JP2003303452A - 光ディスクの製造装置および光ディスク - Google Patents
光ディスクの製造装置および光ディスクInfo
- Publication number
- JP2003303452A JP2003303452A JP2002103008A JP2002103008A JP2003303452A JP 2003303452 A JP2003303452 A JP 2003303452A JP 2002103008 A JP2002103008 A JP 2002103008A JP 2002103008 A JP2002103008 A JP 2002103008A JP 2003303452 A JP2003303452 A JP 2003303452A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical disk
- sputtering
- pallet
- stopper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は反射膜を成膜するスパッタ工程後の
スパッタ熱による基板への熱変形を冷却により元に戻
し、より安定した基板の搬送を行える光記録媒体製造の
ための搬送構成を提供しようとするものである。 【構成】スパッタ装置１０７によってスパッタされた基
板はロードロック室１０８からＰ＆Ｐアーム１０９によ
りパレット１０３に搬送される。つぎにストッパ１０４
が降り、スパッタされた基板を載せたパレットはパレッ
ト１０５に位置に移動する。ここでストッパ２（１０
６）の動作時間を制御することによりパレット１０５で
の滞留時間すなわち冷却時間を制御する。
スパッタ熱による基板への熱変形を冷却により元に戻
し、より安定した基板の搬送を行える光記録媒体製造の
ための搬送構成を提供しようとするものである。 【構成】スパッタ装置１０７によってスパッタされた基
板はロードロック室１０８からＰ＆Ｐアーム１０９によ
りパレット１０３に搬送される。つぎにストッパ１０４
が降り、スパッタされた基板を載せたパレットはパレッ
ト１０５に位置に移動する。ここでストッパ２（１０
６）の動作時間を制御することによりパレット１０５で
の滞留時間すなわち冷却時間を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はスパッタ装置を有す
る基板を搬送する基板搬送装置及びスパッタ装置を有す
る光ディスクを製造する光ディスク製造装置に関する。
る基板を搬送する基板搬送装置及びスパッタ装置を有す
る光ディスクを製造する光ディスク製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大容量高密度の光情報記録媒体の
実用化が進んでいる。このような状況の中、次世代の光
ディスクとして代表的な光ディスクがＤＶＤでありＤＶ
Ｄ−Ｒ／ＲＷである。ＤＶＤおよびＤＶＤ−Ｒ／ＲＷの
構造は０．６ｍｍの２枚の基板を貼り合わせたものとな
っている。しかしながら、貼り合わせる前の０．６ｍｍ
の基板はＣＤと比較すると１．２ｍｍの半分の厚さでし
かなく、その為ＤＶＤおよびＤＶＤ−Ｒ／ＲＷを製造す
る上で必要な反射膜を成膜するスパッタ装置でスパッタ
熱を受けるとその熱により基板に反りや撓みが発生す
る。
実用化が進んでいる。このような状況の中、次世代の光
ディスクとして代表的な光ディスクがＤＶＤでありＤＶ
Ｄ−Ｒ／ＲＷである。ＤＶＤおよびＤＶＤ−Ｒ／ＲＷの
構造は０．６ｍｍの２枚の基板を貼り合わせたものとな
っている。しかしながら、貼り合わせる前の０．６ｍｍ
の基板はＣＤと比較すると１．２ｍｍの半分の厚さでし
かなく、その為ＤＶＤおよびＤＶＤ−Ｒ／ＲＷを製造す
る上で必要な反射膜を成膜するスパッタ装置でスパッタ
熱を受けるとその熱により基板に反りや撓みが発生す
る。
【０００３】従来の光ディスク製造用スパッタ装置の構
成例を図をもって説明する。まず、図１は、従来の光デ
ィスク製造装置を上面から見た模式図である。射出成形
によって成形された基板がパレット上に移載されてい
る。この状態においてコンベアによって図面左方向より
右方向に基板が搬送される。
成例を図をもって説明する。まず、図１は、従来の光デ
ィスク製造装置を上面から見た模式図である。射出成形
によって成形された基板がパレット上に移載されてい
る。この状態においてコンベアによって図面左方向より
右方向に基板が搬送される。
【０００４】図２は、光ディスク製造用スパッタ装置を
側面から見た構成を示す模式図である。搬送された基板
はストッパー１０４によりスパッタ装置１０７前面部分
にて停止させられる。エアーシリンダー１１３により、
基板１００はＰ＆Ｐアーム１０９が基板を受け取れる位
置まで上昇する。エアーシリンダー１１３により上昇し
た基板１００はＰ＆Ｐアーム１０９により、スパッタ装
置内ロードロック室１０８に搬送させられると同時に、
スパッタ装置１０７によってスパッタされた基板が搬送
されてエアーシリンダー１１３上に搬送されてくる。エ
アーシリンダー１１３に載せられた、スパッタされた基
板はエアーシリンダー１１３が下降することによりパレ
ット１０３に戻される。そしてストッパー１０４が下降
し、パレット１０３とスパッタされた基板は後工程へと
搬送される。
側面から見た構成を示す模式図である。搬送された基板
はストッパー１０４によりスパッタ装置１０７前面部分
にて停止させられる。エアーシリンダー１１３により、
基板１００はＰ＆Ｐアーム１０９が基板を受け取れる位
置まで上昇する。エアーシリンダー１１３により上昇し
た基板１００はＰ＆Ｐアーム１０９により、スパッタ装
置内ロードロック室１０８に搬送させられると同時に、
スパッタ装置１０７によってスパッタされた基板が搬送
されてエアーシリンダー１１３上に搬送されてくる。エ
アーシリンダー１１３に載せられた、スパッタされた基
板はエアーシリンダー１１３が下降することによりパレ
ット１０３に戻される。そしてストッパー１０４が下降
し、パレット１０３とスパッタされた基板は後工程へと
搬送される。
【０００５】この場合特にスパッタを行った直後から数
秒間は著しく基板が変形しており、光記録媒体製造のス
パッタ成膜された基板を搬送するコンベアシステムにお
いてディスク保持部分での基板の不安定な保持による搬
送トラブルやスパッタ後工程の印字工程や保護膜コーテ
ィング工程において同様のチャックミスや搬送トラブル
を発生させる。その為光記録媒体製造における生産量に
悪影響を及ぼすこことなる。
秒間は著しく基板が変形しており、光記録媒体製造のス
パッタ成膜された基板を搬送するコンベアシステムにお
いてディスク保持部分での基板の不安定な保持による搬
送トラブルやスパッタ後工程の印字工程や保護膜コーテ
ィング工程において同様のチャックミスや搬送トラブル
を発生させる。その為光記録媒体製造における生産量に
悪影響を及ぼすこことなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の構成ではスパッ
タの前工程の処理タクトによりスパッタ装置のタクトが
決定してしまい、スパッタにより熱変形された基板の冷
却に必要な時間の設定が自由に行えない。又、スパッタ
により熱変形した基板がスパッタの後工程に搬送され、
その工程でトラブルを引き起こすことが多発した。特に
ＤＶＤのような薄板の場合、このようなトラブルが顕著
に発生するようになる。
タの前工程の処理タクトによりスパッタ装置のタクトが
決定してしまい、スパッタにより熱変形された基板の冷
却に必要な時間の設定が自由に行えない。又、スパッタ
により熱変形した基板がスパッタの後工程に搬送され、
その工程でトラブルを引き起こすことが多発した。特に
ＤＶＤのような薄板の場合、このようなトラブルが顕著
に発生するようになる。
【０００７】本発明は反射膜を成膜するスパッタ工程後
のスパッタ熱による基板への熱変形を冷却により元に戻
し、より安定した基板の搬送を行える光記録媒体製造の
ための搬送構成を提供しようとするものである。
のスパッタ熱による基板への熱変形を冷却により元に戻
し、より安定した基板の搬送を行える光記録媒体製造の
ための搬送構成を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、スパッタ装置
の上流工程または／および下流工程に搬送される光ディ
スク用基板のストッパ機構を有し、搬送停止時間を制御
する機構を備えたことを特徴とする光ディスク製造装置
である。
の上流工程または／および下流工程に搬送される光ディ
スク用基板のストッパ機構を有し、搬送停止時間を制御
する機構を備えたことを特徴とする光ディスク製造装置
である。
【０００９】また本発明は、スパッタ装置内部において
処理後の光ディスク用基板を滞留させるためスパッタ装
置に基板を搬送するタイミングを時間により制御するこ
とによりスパッタ装置内で光ディスク用基板を冷却可能
とすることを特徴とする光ディスク製造装置である。
処理後の光ディスク用基板を滞留させるためスパッタ装
置に基板を搬送するタイミングを時間により制御するこ
とによりスパッタ装置内で光ディスク用基板を冷却可能
とすることを特徴とする光ディスク製造装置である。
【００１０】本発明において、スパッタ装置の下流工程
に冷却ポジションを設け、その滞留時間を管理すること
によりスパッタされた光ディスク用基板を冷却可能とす
ることが好ましい。
に冷却ポジションを設け、その滞留時間を管理すること
によりスパッタされた光ディスク用基板を冷却可能とす
ることが好ましい。
【００１１】さらに本発明は、光ディスク用基板が熱可
塑性樹脂を射出成形した厚み０．６ｍｍ以下の透明基板
からなり上記のいずれかの光ディスク製造装置により製
造されたことを特徴とする光ディスクである。
塑性樹脂を射出成形した厚み０．６ｍｍ以下の透明基板
からなり上記のいずれかの光ディスク製造装置により製
造されたことを特徴とする光ディスクである。
【００１２】本発明では搬送コンベアシステムにおい
て、スパッタへの基板の供給を時間管理し、その効果に
よりスパッタ内にあるスパッタされた基板と供給される
べきディスクの入れ替えを阻止し、その間のスパッタ内
部にある熱変形を受けている基板の冷却を行い、その形
状の復旧を行うものである。
て、スパッタへの基板の供給を時間管理し、その効果に
よりスパッタ内にあるスパッタされた基板と供給される
べきディスクの入れ替えを阻止し、その間のスパッタ内
部にある熱変形を受けている基板の冷却を行い、その形
状の復旧を行うものである。
【００１３】スパッタ工程の前後にストッパによる基板
保持機構を持たせ、その保持時間を制御することによ
り、スパッタの熱変形による後工程へのトラブルの発生
を抑制することができる。
保持機構を持たせ、その保持時間を制御することによ
り、スパッタの熱変形による後工程へのトラブルの発生
を抑制することができる。
【００１４】又、同時に本発明は搬送コンベアシステム
においてスパッタ装置の後工程に冷却ポジションを設
け、スパッタから排出された熱変形を受けた基板の冷却
時間を管理し、その効果によりストッパーで停止してい
る熱変形を受けた基板形状復旧を行うものである。
においてスパッタ装置の後工程に冷却ポジションを設
け、スパッタから排出された熱変形を受けた基板の冷却
時間を管理し、その効果によりストッパーで停止してい
る熱変形を受けた基板形状復旧を行うものである。
【００１５】このように本発明はスパッタ工程前にスパ
ッタへのディスクの供給タイミングを調整する機能を持
ち、尚且つスパッタ工程直後に熱変形した基板を冷却す
る冷却ポジションという２つの特徴を持つ光記録媒体の
製造方法に関するものである。
ッタへのディスクの供給タイミングを調整する機能を持
ち、尚且つスパッタ工程直後に熱変形した基板を冷却す
る冷却ポジションという２つの特徴を持つ光記録媒体の
製造方法に関するものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
面を参照して説明する。本発明の具体的な例として図３
をもって説明する。まず、スパッタ工程の前に存在する
ストッパ１の機構の役割について説明する。スパッタ装
置１０７によってスパッタされた基板はパレット１０３
の位置に基板が流れてこなければロードロック室１０８
から外に払い出されることはなく、ロードロック室１０
８内で待機することとなる。
面を参照して説明する。本発明の具体的な例として図３
をもって説明する。まず、スパッタ工程の前に存在する
ストッパ１の機構の役割について説明する。スパッタ装
置１０７によってスパッタされた基板はパレット１０３
の位置に基板が流れてこなければロードロック室１０８
から外に払い出されることはなく、ロードロック室１０
８内で待機することとなる。
【００１７】つまり、ストッパ１０２はパレット１０１
をパレット１０３にすぐに搬送しないためのストッパで
あり、ストッパ１０２が下がり、パレット１０１がパレ
ット１０３の位置に移動するまでの時間が、スパッタさ
れた基板がロードロック室１０８内で待機すなわち冷却
する時間となる。
をパレット１０３にすぐに搬送しないためのストッパで
あり、ストッパ１０２が下がり、パレット１０１がパレ
ット１０３の位置に移動するまでの時間が、スパッタさ
れた基板がロードロック室１０８内で待機すなわち冷却
する時間となる。
【００１８】次にスパッタ工程の後に存在するストッパ
２の機構の役割について説明する。スパッタ装置１０７
によってスパッタされた基板はロードロック室１０８か
らＰ＆Ｐアーム１０９によりパレット１０３に搬送され
る。つぎにストッパ１０４が降り、スパッタされた基板
を載せたパレットはパレット１０５に位置に移動する。
ここでストッパ２（１０６）の動作時間を制御すること
によりパレット１０５での滞留時間すなわち冷却時間を
制御する。
２の機構の役割について説明する。スパッタ装置１０７
によってスパッタされた基板はロードロック室１０８か
らＰ＆Ｐアーム１０９によりパレット１０３に搬送され
る。つぎにストッパ１０４が降り、スパッタされた基板
を載せたパレットはパレット１０５に位置に移動する。
ここでストッパ２（１０６）の動作時間を制御すること
によりパレット１０５での滞留時間すなわち冷却時間を
制御する。
【００１９】図４に電気的な構成例を示す。シーケンサ
を介して、ストッパ１およびストッパ２はそれぞれタイ
マー１およびタイマー２により昇降タイミングを制御さ
れることになる。以上、本発明の構成例をコンベア型の
搬送システムの例で説明したが、これはターンテーブル
による基板搬送形態にも応用できる。その例を図５に示
す。
を介して、ストッパ１およびストッパ２はそれぞれタイ
マー１およびタイマー２により昇降タイミングを制御さ
れることになる。以上、本発明の構成例をコンベア型の
搬送システムの例で説明したが、これはターンテーブル
による基板搬送形態にも応用できる。その例を図５に示
す。
【００２０】スパッタ装置にディスクを送るタイミング
をコンベアの例ではストッパ１の役割としたが、ターン
テーブル搬送の場合、ここではコンベア１の制御する時
間はターンテーブルが停止してから次に回転を開始する
までの時間となる。又、コンベア搬送の場合、ストッパ
２による冷却ポジションはターンテーブル搬送の場合に
はスパッタ装置の後に基板の冷却ポジションを設けるこ
とにより同一の意味合いを持つ。
をコンベアの例ではストッパ１の役割としたが、ターン
テーブル搬送の場合、ここではコンベア１の制御する時
間はターンテーブルが停止してから次に回転を開始する
までの時間となる。又、コンベア搬送の場合、ストッパ
２による冷却ポジションはターンテーブル搬送の場合に
はスパッタ装置の後に基板の冷却ポジションを設けるこ
とにより同一の意味合いを持つ。
【００２１】光記録媒体を製造する上でスパッタ成膜時
に発生する熱変形をスパッタ装置の直前にストッパーを
設け、スパッタへの基板の供給を時間管理し、その効果
によりスパッタ内にあるスパッタされた基板と供給され
るべきディスクの入れ替えを阻止し、その間のスパッタ
内部にある熱変形を受けている基板の冷却を行える。
に発生する熱変形をスパッタ装置の直前にストッパーを
設け、スパッタへの基板の供給を時間管理し、その効果
によりスパッタ内にあるスパッタされた基板と供給され
るべきディスクの入れ替えを阻止し、その間のスパッタ
内部にある熱変形を受けている基板の冷却を行える。
【００２２】又、同時に、スパッタ装置の直後に同様な
ストッパーを設け、スパッタから排出された熱変形を受
けた基板の後工程への供給時間を管理し、その効果によ
りストッパーで停止している熱変形を受けた基板の冷却
を行うことにより、スパッタによる熱変形を元に戻せる
ため、製造工程においてチャック不良や搬送ミスを防止
し、光記録媒体の製造を安定化させることが可能とな
る。タイマー１およびタイマー２の設定時間はいづれも
７．０秒とした場合、基板には熱変形がほとんどみられ
なかった。このように本発明は、スパッタ熱による基板
の熱変形に対し効果があるものと確認できた。
ストッパーを設け、スパッタから排出された熱変形を受
けた基板の後工程への供給時間を管理し、その効果によ
りストッパーで停止している熱変形を受けた基板の冷却
を行うことにより、スパッタによる熱変形を元に戻せる
ため、製造工程においてチャック不良や搬送ミスを防止
し、光記録媒体の製造を安定化させることが可能とな
る。タイマー１およびタイマー２の設定時間はいづれも
７．０秒とした場合、基板には熱変形がほとんどみられ
なかった。このように本発明は、スパッタ熱による基板
の熱変形に対し効果があるものと確認できた。
【図１】従来の製造装置を示す図。
【図２】従来の製造装置を横から見た図。
【図３】本発明の1実施例を示す図。
【図４】シーケンスを示す図。
１０１、１０３，１０５： パレット
１０２:ストッパー１、 １０４：ストッパー， １０
６： ストッパ−２ １１３： エアーシリンダー １００： 基板
６： ストッパ−２ １１３： エアーシリンダー １００： 基板
Claims (4)
- 【請求項１】スパッタ装置の上流工程または／および下
流工程に搬送される光ディスク用基板のストッパ機構を
有し、搬送停止時間を制御する機構を備えたことを特徴
とする光ディスク製造装置。 - 【請求項２】スパッタ装置内部において処理後の光ディ
スク用基板を滞留させるためスパッタ装置に基板を搬送
するタイミングを時間により制御することによりスパッ
タ装置内で光ディスク用基板を冷却可能とすることを特
徴とする光ディスク製造装置。 - 【請求項３】スパッタ装置の下流工程に冷却ポジション
を設け、その滞留時間を管理することによりスパッタさ
れた光ディスク用基板を冷却可能とすることを特徴とす
る請求項1または２に記載の光ディスク製造装置。 - 【請求項４】光ディスク用基板が熱可塑性樹脂を射出成
形した厚み０．６ｍｍ以下の透明基板からなり請求項１
〜請求項３のいずれかの光ディスク製造装置により製造
されたことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002103008A JP2003303452A (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 光ディスクの製造装置および光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002103008A JP2003303452A (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 光ディスクの製造装置および光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003303452A true JP2003303452A (ja) | 2003-10-24 |
Family
ID=29389124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002103008A Pending JP2003303452A (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 光ディスクの製造装置および光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003303452A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107541707A (zh) * | 2016-06-28 | 2018-01-05 | 芝浦机械电子装置株式会社 | 成膜装置、成膜制品的制造方法及电子零件的制造方法 |
-
2002
- 2002-04-04 JP JP2002103008A patent/JP2003303452A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107541707A (zh) * | 2016-06-28 | 2018-01-05 | 芝浦机械电子装置株式会社 | 成膜装置、成膜制品的制造方法及电子零件的制造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001209981A (ja) | 光ディスク基板成膜装置、光ディスク基板成膜方法、基板ホルダーの製造方法、基板ホルダー、光ディスクおよび相変化記録型光ディスク | |
| JP2002288888A (ja) | 基板搬送装置及びそれを用いた基板処理装置 | |
| WO2005111263A1 (ja) | 真空処理装置 | |
| JP2003303452A (ja) | 光ディスクの製造装置および光ディスク | |
| JP4763040B2 (ja) | スパッタリング装置および薄膜成膜方法 | |
| JPH05109126A (ja) | 光学デイスクの冷却装置 | |
| US7913737B2 (en) | Bonding apparatus and bonding method | |
| TW200402718A (en) | Method of delivering substrate to film forming device for disk-like substrate, mechanism for delivering substrate used for the method, substrate holder, and method of manufacturing disk-like recording medium using the method | |
| JPH08273207A (ja) | 光情報記録媒体搬送用キヤリア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
| JP2008176847A (ja) | 薄膜積層体の製造方法、及び薄膜積層体製造装置と磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
| JP2001205585A (ja) | ディスク搬送装置 | |
| JPS6214347A (ja) | 光デイスクの製造方法およびその装置 | |
| JP3674168B2 (ja) | 光ディスク製造システム | |
| JPH0997456A (ja) | 光記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JP2000222785A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法及びその製造装置 | |
| JP2003263799A (ja) | 円板状部材保持装置 | |
| JP2000319781A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2006323948A (ja) | 貼り合わせ型光ディスク製造方法と製造装置 | |
| JP2002092991A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法、光情報記録媒体製造用スパッタ装置、光情報記録媒体 | |
| JPH0421773A (ja) | スパッタ成膜装置 | |
| JPH0997455A (ja) | 光記録媒体の製造装置および製造方法 | |
| JPH04272175A (ja) | インラインスパッタ装置とそのキャリヤーの加熱方法 | |
| JP2002329353A (ja) | 光磁気ディスク製造装置及び製造方法 | |
| JP2000113527A (ja) | 光情報記録媒体製造方法及びその装置 | |
| JP2006351104A (ja) | 光ディスクの製造装置 |