか
る真空弁強制作動機器を使用すると、簡単な構造である
にもかかわらず、安全且つ確実に真空弁を強制的に作動
させることができ、且つ特別な操作を行なわなくても真
空弁を自動的に閉じることができる。従って汚水ます内
に溜っている汚水を簡単に且つ大量の空気を真空下水管
に吸い込ませることもなく効率的に排出することができ
る。
る真空弁強制作動機器を使用すると、簡単な構造である
にもかかわらず、安全且つ確実に真空弁を強制的に作動
させることができ、且つ特別な操作を行なわなくても真
空弁を自動的に閉じることができる。従って汚水ます内
に溜っている汚水を簡単に且つ大量の空気を真空下水管
に吸い込ませることもなく効率的に排出することができ
る。
【図１】本発明の一実施形態を用いてなる真空弁制御装
置の構成例を示す図である。
置の構成例を示す図である。
【図２】本発明にかかる真空弁強制作動機器４０の具体
的取付例を示す側面図である。
的取付例を示す側面図である。
【図３】強制作動ボール４１の側断面図である。
【図４】従来の真空弁制御装置の構成例を示す図であ
る。
る。
１ 汚水ます ２ 圧力センサ管 ３ 吸込管 ４ 真空弁 ５ 真空下水管（真空系） １１ コントローラ １３ 弁体（真空弁開閉機構） ２４ 第５室（真空弁開閉機構） ２５ 第６室（真空弁開閉機構） １４ シャフト １６ センサーダイヤフラム １７ 第１室 １８ 大気開放室 ２８ バネ ４０ 真空弁強制作動機器 ４１ 強制作動ボール（強制作動部材） ４７ 空気抜き孔
Claims (2)
- 【請求項１】 先端が汚水ます内に配置された吸込管と
汚水を吸い込んで移送させる真空系との間に配置される
真空弁に所望の開閉圧力を供給してこれを開閉する真空
弁開閉機構と、該真空弁開閉機構を作動させて真空弁を
開閉するように往復動するシャフトと、該シャフトに取
り付けられたセンサーダイヤフラムと、該シャフトを真
空弁を閉じる方向に付勢するバネと、センサーダイヤフ
ラムの一方の面側に設けられる室と、センサーダイヤフ
ラムの他方の面側に設けられる大気開放室と、前記汚水
ますの汚水の水位変化を圧力に変換して変換した圧力を
前記センサーダイヤフラムの一方の面側に設けた室に導
くことでシャフトを真空弁を開く方向に移動させる圧力
センサ管とを具備する真空弁制御装置に取り付けられる
真空弁強制作動機器であって、 前記真空弁強制作動機器は、前記真空弁制御装置の大気
開放室に接続されて、大気開放室の圧力を一旦負圧にす
ることでシャフトを真空弁を開く方向に移動させた後に
徐々に該大気開放室を大気圧に戻す構造に構成されてい
ることを特徴とする真空弁強制作動機器。 - 【請求項２】 前記真空弁強制作動機器は、内部が空洞
の弾性体であってその所定位置に空気抜き孔を設けた強
制作動部材を前記真空弁制御装置の大気開放室に接続す
ることで構成されていることを特徴とする請求項１記載
の真空弁強制作動機器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26992898A JP3619026B2 (ja) | 1998-09-24 | 1998-09-24 | 真空弁強制作動機器及び真空式汚水収集システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26992898A JP3619026B2 (ja) | 1998-09-24 | 1998-09-24 | 真空弁強制作動機器及び真空式汚水収集システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000096698A true JP2000096698A (ja) | 2000-04-04 |
| JP3619026B2 JP3619026B2 (ja) | 2005-02-09 |
Family
ID=17479161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26992898A Expired - Lifetime JP3619026B2 (ja) | 1998-09-24 | 1998-09-24 | 真空弁強制作動機器及び真空式汚水収集システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3619026B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010072990A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空弁制御装置 |
| JP2014189968A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Ebara Corp | 真空圧回復装置、真空式下水道システム、真空圧回復方法 |
| JP2017186737A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
| JP2017186736A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
| JP2017186735A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
-
1998
- 1998-09-24 JP JP26992898A patent/JP3619026B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010072990A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空弁制御装置 |
| JP2014189968A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Ebara Corp | 真空圧回復装置、真空式下水道システム、真空圧回復方法 |
| JP2017186737A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
| JP2017186736A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
| JP2017186735A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3619026B2 (ja) | 2005-02-09 |
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Legal Events
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