JP4364059B2 - 光ディスク製造方法および製造装置 - Google Patents
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- 円板状のディスク基板の片面上にスパッタリングによって複数層の膜を順次形成する光ディスクの製造方法において、
真空容器内の真空を保持しながらディスク基板を真空容器内に搬入する搬入工程と、
前記真空容器内のディスク基板の前記片面の内周に内周マスクを取り付ける内周マスク取り付け工程と、
前記真空容器内のディスク基板の前記片面の外周に外周マスクを取り付ける外周マスク取り付け工程と、
前記内周マスクおよび外周マスクを前記ディスク基板に取り付けた状態で、前記ディスク基板の前記片面にスパッタ成膜する外周マスク付き成膜工程と、
前記真空容器内で前記外周マスクをディスク基板から取り外す外周マスク取り外し工程と、
前記内周マスクをディスク基板に取り付け、かつ、外周マスクをディスク基板に取り付けていない状態で、前記ディスク基板の側面の成膜を防ぎながら前記ディスク基板の前記片面にスパッタ成膜する外周マスクなし成膜工程と、
前記真空容器内で前記内周マスクをディスク基板から取り外す内周マスク取り外し工程と、
前記外周マスク付き成膜工程、外周マスクなし成膜工程、外周マスク取り外し工程および内周マスク取り外し工程の後に、前記外周マスクおよび内周マスクを取り外した状態で前記真空容器内の真空を保持しながら前記ディスク基板を前記真空容器から搬出する搬出工程と、
を有することを特徴とする光ディスク製造方法。 - 請求項1に記載の光ディスク製造方法において、
前記ディスク基板は透明なプラスチック製の板であって、
前記複数層の膜は、温度変化に応じた金属の相変化を利用して情報の記録が可能な記録膜と、この記録膜に接する透明な誘電膜と、光を反射する反射膜とを含み、
前記記録膜および反射膜は前記外周マスク付き成膜工程によって形成され、
前記誘電膜は前記外周マスクなし成膜工程によって形成されること、
を特徴とする光ディスク製造方法。 - 請求項1または2に記載の光ディスク製造方法において、前記搬出工程の後に、前記複数層の膜の外側および前記ディスク基板の側面に接着剤を介在させ、その接着剤の外側にカバー部材を貼り付ける貼り付け工程をさらに有すること、を特徴とする光ディスク製造方法。
- 円板状のディスク基板の片面上にスパッタリングによって複数層の膜を順次形成するための光ディスクの製造装置において、
真空容器と、
この真空容器内の真空を保持しながらその真空容器内にディスク基板を搬入し、また前記真空容器から成膜済みのディスク基板を搬出するロードロック機構と、
前記真空室内で複数のディスク基板を周方向に並べて配置して間欠的に回転して前記ディスク基板を順次搬送する回転テーブルと、
前記真空容器内で前記回転テーブルによって搬送されたディスク基板の片面に対してスパッタリングによって成膜を行なう複数の成膜室と、
前記複数の成膜室の一部に対応する位置で、その成膜室での成膜のときにディスク基板の外周部に外周マスクを取り付け、また、そのディスク基板から外周マスクを取り外すマスクチェンジャと、
前記回転テーブルの上に配置され、前記ディスク基板から外周マスクを取り外しているときにその外周マスクを置いておくマスクホルダと、
前記真空容器内に搬入されたディスク基板が前記複数の成膜室での成膜を行なう前にそのディスク基板の内周に内周マスクを取り付ける内周マスク取り付け機構と、
前記ディスク基板が前記複数の成膜室での成膜を行なった後で前記真空容器外に搬出される前に前記内周マスクを前記ディスク基板から取り外す内周マスク取り外し機構と、
前記成膜室で前記外周マスクを取り外した状態で成膜するときに前記ディスク基板の側面への成膜を抑制するために前記ディスク基板の側面に沿って配置された障壁と、
を有すること、を特徴とする光ディスク製造装置。 - 請求項4に記載の光ディスク製造装置において、
前記障壁は、前記ディスク基板の前記片面と反対側の平面で前記ディスク基板を保持する壁面に窪みを形成することによって構成されていること、を特徴とする光ディスク製造装置。 - 請求項4または5に記載の光ディスク製造装置において、前記マスクホルダを冷却するための冷却手段を有すること、を特徴とする光ディスク製造装置。
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