JPS61178747A - 光デイスクの製造方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。

再生または消去可能な元ディスクの製造方法および元デ
ィスクの製造装置に関するものである３、従来の技術 一般に元ディスクはその情報密度が極めて大きいことや
、Ｓ／Ｎ比も大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号の
記録、再生ディスクとしても近年研究開発が行われてい
る。

第４図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。

これはＰＧＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にピ
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。

第４図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたビット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にニーテ
ィングされた保護膜、６はディスク読取面から照射する
再生用の半導体レーザ光である。

反射膜４はディジタル信号を再生するために、また保護
膜５は反射膜を保護するために必要なものである。

従来、反射膜と保護膜の形成には各々別々の反射膜形成
装置と保護膜形成装置としてしか存在しなかった。第２
図に基板上に反射膜または記録膜を形成する従来の薄膜
形成装置の断面図を示す。

７は薄膜形成装置を示し、基板２が真空容器内に設置さ
れ、蒸着源８がヒータ９により加熱され真空蒸着法によ
り基板２上に反射膜または記録膜が形成される。

次に第３図に反射膜または記録膜を形成したディスク上
に保護膜を形成する従来の保護膜形成装置の断面図を示
す。９が保護膜塗布装置、１０が乾燥装置である。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成では、基板上に反射膜ま
たは記録膜き形成する薄膜形成装置と、反射膜または記
録膜が形成されたディスク上に保護膜を形成する保護膜
形成装置が別構成となるため、工程毎に不要の労力と時
間とを費やすことになり、コンタミネーシコンや欠陥が
含まれ易く信頼性が悪く、シかも量産性に欠けるなどの
問題点を有していた。

本発明は上記問題点に鑑み、信頼性の高い元ディスクを
安価に量産性良く製造することのできる元ディスクの製
造方法および光ディスクの製造装置を提供するものであ
る。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明は、同一装置内で基
板上に反射膜または記録膜を形成する薄膜形成装置と、
上記反射膜または記録膜を形成したディスク上に保護膜
を形成する保護膜形成装置と、上記基板またはディスク
を設置するトレイの搬送装置とを備え、連続的に薄膜お
よび保護膜形成するものである。

作用 本発明は上記した構成によって、薄膜形成装置にてトレ
イに設置された基板上に反射膜または記録膜を形成した
のち、同一装置内で連続して保護膜形成装置にて上記反
射膜または記録膜を形成したディスク上に保護膜を形成
するものであり、この連続した工程のため信頼性の向上
が図れ量産性も上がるため元ディスクを安価に得ること
ができることとなる。

実施例 以下本発明の一実施例の光ディスクの製造方法およびそ
の装置について、図面を参照しながら説明する。

第１図は本発明の光ディスクの製造方法を提供する装置
１１を示し、第１図（ａｌはその平面図、第１図（ｂｌ
は同断面図である。基板上に反射膜を形成する薄膜形成
装置１２と、反射膜を形成したディスク上に保護膜を形
成する保護膜形成装置１３と上記基板またはディスクを
設置するトレイ１４を搬送する搬送装置１５とが同−元
ディスク製造装置１１に備えられている。

基板２が水平方向にトレイ１４に設置され、このトレイ
１４は搬送装置１５に設けられている。

１２の薄膜形成装置では予備真空室１６にて真空にされ
、次にスパッター室１７にて反射膜が形成され、次に予
備真空室１８にて真空が解除される。

、次に１３の保護膜形成装置では保護膜塗布装置１９に
て保護膜を設け、スピン装置２ｏにて保護率を均一に設
け、硬化装置２１にて保護膜を硬化する。これらは順次
連続工程により処理され、基板２および反射膜が形成さ
れたディスク２２が水平方向にトレイ１４に設置されこ
れが搬送装置１６にて送られ自動的に基板上に反射膜と
保護膜とが形成される。

反射膜は一般的にはアルミニウムが使用され、保護膜と
してはアクリル系の紫外線硬化型樹脂が一般的である。

また、反射膜のかわりに記録膜でも同装置で形成できる
。

このような方法であれば、基板上に反射膜または記録膜
を形成したのち、同一装置内で連続的に保護膜の形成が
でき、信頼性、量産性が向上する３、発明の効果 以上のように本発明は、同一装置内で基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成する薄膜形成装置と、上記反射膜また
は記録膜を形成したディスク上に保護膜を形成する保護
膜形成装置と、上記基板またはディスクを設置するトレ
イの搬送装置とを備え、連続した工程で順次薄膜形成と
保護膜形成を施し光ディスクを製造することにより工程
中にゴミやホコリなどのコンタミネーシロンの付着がな
いため不純物や欠陥の含まれない信頼性の高い元ディス
クが得られ、しかも連続した工程を同一装置内に有する
ことにより、量産性に富んだ安定に安価に元ディスク全
提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における元ディスクの製造装
置を示し、第１図ｆａｌは平面図、第１図（ｂｌは断面
図、第２図は従来の元ディスクの製造装置である薄膜形
成装置を示す断面図、第３図は保護膜形成装置を示す断
面図、第４図（ａ）　、　（ｂ）　、　（Ｃ１は光ディ
スクの一種であるディジタルオーディオディスクのそれ
ぞれ平面図、断面図およ、び要部拡大図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、３
・・・・・・ディジタル信号部、４・・・・・・反射膜
、６・・・・・・保護膜、６・・・・・・半導体レーザ
、１１・・・・・・元ディスクの製造装置、１２・・・
・・・薄膜形成装置、１３・・・・・・保護膜形成装置
、１４・・・・・・トレイ、１６・・・・・・搬送装置
。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 １７・・・スバツｐ−％ （ｏＪ 第２図 第３図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）薄膜形成装置にてトレイに水平方向に設置された
   基板上に反射膜または記録膜を形成したのち、同一装置
   内で連続して保護膜形成装置にて上記反射膜または記録
   膜を形成したディスク上に保護膜を形成してなる光ディ
   スクの製造方法。
2. （２）同一装置内で基板上に反射膜または記録膜を形成
   する薄膜形成装置と、上記反射膜または記録膜を形成し
   たディスク上に保護膜を形成する保護膜形成装置と、上
   記基板またはディスクを水平方向に設置するトレイの搬
   送装置とを備え、連続した工程で順次ディスク上に薄膜
   と保護膜を形成するように構成した光ディスクの製造装
   置。