JPH11294625A - 真空弁 - Google Patents
真空弁Info
- Publication number
- JPH11294625A JPH11294625A JP9455698A JP9455698A JPH11294625A JP H11294625 A JPH11294625 A JP H11294625A JP 9455698 A JP9455698 A JP 9455698A JP 9455698 A JP9455698 A JP 9455698A JP H11294625 A JPH11294625 A JP H11294625A
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- JP
- Japan
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- vacuum
- valve
- chamber
- pressure
- diaphragm
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- Withdrawn
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- Fluid-Driven Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Abstract
量を低減し、真空度が高いときには吸引汚水量を増加せ
しめ、真空度によらず気液比を安定化すること。 【解決手段】 真空弁15のコントローラ部27が、ダ
イヤフラム51に連動して作動する切替弁58を備え、
切替弁58は真空室56と空気室57のそれぞれが備え
る弁作動室25への各連通口56A、57Aを交互に開
閉可能とするもの。
Description
テム等に用いて好適な真空弁に関する。
される汚水を自然流下式の汚水流入管から真空弁ユニッ
トの汚水タンクに流入せしめ、汚水タンクに溜まった汚
水を真空下水管によって集水タンクに集積、その後、圧
送ポンプなどによって下水処理場等に圧送される。真空
弁ユニットには真空弁が設置され、汚水ますの底部(汚
水溜まり)から立ち上げられている吸込み管と、真空源
に連通している真空下水管との間の連絡部を、この真空
弁によって開閉している。真空弁の開閉は、コントロー
ラ内部のスイッチの作動(スイッチの作動は汚水ます内
部の水位変化によって起動し、真空圧にかかわらず一定
位置にて作動する)によって、真空下水管内の真空圧が
真空弁内部に導通し、弁体に開き力を付与して真空弁が
開状態になる。次に、汚水が吸引されてます内部の水位
が低下すると作動スイッチが切れ、今度は大気が真空弁
に導入され、弁体が内蔵のバネ力により押し戻されて閉
止する。
ル弁の調整によって増減することができる。
量の汚水を吸引することを前提とし、設置場所によって
異なる真空圧に応じて気液比(吸引する汚水と空気との
体積比)がほぼ一定となるように開放時間を調節してい
た。即ち、真空下水管の真空圧が低い位置に設置される
ものほど、真空弁の開時間を長く設定していた。然しな
がら、真空下水管路の真空圧力は比較的不安定で、時間
帯や近隣の弁の作動状況等の条件によって真空度変化が
大きい。
度に応じてある値に定めてあった場合、実際の真空圧が
予定の真空度よりも低減すると、真空圧の低減に起因す
る吸引力低下によって空気吸引量が減少することから所
望の気液比を確保できず、ウォターブロックの発生等、
システムに悪影響を及ぼすものとなる。
いときには吸引汚水量を低減し、真空度が高いときには
吸引汚水量を増加せしめ、真空度によらず気液比を安定
化することにある。
は、タンクに連通する吸込み管と真空源に連通する真空
下水管との間の連絡部を開閉可能とし、上記連絡部を開
閉する弁体と、弁体と連結されているプランジャを収容
する弁作動室と、弁作動室に内蔵されて弁体に閉じ力を
付与する閉じ力付与手段と、弁作動室に真空圧を付与し
て弁体に開き力を付与するコントローラ部とを有して構
成される真空弁において、前記コントローラ部が、汚水
タンクの水位変化による液位検知管内の圧力上昇を受け
て変位するダイヤフラムをもつダイヤフラム室と、ダイ
ヤフラムを定位に戻すバネと、真空下水管から常時負圧
を供給される真空室と、大気圧を常時供給されている空
気室と、ダイヤフラムに連動して作動することにより真
空室と空気室のそれぞれが備える前記弁作動室への各連
通口を交互に開閉可能とする切替弁とを有してなり、真
空室の真空圧に応じて切替弁の作動タイミングが変化す
るようにしたものである。
載の本発明において更に、前記コントローラ部が、空気
室への大気取入路に流量調整手段を備え、真空弁の開放
時間を調整可能としてなるようにしたものである。
がある。真空弁の弁作動室に真空圧を導いて真空弁を
開とする切替弁の作動の原動力は水位検知圧力fで、切
替弁の作動切替わり時に真空室の真空圧が大気圧との差
圧に基づいて切替弁に加える力をFとすると、 [f−(バネ力+ダイヤフラムの反力)>F] となったときに、切替弁は真空弁を開くように作動す
る。
いる真空圧が低ければ切替弁の作動の切替は早く、結果
として真空弁を開く汚水タンク内の起動水位は低くな
る。他方、真空圧が高ければ切替弁の作動の切替は遅
く、結果として真空弁を開く汚水タンク内の起動水位は
高くなる。
は、真空下水管の吸引力低下によって空気吸引量は減少
するが、吸引汚水量も少なくなるから、所望の気液比を
実現できる。また、真空下水管の真空度が高い場合に
は、真空下水管の吸引力増加によって空気吸引量は増加
するが、吸引汚水量も多くなるから、この場合にも、所
望の気液比を実現できる。
用がある。切替弁は空気室の空気を真空弁の弁作動室
に導くことにより閉じるものとされている。従って、空
気室への大気取入路に設けた流量調整手段を絞ることに
より、真空弁の開放時間を延長できる。
模式図、図2は真空弁を示す模式図、図3は真空弁のコ
ントローラ部を示す模式図、図4は真空弁のコントロー
ラ部の作動フローを示す模式図、図5は真空式汚水収集
装置の作動を示す模式図である。
く、汚水タンク11に汚水流入管12を接続しており、
タンク11に連通する吸込み管13と、真空源に連通す
る真空下水管14との間の連絡部を開閉可能とする真空
弁15を有している。
然流下式の汚水流入管12からタンク11に流込む。そ
して汚水がタンクに溜まると、真空弁15が開き、タン
ク11内の汚水は吸込み管13から吸込まれる。そし
て、この汚水は真空弁15を通って真空下水管14に吸
込まれ、真空ポンプ上の集水タンクに集められ、その後
圧送ポンプによって下水処理場等に送られる。
1と第2の各ハウジング21、22をバンドクランプ2
3によって一体化して構成されており、弁体24と弁作
動室25と、バネ26と、コントローラ部27を有して
構成されている。
管14との連絡部を構成する連絡路28を開閉する。
を介して連結されているカップ状のプランジャ30をス
ライド可能に収容する。
より上室に内蔵されて、プランジャ30にバネ力を及ぼ
し、弁体24に閉止力を付与する。尚、弁作動室25の
プランジャ30より下室は、大気連通管43がホース4
6を介して接続され大気圧になっている。
水レベルの上昇時に弁作動室25の上室に真空圧を付与
し、上下室の差圧(下室は大気圧)によってプランジャ
30を引上げることにてバルブ弁体24に開力を付与
し、真空弁15を開状態として吸込み管13に真空下水
管14を導通せしめる。
ている。コントローラ部27は、汚水タンク11の水位
変化による液位検知管37内の圧力上昇を受けて変位す
るダイヤフラム51をもつダイヤフラム室52を備え、
このダイヤフラム51に連動する切替弁プランジャ53
にはダイヤフラム51を定位置に戻すバネ54のバネ力
が付与されている。ダイヤフラム室52は検知管圧力取
入口55を備え、この取入口55に液位検知管37のホ
ース38を接続可能としている。
ら常時負圧を供給される真空室56と、大気圧を常時供
給されている空気室57と、切替弁プランジャ53に一
体化されてダイヤフラム51に連動して作動する切替弁
58を有する。切替弁58は、ダイヤフラム51に連動
して作動することにより、真空室56と空気室57のそ
れぞれが備える、真空弁15の弁作動室への各連通口5
6A、57Aを交互切替的に開閉する。尚、前述の切替
弁プランジャ53は真空室56の上部でパッキン59に
よりシールされており、ダイヤフラム51の下部室へ負
圧を供給しない。空気室57の連通口57Aには弁座ゴ
ム60が設けられている。
気取入路61に流量調整弁62を備え、真空弁15の開
放時間を調整可能とする。
27により以下の如く動作する。(1) コントローラ部2
7は定常状態で、切替弁58が真空室56の連通口56
A側の弁座をシールしている。切替弁58はバネ54の
バネ力と、真空室56の真空圧により閉止される(図4
(A))。このとき、コントローラ部27は空気室57
の大気を真空弁15の弁作動室25に付与し、真空弁1
5は閉じ状態にある(図5(D))。
位検知管37の上昇空気圧力がダイヤフラム51に加わ
る(図4(B)、図5(A))。ダイヤフラム51に加
えられる検知圧力が一定値を越えると、この検知圧力に
基づく切替弁58の押え力が、バネ54のバネ力と真空
室56の真空力に打ち勝って切替弁58を空気室57の
連通口57A(弁座ゴム60)にシールする(図4
(C))。これにより、コントローラ部27は真空室5
6の真空圧を真空弁15の弁作動室25に付与し、真空
弁15を開き、タンク11の汚水を真空下水管14に吸
引する(図4(C)、図5(B))。
液位検知管37の空気圧力が低下するとともに、真空下
水管14に空気が吸引される(図5(C))。液位検知
管37の検知圧力がなくなると、ダイヤフラム51に加
わる力がなくなり、ダイヤフラム51及び切替弁58は
バネ54のバネ力により定位置まで上昇し、切替弁58
は真空室56の連通口56Aをシールする(図4
(D))。これにより、コントローラ部27は空気室5
7の大気圧を真空弁15の弁作動室25に付与し、真空
弁15を閉じ(図4(D)、図5(D))、上記(1) に
戻る。
移行過程で、コントローラ部27が空気室57の大気圧
を真空弁15の弁作動室25に付与するとき、空気室5
7への大気取入路61に設けてある流量調整弁62を絞
ることにより、真空弁15の開放時間を延長できる。
入し、液位検知管37内の圧力が上昇することによって
コントローラ部27のダイヤフラム上部室内圧力が上昇
したときの模様である。検知圧力F1 は図のようにダイ
ヤフラム51を下向きに押し付ける力f1 として働く。
一方、切替弁プランジャ53には下部のバネ54のバネ
力f2 、真空室56内の真空圧と大気圧との差圧F2 で
生ずる力f3 とがある。また、切替弁プランジャ53に
は軸シールによる力と自重があり、この合力をf4 とす
ると、f1 +f4 >f2 +f3 のとき、切替弁プランジ
ャ53は下降し、切替弁58は真空室56の連通口56
Aを真空弁15の弁作動室25に連通し、真空弁15を
開く。
がある。真空下水管14から真空室56に印加されて
いる真空圧が低ければ切替弁58の作動の切替は早く、
結果として真空弁を開く汚水タンク11内の起動水位は
低くなる。他方、真空圧が高ければ切替弁58の作動の
切替は遅く、結果として真空弁を開く汚水タンク11内
の起動水位は高くなる。
合には、真空下水管14の吸引力低下によって空気吸引
量は減少するが、吸引汚水量も少なくなるから、所望の
気液比を実現できる。また、真空下水管14の真空度が
高い場合には、真空下水管14の吸引力増加によって空
気吸引量は増加するが、吸引汚水量も多くなるから、こ
の場合にも、所望の気液比を実現できる。
の弁作動室25に導くことにより閉じるものとされてい
る。従って、空気室57への大気取入路61に設けた流
量調整弁62を絞ることにより、真空弁の開放時間を延
長できる。
ムに導入する真空圧との差圧が関与するため、真空圧が
低いほど弁の開作動に移行するまでの検知圧力が小さく
て良い。即ち、設計真空度における真空弁の開時間調整
値に関係なく、真空弁が作動するときの真空度が低いほ
ど、吸引汚水量が減少することになる。逆に設定値より
も真空度が高くなった場合も同様に吸引汚水量が増加す
る。このことから、真空下水管の真空度に起因する吸引
能力が低いほど吸引汚水量が減少し、従来品(真空度に
よらず、作動ポイント及び開時間は一定)よりも気液比
が安定する。
がシンプルとなるため、部品点数を削減することが可能
となる。開時間調整機能も、従来品のように小容量の流
体を制御する時間調整と異なり、大容量を調節するた
め、水滴や埃等の微細な堆積物による時間調整の経時変
化が非常に小さくなるというメリットもある。
管の真空度が低いときには吸引汚水量を低減し、真空度
が高いときには吸引汚水量を増加せしめ、真空度によら
ず気液比を安定化することができる。
る。
ある。
示す模式図である。
である。
Claims (2)
- 【請求項1】 タンクに連通する吸込み管と真空源に連
通する真空下水管との間の連絡部を開閉可能とし、 上記連絡部を開閉する弁体と、弁体と連結されているプ
ランジャを収容する弁作動室と、弁作動室に内蔵されて
弁体に閉じ力を付与する閉じ力付与手段と、弁作動室に
真空圧を付与して弁体に開き力を付与するコントローラ
部とを有して構成される真空弁において、 前記コントローラ部が、汚水タンクの水位変化による液
位検知管内の圧力上昇を受けて変位するダイヤフラムを
もつダイヤフラム室と、ダイヤフラムを定位に戻すバネ
と、真空下水管から常時負圧を供給される真空室と、大
気圧を常時供給されている空気室と、ダイヤフラムに連
動して作動することにより真空室と空気室のそれぞれが
備える前記弁作動室への各連通口を交互に開閉可能とす
る切替弁とを有してなり、真空室の真空圧に応じて切替
弁の作動タイミングが変化することを特徴とする真空
弁。 - 【請求項2】 前記コントローラ部が、空気室への大気
取入路に流量調整手段を備え、真空弁の開放時間を調整
可能としてなる請求項1に記載の真空弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9455698A JPH11294625A (ja) | 1998-04-07 | 1998-04-07 | 真空弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9455698A JPH11294625A (ja) | 1998-04-07 | 1998-04-07 | 真空弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11294625A true JPH11294625A (ja) | 1999-10-29 |
Family
ID=14113605
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9455698A Withdrawn JPH11294625A (ja) | 1998-04-07 | 1998-04-07 | 真空弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11294625A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7013909B2 (en) | 2003-04-10 | 2006-03-21 | Ebara Corporation | Vacuum valve controller |
JP2011012531A (ja) * | 2009-06-02 | 2011-01-20 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空弁及び真空弁制御システム |
JP2017186735A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
-
1998
- 1998-04-07 JP JP9455698A patent/JPH11294625A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7013909B2 (en) | 2003-04-10 | 2006-03-21 | Ebara Corporation | Vacuum valve controller |
JP2011012531A (ja) * | 2009-06-02 | 2011-01-20 | Sekisui Chem Co Ltd | 真空弁及び真空弁制御システム |
JP2017186735A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 積水化学工業株式会社 | 真空弁制御装置及び真空弁ユニット |
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Legal Events
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