JPH08273207A - 光情報記録媒体搬送用キヤリア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents
光情報記録媒体搬送用キヤリア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及び製造装置Info
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- JPH08273207A JPH08273207A JP7320294A JP32029495A JPH08273207A JP H08273207 A JPH08273207 A JP H08273207A JP 7320294 A JP7320294 A JP 7320294A JP 32029495 A JP32029495 A JP 32029495A JP H08273207 A JPH08273207 A JP H08273207A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
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- G—PHYSICS
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の脱着が１部品で簡単に行え、同時に基
板のマスクの装着も行え、更に搬送系を簡略化し、装着
コストを低減でき、かつ樹脂化により搬送の高速化とハ
ンドリング精度を向上し得る光情報記録媒体用搬送キヤ
リア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及
び製造装置を提供する。 【解決手段】 基板１上に記録層を有する光情報記録媒
体の製造の際に使用する搬送キヤリアであって、光情報
記録媒体の基板保持部３と、キヤリア２を搬送する搬送
手段と係合する係合部と、基板の外周縁部をマスクする
外周マスク部４とを有し、キヤリアと前記基板保持部と
前記係合部と前記外周マスク部とが高分子材料で一体的
に形成されてなることを特徴とする。
板のマスクの装着も行え、更に搬送系を簡略化し、装着
コストを低減でき、かつ樹脂化により搬送の高速化とハ
ンドリング精度を向上し得る光情報記録媒体用搬送キヤ
リア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及
び製造装置を提供する。 【解決手段】 基板１上に記録層を有する光情報記録媒
体の製造の際に使用する搬送キヤリアであって、光情報
記録媒体の基板保持部３と、キヤリア２を搬送する搬送
手段と係合する係合部と、基板の外周縁部をマスクする
外周マスク部４とを有し、キヤリアと前記基板保持部と
前記係合部と前記外周マスク部とが高分子材料で一体的
に形成されてなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光情報記録媒体の製
造の際に使用される光情報記録媒体搬送用キヤリア、該
記録媒体搬送用キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造
方法及びその製造装置に係わるもので、特に磁気カー効
果或いはファラデー効果等の磁気光学効果によって記録
された情報を読み出すことの出来る光磁気記録媒体、お
よび記録薄膜にレーザー光を照射し結晶状態の変化を作
り出すことにより情報を記録再生する相変化型記録媒体
を製造する際の記録媒体基板の搬送キヤリア、それを用
いた光情報記録媒体の製造方法および装置に関するもの
である。
造の際に使用される光情報記録媒体搬送用キヤリア、該
記録媒体搬送用キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造
方法及びその製造装置に係わるもので、特に磁気カー効
果或いはファラデー効果等の磁気光学効果によって記録
された情報を読み出すことの出来る光磁気記録媒体、お
よび記録薄膜にレーザー光を照射し結晶状態の変化を作
り出すことにより情報を記録再生する相変化型記録媒体
を製造する際の記録媒体基板の搬送キヤリア、それを用
いた光情報記録媒体の製造方法および装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータメモリや画像情報メ
モリとして大容量、高速記録媒体が求められている。こ
れらの要望に応える記録媒体としてレーザー光を用いて
記録再生する光ディスクがさかんに開発されている。そ
の中でも特に有望なものは光磁気記録媒体と相変化型記
録媒体である。光磁気記録媒体は偏光されたレーザー光
を磁性体表面に照射し、その磁化の向きによって反射さ
れてくるレーザー光の偏光面の回転方向が異なる性質の
いわゆる磁気カー効果を利用して情報を記録再生するも
のである。この磁気カー効果はカー回転角が大きいもの
ほど大きなＣ／Ｎ比が得られ磁気カー効果も大きくな
る。然るに磁気カー効果は磁気記録層のみでは十分大き
なものが得られない。従って一般的には磁気記録層と基
板の間に透明な誘電体層を付加し、光学的な干渉効果に
よってカー回転角の増加（エンハンス効果）を図ってい
る。一方、相変化型記録媒体はレーザー光を記録薄膜に
照射し、加熱、急冷却にって薄膜を非結晶状態にして記
録し、さらにレーザー光により加熱、徐冷することで消
去して情報を記録再生するものである。この相変化型記
録媒体においても、光学的なエンハンス効果をもたせる
ために、基板と記録膜の間に誘電体層を設ける。これら
の誘電体層は干渉効果によるエンハンス効果の他に、磁
性層を保護する保護膜としての役割も有しており、一般
的には磁性層をはさむように設けられている。また、更
に干渉効果を高めるために最上層に金属反射層を付加し
たものも多く見られる。媒体の構成としては一般的には
基板／保護層／記録層／保護層あるいは基板／保護層／
記録層／保護層／反射層の構成が選ばれる。
モリとして大容量、高速記録媒体が求められている。こ
れらの要望に応える記録媒体としてレーザー光を用いて
記録再生する光ディスクがさかんに開発されている。そ
の中でも特に有望なものは光磁気記録媒体と相変化型記
録媒体である。光磁気記録媒体は偏光されたレーザー光
を磁性体表面に照射し、その磁化の向きによって反射さ
れてくるレーザー光の偏光面の回転方向が異なる性質の
いわゆる磁気カー効果を利用して情報を記録再生するも
のである。この磁気カー効果はカー回転角が大きいもの
ほど大きなＣ／Ｎ比が得られ磁気カー効果も大きくな
る。然るに磁気カー効果は磁気記録層のみでは十分大き
なものが得られない。従って一般的には磁気記録層と基
板の間に透明な誘電体層を付加し、光学的な干渉効果に
よってカー回転角の増加（エンハンス効果）を図ってい
る。一方、相変化型記録媒体はレーザー光を記録薄膜に
照射し、加熱、急冷却にって薄膜を非結晶状態にして記
録し、さらにレーザー光により加熱、徐冷することで消
去して情報を記録再生するものである。この相変化型記
録媒体においても、光学的なエンハンス効果をもたせる
ために、基板と記録膜の間に誘電体層を設ける。これら
の誘電体層は干渉効果によるエンハンス効果の他に、磁
性層を保護する保護膜としての役割も有しており、一般
的には磁性層をはさむように設けられている。また、更
に干渉効果を高めるために最上層に金属反射層を付加し
たものも多く見られる。媒体の構成としては一般的には
基板／保護層／記録層／保護層あるいは基板／保護層／
記録層／保護層／反射層の構成が選ばれる。
【０００３】ところで、コンピュータメモリや画像情報
メモリとして用いられる媒体は長期記録保存性が強く求
められており、これらの要望に応えるために保護層の性
能向上や記録層自体の耐久性向上などについて現在内外
の研究機関において活発な研究開発が行われている。ま
た媒体の長期記録保存性を確保するためにはディスクの
最外周と最内周の非有効領域に膜を付けない方がよいこ
とが一般的に知られている。これはディスクの最外周や
最内周に付着する膜は基板の裏からの不純ガスの回り込
みやエッジに付く膜質がよくないため、そこが湿気等に
より経時変化を起こす原因となり、膜にクラックが入っ
たり、膨れたりするためである。したがって一般的には
基板の内周部と外周部にマスクをつけて成膜される。こ
のマスクは通常アルミニウムやステンレスを削り出しで
作成したり、特開平５−２１７２２９、特開平５−３０
３７８２にみられるようにフィルムやプラスチックで作
成する試みがなされている。図１９乃至２１に従来のマ
スクを示す。図１９は従来の金属製マスクの斜視図であ
り、図２０はその断面図である。両図において１は基
板、１２は外周マスク、１３は内周マスクであり、両マ
スクは磁性金属材料で作成されており、図２０に示すよ
うに基板１を挟み込むようにしてキャリア１４に設けら
れた磁石１５により磁力で固定されている。また、図２
１はフィルムを基板１に貼りつけマスクとしたもので、
１６は外周のフィルムマスク、１７は内周のフィルマス
クである。
メモリとして用いられる媒体は長期記録保存性が強く求
められており、これらの要望に応えるために保護層の性
能向上や記録層自体の耐久性向上などについて現在内外
の研究機関において活発な研究開発が行われている。ま
た媒体の長期記録保存性を確保するためにはディスクの
最外周と最内周の非有効領域に膜を付けない方がよいこ
とが一般的に知られている。これはディスクの最外周や
最内周に付着する膜は基板の裏からの不純ガスの回り込
みやエッジに付く膜質がよくないため、そこが湿気等に
より経時変化を起こす原因となり、膜にクラックが入っ
たり、膨れたりするためである。したがって一般的には
基板の内周部と外周部にマスクをつけて成膜される。こ
のマスクは通常アルミニウムやステンレスを削り出しで
作成したり、特開平５−２１７２２９、特開平５−３０
３７８２にみられるようにフィルムやプラスチックで作
成する試みがなされている。図１９乃至２１に従来のマ
スクを示す。図１９は従来の金属製マスクの斜視図であ
り、図２０はその断面図である。両図において１は基
板、１２は外周マスク、１３は内周マスクであり、両マ
スクは磁性金属材料で作成されており、図２０に示すよ
うに基板１を挟み込むようにしてキャリア１４に設けら
れた磁石１５により磁力で固定されている。また、図２
１はフィルムを基板１に貼りつけマスクとしたもので、
１６は外周のフィルムマスク、１７は内周のフィルマス
クである。
【０００４】一方、上述したように、基板に記録膜など
を成膜するためには、基板を成形し、マスクを装着し、
成膜工程へ搬送していかなければならない。このため、
基板を装着したマスクをロボットアーム等で把持して、
工程から工程へ１枚１枚送ったり、コンテナにまとめて
収納してコンベア等で送ったあと、またロボットアーム
等で１枚１枚送るというような作業が行われていた。
を成膜するためには、基板を成形し、マスクを装着し、
成膜工程へ搬送していかなければならない。このため、
基板を装着したマスクをロボットアーム等で把持して、
工程から工程へ１枚１枚送ったり、コンテナにまとめて
収納してコンベア等で送ったあと、またロボットアーム
等で１枚１枚送るというような作業が行われていた。
【０００５】また、図２２は従来の成膜装置の一例を示
した概略断面図である。基板１枚１枚に成膜していくい
わゆる枚葉式の成膜装置であり、アーム１００に固定さ
れた磁石１０５により、図２２の基板１、マスク１２、
キヤリア１４はアーム１００に保持されている。そし
て、基板１の成膜面に対向してターゲット１１０がター
ゲットホルダ１１１に保持され、これらは成膜チャンバ
１１２の中に構成されて、スパッタリングにより基板１
に記録膜等が成膜される。このとき、チャンバ１１２内
に不要な膜が成膜されないように、防着板２９が用いら
れる。防着板２９に付着した膜も、ある一定の膜厚に達
すると剥離して基板に異物として付着する怖れがあるの
で、定期的に交換あるいは付着した膜の除去作業を行わ
なければならない。
した概略断面図である。基板１枚１枚に成膜していくい
わゆる枚葉式の成膜装置であり、アーム１００に固定さ
れた磁石１０５により、図２２の基板１、マスク１２、
キヤリア１４はアーム１００に保持されている。そし
て、基板１の成膜面に対向してターゲット１１０がター
ゲットホルダ１１１に保持され、これらは成膜チャンバ
１１２の中に構成されて、スパッタリングにより基板１
に記録膜等が成膜される。このとき、チャンバ１１２内
に不要な膜が成膜されないように、防着板２９が用いら
れる。防着板２９に付着した膜も、ある一定の膜厚に達
すると剥離して基板に異物として付着する怖れがあるの
で、定期的に交換あるいは付着した膜の除去作業を行わ
なければならない。
【０００６】このような従来の光情報記録媒体搬送用キ
ヤリア、光情報記録媒体の製造方法及びその製造装置で
は以下のような問題点があった。
ヤリア、光情報記録媒体の製造方法及びその製造装置で
は以下のような問題点があった。
【０００７】（１）マスクおよびキヤリアは通常アルミ
ニウムやステンレスなどの金属を削り出しで作成してお
り、重く、ハンドリングの精度の向上や高速化が困難で
あった。
ニウムやステンレスなどの金属を削り出しで作成してお
り、重く、ハンドリングの精度の向上や高速化が困難で
あった。
【０００８】（２）マスクおよびキヤリアは削り出しで
作成するためコストがかかり、また複雑な形状にするこ
とは困難であった。そのため、マスクやキヤリア自体の
形状は略円形の単純形状としているため、そのハンドリ
ング機構が複雑になっていた。また、フィルムのマスク
とした場合でも、基板そのもののハンドリングを行わな
ければならず、そのハンドリング機構が複雑になってい
た。プラスチックマスクとしても従来その形状は単純な
円輪状であるため、ハンドリング機構が複雑になってい
た。
作成するためコストがかかり、また複雑な形状にするこ
とは困難であった。そのため、マスクやキヤリア自体の
形状は略円形の単純形状としているため、そのハンドリ
ング機構が複雑になっていた。また、フィルムのマスク
とした場合でも、基板そのもののハンドリングを行わな
ければならず、そのハンドリング機構が複雑になってい
た。プラスチックマスクとしても従来その形状は単純な
円輪状であるため、ハンドリング機構が複雑になってい
た。
【０００９】（３）金属製マスクおよびキヤリアは、生
産工程において大量に必要であり、生産コストのアップ
になっていた。しかもマスクに付着した膜が剥がれて異
物不良の原因となるためマスクのホーニング、洗浄が必
要となりランニングコストのアップにもなっていた。
産工程において大量に必要であり、生産コストのアップ
になっていた。しかもマスクに付着した膜が剥がれて異
物不良の原因となるためマスクのホーニング、洗浄が必
要となりランニングコストのアップにもなっていた。
【００１０】（４）金属製マスクおよびキヤリアは、基
板の脱着を行うために複数部品で構成され、部品コスト
が高く、その脱着のための時間も長くなっていた。
板の脱着を行うために複数部品で構成され、部品コスト
が高く、その脱着のための時間も長くなっていた。
【００１１】（５）枚葉式の成膜装置では、防着板のメ
ンテナンスを定期的に行わなければならず、その都度生
産ラインを停止するため、生産効率が低下していた。
ンテナンスを定期的に行わなければならず、その都度生
産ラインを停止するため、生産効率が低下していた。
【００１２】本発明はこれらの問題点を解決するもので
ある。
ある。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明に係わる第１の
発明の目的は、基板の取り扱い性を向上すると共に、基
板のマスクも同時に行えるようにし、さらに基板の搬送
の高速化を可能にでき、温度変化があっても安定して基
板を保持でき、基板のキヤリアとの脱着が容易、かつ、
迅速に行え、更にキヤリアの搬送手段との脱着が容易、
かつ、迅速に行えるようにするものである。
発明の目的は、基板の取り扱い性を向上すると共に、基
板のマスクも同時に行えるようにし、さらに基板の搬送
の高速化を可能にでき、温度変化があっても安定して基
板を保持でき、基板のキヤリアとの脱着が容易、かつ、
迅速に行え、更にキヤリアの搬送手段との脱着が容易、
かつ、迅速に行えるようにするものである。
【００１４】本発明に係わる第２の発明の目的は、簡単
な機構で基板の取り扱いを行える成膜方法、および装置
を提供するものである。
な機構で基板の取り扱いを行える成膜方法、および装置
を提供するものである。
【００１５】本発明に係わる第３の発明の目的は、枚葉
式の成膜装置の防着板のメンテナンスを不要にするもの
である。
式の成膜装置の防着板のメンテナンスを不要にするもの
である。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、基板を連続的に搬送せしめる搬送手段を備
えた光情報記録媒体の連続製造装置と共に用いる光情報
記録媒体用基板の搬送キヤリアであって、光情報記録媒
体用基板を着脱自在に保持する基板保持部、基板の外周
縁部をマスクする外周マスク部、及び該搬送手段と着脱
自在に係合する係合部とを備え、該基板保持部と該外周
マスク部及び該係合部とが一体となるように構成されて
いることを特徴とする光情報記録媒体搬送用キャリアを
提案するものであり、前記高分子材料が基板と同一材料
であること、前記基板保持部がスナップフィット形状で
あること、前記係合部がスナップフィット形状であるこ
と、更にキヤリアの前記外周マスク部形成面側の基板保
持部外周に沿って壁部を立設したことを含む。
するために、基板を連続的に搬送せしめる搬送手段を備
えた光情報記録媒体の連続製造装置と共に用いる光情報
記録媒体用基板の搬送キヤリアであって、光情報記録媒
体用基板を着脱自在に保持する基板保持部、基板の外周
縁部をマスクする外周マスク部、及び該搬送手段と着脱
自在に係合する係合部とを備え、該基板保持部と該外周
マスク部及び該係合部とが一体となるように構成されて
いることを特徴とする光情報記録媒体搬送用キャリアを
提案するものであり、前記高分子材料が基板と同一材料
であること、前記基板保持部がスナップフィット形状で
あること、前記係合部がスナップフィット形状であるこ
と、更にキヤリアの前記外周マスク部形成面側の基板保
持部外周に沿って壁部を立設したことを含む。
【００１７】また本発明は、基板を取り付けたキヤリア
を連続的に記録層の成膜室に搬送せしめる搬送手段を備
えた光記録情報媒体を連続的に製造する装置を用いた光
情報記録媒体の製造方法であって、光情報記録媒体用基
板を着脱自在に保持する基板保持部、基板の外周縁部を
マスクする外周マスク部、及び該搬送手段と着脱自在に
係合する係合部とを備え、該基板保持部と該外周マスク
部及び該係合部とが一体となるように構成されているキ
ヤリアに光情報記録媒体用基板を取り付ける工程、基板
を取り付けたキヤリアを該搬送手段に取り付ける工程、
及び基板を取り付けた該キヤリアを該搬送手段によって
連続的に成膜室に搬送せしめる工程を有することを特徴
とする光情報記録媒体の製造方法を提案するものであ
り、前記搬送手段により搬送された前記記録媒体搬送用
キヤリアに成膜する成膜室をもち、前記記録媒体搬送用
キヤリアの成膜面側の基板外周部に壁部を設け、前記成
膜室の壁部への膜の付着を防止することを含む。更に本
発明は、キヤリアに取り付けられた基板を連続的に搬送
せしめる搬送手段を備えた光情報記録媒体を連続的に製
造する装置であって、該搬送手段に着脱自在に保持する
基板保持部、基板の外周縁部をマスクする外周マスク
部、及び該装置の該搬送手段と着脱自在に係合可能な係
合部とを備え、該基板保持部と該外周マスク部及び該係
合部とが一体となるように構成され、且つ該係合部にお
いて該搬送手段に取り付けられているキヤリア、及び該
搬送手段によって該キヤリアが連続的に搬送されるよう
に構成された記録層の成膜室を具備していることを特徴
とする光情報記録媒体の製造装置を提案するものであ
り、前記搬送手段により搬送された前記記録媒体搬送用
キヤリアに成膜する成膜室を有し、前記記録媒体搬送用
キヤリアの成膜面側の基板外周部に前記成膜室の壁部へ
の膜を防止するための壁部を形成したことを含む。
を連続的に記録層の成膜室に搬送せしめる搬送手段を備
えた光記録情報媒体を連続的に製造する装置を用いた光
情報記録媒体の製造方法であって、光情報記録媒体用基
板を着脱自在に保持する基板保持部、基板の外周縁部を
マスクする外周マスク部、及び該搬送手段と着脱自在に
係合する係合部とを備え、該基板保持部と該外周マスク
部及び該係合部とが一体となるように構成されているキ
ヤリアに光情報記録媒体用基板を取り付ける工程、基板
を取り付けたキヤリアを該搬送手段に取り付ける工程、
及び基板を取り付けた該キヤリアを該搬送手段によって
連続的に成膜室に搬送せしめる工程を有することを特徴
とする光情報記録媒体の製造方法を提案するものであ
り、前記搬送手段により搬送された前記記録媒体搬送用
キヤリアに成膜する成膜室をもち、前記記録媒体搬送用
キヤリアの成膜面側の基板外周部に壁部を設け、前記成
膜室の壁部への膜の付着を防止することを含む。更に本
発明は、キヤリアに取り付けられた基板を連続的に搬送
せしめる搬送手段を備えた光情報記録媒体を連続的に製
造する装置であって、該搬送手段に着脱自在に保持する
基板保持部、基板の外周縁部をマスクする外周マスク
部、及び該装置の該搬送手段と着脱自在に係合可能な係
合部とを備え、該基板保持部と該外周マスク部及び該係
合部とが一体となるように構成され、且つ該係合部にお
いて該搬送手段に取り付けられているキヤリア、及び該
搬送手段によって該キヤリアが連続的に搬送されるよう
に構成された記録層の成膜室を具備していることを特徴
とする光情報記録媒体の製造装置を提案するものであ
り、前記搬送手段により搬送された前記記録媒体搬送用
キヤリアに成膜する成膜室を有し、前記記録媒体搬送用
キヤリアの成膜面側の基板外周部に前記成膜室の壁部へ
の膜を防止するための壁部を形成したことを含む。
【００１８】以下、本発明を図面に基づき、更に詳細に
説明する。
説明する。
【００１９】
（第１の実施例）図１は本発明の第１の実施例の斜視図
である。媒体基板１がキヤリア２に装着された状態を示
しており、キヤリア２には基板保持部３が設けられてい
る。また、図２は図１の要部断面図であり、同図に示さ
れるように、基板保持部３はアンダーカット３１と凸部
３２をもち、凸部３２で抱え込むように基板１を保持し
ている。４は基板１の外周部に成膜されることを防ぐマ
スクであり、基板１の成膜面１１の外周部を覆ってい
る。図１の５はキヤリア２を製造ライン内で搬送させる
搬送手段との係合部であるところのピンである。このよ
うに、キヤリア２は基板保持部３とマスク部４とピン５
が一体的に樹脂で形成されている。
である。媒体基板１がキヤリア２に装着された状態を示
しており、キヤリア２には基板保持部３が設けられてい
る。また、図２は図１の要部断面図であり、同図に示さ
れるように、基板保持部３はアンダーカット３１と凸部
３２をもち、凸部３２で抱え込むように基板１を保持し
ている。４は基板１の外周部に成膜されることを防ぐマ
スクであり、基板１の成膜面１１の外周部を覆ってい
る。図１の５はキヤリア２を製造ライン内で搬送させる
搬送手段との係合部であるところのピンである。このよ
うに、キヤリア２は基板保持部３とマスク部４とピン５
が一体的に樹脂で形成されている。
【００２０】次に各部の機能を順次説明する。図３
（ａ）および図３（ｂ）に基板１のキヤリア２への装着
の状態を説明する断面図を示す。図３（ａ）の初期の状
態では基板保持部３は未変形である。図３（ｂ）に示す
ように基板１を下側方向へ（図中の矢印方向）へ強く押
し込むことにより、基板保持部３のテーパ面３３には基
板１の半径方向外側に押す力が加わりキヤリア２は樹脂
の変形により、凸部３２は基板１の外径まで開く。その
まま押し込むことにより、基板１は外周マスク部４まで
達し、基板１の外径より外側のアンダーカット部３１ま
で基板１が到達して基板保持部３には外力がなくなるた
め、弾性力により初期の状態に戻る。そして図２に示さ
れるように、凸部３２により抱え込まれるようにして基
板１はキヤリア２に保持される。このように、本実施例
では基板保持部３はいわゆるスナップフィット構造とし
ている。この保持状態において、基板１と基板保持部３
の間に適当なクリアランスを設けることにより、基板１
には不要な応力はかからないため基板が変形することは
ない。逆に、基板１をキヤリア２から取り外すときは、
基板１を上方方向に引き出すことにより、テーパ面３４
に基板１の半径方向外側に押す力が加わり、凸部３２は
基板１の外径まで開き、基板１を離脱させる。このよう
に、基板保持部３は弾性変形が必要とされるため、キヤ
リア２を構成する樹脂材料は適当な弾性を有する材料が
好ましい。また、基板の脱着において、基板により直接
基板保持部を変形させているが、治具により、基板保持
部を変形させてから基板の取付け取り外しを行ってもよ
い。さらに、キヤリアの材質をディスク基板と同じ材質
にすることにより、成膜中の温度上昇による基板とキヤ
リアの線膨張係数の差による変形量の差がなくなるた
め、基板が基板保持部から脱落したり、あるいは基板保
持部が基板に外力をかけることを防ぐことができる。
（ａ）および図３（ｂ）に基板１のキヤリア２への装着
の状態を説明する断面図を示す。図３（ａ）の初期の状
態では基板保持部３は未変形である。図３（ｂ）に示す
ように基板１を下側方向へ（図中の矢印方向）へ強く押
し込むことにより、基板保持部３のテーパ面３３には基
板１の半径方向外側に押す力が加わりキヤリア２は樹脂
の変形により、凸部３２は基板１の外径まで開く。その
まま押し込むことにより、基板１は外周マスク部４まで
達し、基板１の外径より外側のアンダーカット部３１ま
で基板１が到達して基板保持部３には外力がなくなるた
め、弾性力により初期の状態に戻る。そして図２に示さ
れるように、凸部３２により抱え込まれるようにして基
板１はキヤリア２に保持される。このように、本実施例
では基板保持部３はいわゆるスナップフィット構造とし
ている。この保持状態において、基板１と基板保持部３
の間に適当なクリアランスを設けることにより、基板１
には不要な応力はかからないため基板が変形することは
ない。逆に、基板１をキヤリア２から取り外すときは、
基板１を上方方向に引き出すことにより、テーパ面３４
に基板１の半径方向外側に押す力が加わり、凸部３２は
基板１の外径まで開き、基板１を離脱させる。このよう
に、基板保持部３は弾性変形が必要とされるため、キヤ
リア２を構成する樹脂材料は適当な弾性を有する材料が
好ましい。また、基板の脱着において、基板により直接
基板保持部を変形させているが、治具により、基板保持
部を変形させてから基板の取付け取り外しを行ってもよ
い。さらに、キヤリアの材質をディスク基板と同じ材質
にすることにより、成膜中の温度上昇による基板とキヤ
リアの線膨張係数の差による変形量の差がなくなるた
め、基板が基板保持部から脱落したり、あるいは基板保
持部が基板に外力をかけることを防ぐことができる。
【００２１】キヤリア２へ基板１が装着されると、図４
に示すように基板１の中心孔に内周マスク６を装着し、
成膜工程に搬送される。図５は基板１に内周マスク６が
装着された状態の断面図である。本実施例では内周マス
ク６も樹脂材料で一体成形されている。７１は基板１と
の把持部であり、キヤリア２の基板保持部３と同様に、
テーパ面７４、７５、突起部７３、アンダーカット部７
２をもつ、いわゆるスナップフィット形状をしており、
基板１の中心孔を把持する。また、キヤリア２と内周マ
スクは基板の同じ面から押し込むだけで組み付けること
ができるため、同時組み立ても可能である。
に示すように基板１の中心孔に内周マスク６を装着し、
成膜工程に搬送される。図５は基板１に内周マスク６が
装着された状態の断面図である。本実施例では内周マス
ク６も樹脂材料で一体成形されている。７１は基板１と
の把持部であり、キヤリア２の基板保持部３と同様に、
テーパ面７４、７５、突起部７３、アンダーカット部７
２をもつ、いわゆるスナップフィット形状をしており、
基板１の中心孔を把持する。また、キヤリア２と内周マ
スクは基板の同じ面から押し込むだけで組み付けること
ができるため、同時組み立ても可能である。
【００２２】キヤリア２に基板１と内周マスク６が装着
されると、キヤリア２は成膜工程へと搬送される。この
とき、本実施例では図６に示すように、歯付きベルト８
にピン５を係止させ、ベルトを移動させることによりキ
ヤリア２は成膜工程等に搬送される。そして、成膜装置
に取付けられ、成膜される。図７は本実施例のキヤリア
が用いられる自公転式の成膜装置の基板設置部を示した
一例であり、図８は図７を横から見た図である。両図に
おいて、８５は公転テーブルであり、図中の矢印の方向
に回転する。そして公転テーブル８５には自転テーブル
８６が複数設けられており、キヤリア２を保持して図中
の矢印の方向に回転する。そして、基板１の成膜面にス
パッタ等により各種の膜を成膜していく。このように自
公転方式では基板を回転させるため、キヤリアの外形形
状は円形としたほうがスペースを少なくできる。また、
従来の枚葉式の成膜装置においても、キヤリアの外形形
状は円形としたほうが、成膜室の形状を円形で小型にで
きる。このため、装置の小型化や低コスト化が図れるた
め、本実施例のように外形が円形形状をしたキヤリア
は、従来の枚葉式や自公転式の成膜装置に適している。
されると、キヤリア２は成膜工程へと搬送される。この
とき、本実施例では図６に示すように、歯付きベルト８
にピン５を係止させ、ベルトを移動させることによりキ
ヤリア２は成膜工程等に搬送される。そして、成膜装置
に取付けられ、成膜される。図７は本実施例のキヤリア
が用いられる自公転式の成膜装置の基板設置部を示した
一例であり、図８は図７を横から見た図である。両図に
おいて、８５は公転テーブルであり、図中の矢印の方向
に回転する。そして公転テーブル８５には自転テーブル
８６が複数設けられており、キヤリア２を保持して図中
の矢印の方向に回転する。そして、基板１の成膜面にス
パッタ等により各種の膜を成膜していく。このように自
公転方式では基板を回転させるため、キヤリアの外形形
状は円形としたほうがスペースを少なくできる。また、
従来の枚葉式の成膜装置においても、キヤリアの外形形
状は円形としたほうが、成膜室の形状を円形で小型にで
きる。このため、装置の小型化や低コスト化が図れるた
め、本実施例のように外形が円形形状をしたキヤリア
は、従来の枚葉式や自公転式の成膜装置に適している。
【００２３】キヤリアを必要とする工程が終了したら、
キヤリア２から基板１を外し、使用したキヤリアは廃却
する。従来の金属製マスクの繰り返し利用では、洗浄等
の後処理工程のコストが非常に高かったが、本発明によ
ればキヤリアと内周マスクを同じ金型で成形でき、成形
直後に基板に組み付けることでキヤリア２と内周マスク
６の洗浄と乾燥の工程が不要になるため、キヤリア２の
材料コストと成形コストしかかからず、また、基板１枚
当たりの材料の使用量もわずかなものであるため、その
費用は従来方式に比較して格段に少なくすることができ
る。また、樹脂を適当に選択することにより、リサイク
ルも可能であり、再成形してキヤリア２や内周マスク６
に再生したり、光ディスクのカートリッジやケースなど
の部品としても再生利用できる。
キヤリア２から基板１を外し、使用したキヤリアは廃却
する。従来の金属製マスクの繰り返し利用では、洗浄等
の後処理工程のコストが非常に高かったが、本発明によ
ればキヤリアと内周マスクを同じ金型で成形でき、成形
直後に基板に組み付けることでキヤリア２と内周マスク
６の洗浄と乾燥の工程が不要になるため、キヤリア２の
材料コストと成形コストしかかからず、また、基板１枚
当たりの材料の使用量もわずかなものであるため、その
費用は従来方式に比較して格段に少なくすることができ
る。また、樹脂を適当に選択することにより、リサイク
ルも可能であり、再成形してキヤリア２や内周マスク６
に再生したり、光ディスクのカートリッジやケースなど
の部品としても再生利用できる。
【００２４】このように、本実施例ではキヤリア２の基
板保持部３とマスク部４を一体的に樹脂で形成し、基板
保持部３をスナップフィット形状としたものだから、キ
ヤリア１部品で外周マスクの装着が行なえる。また、搬
送系との結合部位も同時に形成することによりハンドリ
ング性が向上し、搬送系の設計自由度を上げることがで
きるとともに、樹脂化による軽量化ができるため、搬送
速度の高速化ができる。さらにキヤリア２と外周マスク
４に必要な部品点数を、樹脂成形品の１部品にできるた
め部品コストを最低限にできると共に、使い捨てとする
ことにより、材料コストや成形コストを差し引いても、
従来の金属マスクの再利用方式に比べてコストを削減で
きるという産業上優れた効果を奏する。
板保持部３とマスク部４を一体的に樹脂で形成し、基板
保持部３をスナップフィット形状としたものだから、キ
ヤリア１部品で外周マスクの装着が行なえる。また、搬
送系との結合部位も同時に形成することによりハンドリ
ング性が向上し、搬送系の設計自由度を上げることがで
きるとともに、樹脂化による軽量化ができるため、搬送
速度の高速化ができる。さらにキヤリア２と外周マスク
４に必要な部品点数を、樹脂成形品の１部品にできるた
め部品コストを最低限にできると共に、使い捨てとする
ことにより、材料コストや成形コストを差し引いても、
従来の金属マスクの再利用方式に比べてコストを削減で
きるという産業上優れた効果を奏する。
【００２５】（第２の実施例）図９は本発明の第２の実
施例の斜視図であり、基板がキヤリアに保持された状態
を示している。本実施例においても第１の実施例と同様
に、光情報記録媒体の基板保持部３とキヤリア２を搬送
する搬送手段と係合する係合部であるピン５と基板１の
外周部への成膜を防止する外周マスク部４を有し、基本
的な構成及び機能は第１実施例と同様である。本実施例
ではキヤリア２の外形が四角形をしている点が第１の実
施例と相違する。また、基板保持部３と内周マスク６は
第１の実施例と同一の構成である。本実施例ではキヤリ
ア２が四角形形状をしているため、図１０に示すよう
に、ベルト方式の搬送系に用いた場合にキヤリアとキヤ
リアの隙間がなくなるため搬送ベルト８がキヤリアの影
になり、搬送系を成膜チャンバ内に通して連続的に成膜
する方式としても、搬送ベルト８に不要な膜が付着する
ことがない。
施例の斜視図であり、基板がキヤリアに保持された状態
を示している。本実施例においても第１の実施例と同様
に、光情報記録媒体の基板保持部３とキヤリア２を搬送
する搬送手段と係合する係合部であるピン５と基板１の
外周部への成膜を防止する外周マスク部４を有し、基本
的な構成及び機能は第１実施例と同様である。本実施例
ではキヤリア２の外形が四角形をしている点が第１の実
施例と相違する。また、基板保持部３と内周マスク６は
第１の実施例と同一の構成である。本実施例ではキヤリ
ア２が四角形形状をしているため、図１０に示すよう
に、ベルト方式の搬送系に用いた場合にキヤリアとキヤ
リアの隙間がなくなるため搬送ベルト８がキヤリアの影
になり、搬送系を成膜チャンバ内に通して連続的に成膜
する方式としても、搬送ベルト８に不要な膜が付着する
ことがない。
【００２６】このため、本実施例では連続成膜方式にお
いて、搬送系のメンテナンスサイクルを長くすることが
でき、生産性を向上することができる。
いて、搬送系のメンテナンスサイクルを長くすることが
でき、生産性を向上することができる。
【００２７】（第３の実施例）図１１は本発明の第３の
実施例の斜視図であり、基板がキヤリアに保持された状
態を示している。本実施例において第１、第２の実施例
と基本的な構成は同様であり、同じ機能と名称のものは
同一番号を付してその説明を省略する。本実施例ではキ
ヤリア２の外形が四角形に円弧の面取りがされた形状を
している点が、第１及び第２の実施例と相違する。ま
た、基板保持部３と内周マスク６は第１、第２の実施例
と同一の構成である。本実施例ではキヤリア２の外形が
四角形に円弧の面取りがされた形状をしているため、ピ
ン５の位置を適当に配置することにより、図１２に示す
ように、連続した搬送系の搬送ベルト８をキヤリア２の
影の中に入れることができる。さらに、キヤリア２の外
形が面取りされているものだから、枚葉式の成膜装置の
成膜チャンバなどの狭いチャンバ内にも入れることがで
きる。また、ピン５の外側には図１３のピン５の要部断
面図に示すように、アンダーカット部５２と突出部５３
が構成されている。そして図１４に示す、搬送系のアー
ム１００に設けられたテーパ段付き穴１０１と結合す
る。図１５はその要部断面図であり、アーム１００のテ
ーパ段付き穴１０１に押し込み保持させるいわゆるスナ
ップフィット形状をしている。このため、キヤリア２の
アーム１００への脱着が、複雑な機構を必要とせずにワ
ンタッチで簡単に行なえる。
実施例の斜視図であり、基板がキヤリアに保持された状
態を示している。本実施例において第１、第２の実施例
と基本的な構成は同様であり、同じ機能と名称のものは
同一番号を付してその説明を省略する。本実施例ではキ
ヤリア２の外形が四角形に円弧の面取りがされた形状を
している点が、第１及び第２の実施例と相違する。ま
た、基板保持部３と内周マスク６は第１、第２の実施例
と同一の構成である。本実施例ではキヤリア２の外形が
四角形に円弧の面取りがされた形状をしているため、ピ
ン５の位置を適当に配置することにより、図１２に示す
ように、連続した搬送系の搬送ベルト８をキヤリア２の
影の中に入れることができる。さらに、キヤリア２の外
形が面取りされているものだから、枚葉式の成膜装置の
成膜チャンバなどの狭いチャンバ内にも入れることがで
きる。また、ピン５の外側には図１３のピン５の要部断
面図に示すように、アンダーカット部５２と突出部５３
が構成されている。そして図１４に示す、搬送系のアー
ム１００に設けられたテーパ段付き穴１０１と結合す
る。図１５はその要部断面図であり、アーム１００のテ
ーパ段付き穴１０１に押し込み保持させるいわゆるスナ
ップフィット形状をしている。このため、キヤリア２の
アーム１００への脱着が、複雑な機構を必要とせずにワ
ンタッチで簡単に行なえる。
【００２８】また、図１６はキヤリア２の搬送系との係
合の変形例を示したもので、ハンド７に設けられた回動
するフィンガー７１によって、ピン５に設けられた切り
欠き部５１を係止する。このようにキヤリア２の係止方
法は種々の変形例が考えられる。
合の変形例を示したもので、ハンド７に設けられた回動
するフィンガー７１によって、ピン５に設けられた切り
欠き部５１を係止する。このようにキヤリア２の係止方
法は種々の変形例が考えられる。
【００２９】以上説明したように、本実施例では膜構成
が複雑な光記録媒体の製造において、各構成膜にあわせ
て連続成膜や枚葉式の成膜など最適な成膜方式と最適な
搬送方式を選ぶことができ、また、キヤリアの装置への
脱着方法の選択自由度も増えるため、生産プロセスの最
適化が図れる。
が複雑な光記録媒体の製造において、各構成膜にあわせ
て連続成膜や枚葉式の成膜など最適な成膜方式と最適な
搬送方式を選ぶことができ、また、キヤリアの装置への
脱着方法の選択自由度も増えるため、生産プロセスの最
適化が図れる。
【００３０】（第４の実施例）図１７は本発明の第４の
実施例の斜視図であり、図１８は図１７の実施例のキヤ
リアが成膜装置内に取付けられている状態を示した断面
図である。本実施例において第１、第２、第３の実施例
と基本的な構成及び機能は同様なので同じ機能と名称の
ものは同一番号を付してその説明を省略する。両図にお
いて、キヤリア２は壁部２７が一体に形成され、成膜装
置のアーム１００に第３の実施例と同様にピン５のスナ
ップフィット構造により取付けられている。本実施例の
成膜装置の成膜方法はスパッタリングであり、基板１の
成膜面と対向する位置にターゲット１１０がターゲット
ホルダ１１１により保持されている。壁部２７はキヤリ
ア２のマスク部４の形成されている面側、すなわち基板
１の成膜面側に基板の外周を取り囲むように形成され、
成膜時に不必要な膜が付着することを防止する防着板の
働きをする。壁部２７に設けられた穴２８はスパッタリ
ングの時にターゲット１１０から発生する電荷がアノー
ドを兼ねるチャンバ１１２に移動するための通り道であ
る。キヤリア２に一体に形成された壁部２７がターゲッ
ト１１０を取り囲むように構成されており、また、穴２
８が壁部２７の内側から外側に向かって基板１からター
ゲット１１０に近づくように傾斜して設けているため、
スパッタ原子が壁部２７の内側から外側へ飛び出しにく
くなっている。このため、成膜チャンバ１１２に膜が付
着することはほとんどない。
実施例の斜視図であり、図１８は図１７の実施例のキヤ
リアが成膜装置内に取付けられている状態を示した断面
図である。本実施例において第１、第２、第３の実施例
と基本的な構成及び機能は同様なので同じ機能と名称の
ものは同一番号を付してその説明を省略する。両図にお
いて、キヤリア２は壁部２７が一体に形成され、成膜装
置のアーム１００に第３の実施例と同様にピン５のスナ
ップフィット構造により取付けられている。本実施例の
成膜装置の成膜方法はスパッタリングであり、基板１の
成膜面と対向する位置にターゲット１１０がターゲット
ホルダ１１１により保持されている。壁部２７はキヤリ
ア２のマスク部４の形成されている面側、すなわち基板
１の成膜面側に基板の外周を取り囲むように形成され、
成膜時に不必要な膜が付着することを防止する防着板の
働きをする。壁部２７に設けられた穴２８はスパッタリ
ングの時にターゲット１１０から発生する電荷がアノー
ドを兼ねるチャンバ１１２に移動するための通り道であ
る。キヤリア２に一体に形成された壁部２７がターゲッ
ト１１０を取り囲むように構成されており、また、穴２
８が壁部２７の内側から外側に向かって基板１からター
ゲット１１０に近づくように傾斜して設けているため、
スパッタ原子が壁部２７の内側から外側へ飛び出しにく
くなっている。このため、成膜チャンバ１１２に膜が付
着することはほとんどない。
【００３１】以上説明したように、本実施例ではキヤリ
ア２に防着機能をもたせたものだから、成膜装置内に防
着機構を設ける必要がなく、その防着機構のメンテナン
スがいらなくなるため、成膜装置のダウンタイムを減少
し、生産効率が向上する。
ア２に防着機能をもたせたものだから、成膜装置内に防
着機構を設ける必要がなく、その防着機構のメンテナン
スがいらなくなるため、成膜装置のダウンタイムを減少
し、生産効率が向上する。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかわる
第１の発明によれば、基板上の記録層を有する光情報記
録媒体の搬送キヤリアにおいて、光情報記録媒体の基板
保持部とキヤリアを搬送する搬送手段と係合する係合部
と、基板の外周縁部をマスクする外周マスク部とをも
ち、キヤリアと前記基板保持部と前記係合部と前記外周
マスク部が高分子材料で一体的に形成するものであるか
ら、基板の脱着が１部品で簡単に行え、また、同時に基
板のマスク装着も行える。さらに、基板の搬送系を簡単
な構造とすることができ、装置コストを低減できるとと
もに、樹脂化により軽量化ができるため、搬送の高速化
とハンドリング精度を向上することができる。また、従
来の金属マスクの再利用方式に比べて部品コストが安価
なため、使い捨てとしても、キヤリア、マスクに関する
コストを削減することができる。
第１の発明によれば、基板上の記録層を有する光情報記
録媒体の搬送キヤリアにおいて、光情報記録媒体の基板
保持部とキヤリアを搬送する搬送手段と係合する係合部
と、基板の外周縁部をマスクする外周マスク部とをも
ち、キヤリアと前記基板保持部と前記係合部と前記外周
マスク部が高分子材料で一体的に形成するものであるか
ら、基板の脱着が１部品で簡単に行え、また、同時に基
板のマスク装着も行える。さらに、基板の搬送系を簡単
な構造とすることができ、装置コストを低減できるとと
もに、樹脂化により軽量化ができるため、搬送の高速化
とハンドリング精度を向上することができる。また、従
来の金属マスクの再利用方式に比べて部品コストが安価
なため、使い捨てとしても、キヤリア、マスクに関する
コストを削減することができる。
【００３３】また、キヤリアを形成する高分子材料を基
板と同じ材料としたものであるから、温度変化があって
も、キヤリアと基板の変形比率が等しいため、キヤリア
から基板が脱落したり、基板に不要な応力が加わること
がなく、温度変化があっても安定して基板を保持するこ
とができる。
板と同じ材料としたものであるから、温度変化があって
も、キヤリアと基板の変形比率が等しいため、キヤリア
から基板が脱落したり、基板に不要な応力が加わること
がなく、温度変化があっても安定して基板を保持するこ
とができる。
【００３４】更にキヤリアの基板保持部をスナップフィ
ット形状にしたものであるから、基板の脱着がワンタッ
チで行える。このため、部品点数を削減するとともにキ
ヤリアへの基板の脱着が容易、かつ、迅速に行え、生産
速度を向上することができ、搬送系のキヤリアの保持部
をスナップフィット形状にしたものであるから、キヤリ
アの搬送系への脱着がワンタッチで行える。このため、
搬送系の構造を簡単にでき、部品点数を削減するととも
に搬送系へのキヤリアの脱着が容易、かつ、迅速に行
え、生産速度を向上することができる。
ット形状にしたものであるから、基板の脱着がワンタッ
チで行える。このため、部品点数を削減するとともにキ
ヤリアへの基板の脱着が容易、かつ、迅速に行え、生産
速度を向上することができ、搬送系のキヤリアの保持部
をスナップフィット形状にしたものであるから、キヤリ
アの搬送系への脱着がワンタッチで行える。このため、
搬送系の構造を簡単にでき、部品点数を削減するととも
に搬送系へのキヤリアの脱着が容易、かつ、迅速に行
え、生産速度を向上することができる。
【００３５】更にキヤリアに防着機能を持たせたものだ
から成膜装置内に防着機能を設ける必要がなく、その防
着機能のメンテナンスがいらなくなるため、成膜装置の
ダウンタイムを減少し、生産効率を向上することができ
る。
から成膜装置内に防着機能を設ける必要がなく、その防
着機能のメンテナンスがいらなくなるため、成膜装置の
ダウンタイムを減少し、生産効率を向上することができ
る。
【００３６】第２の発明によれば、基板上に記録層を有
する光情報記録媒体の製造方法および装置において、媒
体搬送用キヤリアと、前記媒体搬送用キヤリアを搬送す
る搬送手段とをもち、前記媒体搬送用キヤリアは、媒体
の基板を保持する保持部と前記搬送手段との係合部が高
分子材料で一体的に成形され、前記搬送手段は前記係合
部を用いて前記媒体搬送用キヤリアを保持して搬送する
ため、キヤリアが係合部をもつことにより、基板の搬送
系を簡単な構造とすることができ、また、設計自由度が
上がるため、装置コストを低減できる。さらに、樹脂化
により軽量化ができるため、搬送の高速化とハンドリン
グ精度を向上することができる。また、従来の金属マス
クの再利用方式に比べて部品コストが安価なため、使い
捨てとしても、キヤリア、マスクに関するコストを削減
することができる。
する光情報記録媒体の製造方法および装置において、媒
体搬送用キヤリアと、前記媒体搬送用キヤリアを搬送す
る搬送手段とをもち、前記媒体搬送用キヤリアは、媒体
の基板を保持する保持部と前記搬送手段との係合部が高
分子材料で一体的に成形され、前記搬送手段は前記係合
部を用いて前記媒体搬送用キヤリアを保持して搬送する
ため、キヤリアが係合部をもつことにより、基板の搬送
系を簡単な構造とすることができ、また、設計自由度が
上がるため、装置コストを低減できる。さらに、樹脂化
により軽量化ができるため、搬送の高速化とハンドリン
グ精度を向上することができる。また、従来の金属マス
クの再利用方式に比べて部品コストが安価なため、使い
捨てとしても、キヤリア、マスクに関するコストを削減
することができる。
【００３７】更に第３の発明によれば、基板上に記録層
を有する光情報記録媒体の製造方法および装置におい
て、媒体搬送用キヤリアと、前記媒体搬送用キヤリアを
搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送された前
記媒体搬送用キャリアに成膜する成膜室とをもち、前記
媒体搬送用キヤリアの成膜面側の基板外周部に壁部を設
け、前記成膜室の壁部への膜の付着を防止して防着板を
不要にしたものであるから、成膜装置内に防着板などの
防着機構を設ける必要がなく、その防着機構のメンテナ
ンスがいらなくなるため、成膜装置のダウンタイムを減
少し、生産効率を向上することができる。
を有する光情報記録媒体の製造方法および装置におい
て、媒体搬送用キヤリアと、前記媒体搬送用キヤリアを
搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送された前
記媒体搬送用キャリアに成膜する成膜室とをもち、前記
媒体搬送用キヤリアの成膜面側の基板外周部に壁部を設
け、前記成膜室の壁部への膜の付着を防止して防着板を
不要にしたものであるから、成膜装置内に防着板などの
防着機構を設ける必要がなく、その防着機構のメンテナ
ンスがいらなくなるため、成膜装置のダウンタイムを減
少し、生産効率を向上することができる。
【図１】本発明の搬送用キヤリアの一実施例を示す斜視
図である。
図である。
【図２】図１の基板保持部の断面図である。
【図３】図３（ａ）、（ｂ）は基板のキヤリアへの脱着
を説明するための基板保持部の断面図である。
を説明するための基板保持部の断面図である。
【図４】図１の搬送用キヤリアへの内周マスクを取り付
ける様子を示した斜視図である。
ける様子を示した斜視図である。
【図５】図１の搬送用キヤリアの内周マスクの取り付け
部の断面図である。
部の断面図である。
【図６】図１の搬送用キヤリアを搬送する状態を示した
上面図である。
上面図である。
【図７】図１の搬送用キヤリアが成形装置に取り付けら
れた状態を示した概略図である。
れた状態を示した概略図である。
【図８】図７の側面図である。
【図９】本発明の搬送用キヤリアの別の実施例を示す斜
視図である。
視図である。
【図１０】図９の搬送用キヤリアを搬送する状態を示し
た上面図である。
た上面図である。
【図１１】本発明の搬送用キヤリアの別の実施例を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図１２】図１１の搬送用キヤリアを搬送する状態を示
した上面図である。
した上面図である。
【図１３】図１２の搬送用キヤリアの搬送系と係合部の
要部断面図である。
要部断面図である。
【図１４】図１２の係合部と搬送系との係合部の斜視図
である。
である。
【図１５】図１２の係合部と搬送系との係合状態を示す
要部断面図である。
要部断面図である。
【図１６】搬送用キヤリアの保持方法の変形例を示す側
面図である。
面図である。
【図１７】本発明の搬送用キヤリアの更に別の実施例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図１８】図１７の実施例が成膜装置に取り付けられた
状態を示す断面図である。
状態を示す断面図である。
【図１９】従来の金属製マスクの斜視図である。
【図２０】図１９の断面図である。
【図２１】従来のフィルム製のマスクの斜視図である。
【図２２】従来の金属性マスクが成膜装置に取り付けら
れた状態を示す断面図である。
れた状態を示す断面図である。
１ 基板 ２ キヤリア ３ 基板保持部 ３１ アンダーカット部 ３２ 突出部 ４ 外周マスク部 ５ ピン ５１ 切り欠き部 ５２ アンダーカット部 ５３ 突出部 ６ 内周マスク部 ７ ハンド ７１ フィンガー ８ 歯付きベルト １００ アーム １０２ 突出部 ２７ 壁部 １１２ 成膜チャンバ
フロントページの続き (72)発明者 高田 國男 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 基板を連続的に搬送せしめる搬送手段を
備えた光情報記録媒体の連続製造装置と共に用いる光情
報記録媒体用基板の搬送キヤリアであって、光情報記録
媒体用基板を着脱自在に保持する基板保持部、基板の外
周縁部をマスクする外周マスク部、及び該搬送手段と着
脱自在に係合する係合部とを備え、該基板保持部と該外
周マスク部及び該係合部とが一体となるように構成され
ていることを特徴とする光情報記録媒体搬送用キヤリ
ア。 - 【請求項２】 前記高分子材料が基板と同一材料である
請求項１記載の光情報記録媒体搬送用キヤリア。 - 【請求項３】 前記基板保持部が、スナップフィット形
状である請求項１記載の光情報記録媒体搬送用キャリ
ア。 - 【請求項４】 前記係合部がスナップフィット形状であ
る請求項１記載の光情報記録媒体搬送用キヤリア。 - 【請求項５】 キヤリアの前記外周マスク部形成面側の
基板保持部外周に沿って壁部を立設した請求項１記載の
光情報記録媒体搬送用キヤリア。 - 【請求項６】 基板を取り付けたキヤリアを連続的に記
録層の成膜室に搬送せしめる搬送手段を備えた光情報記
録媒体を連続的に製造する装置を用いた光情報記録媒体
の製造方法であって、光情報記録媒体用基板を着脱自在
に保持する基板保持部、基板の外周縁部をマスクする外
周マスク部、及び該搬送手段と着脱自在に係合する係合
部とを備え、該基板保持部と該外周マスク部及び該係合
部とが一体となるように構成されているキヤリアに光情
報記録媒体用基板を取り付ける工程、基板を取り付けた
キヤリアを該搬送手段に取り付ける工程、及び基板を取
り付けた該キヤリアを該搬送手段によって連続的に成膜
室に搬送せしめる工程を有することを特徴とする光情報
記録媒体の製造方法。 - 【請求項７】 前記搬送手段により搬送された前記記録
媒体搬送用キヤリアに成膜する成膜室をもち、前記記録
媒体搬送用キヤリアの成膜面側の基板外周部に壁部を設
け、前記成膜室の壁部への膜の付着を防止する請求項６
に記載の光情報記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】 キヤリアに取り付けられた基板を連続的
に搬送せしめる搬送手段を備えた光情報記録媒体を連続
的に製造する装置であって、該搬送手段に着脱自在に取
り付けられた光情報記録媒体用基板を着脱自在に保持す
る基板保持部、基板の外周縁部をマスクする外周マスク
部、及び該装置の該搬送手段と着脱自在に係合可能な係
合部とを備え、該基板保持部と該外周マスク部及び該係
合部とが一体となるように構成され、且つ該係合部にお
いて該搬送手段に取り付けられているキヤリア、及び該
搬送手段によって該キヤリアが連続的に搬送されるよう
に構成された記録層の成膜室を具備していることを特徴
とする光情報記録媒体の製造装置。 - 【請求項９】 前記搬送手段により搬送された前記記録
媒体搬送用キヤリアに成膜する成膜室を有し、前記記録
媒体搬送用キヤリアの成膜面側の基板外周部に前記成膜
室の壁部への膜を防止するための壁部を形成した請求項
８に記載の光情報記録媒体の製造装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7320294A JPH08273207A (ja) | 1995-01-31 | 1995-12-08 | 光情報記録媒体搬送用キヤリア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| EP96300596A EP0725162A3 (en) | 1995-01-31 | 1996-01-29 | Pallet for maintaining an information recording medium and process for producing an information recording medium using the same and apparatus for the process |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-13862 | 1995-01-31 | ||
| JP1386295 | 1995-01-31 | ||
| JP7320294A JPH08273207A (ja) | 1995-01-31 | 1995-12-08 | 光情報記録媒体搬送用キヤリア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08273207A true JPH08273207A (ja) | 1996-10-18 |
Family
ID=26349718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7320294A Pending JPH08273207A (ja) | 1995-01-31 | 1995-12-08 | 光情報記録媒体搬送用キヤリア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及び製造装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0725162A3 (ja) |
| JP (1) | JPH08273207A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1021586A (ja) * | 1996-07-02 | 1998-01-23 | Sony Corp | Ｄｃスパッタリング装置 |
| FR2791461B1 (fr) * | 1999-03-22 | 2001-05-25 | Fram Connexion | DISPOSITIF DE CALAGE ET DE CENTRAGE, D'UN COMPACT DISC DECOUPE, DANS LA SOUS-CUVETTE, POUR CD 8cm, D'UN LECTEUR DE COMPACT DISC |
| DE10150809B4 (de) * | 2001-10-15 | 2005-06-16 | Steag Hamatech Ag | Substrathalter |
| KR100927561B1 (ko) | 2004-08-30 | 2009-11-23 | 가부시키가이샤 알박 | 성막 장치 |
| WO2009153856A1 (ja) * | 2008-06-17 | 2009-12-23 | キヤノンアネルバ株式会社 | 防着カバー付きキャリアおよび防着カバー着脱装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS589240A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | Pioneer Electronic Corp | 被処理物のメタライジング方法および之を実施する装置 |
| JPH0695394B2 (ja) * | 1985-07-12 | 1994-11-24 | 松下電器産業株式会社 | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
| JPS62116761A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Sanyo Electric Co Ltd | マスキング装置 |
| JPH0649937B2 (ja) * | 1987-12-17 | 1994-06-29 | 株式会社日立製作所 | 磁性膜形成装置 |
| JPH02101155A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-12 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 基板への成膜方法及びその装置 |
| EP0449227B1 (en) * | 1990-03-30 | 1995-03-15 | Sony Corporation | Sputtering apparatus |
| GB2272225B (en) * | 1992-10-06 | 1996-07-17 | Balzers Hochvakuum | A method for masking a workpiece and a vacuum treatment facility |
| DE4307382A1 (de) * | 1993-03-09 | 1994-09-15 | Leybold Ag | Maske zum Abdecken des radial äußeren Bereichs einer scheibenförmigen Substratoberfläche |
| DE9306789U1 (de) * | 1993-05-05 | 1993-07-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Trägerpalette für Substrate von optischen Speichermedien |
-
1995
- 1995-12-08 JP JP7320294A patent/JPH08273207A/ja active Pending
-
1996
- 1996-01-29 EP EP96300596A patent/EP0725162A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0725162A2 (en) | 1996-08-07 |
| EP0725162A3 (en) | 1996-09-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040316 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |