JPH0997456A - 光記録媒体の製造方法および製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板やディスクの１枚中における冷却の均一
化をはかるとともに、連続的に成形される基板間の機械
特性のばらつきを低減する。 【解決手段】 光記録媒体のディスクを冷却するに際
し、冷却風をディスクの内周側から外周側に向けて流す
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法、光記録媒体の
ディスク面と冷却風との間にディスク周方向の相対回転
速度を付与しながら冷却風によりディスクを冷却するこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法、および製造装
置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
方法および製造装置に関し、とくに光記録媒体のディス
クを均一に冷却するための方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体は、ディスク基板上に光学的
に記録再生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等の
ファイル用ディスクとして用いられている。光記録媒体
を高速で回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレー
ザ光を照射し、焦点調整および位置検出を行いながら、
記録層からデータを読み出したり記録層にデータを記録
したりしている。この記録層を、レーザ光により結晶と
アモルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成
し、オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒
体も既に知られている。

【０００３】このような光記録媒体の製造においては、
たとえばプラスチックからなるディスク基板を成形した
後、該基板上に記録層等の層をスパッタリングや真空蒸
着等により膜付け（成膜）した後、あるいは、該成膜後
さらにその上にオーバコート等を施した後のアニール後
などに、基板やディスクの冷却工程が設けられている。
たとえば成形後の基板の冷却は、基板をたとえば射出成
形した後、該成形基板にファン等によって冷却風を基板
面に向けて吹き付けることにより行われていた。また、
基板は成形機により連続的に成形されるので、成形機か
ら取り出された基板を、２０〜３０枚程度収容可能なた
て置き集合式容器に収納し、容器が満杯になるとそれを
空冷手段等に送って、そこで所定温度以下まで冷却する
ようにしていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
に、基板あるいはディスクを、単にファン等でディスク
面に冷却風を吹き付ける冷却方法では、均一に冷却する
ことが困難な場合がある。たとえば、成形後の基板は、
一般に内周側がより高温に、外周側がより低温になって
いる。このような温度勾配のある状態で、単に基板上方
から冷却風を吹き付けるだけでは、基板全体にわたって
均一に冷却することは難しい。冷却が均一でないと、所
定温度以下にまで冷却成形された基板に歪が残り、面反
り等の特性を悪化させ、高速回転状態で使用される光記
録媒体の性能を低下させる原因となる。

【０００５】また、成形後の基板をたて置き集合式容器
に収納した状態で冷却する方法においては、通常基板間
隔が５ｍｍ程度とそれ程大きくないので、基板間に熱が
こもり、２０〜３０枚程度配列されている基板のうち、
配列方向の端の方に位置する基板と中央部に位置する基
板とでは、冷却条件が異なってくる。そのため面反り等
のレベルの異なる基板が作製され、その分機械特性がば
らついてしまう。

【０００６】本発明の第１の課題は、まず、基板やディ
スクの１枚中における冷却の均一化をはかることにあ
る。

【０００７】また本発明の第２の課題は、連続的に成形
される各基板間に冷却条件の差をなくし、基板間の機械
特性のばらつきを低減することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記二つの課題を解決す
るために、本発明に係る光記録媒体の製造方法は、光記
録媒体のディスクを冷却するに際し、冷却風をディスク
の内周側から外周側に向けて流すことを特徴とする方法
からなる。

【０００９】また、本発明に係る光記録媒体の製造方法
は、光記録媒体のディスク面と冷却風との間にディスク
周方向の相対回転速度を付与しながら冷却風によりディ
スクを冷却することを特徴とする方法からなる。この方
法は、たとえば、ディスクを回転させながら冷却風によ
り冷却する方法、あるいは、ディスクは実質的に静止さ
せておき、ディスクに対向する位置からディスク面上に
向けて、ディスク周方向に旋回する方向に流れる冷却風
を供給する方法によって実施できる。

【００１０】また、本発明に係る光記録媒体の製造方法
は、光記録媒体を重力の加速度または運動の加速度の方
向に対して平行な方向に保持しながら冷却風により冷却
することを特徴とする方法からなる。

【００１１】これらの方法においては、ディスクの片面
のみを冷却することもできるが、ディスク両面を冷却風
により冷却することがより好ましい。

【００１２】また、上記冷却風には、湿度６０％以下、
より好ましくは４０％以下の気体、あるいは０．５μｍ
以上の粒子の混入率が１００，０００個／ｍ³ 以下の清
浄な気体を用いることが好ましい。

【００１３】さらに、本発明においては、上記ディスク
として、成形後の基板、該基板上に成膜されたディス
ク、保護コートを施した後のディスク、さらにはその後
にアニールを施したディスク等の、冷却が要求される光
記録媒体製造工程における中間製品形態の全てのものを
対象とする。また、上記各製造方法においては、さらに
光記録媒体を追冷却してもよい。

【００１４】また、前記第２の課題をより確実に解決す
るために、本発明に係る光記録媒体の製造方法は、連続
的に成形される光記録媒体のプラスチック基板を、成形
直後に、基板を重力の加速度または運動の加速度の方向
に対して平行な方向に保持しながら基板の最高温部位の
温度が所定温度以下になるまで一次冷却し、その後目標
温度まで二次冷却することを特徴とする方法からなる。

【００１５】上記において、基板がプラスチック製、た
とえばポリカーボネート製である場合、上記所定温度以
下とは７０℃以下、より好ましくは５０℃以下であるこ
とが望ましい。また、上記「運動」とは、たとえば、基
板に公転に近い動きを付与する場合などである。

【００１６】さらに、本発明に係る光記録媒体の製造装
置は、光記録媒体のディスクの内周側から外周側に向け
て冷却風を流す手段を有していることを特徴とするもの
からなる。

【００１７】また、本発明に係る光記録媒体の製造装置
は、光記録媒体のディスク面上に冷却風を供給する手段
とともに、ディスクを回転させる手段を有していること
を特徴とするものからなる。

【００１８】また、本発明に係る光記録媒体の製造装置
は、光記録媒体のディスク面上にディスク周方向に旋回
しながらディスク面に向かう方向に流れる冷却風を供給
する手段を有していることを特徴とするものからなる。

【００１９】さらに、本発明に係る光記録媒体の製造装
置は、光記録媒体の基板を連続的に成形する成形機と、
該成形機から取り出された基板を実質的に重力の加速度
または運動の加速度の方向に対して平行な方向に保持す
る基板保持手段と、保持された基板に冷却風を供給する
第１の空冷手段と、第１の空冷手段により空冷された基
板を搬送する搬送手段と、該搬送手段により搬送される
各基板を所定温度以下まで空冷する第２の空冷手段と、
を有することを特徴とするものからなる。

【００２０】上記のような光記録媒体の製造方法および
製造装置においては、冷却風がディスクの内周側から外
周側に向けて流されることにより、径方向における温度
むらや温度勾配が修正されるように冷却され、均一な冷
却が可能となる。また、前述の如く、成形直後の基板の
ように内周側が高温サイド、外周側が低温サイドとなる
温度勾配がある場合には、高温サイドから冷却され、そ
の冷却風がつづいて低温サイドの冷却に利用されること
になるので、一層効率のよい均一冷却が可能となる。さ
らに、前述のような冷却方法によって１枚ずつ冷却すれ
ば、各基板が実質的に同じ条件で冷却されて、基板間の
機械特性のばらつきが大幅に低減される。

【００２１】また、ディスクを回転させるか、あるいは
ディスクは静止しているが旋回する冷却風を供給するこ
とにより、冷却対象となるディスク面と冷却風との間に
はディスク周方向の相対回転速度成分が生じるので、径
方向のみならず、ディスク周方向についても均一な冷却
が可能となる。また、前述のような冷却方法によって１
枚ずつ冷却すれば、各基板が実質的に同じ条件で冷却さ
れて基板間の機械特性のばらつきが大幅に低減される。
さらにはディスクを回転させる場合、ディスクの上、下
面から均等に空気の抵抗を受けるため、遠心力によりデ
ィスクを平坦にしようとする力が働く。この結果基板の
反り等も改善されつつ、冷却されるという効果もある。

【００２２】さらに、連続的に成形される基板を、成形
機から取り出した直後に重力の加速度または運動の加速
度に対して平行な方向、たとえば実質的に鉛直姿勢に保
持して一旦空冷することにより、成形直後の軟らかい基
板であっても両面から容易に略均一に空冷することがで
きる。そしてこの空冷によってある程度温度が低下した
基板を、１枚ずつ、たとえば前述のような冷却方法によ
って冷却することにより、確実に所定温度以下まで均一
に冷却することが可能となる。１枚ずつの冷却であるか
ら、従来のたて置き集合式容器に多数の基板を収納した
場合に熱がこもるという問題が生じることもなく、各基
板が実質的に同じ条件で冷却されて、基板間の機械特性
のばらつきが大幅に低減される。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態について、図面を参照して説明する。図１および図
２は、本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装置
を示しており、とくに本発明を基板成形後の基板冷却工
程に適用した場合を示している。

【００２４】図において、１は、プラスチック、たとえ
ばポリカーボネートからなる光記録媒体用の基板で、成
形（たとえば射出成形）直後のものを示している。成形
された基板１は、その中心部において、基板支持体２に
支持されている。基板１の支持姿勢は、図示の如き水平
支持であってもよいし、垂直状態に支持してもよい。

【００２５】基板支持体２には、冷却風（矢印）を基板
１の内周側から外周側に向けて吹き出す冷却風吹出口３
ａ、３ｂが設けられている。本実施態様では、冷却風吹
出口３ａ、３ｂは、基板１の上面側と下面側との両面側
に設けられており、それぞれ、周方向に複数配設されて
いる。片面冷却のみ要求される場合には、冷却風吹出口
を片面に対して設ければよい。

【００２６】各冷却風吹出口３ａ、３ｂには、基板支持
体２中に穿設された送気孔４を通して、冷却用気体圧送
手段５から冷却用気体が送給され、各冷却風吹出口３
ａ、３ｂから冷却風として基板１の両面に径方向外側に
向けて吹き出される。また基板支持体２の基板支持面２
ａには、図示を省略したが、ディスクを真空吸着保持す
るための吸着孔が設けられており、吸着孔には減圧源、
または真空源が接続されている。

【００２７】冷却用気体としては、とくに限定されない
が、たとえば空気や不活性ガス、あるいはこれらの混合
気体を用いることができる。基板１がプラスチックの場
合、吸湿しやすいので、冷却風の湿度を十分に低くして
おくことが好ましい。好ましくは湿度６０％以下、より
好ましくは４０％以下に保っておく。また、光記録媒体
は、製造のいずれの段階においても異物を極力少なく保
つ必要があることから、冷却風中の異物（粒子）も極力
少ない方が好ましい。たとえば、０．５μｍ以上の粒子
の混入率が１００，０００個／ｍ³ 以下の気体であるこ
とが好ましい。この粒子の混入率は、パーティクルカウ
ンタで容易に測定できる。

【００２８】上記のように構成された装置においては、
基板１は、成形された後、冷却風吹出口３ａ、３ｂから
吹き出される冷却風によって冷却される。冷却風は図２
に示すように基板１の径方向に流れるので、たとえ基板
１の径方向において温度むらや温度勾配がある場合にあ
っても、上記流れによって、それらが是正されつつ冷却
され、均一な冷却が可能となる。

【００２９】とくに、成形直後の基板１は、通常、内周
側が高温サイド、外周側が低温サイドの温度勾配をもっ
ているので、これが是正されるように、つまり高温側か
ら効率よく冷却される。したがって、内外周部位が、温
度および冷却過程が均一化されるように冷却され、冷却
後の基板１の面反り等が小さく抑えられ、基板１内にお
ける機械特性のばらつきが抑制される。

【００３０】さらに、本実施態様では、上記の均一冷却
が基板１の両面において行われるので、基板両面とも均
一にかつ効率よく冷却されることになり、一層均一な機
械特性が得られる。

【００３１】図３ないし図５は、本発明の別の実施態様
に係る光記録媒体の製造装置を示している。図３に示す
実施態様においては、図１に示した装置に、基板１を回
転させるため、基板支持体２に回転駆動手段６を連結し
たものである。基板１を回転させることにより、冷却風
吹出口３ａ、３ｂから径方向外側に向けて吹き出された
冷却風は、基板面に対し相対的に旋回されることにな
り、径方向のみならず、周方向においても均一冷却が可
能となる。

【００３２】この旋回方向に流れる冷却風による均一冷
却は、単に基板を回転させるだけでも可能である。たと
えば図４に示すように、基板１０の片面あるいは両面に
対向させて冷却風を供給するファン１１を設け、基板１
０を回転駆動手段１２により回転させるようにすれば、
基板面に向けて吹き付けられる冷却風に基板周方向に相
対回転速度を付与することができ、少なくとも基板周方
向における冷却が均一化される。

【００３３】また、この作用、効果は、冷却風が旋回流
成分をもてば得られるものであるから、たとえば図５に
示すように、基板２０は静止させておき、基板２０の片
面あるいは両面に対向させて、回転駆動される羽根車２
１を基板２０と実質的に同心に配置し、羽根車２１から
供給される冷却風によっても達成できる。

【００３４】図６は、本発明のさらに別の実施態様に係
る光記録媒体の製造装置を示しており、とくに成形直後
の基板の冷却システムの一例を示している。

【００３５】図において、３０は成形機、たとえば射出
成形機を示しており、成形機３０により基板３１が順次
連続的に成形される。成形機３０から取り出された基板
１は、基板保持手段３２によって実質的に鉛直姿勢に保
持され、第１の空冷手段３３ａ、３３ｂからの冷却風に
よって空冷される。この基板保持手段としては、例えば
図１に示すような基板内径部分で保持する方法などが可
能である。この第１の空冷手段３３ａ、３３ｂには、前
述の図１、図３、図４、図５に示したような冷却手段を
適用してもよいし、単なる冷却風供給用ファンであって
もよい。また、基板上の静電気を除去するため、供給す
る冷却風は適当な除電装置を通したものであることが好
ましい。

【００３６】成形機３０から取り出した直後の基板３１
は、まだ高温で軟かく、取扱いが難しいが、上記のよう
に成形機３０からのそのまま垂直姿勢で取り出して保持
することにより、何ら不都合を生じることなく、容易に
両面から所望の冷却を行うことができる。

【００３７】上記第１の空冷手段３３ａ、３３ｂによっ
て一旦冷却され、ある程度の低温まで冷却された基板３
１は、１枚ずつ、搬送手段３４に移載される。搬送手段
３４は、たとえばコンベア形式のものからなり、各基板
３１を１枚ずつ所定方向に搬送する。このような枚葉式
コンベアからなる搬送手段３４によって搬送される各基
板３１は、第２の空冷手段３５ａ、３５ｂに送られ、そ
こで所定温度（たとえば７０℃）以下にまで空冷され
る。

【００３８】第２の空冷手段３５ａ、３５ｂには、前記
第１の空冷手段と同様、図１、図３、図４、図５に示し
たような冷却手段を適用してもよいし、単なる冷却風供
給用ファンであってもよい。

【００３９】第２の空冷手段３５ａ、３５ｂにより、各
基板３１は１枚ずつ確実に冷却される。従来の立て置き
集合式容器のような、基板間に熱がこもる問題がないの
で、各基板３１の冷却条件、冷却過程は実質的に同一に
なり、基板間における冷却のばらつきは生じない。その
結果、冷却後の各基板の機械特性のばらつきが大幅に低
減される。

【００４０】上記方法の効果を確認するために、次のよ
うな試験を行った。平均分子量が１５０００のポリカー
ボネートのオプチカルグレードを使用し、直径１２０ｍ
ｍ、肉厚０．６ｍｍの光記録媒体基板を、７５ｔの射出
成形機で、シリンダー温度３５０℃、金型温度１３０
℃、成形サイクル２５秒の条件で射出成形した。得られ
た基板の機械特性を測定したところ、表１のようになっ
た。

【００４１】

【表１】

【００４２】以上のように、従来の方法（比較例１）に
比べ本発明の方法（実施例１〜４）はいずれもディスク
の面反りが小さく、かつ、ばらつきが小さかった。ま
た、実施例１および２においては、ディスクを個別に冷
却するためタクトタイムが短くできる。また、実施例３
および４では二次冷却を利用することにより、面反りの
出やすい成形直後の状態で個別に内周から外周に向けて
送風しながら冷却し、しかる後に別途室温近くの目標温
度（３０℃）に冷却するためさらにタクトが早く、しか
も、面反りを小さくできた。なお、一次冷却後のディス
クの最高温部位の温度は７０℃であった。この程度まで
一次冷却しておくと、その後の反りの発生がきわめて小
さく、二次冷却を集合式で行っても面反りを小さくでき
る。

【００４３】なお、上記図１〜図５に示した各実施態様
では、基板成形後に該成形基板を冷却する場合について
説明したが、本発明はこれに限らず、光記録媒体製造工
程において基板やディスクの冷却を要する全ての工程に
適用可能である。たとえば、基板上に記録層等の成膜が
行われたディスクの冷却、さらには、その後の工程でデ
ィスクのアニールを行った後の冷却、等にも適用でき
る。

【００４４】また、本発明においては、光記録媒体自身
の構成は特に限定されるものではないが、その一例につ
いて説明しておく。本発明に係る光記録媒体の形式とし
ては特に限定されないが、たとえば相変化型光記録媒体
を対象とすることができる。相変化型光記録媒体は、通
常透明な基板上に記録層を設けたものであり、記録層構
成に、レーザ光により結晶とアモルファスとの可逆変化
が可能な特定の金属が用いられている。基板上の層構成
としては、たとえば、透明な基板上に、少なくとも第１
保護層／記録層／第２保護層／反射層を有する層構成と
することができる。これらの各層形成後に、さらにオー
バーコート層を設けることができる。また、各層形成前
の基板の反記録面側には、ハードコート層を設けること
ができる。

【００４５】相変化型光記録媒体の記録層には、たとえ
ば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにＴｅ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。これら合金
を、基板上に設けられた第１保護層上に、たとえばスパ
ッタリングで膜付けし、記録層が形成される。

【００４６】第１保護層および第２保護層は、記録層を
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ₂ などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ₂ およびＺｎＳとＭｇＦ₂ の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。

【００４７】反射層としては、金属または、金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。

【００４８】基板上に、第１保護層、記録層、第２保護
層、反射層を形成する方法としては、真空（減圧）雰囲
気中での薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真
空蒸着法、イオンプレーティング法などを用いることが
できる。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことか
らスパッタリング法が好ましい。

【００４９】基板としては、基板側から記録再生を行う
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。

【００５０】基板は、円盤体に成形されるものである。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。

【００５１】基板の大きさは、光記録媒体ドライブ装置
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍ、１３０ｍｍの基板に成形するこ
となどが規定される。

【００５２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の製造方法および製造装置によるときは、ディスクに
対して内周側から外周側への径方向の流れる、あるいは
周方向の旋回流の冷却風を供給することにより、ディス
ク１枚中における冷却を均一化することができ、機械特
性が均一で安定した光記録媒体を得ることができる。

【００５３】また、成形後の基板を集合状態ではなく１
枚ずづ冷却することにより、各基板間に冷却条件の差を
なくして、基板間の機械特性のばらつきを低減すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装
置の概略構成図である。

【図２】図１の基板の平面図である。

【図３】本発明の別の実施態様に係る光記録媒体の製造
装置の概略構成図である。

【図４】本発明のさらに別の実施態様に係る光記録媒体
の製造装置の概略構成図である。

【図５】本発明のさらに別の実施態様に係る光記録媒体
の製造装置の概略構成図である。

【図６】本発明のさらに別の実施態様に係る光記録媒体
の製造装置の概略構成図である。

【符号の説明】

１、１０、２０、３１ 基板 ２ 基板支持体 ２ａ 基板支持面 ３ａ、３ｂ 冷却風吹出口 ４ 送気孔 ５ 冷却用気体圧送手段 ６、１２ 回転駆動手段 １１ ファン ２１ 羽根車 ３0 成形機 ３２ 基板保持手段 ３３ａ、３３ｂ 第１の空冷手段 ３４ 搬送手段 ３５ａ、３５ｂ 第２の空冷手段 ３６ 空冷室

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光記録媒体のディスクを冷却するに際
   し、冷却風をディスクの内周側から外周側に向けて流す
   ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 光記録媒体のディスク面と冷却風との間
   にディスク周方向の相対回転速度を付与しながら冷却風
   によりディスクを冷却することを特徴とする光記録媒体
   の製造方法。
3. 【請求項３】 光記録媒体を重力の加速度または運動の
   加速度の方向に対して平行な方向に保持しながら冷却風
   により冷却することを特徴とする光記録媒体の製造方
   法。
4. 【請求項４】 ディスク両面を冷却風により冷却する、
   請求項１ないし３のいずれかに記載の光記録媒体の製造
   方法。
5. 【請求項５】 前記冷却風に、湿度６０％以下の気体あ
   るいは０．５μｍ以上の粒子の混入率が１００，０００
   個／ｍ³ 以下の気体を用いる、請求項１ないし４のいず
   れかに記載の光記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 前記光記録媒体が、成形後の基板、該基
   板上に成膜された媒体、さらにアニールを施した媒体の
   いずれかである、請求項１ないし５のいずれかに記載の
   光記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 さらに光記録媒体を追冷却することを特
   徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の光記録媒
   体の製造方法。
8. 【請求項８】 連続的に成形される光記録媒体のプラス
   チック基板を、成形直後に、基板を重力の加速度または
   運動の加速度の方向に対して平行な方向に保持しながら
   基板の最高温部位の温度が７０℃以下になるまで一次冷
   却し、その後目標温度まで二次冷却することを特徴とす
   る光記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】 光記録媒体のディスクの内周側から外周
   側に向けて冷却風を流す手段を有していることを特徴と
   する光記録媒体の製造装置。
10. 【請求項１０】 光記録媒体のディスク面上に冷却風を
    供給する手段とともに、ディスクを回転させる手段を有
    していることを特徴とする光記録媒体の製造装置。
11. 【請求項１１】 光記録媒体のディスク面上にディスク
    周方向に旋回しながらディスク面に向かう方向に流れる
    冷却風を供給する手段を有していることを特徴とする光
    記録媒体の製造装置。
12. 【請求項１２】 光記録媒体の基板を連続的に成形する
    成形機と、該成形機から取り出された基板を実質的に重
    力の加速度または運動の加速度の方向に対して平行な方
    向に保持する基板保持手段と、保持された基板に冷却風
    を供給する第１の空冷手段と、第１の空冷手段により空
    冷された基板を搬送する搬送手段と、該搬送手段により
    搬送される各基板を所定温度以下まで空冷する第２の空
    冷手段と、を有することを特徴とする光記録媒体の製造
    装置。