JP3258260B2 - 真空下水道システムの真空弁強制作動装置 - Google Patents
真空下水道システムの真空弁強制作動装置Info
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- JP3258260B2 JP3258260B2 JP21418197A JP21418197A JP3258260B2 JP 3258260 B2 JP3258260 B2 JP 3258260B2 JP 21418197 A JP21418197 A JP 21418197A JP 21418197 A JP21418197 A JP 21418197A JP 3258260 B2 JP3258260 B2 JP 3258260B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空下水道システム
に用いられる真空弁をコントローラから独立して強制的
に開動作させることができる真空下水道システムの真空
弁強制作動装置に関するものである。
に用いられる真空弁をコントローラから独立して強制的
に開動作させることができる真空下水道システムの真空
弁強制作動装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８は従来のこの種の真空下水道システ
ムの構成例を示す図である。図において、１５は真空弁
ユニットであり、各家庭からの汚水は該真空弁ユニット
１５の汚水槽１５ａに流れ込む。該汚水槽１５ａの汚水
Ｑの量が増加し、汚水面レベルが上昇していくと、セン
サー管１１内の圧力が上昇すると共に、コントローラ１
のＡ室内の圧力も上昇する。それによりシャフト２がバ
ネ３の弾発力に打ち勝って右方向に移動する。そして汚
水面レベルが所定値に達するとシャフト２の先端の弁体
で開口Ｆを閉じ、開口Ｃと開口ＤはＨ室を介して連通す
る。これにより補助真空槽６及び真空下水管１４等の真
空源と真空弁１３の真空ピストン室Ｇは真空圧経路１６
及び大気圧経路１７を通って連通する。
ムの構成例を示す図である。図において、１５は真空弁
ユニットであり、各家庭からの汚水は該真空弁ユニット
１５の汚水槽１５ａに流れ込む。該汚水槽１５ａの汚水
Ｑの量が増加し、汚水面レベルが上昇していくと、セン
サー管１１内の圧力が上昇すると共に、コントローラ１
のＡ室内の圧力も上昇する。それによりシャフト２がバ
ネ３の弾発力に打ち勝って右方向に移動する。そして汚
水面レベルが所定値に達するとシャフト２の先端の弁体
で開口Ｆを閉じ、開口Ｃと開口ＤはＨ室を介して連通す
る。これにより補助真空槽６及び真空下水管１４等の真
空源と真空弁１３の真空ピストン室Ｇは真空圧経路１６
及び大気圧経路１７を通って連通する。
【０００３】これにより、弁体１３ａはバネ１３ｆの弾
性力に打ち勝って引き上げられ、真空弁１３は開き、吸
込管１２と真空下水管１４が連通し、真空弁ユニット１
５の汚水槽１５ａ内の汚水Ｑは吸込管１２に吸込まれ、
更に真空下水管１４へ吸い込まれていく。汚水が吸引さ
れ始めると、圧力検出孔１８と圧力検出孔１９の間に差
圧が発生し、これがパイプ４０とパイプ４１を通してＩ
室とＫ室のそれぞれに伝えられる。この差圧はダイヤフ
ラム２３を右側へ押す力となり、シャフト２の先端の弁
体は開口Ｆを閉じた状態を維持し続ける。
性力に打ち勝って引き上げられ、真空弁１３は開き、吸
込管１２と真空下水管１４が連通し、真空弁ユニット１
５の汚水槽１５ａ内の汚水Ｑは吸込管１２に吸込まれ、
更に真空下水管１４へ吸い込まれていく。汚水が吸引さ
れ始めると、圧力検出孔１８と圧力検出孔１９の間に差
圧が発生し、これがパイプ４０とパイプ４１を通してＩ
室とＫ室のそれぞれに伝えられる。この差圧はダイヤフ
ラム２３を右側へ押す力となり、シャフト２の先端の弁
体は開口Ｆを閉じた状態を維持し続ける。
【０００４】汚水の水位が下がりＡ室とＢ室の圧力差が
無くなっても、上記Ｉ室とＫ室の差圧のためシャフト２
の先端の弁体は右側に押し付けられたままとなってい
る。汚水の水位が更に下がり、吸込管１２の下端が空気
を吸うようになると、圧力検出孔１８と圧力検出孔１９
の間の差圧がなくなるため、バネ３によりダイヤフラム
２３は左側に押され、シャフト２はバネ３の弾発力に押
され左方向に移動し、その先端の弁体で開口Ｅを閉じ、
開口Ｃと開口Ｄを遮断する。これにより真空源と真空ピ
ストン室Ｇの連通は遮断され、弁体１３ａはバネ１３ｆ
の弾発力に押され下降し、真空弁１３を閉じる。これに
より、吸込管１２と真空下水管１４の連通が遮断され汚
水Ｑの吸い込みは停止する。なお、４は磁石、８は逆止
弁、１０は同時空気吸引管である。
無くなっても、上記Ｉ室とＫ室の差圧のためシャフト２
の先端の弁体は右側に押し付けられたままとなってい
る。汚水の水位が更に下がり、吸込管１２の下端が空気
を吸うようになると、圧力検出孔１８と圧力検出孔１９
の間の差圧がなくなるため、バネ３によりダイヤフラム
２３は左側に押され、シャフト２はバネ３の弾発力に押
され左方向に移動し、その先端の弁体で開口Ｅを閉じ、
開口Ｃと開口Ｄを遮断する。これにより真空源と真空ピ
ストン室Ｇの連通は遮断され、弁体１３ａはバネ１３ｆ
の弾発力に押され下降し、真空弁１３を閉じる。これに
より、吸込管１２と真空下水管１４の連通が遮断され汚
水Ｑの吸い込みは停止する。なお、４は磁石、８は逆止
弁、１０は同時空気吸引管である。
【０００５】上記構成の真空下水道システムにおいて、
真空弁ユニット１５のメンテナンスを行う場合、人が汚
水槽１５ａの中に入って行う場合が多く、汚水槽１５ａ
に溜っている汚水Ｑを簡単に排出する必要があった。そ
のため、真空弁１３を簡便に強制的に作動できることが
望まれていた。
真空弁ユニット１５のメンテナンスを行う場合、人が汚
水槽１５ａの中に入って行う場合が多く、汚水槽１５ａ
に溜っている汚水Ｑを簡単に排出する必要があった。そ
のため、真空弁１３を簡便に強制的に作動できることが
望まれていた。
【０００６】従来、真空弁１３を強制的に作動させる方
法としては、コントローラ１の大気開放室Ｂを手動真空
ポンプを用いて負圧にし、コントローラ１を作動させる
方法、又は真空弁１３の真空ピストン室Ｇに真空源を直
接接続して真空弁１３を作動させる方法しかなかった。
法としては、コントローラ１の大気開放室Ｂを手動真空
ポンプを用いて負圧にし、コントローラ１を作動させる
方法、又は真空弁１３の真空ピストン室Ｇに真空源を直
接接続して真空弁１３を作動させる方法しかなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記コ
ントローラ１の大気開放室Ｂを負圧にする方法や、真空
弁１３の真空ピストン室Ｇに真空源を直接接続する方法
では手間の掛る作業が必要となるという問題があった。
また、万が一コントローラが故障している場合には、コ
ントローラ１の大気開放室を負圧にする方法では、真空
弁１３を強制的に作動させることができないという問題
があり、コントローラ１を介さず、簡便に真空弁を強制
的に作動できる方法が要望されている。
ントローラ１の大気開放室Ｂを負圧にする方法や、真空
弁１３の真空ピストン室Ｇに真空源を直接接続する方法
では手間の掛る作業が必要となるという問題があった。
また、万が一コントローラが故障している場合には、コ
ントローラ１の大気開放室を負圧にする方法では、真空
弁１３を強制的に作動させることができないという問題
があり、コントローラ１を介さず、簡便に真空弁を強制
的に作動できる方法が要望されている。
【０００８】図９は真空弁１３の構造例を示す図である
が、このような構造の真空弁において、弁胴体１３ｂと
弁体１３ａのゴム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態
で真空弁１３が閉じた場合、弁胴体１３ｂとゴム弁座１
３ｃの間から空気漏れを起し、真空下水管１４の管路全
体の真空度に影響を与える可能性があった。また、異物
を噛んでいるため上記のように空気漏れにより真空弁１
３の上流側の真空下水管１４内には真空がなく、真空弁
１３の真空ピストン室Ｇに真空下水管１４から真空を導
入しても該真空弁１３を開くことができない（即ち、バ
ネ１３ｆの弾性力に逆らって弁体１３ａを引き上げる真
空力がない）。そのため異物を除去するには、ローワハ
ウジング１３ｇをそのネジ部１３ｄを回し、アダプター
リング１３ｅのネジ部を回してアダプターリング１３ｅ
から取り外す必要があった。しかし、異物がゴム弁座１
３ｃと弁胴体１３ｂの間に強く噛み込んでいる場合が多
く、容易にアダプターリング１３ｅのネジ部が回らず、
異物の除去作業は困難であった。
が、このような構造の真空弁において、弁胴体１３ｂと
弁体１３ａのゴム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態
で真空弁１３が閉じた場合、弁胴体１３ｂとゴム弁座１
３ｃの間から空気漏れを起し、真空下水管１４の管路全
体の真空度に影響を与える可能性があった。また、異物
を噛んでいるため上記のように空気漏れにより真空弁１
３の上流側の真空下水管１４内には真空がなく、真空弁
１３の真空ピストン室Ｇに真空下水管１４から真空を導
入しても該真空弁１３を開くことができない（即ち、バ
ネ１３ｆの弾性力に逆らって弁体１３ａを引き上げる真
空力がない）。そのため異物を除去するには、ローワハ
ウジング１３ｇをそのネジ部１３ｄを回し、アダプター
リング１３ｅのネジ部を回してアダプターリング１３ｅ
から取り外す必要があった。しかし、異物がゴム弁座１
３ｃと弁胴体１３ｂの間に強く噛み込んでいる場合が多
く、容易にアダプターリング１３ｅのネジ部が回らず、
異物の除去作業は困難であった。
【０００９】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、コントローラを介さず簡便に真空弁を強制的に作動
させることができ、また真空弁がその弁胴体と弁体の弁
座の間に異物が挟まった状態で閉じた場合でも真空弁を
強制的に作動させることができる真空下水道システムの
真空弁強制作動装置を提供することを目的とする。
で、コントローラを介さず簡便に真空弁を強制的に作動
させることができ、また真空弁がその弁胴体と弁体の弁
座の間に異物が挟まった状態で閉じた場合でも真空弁を
強制的に作動させることができる真空下水道システムの
真空弁強制作動装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、真空弁ユニット内に配置され
た吸込管と真空下水管の間に配置された真空弁と、該真
空弁の開閉を制御するコントローラとを具備し、真空弁
ユニット内の汚水面レベルが所定以上となると該コント
ローラの作動により真空下水管を真空源として前記真空
弁の真空ピストン室に真空を導き、該真空弁を開き真空
下水管と吸込管を連通させ、真空弁ユニット内の汚水を
吸込管から吸い込むように構成した真空下水道システム
において、真空弁の真空ピストン室とコントローラを結
ぶ大気圧経路及び該コントローラと真空源を結ぶ真空圧
経路に介挿され、手動操作によりコントローラをバイパ
スして大気圧経路と真空圧経路を直接連通させ、真空弁
の真空ピストン室に真空を導く手動切替弁又は手動２方
向弁を設けたことを特徴とする。
請求項１に記載の発明は、真空弁ユニット内に配置され
た吸込管と真空下水管の間に配置された真空弁と、該真
空弁の開閉を制御するコントローラとを具備し、真空弁
ユニット内の汚水面レベルが所定以上となると該コント
ローラの作動により真空下水管を真空源として前記真空
弁の真空ピストン室に真空を導き、該真空弁を開き真空
下水管と吸込管を連通させ、真空弁ユニット内の汚水を
吸込管から吸い込むように構成した真空下水道システム
において、真空弁の真空ピストン室とコントローラを結
ぶ大気圧経路及び該コントローラと真空源を結ぶ真空圧
経路に介挿され、手動操作によりコントローラをバイパ
スして大気圧経路と真空圧経路を直接連通させ、真空弁
の真空ピストン室に真空を導く手動切替弁又は手動２方
向弁を設けたことを特徴とする。
【００１１】
【００１２】また、請求項２に記載の発明は請求項１に
記載の真空下水道システムの真空弁強制作動装置におい
て、手動切替弁又は手動２方向弁は前記真空弁ユニット
に流入する汚水に水没しない位置に取り付けられたこと
を特徴とする。
記載の真空下水道システムの真空弁強制作動装置におい
て、手動切替弁又は手動２方向弁は前記真空弁ユニット
に流入する汚水に水没しない位置に取り付けられたこと
を特徴とする。
【００１３】また、請求項３に記載の発明は請求項１又
は２に記載の真空下水道システムの真空弁強制作動装置
において、真空弁の上流側に真空仕切弁を設け、真空弁
の真空ピストン室に真空を導く真空源を該真空仕切弁上
流側としたことを特徴とする。
は２に記載の真空下水道システムの真空弁強制作動装置
において、真空弁の上流側に真空仕切弁を設け、真空弁
の真空ピストン室に真空を導く真空源を該真空仕切弁上
流側としたことを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を画
面に基づいて説明する。図１は本発明に係る真空弁強制
作動装置を具備する真空下水道システムの構成を示す図
である。２０は手動切替弁であり、該手動切替弁２０は
真空下水管１４及び補助真空槽６とコントローラ１を結
ぶ真空圧経路１６と、真空弁１３の真空ピストン室Ｇと
コントローラ１を結ぶ大気圧経路１７の途中に介挿配置
されている。また、真空弁１３と真空下水管１４の間に
は真空仕切弁２１が配置され、逆止弁８は真空仕切弁２
１の上流側に設けられている。なお、コントローラ１、
真空弁ユニット１５及び真空弁１３の構成は図８及び図
９に示すものと同一であるのでその説明は省略する。
面に基づいて説明する。図１は本発明に係る真空弁強制
作動装置を具備する真空下水道システムの構成を示す図
である。２０は手動切替弁であり、該手動切替弁２０は
真空下水管１４及び補助真空槽６とコントローラ１を結
ぶ真空圧経路１６と、真空弁１３の真空ピストン室Ｇと
コントローラ１を結ぶ大気圧経路１７の途中に介挿配置
されている。また、真空弁１３と真空下水管１４の間に
は真空仕切弁２１が配置され、逆止弁８は真空仕切弁２
１の上流側に設けられている。なお、コントローラ１、
真空弁ユニット１５及び真空弁１３の構成は図８及び図
９に示すものと同一であるのでその説明は省略する。
【００１５】上記構成の真空下水道システムにおいて、
真空弁ユニット１５内の汚水を排出する場合は、手動切
替弁２０の押しボタン２０ａを矢印Ｊ方向に押すと、図
２に示すように、シャフト２０ｂも連動して移動し、コ
ントローラ１への大気圧経路１７が遮断され、真空圧経
路１６と大気圧経路１７が直接連通する。即ち、コント
ローラ１はバイパスされ、真空圧経路１６と大気圧経路
１７が直接連通する。これにより真空弁１３の真空ピス
トン室Ｇは大気圧経路１７、手動切替弁２０、真空圧経
路１６、補助真空槽６、真空圧経路１６及び逆止弁８を
通って、真空下水管１４の真空源に連通する。
真空弁ユニット１５内の汚水を排出する場合は、手動切
替弁２０の押しボタン２０ａを矢印Ｊ方向に押すと、図
２に示すように、シャフト２０ｂも連動して移動し、コ
ントローラ１への大気圧経路１７が遮断され、真空圧経
路１６と大気圧経路１７が直接連通する。即ち、コント
ローラ１はバイパスされ、真空圧経路１６と大気圧経路
１７が直接連通する。これにより真空弁１３の真空ピス
トン室Ｇは大気圧経路１７、手動切替弁２０、真空圧経
路１６、補助真空槽６、真空圧経路１６及び逆止弁８を
通って、真空下水管１４の真空源に連通する。
【００１６】これにより、真空弁１３の真空ピストン室
Ｇには真空源から真空が導かれ、弁体１３ａは引き上げ
られ、真空弁１３は開く。これにより上記のように真空
下水管１４と吸込管１２が連通し、真空弁ユニット１５
内の汚水Ｑは吸込管１２により吸い込まれ排出される
（図９参照）。
Ｇには真空源から真空が導かれ、弁体１３ａは引き上げ
られ、真空弁１３は開く。これにより上記のように真空
下水管１４と吸込管１２が連通し、真空弁ユニット１５
内の汚水Ｑは吸込管１２により吸い込まれ排出される
（図９参照）。
【００１７】ところで、弁胴体１３ｂと弁体１３ａのゴ
ム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態で真空弁１３が
閉じた場合、弁胴体１３ｂとゴム弁座１３ｃの間から空
気漏れが起り、真空下水管１４の管路全体の真空度に影
響を与える可能性があった。また、異物を噛んでいるた
め上記のように空気漏れにより真空弁１３の上流側の真
空下水管１４内には真空がなく、真空弁１３の真空ピス
トン室Ｇに真空下水管１４から真空を導入しても該真空
弁を開くことができない。そこで本真空下水道システム
では図３に示すように、真空仕切弁２１を閉じることに
より、真空仕切弁２１の弁体２１ａで吸込管１２と真空
下水管１４との連通を遮断する。
ム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態で真空弁１３が
閉じた場合、弁胴体１３ｂとゴム弁座１３ｃの間から空
気漏れが起り、真空下水管１４の管路全体の真空度に影
響を与える可能性があった。また、異物を噛んでいるた
め上記のように空気漏れにより真空弁１３の上流側の真
空下水管１４内には真空がなく、真空弁１３の真空ピス
トン室Ｇに真空下水管１４から真空を導入しても該真空
弁を開くことができない。そこで本真空下水道システム
では図３に示すように、真空仕切弁２１を閉じることに
より、真空仕切弁２１の弁体２１ａで吸込管１２と真空
下水管１４との連通を遮断する。
【００１８】これにより、弁胴体１３ｂと弁体１３ａの
ゴム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態でも空気漏れ
により、真空下水管１４の管路全体の真空度に影響を与
えることを阻止することができる。また、真空仕切弁２
１の上流側に設けた逆止弁８を通して、真空弁１３の真
空ピストン室Ｇに真空が導かれるので、弁体１３ａは引
き上げられ真空弁１３は開く。これにより、ローワハウ
ジング１３ｇのネジ部１３ｄを回し、アダプターリング
１３ｅのネジ部を回し、ローワハウジング１３ｇをアダ
プターリング１３ｅから取り外すことが容易にでき（図
９参照）、異物の除去作業が容易になる。
ゴム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態でも空気漏れ
により、真空下水管１４の管路全体の真空度に影響を与
えることを阻止することができる。また、真空仕切弁２
１の上流側に設けた逆止弁８を通して、真空弁１３の真
空ピストン室Ｇに真空が導かれるので、弁体１３ａは引
き上げられ真空弁１３は開く。これにより、ローワハウ
ジング１３ｇのネジ部１３ｄを回し、アダプターリング
１３ｅのネジ部を回し、ローワハウジング１３ｇをアダ
プターリング１３ｅから取り外すことが容易にでき（図
９参照）、異物の除去作業が容易になる。
【００１９】図４は本発明に係る真空弁強制作動装置を
具備する真空下水道システムの他構成を示す図である。
本真空下水道システムが図１と相違する点は、図１の手
動切替弁２０に替えて手動２方向コック（手動２方向
弁）２２を設けたことである。この手動２方向コック２
２は極めて小さく且つ軽量であるため、真空圧経路１
６、大気圧経路１７にホースを用い、このホースにぶら
下げた状態にしておくことができる。そのためこのホー
スを延長することにより、手動２方向コック２２を真空
弁ユニット１５のどの個所にも、特に汚水に水没しない
位置にも取り付けることができる。従って、該手動２方
向コック２２が汚水に水没し、操作に支障をきたすとい
うことはない。
具備する真空下水道システムの他構成を示す図である。
本真空下水道システムが図１と相違する点は、図１の手
動切替弁２０に替えて手動２方向コック（手動２方向
弁）２２を設けたことである。この手動２方向コック２
２は極めて小さく且つ軽量であるため、真空圧経路１
６、大気圧経路１７にホースを用い、このホースにぶら
下げた状態にしておくことができる。そのためこのホー
スを延長することにより、手動２方向コック２２を真空
弁ユニット１５のどの個所にも、特に汚水に水没しない
位置にも取り付けることができる。従って、該手動２方
向コック２２が汚水に水没し、操作に支障をきたすとい
うことはない。
【００２０】手動２方向コック２２の弁体２２ａを回転
させることにより、図５に示すように、コントローラ１
と真空弁１３を接続する大気圧経路１７を遮断し、該大
気圧経路１７と真空圧経路１６を直接接続する。これに
より、真空下水管１４の真空は逆止弁８、真空圧経路１
６、補助真空槽６、真空圧経路１６、手動２方向コック
２２及び大気圧経路１７を通って、真空弁１３の真空ピ
ストン室Ｇに導かれる。これにより弁体１３ａは引き上
げられ、真空弁１３は開く。弁胴体１３ｂと弁体１３ａ
のゴム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態で真空弁１
３が閉じた場合は、上記と同様真空仕切弁２１を閉じる
ことにより、真空弁１３を開かせることができる。
させることにより、図５に示すように、コントローラ１
と真空弁１３を接続する大気圧経路１７を遮断し、該大
気圧経路１７と真空圧経路１６を直接接続する。これに
より、真空下水管１４の真空は逆止弁８、真空圧経路１
６、補助真空槽６、真空圧経路１６、手動２方向コック
２２及び大気圧経路１７を通って、真空弁１３の真空ピ
ストン室Ｇに導かれる。これにより弁体１３ａは引き上
げられ、真空弁１３は開く。弁胴体１３ｂと弁体１３ａ
のゴム弁座１３ｃの間に異物が挟まった状態で真空弁１
３が閉じた場合は、上記と同様真空仕切弁２１を閉じる
ことにより、真空弁１３を開かせることができる。
【００２１】手動切替弁２０は汚水に浸かっても作動す
るから、図６に示すように真空弁１３のアッパーハウジ
ング１３ｈの頂部（図９参照）に設けることができる。
また、万が一真空弁１３が完全に水没しても、手動切替
弁２０の位置が容易にわかるように、図７に示すよう
に、真空弁ユニット１５の上部に設けてもよい。
るから、図６に示すように真空弁１３のアッパーハウジ
ング１３ｈの頂部（図９参照）に設けることができる。
また、万が一真空弁１３が完全に水没しても、手動切替
弁２０の位置が容易にわかるように、図７に示すよう
に、真空弁ユニット１５の上部に設けてもよい。
【００２２】なお、手動切替弁２０及び手動２方向コッ
ク２２はいずれも汚水では腐食しない材料製、例えばプ
ラスチック製とする。
ク２２はいずれも汚水では腐食しない材料製、例えばプ
ラスチック製とする。
【００２３】
【発明の効果】以上、説明したように各請求項に記載の
発明によれば下記のような優れた効果が得られる。
発明によれば下記のような優れた効果が得られる。
【００２４】請求項１に記載の発明によれば、大気圧経
路及び真空圧経路に介挿され、コントローラをバイパス
して大気圧経路と真空圧経路を直接連通させ、真空弁の
真空ピストン室に真空を導く手動切替弁又は手動２方向
弁を設けたので、コントローラを介さず簡便に真空弁を
強制的に作動させることができると共に、真空弁ユニッ
ト内の汚水排出のための操作が極めて容易となる。
路及び真空圧経路に介挿され、コントローラをバイパス
して大気圧経路と真空圧経路を直接連通させ、真空弁の
真空ピストン室に真空を導く手動切替弁又は手動２方向
弁を設けたので、コントローラを介さず簡便に真空弁を
強制的に作動させることができると共に、真空弁ユニッ
ト内の汚水排出のための操作が極めて容易となる。
【００２５】また、請求項２に記載の発明によれば、手
動切替弁又は手動２方向弁は真空弁ユニットに流入する
汚水に水没しない位置に取り付けられるので、手動切替
弁又は手動２方向弁は汚水に水没することがなく、操作
が容易となる。
動切替弁又は手動２方向弁は真空弁ユニットに流入する
汚水に水没しない位置に取り付けられるので、手動切替
弁又は手動２方向弁は汚水に水没することがなく、操作
が容易となる。
【００２６】また、請求項３に記載の発明によれば、真
空弁の上流側に真空仕切弁を設け、真空弁の真空ピスト
ン室に真空を導く真空源を該真空仕切弁上流側としたの
で、真空弁がその弁胴体と弁体の弁座の間に異物が挟ま
った状態で閉じた場合でも該真空仕切弁を閉じることに
より、真空下水管の管路全体の真空度に与える影響を阻
止し、且つ真空弁を強制的に作動させることができるか
ら、異物の除去作業が容易となる。
空弁の上流側に真空仕切弁を設け、真空弁の真空ピスト
ン室に真空を導く真空源を該真空仕切弁上流側としたの
で、真空弁がその弁胴体と弁体の弁座の間に異物が挟ま
った状態で閉じた場合でも該真空仕切弁を閉じることに
より、真空下水管の管路全体の真空度に与える影響を阻
止し、且つ真空弁を強制的に作動させることができるか
ら、異物の除去作業が容易となる。
【図１】本発明に係る真空弁強制作動装置を具備する真
空下水道システムの構成を示す図である。
空下水道システムの構成を示す図である。
【図２】図１に示す真空下水道システムの作動状態を示
す図である。
す図である。
【図３】図１に示す真空下水道システムの作動状態を示
す図である。
す図である。
【図４】本発明に係る真空弁強制作動装置を具備する真
空下水道システムの構成を示す図である。
空下水道システムの構成を示す図である。
【図５】図４に示す真空下水道システムの作動状態を示
す図である。
す図である。
【図６】本発明に係る真空弁強制作動装置を具備する真
空下水道システムの構成を示す図である。
空下水道システムの構成を示す図である。
【図７】本発明に係る真空弁強制作動装置を具備する真
空下水道システムの構成を示す図である。
空下水道システムの構成を示す図である。
【図８】従来の真空下水道システムの構成を示す図であ
る。
る。
【図９】真空弁の構造例を示す図である。
１ コントローラ ６ 補助真空槽 １２ 吸込管 １３ 真空弁 １４ 真空下水管 １５ 真空弁ユニット １６ 真空圧経路 １７ 大気圧経路 ２０ 手動切替弁 ２１ 真空仕切弁 ２２ 手動２方向コック
Claims (3)
- 【請求項１】 真空弁ユニット内に配置された吸込管と
真空下水管の間に配置された真空弁と、該真空弁の開閉
を制御するコントローラとを具備し、真空弁ユニット内
の汚水面レベルが所定以上となると該コントローラの作
動により真空下水管を真空源として前記真空弁の真空ピ
ストン室に真空を導き、該真空弁を開き真空下水管と吸
込管を連通させ、真空弁ユニット内の汚水を吸込管から
吸い込むように構成した真空下水道システムにおいて、 前記真空弁の真空ピストン室と前記コントローラを結ぶ
大気圧経路及び該コントローラと前記真空源を結ぶ真空
圧経路に介挿され、手動操作により前記コントローラを
バイパスして前記大気圧経路と前記真空圧経路を直接連
通させ、前記真空弁の真空ピストン室に真空を導く手動
切替弁又は手動２方向弁を設けたことを特徴とする真空
下水道システムの真空弁強制作動装置。 - 【請求項２】 前記手動切替弁又は手動２方向弁は前記
真空弁ユニットに流入する汚水に水没しない位置に取り
付けられたことを特徴とする請求項１に記載の真空下水
道システムの真空弁強制作動装置。 - 【請求項３】 前記真空弁の上流側に真空仕切弁を設
け、前記真空弁の真空ピストン室に真空を導く真空源を
該真空仕切弁上流側としたことを特徴とする請求項１又
は２に記載の真空下水道システムの真空弁強制作動装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21418197A JP3258260B2 (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 真空下水道システムの真空弁強制作動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21418197A JP3258260B2 (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 真空下水道システムの真空弁強制作動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1136424A JPH1136424A (ja) | 1999-02-09 |
| JP3258260B2 true JP3258260B2 (ja) | 2002-02-18 |
Family
ID=16651589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21418197A Expired - Lifetime JP3258260B2 (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 真空下水道システムの真空弁強制作動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3258260B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011168962A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空弁ユニットの仕切弁及び真空弁ユニット |
| JP6184714B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-08-23 | 株式会社荏原製作所 | 真空圧回復装置、真空式下水道システム、真空圧回復方法 |
-
1997
- 1997-07-24 JP JP21418197A patent/JP3258260B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1136424A (ja) | 1999-02-09 |
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