JP3674168B2 - 光ディスク製造システム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、マスタリングプロセスの最終工程であるディスク化工程に用いられる光ディスク製造システムの改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、図1に示す光ディスク製造システムにおいて、成形機1が所定のサイクルタイムで成形し、コンベア3が所定速度で搬送してきた光ディスクの基板(以下、「基板」という)を取込んで、複数の基板に対し所定のサイクルタイムで成膜するスパッタ装置5を備えたシステムが知られている。このスパッタ装置5は、真空チャンバと、複数の基板を保持してチャンバ内を移動するキャリアと、真空チャンバ内のキャリア(各基板)と対向する位置に臨み、チャンバとの間に印加される負の直流電圧に起因するグロー放電により各基板に成膜するためのターゲットとを備える。
【0003】
上記スパッタ装置5には、図2に示すような矩形状のキャリア9を備えた装置7と、図3に示すような円形状のキャリア17を備えた装置15とがある。図2のスパッタ装置7では、基板11を複数枚配置したキャリア9を矢印方向に移動させて、キャリア9がターゲット13の前面を通過するときグロー放電により各基板11に成膜を施す。図3のスパッタ装置15では、基板11を環状に配置したキャリア17を移動させ、キャリア17がグロー放電の生じるターゲット19の前面を通過するとき各基板11を矢印方向Aに回転させると共にキャリア17を矢印方向Bに回転させることにより各基板11に成膜を施す。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記各スパッタ装置7(15)のいずれも、キャリア9(17)に多数の基板11が配置される構成となっていて成形機1とサイクルタイムが相違し、いずれの装置7(15)を使用して図1のシステムを構成しても成膜能力が成形機1の成形能力を大きく上廻ることとなる。しかも、各基板11のキャリア9(17)への配置は真空チャンバの外で行われ、成形機1が1台しかない場合には1枚のキャリア9(17)に配置される基板11の枚数が多くなる。そのため、各キャリア9(17)への基板11の配置が完了するまでの間、比較的先に成形されて配置された基板11はそれだけ長時間大気に晒されることとなる。そのうえ、基板11は吸湿性の高いポリカーボネートを材料として構成されているから大気中の湿気を吸収してしまい、光ディスクとしての特性の低下、耐候性(寿命)の悪化を招来する。そこで、上記システムでは、このような不具合を解消しスパッタ装置7(15)の成膜能力をフルに活用するために、その成膜能力に合せて成形機1を複数台設置しスパッタ装置7(15)のサイクルタイムと成形機1のサイクルタイムとを可能な限り同一にすることによって成形機1とのラインバランスの良好な保持を図っている。
【0005】
しかし、成形機1を複数台設置すると、システムのレイアウトの関係で図1に示したコンベア3の延長が長くなる。そのため、スパッタ装置7(15)から比較的遠い成形機1で成形された基板11をスパッタ装置7(15)へ搬送するには長時間を要することとなり、やはり、基板11が長時間大気に晒されるので基板11の吸湿が問題となる。そこで、上記システムでは、基板11中の湿気を除去するための工程として、基板11を80℃位の温度で加熱し、その後、真空中で15〜30分位排気する脱ガス工程が設けられている。
【0006】
このように、脱ガス工程を設けることによって基板11の吸湿の問題は解消されるが、一方において工程(脱ガス工程)が増加してしまうという問題が新たに生じる。そこで、各キャリアのコンパクト化を図ることにより成形機とのラインバランスを良好に保持し、それにより各基板のスパッタ装置外での待機時間を短くすることで、脱ガス工程の省略を可能にしたスパッタ装置が提案された。図4(a)、(b)は、この提案に係るスパッタ装置の各キャリアを示す。図4(a)に示すキャリア21は4枚の基板11を、図4(b)に示すキャリア23は3枚の基板11を、夫々配置可能に構成されている。
【0007】
しかし、スパッタ装置では一般に、真空チャンバ内においてキャリアをスムーズに移動させるために各部の寸法に多少の遊びを持たせて設計されており、上記スパッタ装置も例外ではない。そのため、キャリア21(又は23)に配置された各基板11の位置とターゲットとの相対的位置関係により同一基板であってもキャリア21(又は23)上の配置位置によっては成膜時に±3%(許容範囲)程度の膜厚誤差が発生する。今仮に、各基板11に誘電体膜、記録膜、誘電体膜、反射膜の4つの薄膜が積層状に成膜されるとして、3層目の誘電体膜が図5の矢印で示すようにキャリア21上の符号1の位置から符号4の位置の方向に厚くなるものとする。この場合、同一の成形機1で成形された同一特性の基板11であっても、符号4の位置で成膜されてディスクに製品化される基板11の方が、符号1の位置で成膜されてディスクに製品化される基板11よりもディスクとしてのスペック(仕様)の範囲内ではあるが反射率は低くなる。
【0008】
ところが、成形機1が複数台設置されている場合、各成形機1毎にサイクルタイムが微妙に相違するために、1枚のキャリア21に別の成形機1で成形された基板11が混在する可能性がある。成形機1は、各装置毎にスタンパや射出成形の転写性等が相違するから別の成形機1で成形された基板11が1枚のキャリア21に混在すると、これら基板11同士もラジアルコントラスト(基板11上のピットやグルーブの形状を示すパラメータ)が相違することとなる。そのため、各基板11毎に異なった成膜条件で成膜しないとスペックを外れたディスクとして製品化される虞がある。例えば、図5において符号1の位置にラジアルコントラストの高い基板11が、符号4の位置にラジアルコントラストの低い基板11が、夫々配置されたときは各基板11間で反射率の差は縮まるが、上記と逆に配置された場合には、反射率の差は拡がってスペックアウトになる可能性がある。上記不具合を解消する方法としては、各基板11を自転及び公転させることにより符号1〜4で示す各位置での膜厚の均一化を図る方法が思料されるが、高速成膜や発塵防止の観点から採用できる方法ではないし、それによって別の成形機1で成形された基板11間のラジアルコントラストの相違を解消することはできない。
【0009】
従って本発明の目的は、成形機とスパッタ装置との間のラインバランスを良好に保持でき、且つ、成膜条件の相違する基板に対応した成膜を行うことが可能な光ディスク製造システムを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明に従う光ディスク製造システムは、複数の成形機と、複数のディスク基板取出装置と、複数の搬送装置と、取出装置と、スパッタ装置とを備える。複数の成形機は、各々固有のサイクルタイムで駆動して与えられた成形材料をディスク基板に成形する。複数のディスク基板取出装置は、各成形機に設けられており、対応する成形機で成形されたディスク基板を各成形機から取出す。複数の搬送装置は、各ディスク基板取出装置に設けられ、対応するディスク基板取出装置で取出されたディスク基板を搬送する。取出装置は、各搬送装置で搬送中のディスク基板を、夫々の搬送装置に対応する成形機のサイクルタイムに同期して所定数ずつ取出す。スパッタ装置は、取出装置から供給されるディスク基板を、取出装置のサイクルタイムに同期して受け入れることにより、同一の成形機で成形された複数枚のディスク基板を纏めて取込み、成形機毎に決められた成膜条件に基づいてディスク基板に成膜する。
【0011】
本発明によれば、各搬送装置で搬送中のディスク基板が、夫々の搬送装置に対応する成形機のサイクルタイムに同期して所定数ずつ取出され、取出されたディスク基板は、取出しのサイクルタイムに同期して成膜工程に受け入れられる。これにより、成膜工程において同一の成形機で成形された複数枚のディスク基板が纏めて取込まれ、成形機毎に決められている成膜条件に基づいてディスク基板に成膜される。よって、成形機とスパッタ装置との間のラインバランスを良好に保持でき、且つ、成膜条件の相違する基板に対応した成膜を行うことが可能となる。
【0012】
本発明に係る好適な実施形態では、スパッタ装置の単位時間当りのディスク基板処理能力は、各成形機の単位時間当りのディスク基板処理能力より多く設定されており、スパッタ装置は、取出装置からのディスク基板の供給数が所定枚数に満たない間は、単位時間当りのディスク基板処理能力に従って運転を継続しつつ取出装置からのディスク基板の取込みをキャンセルする。
【0013】
上記好適な実施形態によれば、取出装置からのディスク基板の供給数が所定枚数に満たない間は、単位時間当りのディスク基板処理能力に従って運転を継続しつつ取出装置からのディスク基板の取込みを行わないから、異なった成形機で成形されたディスク基板が混入することを防止できる。ここで、本発明に係るシステムでは、脱ガス工程を省いたので、成形工程と成膜工程との間の待機時間を長くとれず、しかも、スパッタ装置の成膜のサイクルタイム動作の方が、各成形機の成形のサイクルタイム動作よりも早い。そのため、上記好適な実施形態におけるように、各成形機からのディスク基板の供給数が所定枚数に満たずに所定枚数に達するまでの間、ディスク基板の取込みをキャンセルしつつ運転を継続しても作業効率の低下を心配する必要がないのである。
【0014】
また、上記とは別の好適な実施形態では、各成形機からディスク基板取出装置がディスク基板を取出してから、各搬送装置で搬送し、取出装置がディスク基板を取込むまでの時間が所定時間を超えた時、或いは、各搬送装置に滞留するディスク基板の枚数が所定枚数を超えた時には、所定時間を超えたディスク基板、或いは、所定枚数を超えたディスク基板を、取出装置によって通常の取込む場所とは別の場所に取込む。
【0015】
この実施形態によれば、所定時間を超えたディスク基板、或いは、所定枚数を超えたディスク基板を、取出装置によって通常の取込む場所とは別の場所に取込むこととしたので、スパッタ装置側でトラブルが発生しても成形機側を連続運転したまま、脱ガス工程が必要なディスク基板(即ち、上記所定時間又は所定枚数を超えたディスク基板)と不必要なディスク基板とを分離することが可能となる。また、スパッタ装置の運転を停止しても、成形機側は運転を継続するので、スパッタ装置と共に成形機の運転を停止したときの数10分程度の成形条件の調整運転を行なわなくて済む。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面により詳細に説明する。
【0017】
まず、本発明に従う光ディスク製造システムを説明する前に、このシステムの構成要素であるスパッタ装置によって成膜される4層の薄膜の構造を図6を参照して説明する。
【0018】
図6は、本発明に従う光ディスク製造システムのスパッタ装置により成膜が施された後の基板の断面構造を示す。
【0019】
図6において、基板53又は55上には、最初に600〜1000オングストローム程度の膜厚の第1の誘電体膜81が、次に150〜300オングストローム程度の膜厚の記録膜83が、次に150〜300オングストローム程度の膜厚の第2の誘電体膜85が、最後に400〜600オングストローム程度の膜厚の反射膜(アルミニウムの膜)87が夫々積層状に成膜される。なお、各薄膜81〜87の成膜に際しては、図6において太線矢印で示すように基板53(55)側からレーザ光を入射してその反射光を読取り、薄膜の干渉を利用して所望の反射率やその他の特性が得られるよう、読取った反射光に基づいて各薄膜の膜厚が調整される。
【0020】
図7は、本発明の第1の実施形態に係る光ディスク製造システムの全体構成を示すブロック図である。
【0021】
上記システムは、図示のように、成形機31、33と、コンベア35、37と、スパッタ装置39と、ロボット41、43、45、49と、パレット47と、中央制御装置51とを備える。
【0022】
成形機31には、ディスク化工程の前工程で作製された、例えばニッケルスタンパのようなスタンパがセットされる。この成形機31は、例えばポリカーボネートを成形材料として射出成形により所定のサイクルタイム(例えば10秒間)で基板53を成形する。一方、成形機33にも成形機31と同様に、上記とは別のスタンパがセットされる。この成形機33も、上記と同様の材料を成形材料として射出成形により成形機31と略同一サイクルタイム(例えば0.1秒程度の誤差を含んでいる)で基板55を成形する。なお、成形機31、33には、夫々各部を制御するためのローカル制御装置(図示しない)が内蔵されている。
【0023】
ロボット41は、成形機31に対応して設置されるディスク基板取出装置である。このロボット41は、成形された基板53を成形機31と同一サイクルタイムで取出してコンベア35に載置する。一方、ロボット43もロボット41と同様に、成形機33に対応して設置される基板取出し用ロボットである。このロボット43は、成形された基板55を成形機33と同一サイクルタイムで取出してコンベア37に載置する。本実施形態では、ロボット41の基板取出動作のサイクルタイムは、成形機31の射出成形のサイクルタイム(例えば10秒間)に、また、ロボット43の基板取出動作のサイクルタイムは、例えばロボット41のサイクルタイムよりも0.1秒程度遅れるサイクルタイムに、夫々予め設定されているものとする。なお、ロボット41、43にも、夫々各部を制御するためのローカル制御装置(図示しない)が内蔵されている。
【0024】
コンベア35は、成形機31側を搬送方向始端側に、スパッタ装置39側を搬送方向終端側にして所定速度で移動するもので、成形機31で成形されロボット41によって載置された基板53を、スパッタ装置39に向けて搬送する。一方、コンベア37はコンベア35と同様に、成形機33側を搬送方向始端側に、スパッタ装置39側を搬送方向終端側にして所定速度で移動するもので、コンベア35に並設されている。そして、成形機33で成形されロボット43によって載置された基板55を、スパッタ装置39に向けて搬送する。
【0025】
ロボット45は、コンベア35、37の搬送方向終端側において両コンベア35、37の中間に相当する箇所に位置する基板ロード用取出装置である。このロボット45は、予め定められた順序に基づき、コンベア35、37のいずれか一方から基板(53又は55)を所定個数取込んでパレット47に載置した後に、コンベア35、37の他方から基板(55又は53)を上記と同数取込んでパレット47に載置する動作を繰返す。このロボット45は、コンベア35の基板53を取込むときはロボット41の基板取出し動作のサイクルタイムに同期するようサイクルタイムが制御される。また、コンベア37上の基板55を取込むときはロボット43の基板取出し動作のサイクルタイムに同期するようサイクルタイムが制御される。
【0026】
なお、ロボット45にも、ローカル制御装置(図示しない)が内蔵されており、このローカル制御装置は、中央制御装置51との間でロボット45の各部を制御するのに必要な各種制御情報の授受を行う。
【0027】
パレット47は、スパッタ装置39の図8に示すロード室57の前に固定的に配置されており、所定個数(本実施形態では4枚)の基板53(又は55)が一時的に載置される。
【0028】
ロボット49は、パレット47に対応して設置される成膜基板アンロード取出装置である。このロボット49は、ロボット45の基板ロード動作に同期してパレット47に載置されている、スパッタ装置39で成膜が終了した基板53(又は55)の取出し動作を行うようサイクルタイムが制御されている。なお、ロボット49にも、ローカル制御装置(図示しない)が内蔵されており、このローカル制御装置は、中央制御装置51との間でロボット49の各部を制御するのに必要な各種制御情報の授受を行なう。
【0029】
ロボット45は、同一の成形機31(又は33)によって成形された基板53(又は55)のパレット47上への載置個数が所定数(本実施形態では4枚)に達する毎に、これら基板53(又は55)をスパッタ装置39内にある複数枚のキャリアのうちの同一のキャリアに配置する。従って、各キャリアには基板53又は55のいずれか一方のみが配置され、同一のキャリアに2種類の基板53、55が混ざった状態で配置されることはない。なお、各キャリアに対する基板53又は55の配置の態様については、図10に示した。
【0030】
スパッタ装置39は、コンベア35、37及び、ロボット45、49を介して搬入された複数枚の基板53(又は55)を取込んで、これら基板53(又は55)に対し所定のサイクルタイムで複数の薄膜を積層状に成膜するものである。本実施形態に係るスパッタ装置39では、第1の誘電体膜、記録膜、第2の誘電体膜、及び反射膜の順に基板上に4層の薄膜が成膜される。
【0031】
図8は、上記システムを構成するスパッタ装置39の概要を示す平面図である。 本実施形態では、スパッタ装置39としてロード/アンロード室57と、正多角形(正八角形)状の搬送室59と、複数のチャンバ61a〜61gと、ロード/アンロード室57及びチャンバ61a〜61gの設置個数に対応して設けられた複数のアーム機構63a〜63hとを備えた構成の装置が用いられる。
【0032】
搬送室59は、真空状態に保たれており、その中心Oにアーム機構63a〜63hが時計方向(又は反時計方向)に回転可能に取付けられている。そして、搬送室59の外周部には、ロード/アンロード室57及び複数のチャンバ61a〜61gが接続されている。
【0033】
アーム機構63a〜63hは、それらの先端に、夫々図10に示すような構成の基板53(55)が配置されるキャリア69a〜69hが取付けられており、各アーム機構63a〜63hは、半径方向に伸縮が自在なように構成されている。
【0034】
ロード/アンロード室57は、パレット47に隣接して設けられている。このロード/アンロード室57では、パレット47上の基板53(又は55)が、アーム機構(63a〜63hのいずれか)の伸長によって室57内に臨んでいるキャリア(69a〜69hのいずれか)に配置される。また、各チャンバ61a〜61gを経て成膜された後の基板53(55)を配置したキャリア(69a〜69hのいずれか)が室57内に臨んでいるときは、上記基板53(55)はキャリア(69a〜69hのいずれか)から降ろされる。
【0035】
各チャンバ61a〜61gは、真空状態に置かれており、各チャンバ61a〜61g内には、キャリア69a〜69h上の基板53(又は55)に積層状に成膜するために夫々図9に示すようなターゲット65a〜65gが設けられている。基板53(55)上への成膜に際しては、アーム機構63a〜63hが伸びて基板53(55)を配置したキャリア69a〜69hが各チャンバ61a〜61g内に進入する。この成膜過程の詳細については後述する。
【0036】
図9は、図8に示した各チャンバの構成を示す断面図である。
【0037】
各チャンバ61a〜61gは、上述した各部の他に、各チャンバ内の空気を排気して真空状態にする真空ポンプ71a〜71gと、真空状態の各チャンバ内に、1パスカル(大気圧は101300パスカル)程度の圧力になるまでAr(アルゴン)ガスを導入するガス導入口73a〜73gとを更に備える。ターゲット65a〜65gには、複数層の薄膜が各基板53又は55上に積層状に成膜されるよう、例えばシリコンが用いられる。
【0038】
各ターゲット65a〜65gは、各チャンバ61a〜61g本体との間に直流電源75a〜75gから負の直流電圧が印加されている。各ターゲット65a〜65gは、アーム機構63a〜63gにより保持されて各チャンバ61a〜61g内に臨んでいる各キャリア69a〜69gとの間で上記電圧印加に起因するグロー放電77a〜77gが発生可能な位置に設けられる。即ち、グロー放電77a〜77gの発生により、Arガスの粒子がターゲット65a〜65gに衝突し、これによりターゲット65a〜65gの原子(即ち、シリコンの原子)が弾き出されて基板53又は55に膜として付着することにより成膜が行われる。
【0039】
ここで、4層分の成膜を行うのに7個のチャンバを備えたスパッタ装置39を用いる理由は、基板に最初に形成される誘電体膜が他の薄膜より厚いために、誘電体膜を、その成膜が律速しないよう、3つのチャンバで成膜したり、最後に形成される反射膜を2つのチャンバに分けて成膜したりするためである。
【0040】
図10は、これら基板53(又は55)が4枚配置された状態の円形状のキャリア69a〜69gを示す。図10において、各キャリア69a〜69gには、基板53又は55のいずれか一方のみが配置され、同一のキャリアに2種類の基板が混ざった状態で配置されることはない。この理由については既に説明した通りであるので、ここでの説明は省略する。
【0041】
なお、スパッタ装置39にも、ローカル制御装置(図示しない)が内蔵されている。このローカル制御装置は、中央制御装置51との間で上述した各キャリア69a〜69gに対する基板53(55)のロード/アンロード、アーム機構63a〜63gの回転や伸縮等、スパッタ装置39の各部を制御するのに必要な各種制御情報の授受を行う。また、このローカル制御装置は、成形機31で成形された基板53の成膜条件データ、及び成形機33で成形された基板55の成膜条件データを予め記憶しており、中央制御装置51を通じて与えられる成膜の対象となる基板の識別情報に基づき成膜条件を決定して成膜を行うよう構成されている。
【0042】
ロボット45、49及びスパッタ装置39が夫々内蔵するローカル制御装置(図示しない)は、いずれも中央制御装置51の制御下で、既述のように各々の制御対象を制御する。
【0043】
即ち、中央制御装置51は、ロボット45の可変するサイクルタイム動作を基準に、夫々のローカル制御装置(図示しない)を通じてロボット49のサイクルタイム動作や各キャリア69a〜69gに対する基板53(55)のロード/アンロード、アーム機構63a〜63gの回転や伸縮等の制御を行う。
【0044】
中央制御装置51は、スパッタ装置39のローカル制御装置(図示しない)から基板53(55)が所定枚数供給されていない旨の通知があったときは、スパッタ装置39自身の短いサイクルタイムで運転を継続しつつロボット45からの基板53(55)の取込みをキャンセルすべき旨、上記ローカル制御装置に通知する。これにより、基板53(55)が配置されない状態でアーム機構63a〜63gが1工程分だけ駆動することとなる。
【0045】
このような制御が行われる理由は、本実施形態に係るシステムでは、基板53(55)の脱ガス工程を省いたので、成形工程と成膜工程との間の待機時間を長くとれない(後述するように6分間が限度)ためである。しかも、スパッタ装置39の成膜のサイクルタイム動作の方が、成形機31、33の成形のサイクルタイム動作よりも早いために、仮に成形機31、33からの基板53(55)の所定数の供給が間に合わなくとも、所定数供給されるまでの間運転を継続しつつ、成膜工程を省略しても作業効率の低下を心配する必要がないからである。
【0046】
ここで、成形機31で成形された基板53の成膜条件、及び成形機33で成形された基板55の成膜条件を決定する基礎となる各種データを、図11、図12、及び図13を参照して説明する。上述した成膜条件は、例えば誘電体の膜厚(オングストローム)―反射率(%)特性(図11参照)や、ディスクの記録パワー(mW)―ブロックエラー特性(図12参照)や、ディスクのラジアルコントラスト―反射率(%)(記録パワー(mW))特性(図13参照)等に基づいて決定される。これらについては後に図11〜図14を参照して説明する。
【0047】
図11は、図6で示した4層の薄膜において、第1の誘電体膜81の膜厚を800オングストロームに、記録膜(MO膜)83の膜厚を250オングストロームに、反射膜87の膜厚を500オングストロームに夫々設定して第2の誘電体膜85の膜厚を可変したときの反射率の変化を示す。図から、第2の誘電体膜85の膜厚を厚くするにつれて反射率が次第に低下していくのが分かる。
【0048】
図12は、図6に示す4層の薄膜において、第1の誘電体膜81、記録膜83及び第2の誘電体膜85の膜厚を固定して反射膜87の膜厚を可変したときのブロックエラー(ディスクに記録された情報の再生エラー)の発生数と記録パワー(ディスクへの情報書込みに要する消費電力)との関係を示した図である。即ち、このデータは、第1の誘電体膜81の膜厚を800オングストロームに、記録膜83の膜厚を250オングストロームに、第2の誘電体膜85の膜厚を200オングストロームに夫々設定し、反射膜87の膜厚を450オングストローム、500オングストローム、550オングストロームに可変してブロックエラーの発生数と記録パワー(mW)との関係をサンプリングした結果得られたデータである。
【0049】
図12において、曲線89は、反射膜87の膜厚を450オングストロームに設定したときのブロックエラーの発生数と記録パワーとの関係を示す。また、曲線91は、反射膜87の膜厚を500オングストロームに設定したときのブロックエラーの発生数と記録パワーとの関係を示す。更に、曲線93は、反射膜87の膜厚を550オングストロームに設定したときのブロックエラーの発生数と記録パワーとの関係を示す。
【0050】
ここで、コンパクトディスク(以下、「CD」で表わす)やミニディスク(以下、「MD]で表わす)の場合、ブロックエラーの発生数が220以下であれば実用上問題がないとされる。よって、仮に記録パワーを消費電力節約の面から最小値(以下、「PL」で表わす)としてディスク面上にピットやグルーブを形成するとして、反射膜87の膜厚を450オングストロームに設定したときはPL=3.38mW以上にすれば良いことが図から分かる。また、膜厚を500オングストロームに設定したときはPL=3.51mW以上にすれば良いことが図から分かる。更に、膜厚を550オングストロームに設定したときはPL=3.64mW以上にすれば良いことが図から明らかとなる。なお、図12のデータを得るに当っての測定条件は、半径24mmで、記録磁界の強度が200e(エルステッド)である。
【0051】
図13は、図6に示す4層の薄膜において、各薄膜の膜厚を同一に設定したときの、基板のラジアルコントラストと反射率(%)及びPL(mW)との関係を示した図である。
【0052】
成形機31で成形された基板53と、成形機33で成形された基板55とでは、夫々の成形機で用いられるスタンパが相違し、また、射出成形の転写性も相違する。そのため、上記基板53、55間では、ディスク面(基板面)上に刻まれるピットやグルーブの形状を表わすパラメータの1つであるラジアルコントラストが相違することとなる。このようにラジアルコントラストが相違すると、4層の薄膜の各々の膜厚を同一に設定しても反射率(%)及びPL(mW)の値が相違することとなる。この関係を示したのが図13である。
【0053】
図13において、曲線95は、4層の薄膜の各々の膜厚を同一に設定したときのラジアルコントラストとPL値(mW)との関係を示す。また、曲線97は、4層の薄膜の各々の膜厚を同一に設定したときのラジアルコントラストと反射率(%)との関係を示す。ここで、ラジアルコントラストが高い基板の場合には、PL値を下げて反射率を上げるよう、また、ラジアルコントラストが低い基板の場合には、PL値を上げて反射率を下げるよう、夫々図6で示した第2の誘電体膜85や、反射膜87の膜厚を可変する必要があることが分かる。
【0054】
上述したような観点から、スパッタ装置39のローカル制御装置(図示しない)に記憶される成形機31で成形された基板53の成膜条件と、成形機33で成形された基板55の成膜条件とが決定される。
【0055】
図14は、同一の成形機で成形された基板が成膜工程に移行するまでの待機時間とディスク特性との関係を示す。
【0056】
図14において、曲線99は、基板の上記待機時間と光ディスクの記録信号を評価する標準的な指標であるC/Nとの関係を示す。また、曲線101は、基板の上記待機時間と反射率(%)との関係を示す。この図に示したデータから、本発明者は上記待機時間が6分までなら問題を生じないと判断したものである。なお、図14のデータを得るに当っての測定条件は、記録パワーが4.5mW、記録磁界の強度が3000e(エルステッド)である。
【0057】
次に、上述した中央制御装置51の制御動作を、図15のフローチャートを参照して説明する。
【0058】
まず、ロボット45のローカル制御装置から、コンベア35に基板53が4枚載置されている旨の通知があったかどうかをチェックする(ステップS111)。このチェックの結果、通知があったことを確認すると、ロボット45のローカル制御装置を通じてロボット45を制御し、4枚の基板53をパレット47及びロード/アンロード室57を介してキャリア69a〜69gのいずれかに配置する(ステップS112)。そして、この基板53を成形機31の成膜条件で成膜するよう、スパッタ装置39のローカル制御装置に通知する(ステップS113)。
【0059】
一方、ステップS111でのチェックの結果、通知がなかったことを確認すると、ロボット45のローカル制御装置から、コンベア37に基板55が4枚載置されている旨の通知があったかどうかを改めてチェックする(ステップS114)。このチェックの結果、通知があったことを確認すると、ロボット45のローカル制御装置を通じてロボット45を制御し、4枚の基板55をパレット47及びロード/アンロード室57を介してキャリア69a〜69gのいずれかに配置する(ステップS115)。そして、この基板55を成形機33の成膜条件で成膜するよう、スパッタ装置39のローカル制御装置に通知する(ステップS116)。なお、ステップS114でのチェックの結果、通知がなかったことを確認すると、ステップS111に移行する。
【0060】
以上説明したように、本発明の第1の実施形態によれば、成形機とスパッタ装置との間のラインバランスを良好に保持でき、且つ、成膜条件の相違する基板に対応した成膜を行うことが可能である。
【0061】
図16は、本発明の第1の実施形態のスパッタ装置の変形例を示すブロック図である。
【0062】
本変形例に係るスパッタ装置は、図示のように、ロード室123と、複数のチャンバ125a〜125dと、アンロード室127とが連続した構成の帯状の装置121が用いられる。このスパッタ装置121は、上記各部に加えて、レール129と、ターゲット131a〜131dと、バルブ133a〜133eと、図10に示したような構成の複数のキャリア69a〜69dとを更に備える。
【0063】
レール129は、複数のキャリア69a〜69dをロード室123からチャンバ125a〜125dを通してアンロード室127にガイドすべく敷設されている。ロード室123は、図7で示したパレット47に隣接して設置されている。ロード室123では、パレット47上の基板53(又は55)が、ロード室123内で待機しているキャリア69a〜69d上に配置される。各チャンバ125a〜125dは、真空状態に置かれており、各チャンバ内には、キャリア69a〜69d上の基板53(又は55)に積層状に成膜するために夫々ターゲット131a〜131dが設けられている。更に、各チャンバ125a〜125dの仕切り壁には、キャリア69a〜69dが移動する際に開動作するバルブ133a〜133eが設けられている。アンロード室127では、各チャンバ125a〜125dを経て4層の薄膜が積層状に成膜された基板53(又は55)が、キャリア69a〜69d上から取り外される。
【0064】
図17は、本発明の第2の実施形態に係る光ディスク製造システムの全体構成を示すブロック図である。
【0065】
本実施形態に係るシステムでは、成形機31に対応するコンベア135、成形機33に対応するコンベア137を、夫々4枚の基板53又は55が載置できる大きさのパレット147、149を搬送可能とし、ロボット141、143もパレット147、149を把持可能な構成とした。そして、更にスパッタ装置139のロード/アンロード室(図示しない)についても、パレット147、149の搬入/搬出が可能に構成したものである。上記以外の構成については、図7に示したものと同一であるので、それらの説明は省略する。
【0066】
本実施形態に係るシステムにおいても、第1の実施形態に係るシステムにおけると同様の効果を奏し得るものである。
【0067】
図18は、本発明の第2の実施形態の変形例に係る光ディスク製造システムの各部の制御動作を示すフローチャートである。
【0068】
本変形例では、図17に示したスパッタ装置139側で何らかのトラブルが発生してスパッタ装置139の運転を停止したときでも、成形機31、33、ロボット41、43、141、143、コンベア135、137についてはそのまま運転を継続する制御を行なうこととした。その理由は、スパッタ装置139の運転停止に合せて成形機31、33も運転停止すると、運転停止の前後でディスク基板53、55の特性が微妙に変化し、停止前の状態と同一特性のディスク基板53、55に造り込むには成形機31、33を数10分程度、成形条件の調整運転をする必要が生じるからである。
【0069】
以下、本変形例に係る制御動作を図18を参照して説明する。
【0070】
まず、成形機31、33、ロボット41、43、141、143、コンベア135、137、及びスパッタ装置139を起動し(ステップS131)、スパッタ装置139において何らかのトラブルが発生したか否かをチェックする。このチェックは、スパッタ装置139の各部の状態を検知するためのセンサ群(図示しない)からスパッタ装置139のローカル制御装置(図示しない)を通じて与えられるセンサ情報を中央制御装置145が読込むことによって行なわれる(ステップS132)。このチェックの結果、スパッタ装置139にトラブルが発生したことを確認すると、中央制御装置145は上記ローカル制御装置を介してスパッタ装置139の運転を停止させる。一方、成形機31、33、ロボット41、43、141、143については、そのまま運転を継続させる(ステップS133)。
【0071】
次に、ロボット41(43)によって成形機31(33)から取出され、コンベア135(137)上のパレット147(149)に載置されてからロボット141によってパレット147(149)から取込まれるまでの時間が所定時間を超えたディスク基板53(55)があるか否かをチェックする。本変形例においては、この所定時間は6分間に設定されている。このチェックは、ロボット41(43)、141の状態を検知するセンサ群から各ロボットのローカル制御装置(図示しない)を通じて与えられるセンサ情報を中央制御装置145が読込むことによって行なわれる(ステップS134)。このチェックの結果、上記所定時間を超えたディスク基板53(55)があることを確認すると、ロボット141のローカ制御装置(図示しない)を介してロボット141を制御し、上記ディスク基板53(55)をスパッタ装置139以外の箇所に運ばせる(ステップS136)。
【0072】
ステップS134でのチェックの結果、上記所定時間を超えたディスク基板53(55)が無いことを確認すると、パレット147(149)上に滞留しているディスク基板53(55)の枚数が所定枚数を超えたか否かをチェックする。本変形例においては、この所定枚数は10〜20枚程度に設定されている。このチェックは、例えばロボット141のローカル制御装置から与えられるディスク基板53(55)取込数データと、ロボット41(43)のローカル制御装置から与えられるディスク基板53(55)取出数データとを中央制御装置145が読込んで両者の差分を求めることによって行なわれる(ステップS135)。このチェックの結果、上記所定枚数を超えたディスク基板53(55)があることを確認すると、ロボット143を制御し、上記ディスク基板53(55)をスパッタ装置139以外の箇所に運ばせる(ステップS136)。
【0073】
このようにして、スパッタ装置139以外の箇所に運ばれたディスク基板53(55)に対しスパッタ装置139による成膜を実施する場合には、これらディスク基板53(55)を脱ガス工程にかけた後に(ステップS137)、スパッタ装置139のトラブルが解消したか否かをチェックする(ステップS138)。このチェックの結果、解消したと判断した場合には、スパッタ装置139を再起動し、上記ディスク基板53(55)をスパッタ装置139に運ぶ(ステップS139)。ここで、スパッタ装置139以外の箇所に運ばれたディスク基板53(55)に対し成膜を実施しない場合には、これらディスク基板53(55)に対し廃棄処理を行なうこととなる(ステップS140)。なお、ステップS132において、スパッタ装置139にトラブルが発生していないことを確認すると、通常の処理動作が実行される(ステップS141)。
【0074】
上述した制御を行なうことにより、スパッタ装置139側でトラブルが発生しても成形機31、33側を連続運転したまま、脱ガス工程が必要なディスク基板53(55)(即ち、上記所定時間又は所定枚数を超えたディスク基板53(55))と不必要なディスク基板53(55)とを分離することが可能となる。なお、ここでの所定時間と所定枚数については、夫々の光ディスク製造システム毎に決められるものであるが、本変形例の光ディスク製造システムにおいては、所要時間を約6分に、所要枚数を10から20枚程度に設定した。
【0075】
上述した内容はあくまで本発明の各実施形態に関するものであって、本発明が上記内容のみに限定されるものであることを意味しないのは勿論である。例えば上記各実施形態では、キャリア69a〜69gに配置される基板53(55)の数を4個にして説明したが、4個のみに限定されるものではなく、3個であってもよい。また、成形機31(33)やコンベア35(37)、135(137)の設置台数も2台に限定されない。
【0076】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、成形機とスパッタ装置との間のラインバランスを良好に保持でき、且つ、成膜条件の相違する基板に対応した成膜を行うことが可能な光ディスク製造システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の光ディスク製造システムのブロック図。
【図2】従来のスパッタ装置のキャリアを示す説明図。
【図3】図2と別の従来のスパッタ装置のキャリアを示す説明図。
【図4】従来のスパッタ装置のコンパクト化されたキャリアを示す説明図。
【図5】図4のキャリアにおいて規格外のディスクが製造される理由を示す説明図。
【図6】本発明に従う光ディスク製造システムのスパッタ装置により成膜された後の基板の断面構造を示す図。
【図7】本発明の第1の実施形態の光ディスク製造システムのブロック図。
【図8】図7のスパッタ装置の概要を示すブロック図。
【図9】図7のスパッタ装置の概要を示すブロック図。
【図10】図7のスパッタ装置が備える、基板が4枚配置されたキャリアを示す図。
【図11】誘電体膜の膜厚―反射率特性を示す図。
【図12】反射膜の膜厚のみを可変したときのブロックエラーの発生数と記録パワーとの関係を示した図。
【図13】ラジアルコントラストと、反射率及び記録パワー特性を示す図。
【図14】同一成形機からの基板が成膜されるまでの待機時間とディスク特性との関係を示す図。
【図15】図7の中央制御装置の制御動作のフローチャート。
【図16】第1の実施形態のスパッタ装置の変形例のブロック図。
【図17】第2の実施形態の光ディスク製造システムのブロック図。
【図18】第2の実施形態の変形例に係る光ディスク製造システムの各部の制御動作のフローチャート。
【符号の説明】
31、33 成形機
35、37、135、137 コンベア
39、139 スパッタ装置
41、43、45、49、141、143 ロボット
47、147、149 パレット
51、145 中央制御装置
53、55 基板
57 ロード/アンロード室
59 搬送室
61 真空チャンバ
63 アーム機構
65 ターゲット
69 キャリア
75 直流電源
Claims (3)
- 各々固有のサイクルタイムで駆動して与えられた成形材料をディスク基板に成形する複数の成形機と、
前記各成形機に設けられ、対応する成形機で成形されたディスク基板を前記各成形機から取出す複数のディスク基板取出装置と、
前記各ディスク基板取出装置に設けられ、対応するディスク基板取出装置で取出されたディスク基板を搬送する複数の搬送装置と、
前記各搬送装置で搬送中のディスク基板を、夫々の搬送装置に対応する成形機のサイクルタイムに同期して所定数ずつ取出す取出装置と、
前記取出装置から供給されるディスク基板を、前記取出装置のサイクルタイムに同期して受け入れることにより、同一の成形機で成形された複数枚のディスク基板を纏めて取込み、前記成形機毎に決められた成膜条件に基づいて前記ディスク基板に成膜するスパッタ装置と、
を備えることを特徴とする光ディスク製造システム。 - 請求項1記載の光ディスク製造システムにおいて、
前記スパッタ装置の単位時間当りのディスク基板処理能力は、前記各成形機の単位時間当りのディスク基板処理能力より多く設定されており、前記スパッタ装置は、前記取出装置からのディスク基板の供給数が所定枚数に満たない間は、前記単位時間当りのディスク基板処理能力に従って運転を継続しつつ前記取出装置からのディスク基板の取込みをキャンセルすることを特徴とする光ディスク製造システム。 - 請求項1記載の光ディスク製造システムにおいて、
前記各成形機から前記ディスク基板取出装置がディスク基板を取出してから、前記各搬送装置で搬送し、前記取出装置が前記ディスク基板を取込むまでの時間が所定時間を超えた時、或いは、前記各搬送装置に滞留する前記ディスク基板の枚数が所定枚数を超えた時には、前記所定時間を超えた前記ディスク基板、或いは、前記所定枚数を超えた前記ディスク基板を、前記取出装置によって通常の取込む場所とは別の場所に取込むことを特徴とする光ディスク製造システム。
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