JPS61198451A - 光デイスクの製造方法およびその装置 - Google Patents
光デイスクの製造方法およびその装置Info
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- JPS61198451A JPS61198451A JP3917285A JP3917285A JPS61198451A JP S61198451 A JPS61198451 A JP S61198451A JP 3917285 A JP3917285 A JP 3917285A JP 3917285 A JP3917285 A JP 3917285A JP S61198451 A JPS61198451 A JP S61198451A
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- Japan
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- film
- substrate
- disc
- protective film
- protection film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生または消去可能な
光ディスクの製造方法および光ディスクの製造装置に関
するものである。
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生または消去可能な
光ディスクの製造方法および光ディスクの製造装置に関
するものである。
従来の技術
一般に光ディスクはその情報密度が極めて大きいことや
、ＳＺＮ比も大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号の
配分、再生ディスクとしても近年研究開発が行われてい
る。
、ＳＺＮ比も大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号の
配分、再生ディスクとしても近年研究開発が行われてい
る。
第４図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。
であるコンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＯＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にピ
ット列状に記録され半導体レーザにより再生されるもの
である。
ット列状に記録され半導体レーザにより再生されるもの
である。
第４図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたビット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、６は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再牛用の半導体レーザ光であ
る。
脂基板２に刻まれたビット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、６は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再牛用の半導体レーザ光であ
る。
反射膜４はディジタル信号を再生するため、また保護膜
５は反射膜を保護するために必要なものである。
５は反射膜を保護するために必要なものである。
従来、反射膜と保護膜の形成には各々別々の反射膜形成
装置と保護膜形成装置としてしか存在しなかった。第２
図に基板上に反射膜または記録膜を形成する従来の薄膜
形成装置の断面図を示す。
装置と保護膜形成装置としてしか存在しなかった。第２
図に基板上に反射膜または記録膜を形成する従来の薄膜
形成装置の断面図を示す。
７は薄膜形成装置を示し、基板２が真空容器内に設置さ
れ蒸着源８がヒータ９の加熱により真空蒸着され基板上
に反射膜または記録膜が形成される。
れ蒸着源８がヒータ９の加熱により真空蒸着され基板上
に反射膜または記録膜が形成される。
次に第３図に反射膜または記録膜の形成されたディスク
上に保護膜を形成する従来の保護膜形成装置の断面図を
示す。保護膜形成装置１ｏは保護膜付着装置１１と乾燥
装置１２を有している。
上に保護膜を形成する従来の保護膜形成装置の断面図を
示す。保護膜形成装置１ｏは保護膜付着装置１１と乾燥
装置１２を有している。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では、基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成する薄膜形成装置と、反射膜または記
録膜が形成されたデ゛イスク上に保護膜を形成する保護
膜形成装置が別構成であるため、工程毎に不要の・サカ
と時間とを費やし、コンタミネーションや欠陥が含まれ
易く信頼性が悪く、量産性に欠けるなどの問題点を有し
ていた。
たは記録膜を形成する薄膜形成装置と、反射膜または記
録膜が形成されたデ゛イスク上に保護膜を形成する保護
膜形成装置が別構成であるため、工程毎に不要の・サカ
と時間とを費やし、コンタミネーションや欠陥が含まれ
易く信頼性が悪く、量産性に欠けるなどの問題点を有し
ていた。
本発明は上記問題点に鑑み、信頼性の高い光ディスクを
量産性良く安価に提供することのできる光ディスクの製
造方法およびその製造装置を提供するものである。
量産性良く安価に提供することのできる光ディスクの製
造方法およびその製造装置を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するために本発明は、同一装置内に基
板上に反射膜または記録膜を形成する薄膜形成装置と、
上記反射膜まだは記録膜を形成したディスク上に保護膜
を形成する保護膜形成装置と、上記基板またはディスク
を設置する収納ケースの搬送装置とを備え、連続的に薄
膜および保護膜を形成するものである。
板上に反射膜または記録膜を形成する薄膜形成装置と、
上記反射膜まだは記録膜を形成したディスク上に保護膜
を形成する保護膜形成装置と、上記基板またはディスク
を設置する収納ケースの搬送装置とを備え、連続的に薄
膜および保護膜を形成するものである。
作用
本発明は上記した構成によって、薄膜形成装置にて収納
ケースに設置された基板上に垂直方向に反射膜または記
録膜を形成したのち、同一装置内で連続して保護膜形成
装置にて上記反射膜または記録膜を形成したディスク上
に垂直方向に保護膜を形成するものであり、連続した工
程のため信頼性の向上が図れ、ｉｉ量産性上がるため光
ディスクを安価に製造することができる。
ケースに設置された基板上に垂直方向に反射膜または記
録膜を形成したのち、同一装置内で連続して保護膜形成
装置にて上記反射膜または記録膜を形成したディスク上
に垂直方向に保護膜を形成するものであり、連続した工
程のため信頼性の向上が図れ、ｉｉ量産性上がるため光
ディスクを安価に製造することができる。
実施例
以下本発明の一実施例の光ディスクの製造方法およびそ
の装置について図面を参照しながら説明する。
の装置について図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の光ディスクの製造方法を提供する装置
１３の平面図である。基板上に反射膜を形成する薄膜形
成装置１４と、反射膜を形成したディスク上に保護膜を
形成する保護膜形成装置１６と、上記基板またはディス
クを垂直方向に複複枚設置する収納ケース１６を搬送す
る搬送装置１７とが一体となり光デイスク製造装置１３
に備えられている。
１３の平面図である。基板上に反射膜を形成する薄膜形
成装置１４と、反射膜を形成したディスク上に保護膜を
形成する保護膜形成装置１６と、上記基板またはディス
クを垂直方向に複複枚設置する収納ケース１６を搬送す
る搬送装置１７とが一体となり光デイスク製造装置１３
に備えられている。
動されている。
基板２は予備真空室１８を通１〕真空内に取入れられタ
ーンテーブル１９に垂直方向に設置される。
ーンテーブル１９に垂直方向に設置される。
次にターンテーブル１９が回転しスパッター位置でター
ゲット２ｏによりスパッターされ基板上に反射膜が形成
されたのち、予備真空室１８を通じ収納ケースに設置さ
れこれが保ｌｌ！膜形成装置１６側に移動される。次に
、反射膜の設けられたディスク２１は、保護膜形成装置
１６内のターンテーブル１９に保持され、同装置内の保
護膜塗布装置２２にて保護膜が塗布され、スピン装置２
３にて保護膜を均一にし、硬化装置２４にて保護膜を硬
化したのち収納ケースに設置される。
ゲット２ｏによりスパッターされ基板上に反射膜が形成
されたのち、予備真空室１８を通じ収納ケースに設置さ
れこれが保ｌｌ！膜形成装置１６側に移動される。次に
、反射膜の設けられたディスク２１は、保護膜形成装置
１６内のターンテーブル１９に保持され、同装置内の保
護膜塗布装置２２にて保護膜が塗布され、スピン装置２
３にて保護膜を均一にし、硬化装置２４にて保護膜を硬
化したのち収納ケースに設置される。
これらは順次連続した工程により処理され基板２および
反射膜の設けられたディスク２１が垂直方向に収納ケー
ス１６に設置され、これが搬送装置１７にて送られ自動
的に連続した工程で基板上に反射膜と保護膜とが形成さ
れる。
反射膜の設けられたディスク２１が垂直方向に収納ケー
ス１６に設置され、これが搬送装置１７にて送られ自動
的に連続した工程で基板上に反射膜と保護膜とが形成さ
れる。
反射膜は一般的にはアルミニウム（ムｌ）が使用され、
保護膜としてはアクリル系紫外線硬化型樹脂が一般的で
ある。また、反射膜のかわりに記録膜も同装置で形成で
きる。
保護膜としてはアクリル系紫外線硬化型樹脂が一般的で
ある。また、反射膜のかわりに記録膜も同装置で形成で
きる。
このような方法ならば、基板上に反射膜または記録膜を
形成したのち、同一装置内で連続的に保護膜が形成でき
るため信頼性や量産性が向上する。
形成したのち、同一装置内で連続的に保護膜が形成でき
るため信頼性や量産性が向上する。
発明の効果
以上のように本発明は、ロー装置内で基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成する薄膜形成装置と、上記反射膜また
は記録膜を形成したディスク上に保護膜を形成する保護
膜形成装置と、上記基板またはディスクを設置する収納
ケースの搬送装置とを備え連続した工程で顆次薄膜と保
護膜を形成し光ディスクを製造することにより、工程中
にゴミやホコリなどのコンタミネーシヲンの付着がない
ため不純物や欠陥の含まれない信頼性の高い光ディスク
が得られる。しかも連続した工程を同一装置内に有する
ことにより量産性に富んだ安定した安価な光ディスクを
提供することができる。
たは記録膜を形成する薄膜形成装置と、上記反射膜また
は記録膜を形成したディスク上に保護膜を形成する保護
膜形成装置と、上記基板またはディスクを設置する収納
ケースの搬送装置とを備え連続した工程で顆次薄膜と保
護膜を形成し光ディスクを製造することにより、工程中
にゴミやホコリなどのコンタミネーシヲンの付着がない
ため不純物や欠陥の含まれない信頼性の高い光ディスク
が得られる。しかも連続した工程を同一装置内に有する
ことにより量産性に富んだ安定した安価な光ディスクを
提供することができる。
第１図は本発明の一実施例における光ディスクの製造装
置の平面図、第２図は従来の光ディスクの製造装置であ
る薄膜形成装置の断面図、第３図は同保護膜形成装置の
断面図、第４図ａ、ｂ、ｃ。 は光ディスクの一種であるディジタルオーディオディス
クのそれぞれ平面図、断面図および要部拡大図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、４
・・・・・・反射膜、５・・・・・・保護膜、１３・・
・・・・光ディスクの製造装置、１４・・・・・・薄膜
形成装置、１６・・・・・・保護膜形成装置、１６・・
・・・・収納ケース、１７・・・・・・搬送装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名２−
一一差版 １６−一双納ケース １９″″−ターンチーブ２し ２３−−スピン釆１ ２４−−一硬一化教１ ２ ｔｂｔ’ｔ ｔ′ 乙／ １６第２
図 第３図
置の平面図、第２図は従来の光ディスクの製造装置であ
る薄膜形成装置の断面図、第３図は同保護膜形成装置の
断面図、第４図ａ、ｂ、ｃ。 は光ディスクの一種であるディジタルオーディオディス
クのそれぞれ平面図、断面図および要部拡大図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、４
・・・・・・反射膜、５・・・・・・保護膜、１３・・
・・・・光ディスクの製造装置、１４・・・・・・薄膜
形成装置、１６・・・・・・保護膜形成装置、１６・・
・・・・収納ケース、１７・・・・・・搬送装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名２−
一一差版 １６−一双納ケース １９″″−ターンチーブ２し ２３−−スピン釆１ ２４−−一硬一化教１ ２ ｔｂｔ’ｔ ｔ′ 乙／ １６第２
図 第３図
Claims (2)
- （１）薄膜形成装置にて基板上に垂直方向に反射膜また
は記録膜を形成したのち、同一装置内で連続した工程で
保護膜形成装置にて上記反射膜または記録膜の形成され
たディスク上に保護膜を形成してなる光ディスクの製造
方法。 - （２）同一装置内に、基板上に反射膜または記録膜を形
成する薄膜形成装置と、上記反射膜または記録膜を設け
たディスク上に保護膜を形成する保護膜形成装置と、上
記基板またはディスクを垂直方向に複数枚設置した収納
ケースを搬送する搬送装置とを備え、連続した工程で順
次ディスク上に垂直方向に薄膜と保護膜とを形成するよ
うに構成した光ディスクの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3917285A JPS61198451A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3917285A JPS61198451A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61198451A true JPS61198451A (ja) | 1986-09-02 |
Family
ID=12545697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3917285A Pending JPS61198451A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61198451A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167446A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Pioneer Electronic Corp | デイスク製造装置 |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP3917285A patent/JPS61198451A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167446A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Pioneer Electronic Corp | デイスク製造装置 |
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