JPS62129960A - 光デイスクの製造方法およびその装置 - Google Patents
光デイスクの製造方法およびその装置Info
- Publication number
- JPS62129960A JPS62129960A JP26976785A JP26976785A JPS62129960A JP S62129960 A JPS62129960 A JP S62129960A JP 26976785 A JP26976785 A JP 26976785A JP 26976785 A JP26976785 A JP 26976785A JP S62129960 A JPS62129960 A JP S62129960A
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- JP
- Japan
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- film
- tray
- substrate
- protective film
- cleaning
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- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク、静止画。
ク（例えばコンパクトディスク、静止画。
文書ファイルなどのディジタル信号を記録、再生まだは
消去可能な光ディスクの製造方法および光ディスクの製
造装置に関するものである。
消去可能な光ディスクの製造方法および光ディスクの製
造装置に関するものである。
従来の技術
一般に光ディスクはその情報密度が極めて大きいことや
、Ｓ／Ｎ比も大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され５ディジタル信号を
記録、再生する光ディスクとしても近年研究開発が行わ
れている。
、Ｓ／Ｎ比も大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され５ディジタル信号を
記録、再生する光ディスクとしても近年研究開発が行わ
れている。
第４図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。
であるコンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＧＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にビ
ット列状に記録され半導体レーザにより再生されるもの
である。
ット列状に記録され半導体レーザにより再生されるもの
である。
第４図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は保護膜５に設けられたレーベ
ル印刷膜、７は再生用の半導体レーザ光である。
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は保護膜５に設けられたレーベ
ル印刷膜、７は再生用の半導体レーザ光である。
反射膜４はディジタル信号を再生するため、保護膜５は
反射膜を保護するだめ、レーベル印刷膜６はディスクを
識別するため各々必要なものである。
反射膜を保護するだめ、レーベル印刷膜６はディスクを
識別するため各々必要なものである。
従来は、反射膜と保護膜との形成には各々別々の反射膜
形成装置、保護膜形成装置としてしか存在しなかった。
形成装置、保護膜形成装置としてしか存在しなかった。
第２図に基板上に反射膜または記録膜を形成する従来の
薄膜形成装置の断面図を示す。８は薄膜形成装置を示し
、基板２が真空容器内に設置され蒸着源９がヒータ１０
の加熱により真空蒸着され基板上に反射膜または記録膜
が形成される。
薄膜形成装置の断面図を示す。８は薄膜形成装置を示し
、基板２が真空容器内に設置され蒸着源９がヒータ１０
の加熱により真空蒸着され基板上に反射膜または記録膜
が形成される。
次に第３図に反射膜まだは記録膜の形成されたディスク
上に保護膜を形成する従来の保護膜形成装置の断面図を
示す。保護膜形成装置１１に保護膜付着装置１２と乾燥
装置１３を有している。
上に保護膜を形成する従来の保護膜形成装置の断面図を
示す。保護膜形成装置１１に保護膜付着装置１２と乾燥
装置１３を有している。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では、基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成する薄膜形成装置と、反射膜または記
録膜が形成されたディスク上に保護膜を形成する保護膜
形成装置とが別構成であるため工程毎に不要の労力と時
間を費やす。また、基板をトレイに設置する場合には、
トレイには上記反射膜または記録膜６保護膜などが付着
するために、コンタミネーションや欠陥が含まれ易く１
信頼性に欠け１量産性が悪いなどの問題点を有していた
。
たは記録膜を形成する薄膜形成装置と、反射膜または記
録膜が形成されたディスク上に保護膜を形成する保護膜
形成装置とが別構成であるため工程毎に不要の労力と時
間を費やす。また、基板をトレイに設置する場合には、
トレイには上記反射膜または記録膜６保護膜などが付着
するために、コンタミネーションや欠陥が含まれ易く１
信頼性に欠け１量産性が悪いなどの問題点を有していた
。
本発明は上記問題点に鑑み、信頼性の高い光ディスクを
量産性良く安価に提供することのできる光ディスクの製
造方法およびその製造装置を提供するものである。
量産性良く安価に提供することのできる光ディスクの製
造方法およびその製造装置を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するために本発明は、同一装置内にお
いて、基板上に反射膜まだは記録膜を形成する薄膜形成
装置と、上記反射膜または記録膜の形成されたディスク
上に保護膜を形成する保護膜形成装置と１上記基板を設
置するトレイと、上記トレイを搬送する搬送装置と、上
記トレイを洗浄する洗浄装置とを備え、連続した工程で
順次ディスク上に反射膜または記録膜と保護膜とを形成
するものである。
いて、基板上に反射膜まだは記録膜を形成する薄膜形成
装置と、上記反射膜または記録膜の形成されたディスク
上に保護膜を形成する保護膜形成装置と１上記基板を設
置するトレイと、上記トレイを搬送する搬送装置と、上
記トレイを洗浄する洗浄装置とを備え、連続した工程で
順次ディスク上に反射膜または記録膜と保護膜とを形成
するものである。
作用
本発明は上記した構成によって、同一装置内の連続した
工程で、トレイに設置された基板を順次搬送装置にて移
動させ、薄膜形成装置にて上記基板上に反射膜または記
録膜を形成したのち、保護膜形成装置にて上記反射膜ま
たは記録膜の設けられたディスク上に保護膜を形成し、
さらにその後洗浄装置にて上記トレイを洗浄することに
よシ、量産性に富んだ、信頼性の高い光ディスクを安価
に製造することができる。
工程で、トレイに設置された基板を順次搬送装置にて移
動させ、薄膜形成装置にて上記基板上に反射膜または記
録膜を形成したのち、保護膜形成装置にて上記反射膜ま
たは記録膜の設けられたディスク上に保護膜を形成し、
さらにその後洗浄装置にて上記トレイを洗浄することに
よシ、量産性に富んだ、信頼性の高い光ディスクを安価
に製造することができる。
実施例
以下本発明の一実施例の光ディス・りの製造方法および
その装置について図面を参照しながら説明する。
その装置について図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の光ディスクの製造方法を提供する製造
装置１４と示し、第１図１は平面図１第１図すは断面図
である。基板上に反射膜を形成する薄膜形成装置１５と
、反射膜を設けたディスク上に保護膜を形成する保護膜
形成装置１６と１上記基板２を設置するトレイ１７と、
上記トレイ１７を搬送する搬送装置１８と、上記トレイ
１７を洗浄する洗浄装置１９とにより構成されている。
装置１４と示し、第１図１は平面図１第１図すは断面図
である。基板上に反射膜を形成する薄膜形成装置１５と
、反射膜を設けたディスク上に保護膜を形成する保護膜
形成装置１６と１上記基板２を設置するトレイ１７と、
上記トレイ１７を搬送する搬送装置１８と、上記トレイ
１７を洗浄する洗浄装置１９とにより構成されている。
基板２がトレイ１７に設置され、予備真空室２０を通し
真空内に取入れられ、スパッター室２１にて基板２上に
アルミニウム（Ａ４）反射膜が形成され、予備真空室２
２を通して真空が解除される。次に反射膜の設けられた
ディスク上に保護膜塗布装置２３にて保護膜が形成され
、硬化装置２４にて保護膜が硬化される。
真空内に取入れられ、スパッター室２１にて基板２上に
アルミニウム（Ａ４）反射膜が形成され、予備真空室２
２を通して真空が解除される。次に反射膜の設けられた
ディスク上に保護膜塗布装置２３にて保護膜が形成され
、硬化装置２４にて保護膜が硬化される。
次に、反射膜と保護膜とが設けられたディスクは、ディ
スク取出装置（図示せず）にて外部に取出され、トレイ
１７だけが搬送装置１８を通して洗浄装置１９に運ばれ
、ここでトレイが洗浄される。洗浄されたトレイは再度
、基板取入部にもどる。
スク取出装置（図示せず）にて外部に取出され、トレイ
１７だけが搬送装置１８を通して洗浄装置１９に運ばれ
、ここでトレイが洗浄される。洗浄されたトレイは再度
、基板取入部にもどる。
これらは同一装置内で連続的に処理され１基板に反射膜
と保護膜とを形成し、まだ基板を設置するトレイが洗浄
されるため、量産性に富み、しかもトレイに付着したコ
ンタミネーションを洗浄することが可能であるため欠陥
の少ない光ディスクを安定性良く生産することができる
。
と保護膜とを形成し、まだ基板を設置するトレイが洗浄
されるため、量産性に富み、しかもトレイに付着したコ
ンタミネーションを洗浄することが可能であるため欠陥
の少ない光ディスクを安定性良く生産することができる
。
反射膜としてはアルミニウム（Ｇｌりであるが、記録膜
でも同様である。また、保護膜はアクリル系紫外線硬化
型樹脂が一般的である。
でも同様である。また、保護膜はアクリル系紫外線硬化
型樹脂が一般的である。
まだ、洗浄装置としては、酸・アルカリ・有機溶剤など
による化学的エツチングや機械的ボリシングや超音波洗
浄や逆電解メッキなどが有効である。
による化学的エツチングや機械的ボリシングや超音波洗
浄や逆電解メッキなどが有効である。
発明の効果
以上のように本発明は、同一装置内の連続した工程で、
トレイに設置された基板を順次搬送装置を用いて移動さ
せ、薄膜形成装置にて反射膜まだは記録膜を形成したの
ち、保護膜形成装置にて上記反射膜または記録膜の設け
られたディスクに保護膜を形成したのち、洗浄装置にて
上記トレイを洗浄することにより光ディスクを形成する
ため、連続工程であるため量産性が高く、設備コストと
安価であることや、トレイの洗浄が可能なことよりゴミ
やホコリなどのコンタミネーションの少ない信頼性の高
い光ディスクが安定して生産できるなど安価で高性能な
光ディスクを提供することができる。
トレイに設置された基板を順次搬送装置を用いて移動さ
せ、薄膜形成装置にて反射膜まだは記録膜を形成したの
ち、保護膜形成装置にて上記反射膜または記録膜の設け
られたディスクに保護膜を形成したのち、洗浄装置にて
上記トレイを洗浄することにより光ディスクを形成する
ため、連続工程であるため量産性が高く、設備コストと
安価であることや、トレイの洗浄が可能なことよりゴミ
やホコリなどのコンタミネーションの少ない信頼性の高
い光ディスクが安定して生産できるなど安価で高性能な
光ディスクを提供することができる。
第１図は本発明の一実施例における光ディスクの製造装
置を示し、第１図ａは平面図、第１図すは同断面図、第
２図は従来の光ディスクの製造装置である薄膜形成装置
の断面図１第３図は同保護膜形成装置の断面図、第４図
ａ、ｂ、ｃは光ディスクの一種であるディジタルオーデ
ィオディスクの各々平面図、断面図、および要部拡大図
である。 １・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、４・
・・・反射膜、５・・・・・・保護膜、６・・・・・印
刷膜、１４・・・・・光デイスク製造装置、１５ ・・
・薄膜形成装置、１６．・・・・・保護膜成形装置、１
７・・・・・・トレイ、１８・・印・搬送装置、１９・
・・・・洗浄装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１８
−厭送一装置 ２１−−−スバッグー呈 第２図 第４図
置を示し、第１図ａは平面図、第１図すは同断面図、第
２図は従来の光ディスクの製造装置である薄膜形成装置
の断面図１第３図は同保護膜形成装置の断面図、第４図
ａ、ｂ、ｃは光ディスクの一種であるディジタルオーデ
ィオディスクの各々平面図、断面図、および要部拡大図
である。 １・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、４・
・・・反射膜、５・・・・・・保護膜、６・・・・・印
刷膜、１４・・・・・光デイスク製造装置、１５ ・・
・薄膜形成装置、１６．・・・・・保護膜成形装置、１
７・・・・・・トレイ、１８・・印・搬送装置、１９・
・・・・洗浄装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名１８
−厭送一装置 ２１−−−スバッグー呈 第２図 第４図
Claims (2)
- （１）同一装置内の連続した工程で、トレイに設置され
た基板を順次搬送装置を用いて移動させ、薄膜形成装置
にて反射膜または記録膜を形成したのち、保護膜形成装
置にて上記反射膜または記録膜の設けられたディスクに
保護膜を形成し、その後、洗浄装置にて上記トレイを洗
浄することを特徴とする光ディスクの製造方法。 - （２）同一装置内で、基板上に反射膜または記録膜を形
成する薄膜形成装置と、上記反射膜または記録膜の設け
られたディスク上に保護膜を形成する保護膜形成装置と
、上記基板を設置するトレイと、上記トレイを搬送する
搬送装置と、上記トレイを洗浄する洗浄装置とを備え、
連続した工程で基板上に順次反射膜または記録膜と保護
膜とを形成すると共にトレイを洗浄するように構成した
光ディスクの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26976785A JPS62129960A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26976785A JPS62129960A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62129960A true JPS62129960A (ja) | 1987-06-12 |
Family
ID=17476859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26976785A Pending JPS62129960A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62129960A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5845636A (ja) * | 1981-09-11 | 1983-03-16 | Pioneer Electronic Corp | 情報記録デイスクおよびその製造方法 |
| JPS5949941A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-22 | Toshiba Corp | 情報デイスクの複製製造方法 |
| JPS6079542A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-07 | Ulvac Corp | 情報記録体の製造法並に製造装置 |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP26976785A patent/JPS62129960A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5845636A (ja) * | 1981-09-11 | 1983-03-16 | Pioneer Electronic Corp | 情報記録デイスクおよびその製造方法 |
| JPS5949941A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-22 | Toshiba Corp | 情報デイスクの複製製造方法 |
| JPS6079542A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-07 | Ulvac Corp | 情報記録体の製造法並に製造装置 |
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