JPH0837210A - 半導体ウエハのマッピングデータの保存方法 - Google Patents
半導体ウエハのマッピングデータの保存方法Info
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- JPH0837210A JPH0837210A JP6170613A JP17061394A JPH0837210A JP H0837210 A JPH0837210 A JP H0837210A JP 6170613 A JP6170613 A JP 6170613A JP 17061394 A JP17061394 A JP 17061394A JP H0837210 A JPH0837210 A JP H0837210A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】外部メモリー媒体を用いないで、しかもアルミ
の飛び散りによる歩留の低下を回避し、また安定したマ
ークの認識を可能にする半導体ウエハのマッピングデー
タの保存方法を提供する。 【構成】半導体ウエハ20内の良品、不良品の半導体チ
ップの配列データであるマッピングデータ及びアドレス
基準マークをラベル型テープ30に印字して半導体ウエ
ハ20内に貼り付ける事により、同一半導体ウエハ内に
良品、不良品の半導体チップのマッピングデータ及びア
ドレス基準マークを形成する。
の飛び散りによる歩留の低下を回避し、また安定したマ
ークの認識を可能にする半導体ウエハのマッピングデー
タの保存方法を提供する。 【構成】半導体ウエハ20内の良品、不良品の半導体チ
ップの配列データであるマッピングデータ及びアドレス
基準マークをラベル型テープ30に印字して半導体ウエ
ハ20内に貼り付ける事により、同一半導体ウエハ内に
良品、不良品の半導体チップのマッピングデータ及びア
ドレス基準マークを形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハのマッピン
グデータの保存方法に関する。
グデータの保存方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のマッピングデータの保存方法は、
テスタ、プローバで行った試験の結果を外部メモリー媒
体(F/D,M/T等)に保存する。そしてこの試験が
完了した半導体ウエハ及び外部メモリー媒体がそれぞれ
ダイボンダーに送られ、外部メモリー媒体のデータによ
り半導体ウエハ内の良品の半導体チップのみを取り出し
てリードフレームやパッケージにダイボンディンする。
テスタ、プローバで行った試験の結果を外部メモリー媒
体(F/D,M/T等)に保存する。そしてこの試験が
完了した半導体ウエハ及び外部メモリー媒体がそれぞれ
ダイボンダーに送られ、外部メモリー媒体のデータによ
り半導体ウエハ内の良品の半導体チップのみを取り出し
てリードフレームやパッケージにダイボンディンする。
【0003】しかしながらこの方法では、データの保存
に外部メモリー媒体を用いるので、半導体ウエハ一枚一
枚の形式、ロットナンバー、半導体ウエハナンバーを管
理する必要があった。また、マッピングデータそのもの
の管理も半導体ウエハ一枚単位で行う必要があり、さら
に外部メモリー媒体そのものを必要とし、そのデータの
転送手段を半導体ウエハの移送と別に必要であった。
に外部メモリー媒体を用いるので、半導体ウエハ一枚一
枚の形式、ロットナンバー、半導体ウエハナンバーを管
理する必要があった。また、マッピングデータそのもの
の管理も半導体ウエハ一枚単位で行う必要があり、さら
に外部メモリー媒体そのものを必要とし、そのデータの
転送手段を半導体ウエハの移送と別に必要であった。
【0004】そこで本発明の発明者は上記欠点を除去し
たマッピングデータの保存方法を特開平5−19061
4号公報に開示した。この技術を図5を用いて説明す
る。
たマッピングデータの保存方法を特開平5−19061
4号公報に開示した。この技術を図5を用いて説明す
る。
【0005】まず図5(A)に示すように、平面形状が
周辺側面53で定められる半導体ウエハ50に、縦横に
延在する切断線(スクライブ線)52によりマトリック
ス状に配列された半導体チップ51のなかで、半導体ウ
エハ50の周辺部分に位置しており始めから製品として
使用されないことがわかっている半導体チップ51の表
面全体にアルミニウム膜を被着して、いわゆるアルミベ
タチップ51Aとする。一方、半導体ウエハ50の中央
部分に配列する半導体チップ51がP/W試験で良品チ
ップ51Gと不良品チップ51Fとに分類され各々が半
導体ウエハ内に分布しており、その分布状態をアルミベ
タチップ51Aの一つをデ−タ保存チップ51Mとして
書き込む。尚、図5(A)で不良品チップ51Fを×印
で表現しているが、このような印が不良品チップに刻印
されているのではない。
周辺側面53で定められる半導体ウエハ50に、縦横に
延在する切断線(スクライブ線)52によりマトリック
ス状に配列された半導体チップ51のなかで、半導体ウ
エハ50の周辺部分に位置しており始めから製品として
使用されないことがわかっている半導体チップ51の表
面全体にアルミニウム膜を被着して、いわゆるアルミベ
タチップ51Aとする。一方、半導体ウエハ50の中央
部分に配列する半導体チップ51がP/W試験で良品チ
ップ51Gと不良品チップ51Fとに分類され各々が半
導体ウエハ内に分布しており、その分布状態をアルミベ
タチップ51Aの一つをデ−タ保存チップ51Mとして
書き込む。尚、図5(A)で不良品チップ51Fを×印
で表現しているが、このような印が不良品チップに刻印
されているのではない。
【0006】図5(B)はデータ保存チップ51Mを拡
大して示した平面図である。良品チップ51Gに対応す
る箇所にレーザを用いたレーザマーキングにより良品チ
ップマーク(・)61Gを付け、一方、不良チップ51
Fに対応する箇所61Fには何らのマークも付けない
で、良品チップと不良品チップとを区別するマッピング
データを形成し、また同様にレーザを用いてこのマッピ
ングデータを取囲んで半導体ウエハ50の外形53を相
似形に縮小した輪郭をイメージしたアドレス基準マーク
63を形成する。
大して示した平面図である。良品チップ51Gに対応す
る箇所にレーザを用いたレーザマーキングにより良品チ
ップマーク(・)61Gを付け、一方、不良チップ51
Fに対応する箇所61Fには何らのマークも付けない
で、良品チップと不良品チップとを区別するマッピング
データを形成し、また同様にレーザを用いてこのマッピ
ングデータを取囲んで半導体ウエハ50の外形53を相
似形に縮小した輪郭をイメージしたアドレス基準マーク
63を形成する。
【0007】このような方法によれば、半導体ウエハ5
0の一角51Mにマッピングデータ及びアドレス基準マ
ークが形成されているから、外部メモリー媒体が不必要
となり、外部メモリ−媒体のデータと照合するための半
導体ウエハの形式、ロットナンバー、半導体ウエハナン
バーの管理が不必要となる。
0の一角51Mにマッピングデータ及びアドレス基準マ
ークが形成されているから、外部メモリー媒体が不必要
となり、外部メモリ−媒体のデータと照合するための半
導体ウエハの形式、ロットナンバー、半導体ウエハナン
バーの管理が不必要となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように図5に示す
方法は外部メモリー媒体を用いた方法と比較して種々の
利点を有するが、その後の検討の結果、アルミ上にレー
ザマーキングする事により、溶融したアルミが周囲の製
品としての半導体チップ上に飛び散り歩留が低下する問
題点、またポリイミドコーティング等でアルミの表面状
態が変り、これによりアルミの反射率が変化するため
に、アルミ上にレーザマーキングにより形成されたマー
クの認識が不安定になる問題点を有することが判明し
た。
方法は外部メモリー媒体を用いた方法と比較して種々の
利点を有するが、その後の検討の結果、アルミ上にレー
ザマーキングする事により、溶融したアルミが周囲の製
品としての半導体チップ上に飛び散り歩留が低下する問
題点、またポリイミドコーティング等でアルミの表面状
態が変り、これによりアルミの反射率が変化するため
に、アルミ上にレーザマーキングにより形成されたマー
クの認識が不安定になる問題点を有することが判明し
た。
【0009】したがって本発明の目的は、外部メモリー
媒体を用いないで、しかもアルミの飛び散りによる歩留
の低下を回避し、また安定したマークの認識を可能にす
る半導体ウエハのマッピングデータの保存方法を提供す
ることである。
媒体を用いないで、しかもアルミの飛び散りによる歩留
の低下を回避し、また安定したマークの認識を可能にす
る半導体ウエハのマッピングデータの保存方法を提供す
ることである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、多数の
半導体チップをマトリックス状に形成した半導体ウエハ
内の良品、不良品の半導体チップの配列データであるマ
ッピングデータ及びアドレス基準マークをラベル型テー
プに印字して該半導体ウエハ内に貼り付ける事により、
同一半導体ウエハ内に良品、不良品の半導体チップのマ
ッピングデータ及びアドレス基準マークを形成する半導
体ウエハのマッピングデータの保存方法にある。ここで
ラベル型テープはアルミ箔で構成することができる。ま
た前記ラベル型テープは樹脂系の接着剤により前記半導
体ウエハの周辺箇所に貼り付けることが好ましい。
半導体チップをマトリックス状に形成した半導体ウエハ
内の良品、不良品の半導体チップの配列データであるマ
ッピングデータ及びアドレス基準マークをラベル型テー
プに印字して該半導体ウエハ内に貼り付ける事により、
同一半導体ウエハ内に良品、不良品の半導体チップのマ
ッピングデータ及びアドレス基準マークを形成する半導
体ウエハのマッピングデータの保存方法にある。ここで
ラベル型テープはアルミ箔で構成することができる。ま
た前記ラベル型テープは樹脂系の接着剤により前記半導
体ウエハの周辺箇所に貼り付けることが好ましい。
【0011】
【作用】本発明の半導体ウエハのマッピングデータの保
存方法によれば、外部メモリー媒体を不必要にし、レー
ザマーキングによるアルミの飛び散りを排除し、またレ
ーザマーキングによるマークの不安定の認識を回避する
ことができる。
存方法によれば、外部メモリー媒体を不必要にし、レー
ザマーキングによるアルミの飛び散りを排除し、またレ
ーザマーキングによるマークの不安定の認識を回避する
ことができる。
【0012】
【実施例】以下、図面を参照して本発明を説明する。
【0013】図1は、本発明の実施例の半導体ウエハの
マッピングデータの保存方法を用いた半導体装置の製造
の一例を示す概略図である。
マッピングデータの保存方法を用いた半導体装置の製造
の一例を示す概略図である。
【0014】エレベータ機構等を有するウエハ供給部1
1に多数の半導体ウエハ20が収納されており、そこか
ら半導体ウエハ20が一枚ずつテスタ、プローバ等の試
験装置12に搬送され、そこでプローブカード16の探
針17を半導体ウエハ内の各半導体チップの電極に当接
させてウエハ段階の電気的試験工程であるP/W試験を
行なう。
1に多数の半導体ウエハ20が収納されており、そこか
ら半導体ウエハ20が一枚ずつテスタ、プローバ等の試
験装置12に搬送され、そこでプローブカード16の探
針17を半導体ウエハ内の各半導体チップの電極に当接
させてウエハ段階の電気的試験工程であるP/W試験を
行なう。
【0015】このP/W試験による半導体ウエハ内の良
品、不良品の半導体チップの配列データであるマッピン
グデータ及びアドレス基準マークのデータを、点線の矢
印で示すように、データ印字部14に送りそのデータを
長尺テープ材37上に貼り付けてある一枚のアルミ箔か
らなるラベル型テープ30の表面にドットプリンタ39
により印字する。
品、不良品の半導体チップの配列データであるマッピン
グデータ及びアドレス基準マークのデータを、点線の矢
印で示すように、データ印字部14に送りそのデータを
長尺テープ材37上に貼り付けてある一枚のアルミ箔か
らなるラベル型テープ30の表面にドットプリンタ39
により印字する。
【0016】印字されたラベル型テープ30は長尺テー
プ材37から剥されてテープ貼付け部13に送られる。
一方、P/W試験を完了した半導体ウエハ20もテープ
貼付け部13に搬送されてそのデータ保存箇所に、真空
吸着されてデータ印字部14から送られてきたラベル型
テープ30を裏面に形成されている樹脂系の接着材で貼
り付ける。
プ材37から剥されてテープ貼付け部13に送られる。
一方、P/W試験を完了した半導体ウエハ20もテープ
貼付け部13に搬送されてそのデータ保存箇所に、真空
吸着されてデータ印字部14から送られてきたラベル型
テープ30を裏面に形成されている樹脂系の接着材で貼
り付ける。
【0017】P/W試験による良品、不良品の半導体チ
ップの配列データであるマッピングデータ及びアドレス
基準マークのデータが印字されたラベル型テープ30が
貼り付けられた半導体ウエハ20はダイボンディング部
15に搬送され、そこでレーザ読取り器19のレーザ照
射によりその反射光の検知からラベル型テープ30の良
品、不良品の分布データを読み取り、これにより良品の
半導体チップ21Gのみを半導体ウエハ20から抜き取
ってリードフレーム18上にダイボンディグした中間製
品を得る。そしてこの中間製品は次工程のワイヤボンデ
ィング部(図示省略)に搬送される。
ップの配列データであるマッピングデータ及びアドレス
基準マークのデータが印字されたラベル型テープ30が
貼り付けられた半導体ウエハ20はダイボンディング部
15に搬送され、そこでレーザ読取り器19のレーザ照
射によりその反射光の検知からラベル型テープ30の良
品、不良品の分布データを読み取り、これにより良品の
半導体チップ21Gのみを半導体ウエハ20から抜き取
ってリードフレーム18上にダイボンディグした中間製
品を得る。そしてこの中間製品は次工程のワイヤボンデ
ィング部(図示省略)に搬送される。
【0018】上記一連の工程は、コンピュータに結合し
た制御系(図示省略)により全自動で行われる。
た制御系(図示省略)により全自動で行われる。
【0019】図2は実施例における半導体ウエハ20を
示す斜め方向からみた平面図である。円形の一部に直線
のオリエンテーションフラット23Fを設けた周辺側面
23で輪郭が定められる半導体ウエハ20に、縦横に延
在する切断線(一般にスクライブ線という)22により
区画されてマトリックス状に半導体チップ21配列され
ている。
示す斜め方向からみた平面図である。円形の一部に直線
のオリエンテーションフラット23Fを設けた周辺側面
23で輪郭が定められる半導体ウエハ20に、縦横に延
在する切断線(一般にスクライブ線という)22により
区画されてマトリックス状に半導体チップ21配列され
ている。
【0020】半導体チップ21のうちで半導体ウエハ2
0の周辺部分に位置しており始めから製品として使用さ
れないことがわかっている半導体チップ21はその表面
全体にアルミニウム膜を被着したいわゆるアルミベタチ
ップ21A(右上斜線で示す)である。
0の周辺部分に位置しており始めから製品として使用さ
れないことがわかっている半導体チップ21はその表面
全体にアルミニウム膜を被着したいわゆるアルミベタチ
ップ21A(右上斜線で示す)である。
【0021】このアルミベタチップ21Aのうちの一つ
が、その上にデータが印字されたラベル型テープ30を
貼付けるデータ保存チップ21Mである。
が、その上にデータが印字されたラベル型テープ30を
貼付けるデータ保存チップ21Mである。
【0022】一方、半導体ウエハ20の中央部分に配列
する半導体チップ21がP/W試験で良品チップ21G
と不良品チップ21Fとに分類され各々が半導体ウエハ
内に分布している。尚、図2で不良品チップ21Fを×
印で表現しているが、このような印が不良品チップに刻
印されているのではない。
する半導体チップ21がP/W試験で良品チップ21G
と不良品チップ21Fとに分類され各々が半導体ウエハ
内に分布している。尚、図2で不良品チップ21Fを×
印で表現しているが、このような印が不良品チップに刻
印されているのではない。
【0023】図3はデータ印字部14内を示す概略図で
ある。コア38に巻かれた長尺テープ材37上に、半導
体チップより少し小さい面積のラベル型テープ30が樹
脂系の接着剤により粘着して所定間隔で配列している。
ドットプリンタ39の下に位置しているラベル型テープ
30に試験装置12(図1)から送られてきたP/W試
験のデータにより、半導体ウエハ内の良品、不良品の半
導体チップの配列データであるマッピングデータをドッ
トプリンタ39により印字する。また半導体ウエハの輪
郭を示すアドレス基準マークのデータもドットプリンタ
39により印字する。そして印字が完了したラベル型テ
ープ30は、ノズル状の真空吸着器(図示省略)で吸着
し、テープ材37から剥してそのまま当該半導体ウエハ
に貼り付けるためにテープ貼付け部13(図1)に送ら
れる。
ある。コア38に巻かれた長尺テープ材37上に、半導
体チップより少し小さい面積のラベル型テープ30が樹
脂系の接着剤により粘着して所定間隔で配列している。
ドットプリンタ39の下に位置しているラベル型テープ
30に試験装置12(図1)から送られてきたP/W試
験のデータにより、半導体ウエハ内の良品、不良品の半
導体チップの配列データであるマッピングデータをドッ
トプリンタ39により印字する。また半導体ウエハの輪
郭を示すアドレス基準マークのデータもドットプリンタ
39により印字する。そして印字が完了したラベル型テ
ープ30は、ノズル状の真空吸着器(図示省略)で吸着
し、テープ材37から剥してそのまま当該半導体ウエハ
に貼り付けるためにテープ貼付け部13(図1)に送ら
れる。
【0024】図4(A)はラベル型テープ30を示す斜
視図であり、表面に良品チップ21Gに対応する箇所に
良品マーク31G(3ケのみ例示)が所定の色で印字さ
れ、また半導体ウエハ20の外輪郭23に対応するアド
レス基準マーク33が印字されており、裏面に耐湿性が
良好な樹脂系の接着剤35が塗布形成されている。
視図であり、表面に良品チップ21Gに対応する箇所に
良品マーク31G(3ケのみ例示)が所定の色で印字さ
れ、また半導体ウエハ20の外輪郭23に対応するアド
レス基準マーク33が印字されており、裏面に耐湿性が
良好な樹脂系の接着剤35が塗布形成されている。
【0025】半導体チップを良品と不良品とに分類する
だけの場合は良品マークは所定の一色でよい。しかしプ
リンタで印字されるマークの色を多種にすることによ
り、レーザ読取り器19(図1)におけるレーザ反射光
の強度も多種になるから、良品チップをさらに多分類す
ることも可能である。
だけの場合は良品マークは所定の一色でよい。しかしプ
リンタで印字されるマークの色を多種にすることによ
り、レーザ読取り器19(図1)におけるレーザ反射光
の強度も多種になるから、良品チップをさらに多分類す
ることも可能である。
【0026】図4(B)は印字されたラベル型テープ3
0を拡大して示した平面図である。半導体ウエハ20内
の10ケの良品半導体チップ21Gの分布に対応して1
0ケの良品マーク31Gが印字されている。尚、図4
(B)で縦横の2点鎖線は半導体ウエハ20の切断線2
2に対応する位置を示しているが、この2点鎖線は印字
されない。
0を拡大して示した平面図である。半導体ウエハ20内
の10ケの良品半導体チップ21Gの分布に対応して1
0ケの良品マーク31Gが印字されている。尚、図4
(B)で縦横の2点鎖線は半導体ウエハ20の切断線2
2に対応する位置を示しているが、この2点鎖線は印字
されない。
【0027】図4(C)に示すように、テープ貼付け部
13(図1)においてラベル型テープ30を接着剤35
によって半導体ウエハ20のデータ保存箇所(データ保
存チップ)21M上に貼付ける。尚、図4(C)におい
て、図4(A)と同様に、良品マーク31Gは3ケのみ
を例示している。
13(図1)においてラベル型テープ30を接着剤35
によって半導体ウエハ20のデータ保存箇所(データ保
存チップ)21M上に貼付ける。尚、図4(C)におい
て、図4(A)と同様に、良品マーク31Gは3ケのみ
を例示している。
【0028】図4(C)の状態の半導体ウエハ20がダ
イボンデイング部15(図1)に搬送され、そこでレー
ザ読取り器19(図1)において照射されたレーザ光の
反射光を検知することによりラベル型テープ30におけ
る良品マーク31Gおよびそのアドレス基準マーク33
からの距離を読取り、それから半導体ウエハ20におけ
る良品チップ21Gが存在する位置を算出して、その良
品チップ21Gをコレットで吸着してリードフレーム1
8(図1)にダイボンデイングする。
イボンデイング部15(図1)に搬送され、そこでレー
ザ読取り器19(図1)において照射されたレーザ光の
反射光を検知することによりラベル型テープ30におけ
る良品マーク31Gおよびそのアドレス基準マーク33
からの距離を読取り、それから半導体ウエハ20におけ
る良品チップ21Gが存在する位置を算出して、その良
品チップ21Gをコレットで吸着してリードフレーム1
8(図1)にダイボンデイングする。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体ウ
エハ内の良品、不良品の半導体チップの配列データであ
るマッピングデータ及びアドレス基準マークをラベル型
テープに印字して半導体ウエハ内に貼り付ける半導体ウ
エハのマッピングデータの保存方法である。
エハ内の良品、不良品の半導体チップの配列データであ
るマッピングデータ及びアドレス基準マークをラベル型
テープに印字して半導体ウエハ内に貼り付ける半導体ウ
エハのマッピングデータの保存方法である。
【0030】このようにマッピングデータを共存させた
半導体ウエハを形成するから、外部メモリー媒体が不必
要になり、これにより管理が簡素化されかつ正確の管理
が可能になる。
半導体ウエハを形成するから、外部メモリー媒体が不必
要になり、これにより管理が簡素化されかつ正確の管理
が可能になる。
【0031】またマークの形成にレーザマーキングの方
法を用いていないから、レーザマーキング時にアルミが
周辺の良品ペレットに飛び散り歩留を低下させることが
ない。さらにポリイミドコーチング等を行なって半導体
ウエハのアルミベタチップの表面状態が変っても、ラベ
ル型テープの表面状態には関係ないから常に安定したマ
ークの認識が可能になる。
法を用いていないから、レーザマーキング時にアルミが
周辺の良品ペレットに飛び散り歩留を低下させることが
ない。さらにポリイミドコーチング等を行なって半導体
ウエハのアルミベタチップの表面状態が変っても、ラベ
ル型テープの表面状態には関係ないから常に安定したマ
ークの認識が可能になる。
【0032】ラベル型テープはアルミ箔から構成するこ
とができ、印字はレーザ光を照射してその反射光の強度
で読取ることができる。このラベル型テープは常に同一
材を使用する事により安定した検出特性を得ることがで
き、また、バックの色(テープ材の色)を選択すること
により印字色とのコントラストを調整して検出特性を調
整することもできる。
とができ、印字はレーザ光を照射してその反射光の強度
で読取ることができる。このラベル型テープは常に同一
材を使用する事により安定した検出特性を得ることがで
き、また、バックの色(テープ材の色)を選択すること
により印字色とのコントラストを調整して検出特性を調
整することもできる。
【0033】また、プリンタで印字されるマークの色を
多種にすることにより、良品チップをさらに多分類する
ことも可能となる。
多種にすることにより、良品チップをさらに多分類する
ことも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の半導体ウエハのマッピングデ
ータの保存方法を用いた製造プロセスの一例を示す概略
図である。
ータの保存方法を用いた製造プロセスの一例を示す概略
図である。
【図2】本発明の実施例における半導体ウエハを示す図
である。
である。
【図3】本発明の実施例におけるデータ印字部を示す図
である。
である。
【図4】本発明の実施例におけるラベル型テープを示す
図であり、(A)は斜視図、(B)は拡大した平面図、
(C)は半導体ウエハに貼付けた状態の図である。
図であり、(A)は斜視図、(B)は拡大した平面図、
(C)は半導体ウエハに貼付けた状態の図である。
【図5】従来技術の半導体ウエハ(A)および半導体ウ
エハ内のデ−タ保存チップを示す図である。
エハ内のデ−タ保存チップを示す図である。
11 ウエハ供給部 12 試験装置 13 テープ貼付け部 14 データ保存部 15 ダイボンディング部 16 プローブカード 17 探針 18 リードフレーム 19 レーザ読取り器 21,51 半導体チップ 21A,51A アルミベタチップ 21G,51G 良品チップ 21F,51F 不良品チップ 21M,51M データ保存チップ 20,50 半導体ウエハ 22,52 切断線(スクライブ線) 23,53 半導体ウエハの周辺側面 23F 半導体ウエハのオリエンテーションフラット 30 ラベル型テープ 31G ドットプリンタによる良品マーク 33 ドットプリンタによるアドレス基準マーク 35 接着剤 37 長尺テープ材 38 コア 39 ドットプリンタ 61G レーザマーキングによる良品マーク 61F 不良チップに対応する箇所 63 レーザマーキングによるアドレス基準マーク
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年11月29日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の半導体ウェハのマッピングデ
ータの保存方法を用いた製造プロセスの一例を示す概略
図である。
ータの保存方法を用いた製造プロセスの一例を示す概略
図である。
【図2】本発明の実施例における半導体ウェハを示す図
である。
である。
【図3】本発明の実施例におけるデータ印字部を示す図
である。
である。
【図4】本発明の実施例におけるラベル型テープを示す
図であり、(A)は斜視図、(B)は拡大した平面図、
(C)は半導体ウェハに貼付けた状態の図である。
図であり、(A)は斜視図、(B)は拡大した平面図、
(C)は半導体ウェハに貼付けた状態の図である。
【図5】従来技術の半導体ウェハを示す図(A)および
半導体ウェハ内のデータ保存チップを示す図(B)であ
る。
半導体ウェハ内のデータ保存チップを示す図(B)であ
る。
【符号の説明】 11 ウェハ供給部 12 試験装置 13 テープ貼付け部 14 データ保存部 15 ダイボンディング部 16 プローブカード 17 探針 18 リードフレーム 19 レーザ読取り器 21,51 半導体チップ 21A,51A アルミベタチップ 21G,51G 良品チップ 21F,51F 不良品チップ 21M,51M データ保存チップ 20,50 半導体ウェハ 22,52 切断線(スクライブ線) 23,53 半導体ウェハの周辺側面 23F 半導体ウェハのオリエンテーションフラット 30 ラベル型テープ 31G ドットプリンタによる良品マーク 33 ドットプリンタによるアドレス基準マーク 35 接着剤 37 長尺テープ材 38 コア 39 ドットプリンタ 61G レーザマーキングによる良品マーク 61F 不良チップに対応する箇所 63 レーザマーキングによるアドレス基準マーク
Claims (3)
- 【請求項1】 多数の半導体チップをマトリックス状に
形成した半導体ウエハ内の良品、不良品の半導体チップ
の配列データであるマッピングデータ及びアドレス基準
マークをラベル型テープに印字して該半導体ウエハ内に
貼り付ける事により、同一半導体ウエハ内の所定箇所に
良品、不良品の半導体チップのマッピングデータ及びア
ドレス基準マークを形成する事を特徴とする半導体ウエ
ハのマッピングデータの保存方法。 - 【請求項2】 前記ラベル型テープはアルミ箔で構成さ
れていることを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハ
のマッピングデータの保存方法。 - 【請求項3】 前記ラベル型テープは樹脂系の接着剤に
より前記半導体ウエハの周辺部分の所定箇所に貼り付け
ることを特徴とする請求項1もしくは請求項2記載の半
導体ウエハのマッピングデータの保存方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6170613A JPH0837210A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 半導体ウエハのマッピングデータの保存方法 |
GB9514920A GB2291739B (en) | 1994-07-22 | 1995-07-20 | Method of indicating acceptable and defective chips on semiconductor wafer |
US08/505,623 US5705935A (en) | 1994-07-22 | 1995-07-21 | Method of managing mapping data indicative of excellent/defective chips on semiconductor wafer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6170613A JPH0837210A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 半導体ウエハのマッピングデータの保存方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0837210A true JPH0837210A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=15908114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6170613A Pending JPH0837210A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 半導体ウエハのマッピングデータの保存方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5705935A (ja) |
JP (1) | JPH0837210A (ja) |
GB (1) | GB2291739B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100379084B1 (ko) * | 1998-08-31 | 2003-07-07 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지제조방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6250192B1 (en) * | 1996-11-12 | 2001-06-26 | Micron Technology, Inc. | Method for sawing wafers employing multiple indexing techniques for multiple die dimensions |
JP3610887B2 (ja) * | 2000-07-03 | 2005-01-19 | 富士通株式会社 | ウエハレベル半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
DE10123362B4 (de) * | 2001-05-14 | 2004-12-30 | Infineon Technologies Ag | Wafer sowie Verfahren zum Herstellen eines Wafers |
US6764168B1 (en) * | 2002-03-01 | 2004-07-20 | Novellus Systems, Inc. | Sensor for detecting droplet characteristics |
CN101238566B (zh) * | 2005-08-18 | 2012-05-09 | 爱德万测试株式会社 | 器件识别方法、器件制造方法以及电子器件 |
KR100805833B1 (ko) * | 2006-01-24 | 2008-02-21 | 삼성전자주식회사 | 반도체 테스트 장비의 고장을 검출하기 위한 테스트 장치및 방법 |
CN111653500A (zh) * | 2020-06-19 | 2020-09-11 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 判断晶圆良率损失的方法 |
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JPH02260440A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Icウェハ及びicの良否識別方法 |
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US4928002A (en) * | 1988-12-05 | 1990-05-22 | Motorola Inc. | Method of recording test results of die on a wafer |
US5256578A (en) * | 1991-12-23 | 1993-10-26 | Motorola, Inc. | Integral semiconductor wafer map recording |
JPH05190614A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-07-30 | Nec Kyushu Ltd | マッピングデータの保存方法 |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP6170613A patent/JPH0837210A/ja active Pending
-
1995
- 1995-07-20 GB GB9514920A patent/GB2291739B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-21 US US08/505,623 patent/US5705935A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2291739B (en) | 1998-08-12 |
GB9514920D0 (en) | 1995-09-20 |
GB2291739A (en) | 1996-01-31 |
US5705935A (en) | 1998-01-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970318 |