JPH06267116A - 光ディスク作製方法及びその装置 - Google Patents
光ディスク作製方法及びその装置Info
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- JPH06267116A JPH06267116A JP5454993A JP5454993A JPH06267116A JP H06267116 A JPH06267116 A JP H06267116A JP 5454993 A JP5454993 A JP 5454993A JP 5454993 A JP5454993 A JP 5454993A JP H06267116 A JPH06267116 A JP H06267116A
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- Japan
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- disk
- temperature
- cooling
- optical
- disc
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 成形から保護膜形成までの一連の光ディスク
の作製工程において、成形機の金型から取り出したディ
スクを常に一定の低い温度の状態で薄膜ならびに保護膜
の形成が行えるようにすることにより、光ディスクの反
り量を常に小さくする事が出来、従って常に高精度で高
品質の光ディスクを作製出来るようにする。 【構成】 光ディスクの作製工程において、各装置間で
同期をかけ全ての装置を連動動作するようにするととも
に、成形機から取り出したディスクの温度を測定しなが
ら冷却用のエアーあるいはガス等を吹き付け、予め設定
した温度になるまで冷却し、冷却後すぐに薄膜ならびに
保護膜形成出来るようにするものである。
の作製工程において、成形機の金型から取り出したディ
スクを常に一定の低い温度の状態で薄膜ならびに保護膜
の形成が行えるようにすることにより、光ディスクの反
り量を常に小さくする事が出来、従って常に高精度で高
品質の光ディスクを作製出来るようにする。 【構成】 光ディスクの作製工程において、各装置間で
同期をかけ全ての装置を連動動作するようにするととも
に、成形機から取り出したディスクの温度を測定しなが
ら冷却用のエアーあるいはガス等を吹き付け、予め設定
した温度になるまで冷却し、冷却後すぐに薄膜ならびに
保護膜形成出来るようにするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオディスク、ディ
ジタルオーディオディスク、静止画、文書ファイルなど
の光ディスクを作製するための光ディスク作製方法に関
するものである。
ジタルオーディオディスク、静止画、文書ファイルなど
の光ディスクを作製するための光ディスク作製方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に光ディスクは、その情報密度が極
めて大きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きくノイズが少ないこ
と等から情報媒体として有望視され、コンパクトディス
クやビデオディスクとして商品化され、ディジタル信号
記録および再生する光ディスクとしても近年研究開発が
行なわれている。
めて大きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きくノイズが少ないこ
と等から情報媒体として有望視され、コンパクトディス
クやビデオディスクとして商品化され、ディジタル信号
記録および再生する光ディスクとしても近年研究開発が
行なわれている。
【０００３】以下、図面を参照しながら上述した従来の
光ディスク作製方法について説明する。図７は光ディス
ク作製方法を示す光ディスク断面図、図８は従来の一般
的な光ディスクの作製方法を示すブロック図、図９は従
来の光ディスク作製工程に用いるディスク保管用ポール
の断面図である。図７および図９において、１は信号を
有しディスクの金型となるスタンパー、２は射出成形や
射出圧縮成形によりスタンパーより複製されたディスク
基板、３はディスク基板の信号面上に形成された記録あ
るいは反射用の薄膜、４は薄膜を傷や酸化から保護する
ための保護膜、５はディスク、６はディスクを一時的に
保管するためのディスク保管用ポールである。また、図
７において、ａ〜ｄは各々の工程におけるディスクの断
面図である。光ディスクを作製するには、一般に図７に
示すように、まず成形工程ｂにおいてスタンパー１と呼
ばれる信号を有した金型を成形機に取付け、射出や射出
・圧縮等の成形を行うことにより、信号を有したディス
ク基板２を作製する。次に、薄膜形成工程ｃにおいてデ
ィスク基板２の信号面上にスパッタ法あるいは蒸着法に
より記録あるいは反射用の薄膜を形成し、更にその上に
保護膜形成工程ｄにおいて傷および酸化防止のための保
護膜４を形成して光ディスクが出来上がるものである。
上記の様な光ディスク作製工程において各装置間には、
図８に示すようなディスク滞留のためのバッファが設け
られ、常にこのバッファを介して次の処理工程に送られ
る。これは、各工程間で図９に示す様なディスク保管ポ
ール６に一時的に光ディスク５を滞留し、光ディスクが
保管ポール６に満杯になるかあるいは何個かの保管ポー
ルが満杯になった時点でディスク５を保管ポール６ごと
次の処理工程に送るものである。また、この光ディスク
の保管ポール６へ一次的な滞留は、成形工程で取り出し
機により成形機の金型から１００度近い温度の状態で取
り出されたディスクを常温まで冷却する機能も兼ねてい
る。これは、成形機の金型から取り出されたディスクの
反り量がディスクの温度変化と共に大きく変化するため
であり、従って反り量が小さく安定した光ディスクを作
製するには、ディスクの温度を一度下げなければならな
いからである。また、ディスクの温度が６０度以上の状
態で保護膜の材料である紫外線硬化樹脂を塗布すると、
ディスクが紫外線硬化樹脂により変質するために、一度
保管ポールでディスクの温度で下げる必要があるからで
ある。
光ディスク作製方法について説明する。図７は光ディス
ク作製方法を示す光ディスク断面図、図８は従来の一般
的な光ディスクの作製方法を示すブロック図、図９は従
来の光ディスク作製工程に用いるディスク保管用ポール
の断面図である。図７および図９において、１は信号を
有しディスクの金型となるスタンパー、２は射出成形や
射出圧縮成形によりスタンパーより複製されたディスク
基板、３はディスク基板の信号面上に形成された記録あ
るいは反射用の薄膜、４は薄膜を傷や酸化から保護する
ための保護膜、５はディスク、６はディスクを一時的に
保管するためのディスク保管用ポールである。また、図
７において、ａ〜ｄは各々の工程におけるディスクの断
面図である。光ディスクを作製するには、一般に図７に
示すように、まず成形工程ｂにおいてスタンパー１と呼
ばれる信号を有した金型を成形機に取付け、射出や射出
・圧縮等の成形を行うことにより、信号を有したディス
ク基板２を作製する。次に、薄膜形成工程ｃにおいてデ
ィスク基板２の信号面上にスパッタ法あるいは蒸着法に
より記録あるいは反射用の薄膜を形成し、更にその上に
保護膜形成工程ｄにおいて傷および酸化防止のための保
護膜４を形成して光ディスクが出来上がるものである。
上記の様な光ディスク作製工程において各装置間には、
図８に示すようなディスク滞留のためのバッファが設け
られ、常にこのバッファを介して次の処理工程に送られ
る。これは、各工程間で図９に示す様なディスク保管ポ
ール６に一時的に光ディスク５を滞留し、光ディスクが
保管ポール６に満杯になるかあるいは何個かの保管ポー
ルが満杯になった時点でディスク５を保管ポール６ごと
次の処理工程に送るものである。また、この光ディスク
の保管ポール６へ一次的な滞留は、成形工程で取り出し
機により成形機の金型から１００度近い温度の状態で取
り出されたディスクを常温まで冷却する機能も兼ねてい
る。これは、成形機の金型から取り出されたディスクの
反り量がディスクの温度変化と共に大きく変化するため
であり、従って反り量が小さく安定した光ディスクを作
製するには、ディスクの温度を一度下げなければならな
いからである。また、ディスクの温度が６０度以上の状
態で保護膜の材料である紫外線硬化樹脂を塗布すると、
ディスクが紫外線硬化樹脂により変質するために、一度
保管ポールでディスクの温度で下げる必要があるからで
ある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、処理が各工程毎に区切られており、バッ
ファとなる保管ポールに、かなりの枚数のディスクが滞
留した状態になってしまう。従って、この状態では成形
から取り出され次の薄膜形成工程や保護膜形成工程に供
給するまでの時間がディスクによってかなり違ってくる
ため、薄膜形成や保護膜形成時のディスクの温度にかな
りの違いが発生し、従って光ディスク完成時の反り量が
ディスク間で大きくばらつく。また、成形直後のディス
クは温度が高く、帯電量が非常に大きいため、保管ポー
ルでの滞留中に周囲のホコリ等が付着し品質の劣化を起
こし易く、また操作性ならびに取扱いが非常に難しい。
うな構成では、処理が各工程毎に区切られており、バッ
ファとなる保管ポールに、かなりの枚数のディスクが滞
留した状態になってしまう。従って、この状態では成形
から取り出され次の薄膜形成工程や保護膜形成工程に供
給するまでの時間がディスクによってかなり違ってくる
ため、薄膜形成や保護膜形成時のディスクの温度にかな
りの違いが発生し、従って光ディスク完成時の反り量が
ディスク間で大きくばらつく。また、成形直後のディス
クは温度が高く、帯電量が非常に大きいため、保管ポー
ルでの滞留中に周囲のホコリ等が付着し品質の劣化を起
こし易く、また操作性ならびに取扱いが非常に難しい。
【０００５】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、さら
に高品質で安定した光ディスクを簡単にまた大量に作製
できる光ディスク作製方法を提供するものである。
に高品質で安定した光ディスクを簡単にまた大量に作製
できる光ディスク作製方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の光ディスク作製方法は、成形機からディスク
を取り出した直後に、ディスク冷却装置にてディスクの
温度を測定しながらエアーあるいは窒素などのガス等を
設定した温度に下がるまで吹き付けることにより冷却
し、冷却後すぐに薄膜形成ならびに保護膜形成を行える
ようにしたものである。
に本発明の光ディスク作製方法は、成形機からディスク
を取り出した直後に、ディスク冷却装置にてディスクの
温度を測定しながらエアーあるいは窒素などのガス等を
設定した温度に下がるまで吹き付けることにより冷却
し、冷却後すぐに薄膜形成ならびに保護膜形成を行える
ようにしたものである。
【０００７】
【作用】本発明は上記した構成により、成形後にディス
クの温度で制御を行いながら冷却することにより、常に
一定の温度にて薄膜形成ならびに保護膜形成を行えるた
め、ディスクの反りを常に一定にする事が出来るととも
に、保護膜形成時の材料である紫外線硬化樹脂によるデ
ィスク基板の熱変質をなくすことが出来、また成形後の
ディスクの帯電量を極度に減少し、ホコリ等の汚れの付
着を無くす事が出来た。従って、高精度で高品質の光デ
ィスクを作製することが出来る。
クの温度で制御を行いながら冷却することにより、常に
一定の温度にて薄膜形成ならびに保護膜形成を行えるた
め、ディスクの反りを常に一定にする事が出来るととも
に、保護膜形成時の材料である紫外線硬化樹脂によるデ
ィスク基板の熱変質をなくすことが出来、また成形後の
ディスクの帯電量を極度に減少し、ホコリ等の汚れの付
着を無くす事が出来た。従って、高精度で高品質の光デ
ィスクを作製することが出来る。
【０００８】
【実施例】以下本発明の一実施例の光ディスク作製方法
について図面を参照にしながら説明する。図１は本発明
の第１の実施例における光ディスク作製方法を示す装置
ブロック図、図２はディスク冷却のためのディスク冷却
装置の平面図、図３は冷却装置内の冷却部を示すブロッ
ク図、図４は成形機の金型より取り出されたディスクの
放置状態での温度特性を示す図、図５は成形機の金型よ
り取り出されたディスクの反り量の変化を示す特性を示
す図、図６は温度１５度の冷却用エアーを吹きつけた場
合のディスクの温度の変化を示す温度特性を示す図であ
る。図１において11は成形機、12は成形機の金型からデ
ィスクを取り出すための取り出し装置、13はディスクを
一定の温度まで冷却するための冷却装置、14は薄膜形成
のためのスパッタ装置、15は保護膜形成のためのスピナ
ー装置、16は完成したディスクを収納するための収納コ
ンベアである。図２において17はエアー吹き出し部、18
はディスク搬送のためのディスク搬送機、19はディスク
保持用の冷却テーブルである。図３において20はディス
ク、21はディスクの温度を測定するための温度感知器22
と温度を表示するための表示器23からなる温度測定部、
24は冷却温度を設定するための温度設定器25と測定温度
と設定温度を比較するための比較器26と冷却用エアーの
配管を開閉するための切り換え器27から成る制御部、17
は冷却エアーを供給するためのエアー用配管とエアーを
ディスクに吹き出すための吹き出しノズル29から成るエ
アー吹き出し部である。以下図面を用いてその動作を説
明する。この光ディスク作製方法は、成形機11と取り出
し装置12と冷却装置13とスパッタ装置14とスピナー装置
15と収納コンベア16とに各々前後の装置間で同期をかけ
成形機11から収納コンベア16までを連続動作出来るよう
にしたものである。このように各装置を連動した状態
で、取り出し機12で成形機11の金型からディスクを取り
出した後すぐに冷却装置13でディスクを設定温度まで冷
却し、冷却後すぐにスパッタ装置14で薄膜を形成し、ス
ピナー装置で保護膜を塗布し、収納コンベアにディスク
を収納出来るようにしたものであり、常にディスクが一
定温度の状態で薄膜ならびに保護膜形成が出来るように
したものである。ディスクの冷却装置は、図２ならびに
図３に示すようにディスクを搬送するためのディスク搬
送機18とディスクを載せるための冷却用テーブル20とデ
ィスクの温度を測定するための測定部21と冷却時間を制
御するための制御部24と冷却用エアーを出すためのエア
ー吹き出し部17から成り、冷却するための冷却テーブル
は必要に応じ１箇所以上設ける。まず、成形機11から取
り出されたディスクは取り出し機12で冷却装置内の冷却
用テーブル19に置かれる。冷却用テーブル19に置かれた
ディスク20は、テーブルに取り付けられた熱電対素子あ
るいは放射熱測定素子などの温度感知機22ならびに温度
表示器23で温度が測定され、予め温度設定器25で設定し
た温度と比較器26で比較され、設定温度になるまで冷却
用エアー切り換え器27を開放しエアー吹き出しノズル29
から冷却用エアーを吹き付けることにより冷却される。
ディスクの測定温度が設定温度と等しくなるまで下がる
と、比較器26からの信号により冷却用エアー切り換え器
27が閉じ冷却エアーの吹き付けを終了し、同時に搬送器
18でスパッタ装置14に移動され薄膜が形成され、次にス
ピナー装置15で保護膜が形成され、収納コンベア16に収
納される。成形機から取り出されたディスクの温度の経
時変化は図４に示すように常温（３０度以下）に下がる
までに３分間（１８０秒）以上必要とし、ディスクの温
度に対する反り量は、図５に示すようにディスクの温度
とともに大きく変化する。即ち、ディスクを成形機から
取り出すと、ディスクの温度が環境の温度により下がる
につれ、ディスクの反り量も変化していく。ここで、温
度１５度のエアーを用い上記方法にてディスクを冷却し
た場合には、図６に示すように１０秒以下でディスクを
常温（３０度以下）まで冷却することが出来、常に一定
の低い温度で薄膜ならびに保護膜を形成出来るため、常
に一定でかつ反り量の少ないディスクを作製することが
出来る。保護膜形成時もディスクの温度が低い状態で形
成することが出来るため、保護膜の材料である紫外線硬
化樹脂によってディスクが変質することがない。また、
冷却テーブルの数を増やすことにより１枚のディスクの
処理時間を数秒まで短縮することが出来、従ってすべて
の装置を連動して運転することが出来るため、ディスク
を作製工程中に一時的に滞留する必要がなくホコリ等に
よる汚れの発生を無くすことが出来、ディスクの品質を
著しく向上することが出来る。
について図面を参照にしながら説明する。図１は本発明
の第１の実施例における光ディスク作製方法を示す装置
ブロック図、図２はディスク冷却のためのディスク冷却
装置の平面図、図３は冷却装置内の冷却部を示すブロッ
ク図、図４は成形機の金型より取り出されたディスクの
放置状態での温度特性を示す図、図５は成形機の金型よ
り取り出されたディスクの反り量の変化を示す特性を示
す図、図６は温度１５度の冷却用エアーを吹きつけた場
合のディスクの温度の変化を示す温度特性を示す図であ
る。図１において11は成形機、12は成形機の金型からデ
ィスクを取り出すための取り出し装置、13はディスクを
一定の温度まで冷却するための冷却装置、14は薄膜形成
のためのスパッタ装置、15は保護膜形成のためのスピナ
ー装置、16は完成したディスクを収納するための収納コ
ンベアである。図２において17はエアー吹き出し部、18
はディスク搬送のためのディスク搬送機、19はディスク
保持用の冷却テーブルである。図３において20はディス
ク、21はディスクの温度を測定するための温度感知器22
と温度を表示するための表示器23からなる温度測定部、
24は冷却温度を設定するための温度設定器25と測定温度
と設定温度を比較するための比較器26と冷却用エアーの
配管を開閉するための切り換え器27から成る制御部、17
は冷却エアーを供給するためのエアー用配管とエアーを
ディスクに吹き出すための吹き出しノズル29から成るエ
アー吹き出し部である。以下図面を用いてその動作を説
明する。この光ディスク作製方法は、成形機11と取り出
し装置12と冷却装置13とスパッタ装置14とスピナー装置
15と収納コンベア16とに各々前後の装置間で同期をかけ
成形機11から収納コンベア16までを連続動作出来るよう
にしたものである。このように各装置を連動した状態
で、取り出し機12で成形機11の金型からディスクを取り
出した後すぐに冷却装置13でディスクを設定温度まで冷
却し、冷却後すぐにスパッタ装置14で薄膜を形成し、ス
ピナー装置で保護膜を塗布し、収納コンベアにディスク
を収納出来るようにしたものであり、常にディスクが一
定温度の状態で薄膜ならびに保護膜形成が出来るように
したものである。ディスクの冷却装置は、図２ならびに
図３に示すようにディスクを搬送するためのディスク搬
送機18とディスクを載せるための冷却用テーブル20とデ
ィスクの温度を測定するための測定部21と冷却時間を制
御するための制御部24と冷却用エアーを出すためのエア
ー吹き出し部17から成り、冷却するための冷却テーブル
は必要に応じ１箇所以上設ける。まず、成形機11から取
り出されたディスクは取り出し機12で冷却装置内の冷却
用テーブル19に置かれる。冷却用テーブル19に置かれた
ディスク20は、テーブルに取り付けられた熱電対素子あ
るいは放射熱測定素子などの温度感知機22ならびに温度
表示器23で温度が測定され、予め温度設定器25で設定し
た温度と比較器26で比較され、設定温度になるまで冷却
用エアー切り換え器27を開放しエアー吹き出しノズル29
から冷却用エアーを吹き付けることにより冷却される。
ディスクの測定温度が設定温度と等しくなるまで下がる
と、比較器26からの信号により冷却用エアー切り換え器
27が閉じ冷却エアーの吹き付けを終了し、同時に搬送器
18でスパッタ装置14に移動され薄膜が形成され、次にス
ピナー装置15で保護膜が形成され、収納コンベア16に収
納される。成形機から取り出されたディスクの温度の経
時変化は図４に示すように常温（３０度以下）に下がる
までに３分間（１８０秒）以上必要とし、ディスクの温
度に対する反り量は、図５に示すようにディスクの温度
とともに大きく変化する。即ち、ディスクを成形機から
取り出すと、ディスクの温度が環境の温度により下がる
につれ、ディスクの反り量も変化していく。ここで、温
度１５度のエアーを用い上記方法にてディスクを冷却し
た場合には、図６に示すように１０秒以下でディスクを
常温（３０度以下）まで冷却することが出来、常に一定
の低い温度で薄膜ならびに保護膜を形成出来るため、常
に一定でかつ反り量の少ないディスクを作製することが
出来る。保護膜形成時もディスクの温度が低い状態で形
成することが出来るため、保護膜の材料である紫外線硬
化樹脂によってディスクが変質することがない。また、
冷却テーブルの数を増やすことにより１枚のディスクの
処理時間を数秒まで短縮することが出来、従ってすべて
の装置を連動して運転することが出来るため、ディスク
を作製工程中に一時的に滞留する必要がなくホコリ等に
よる汚れの発生を無くすことが出来、ディスクの品質を
著しく向上することが出来る。
【０００９】
【発明の効果】以上のように本発明は、成形機からディ
スクを取り出した直後に、ディスク冷却装置にて測定し
たディスクの温度でエアーあるいは窒素などのガス等の
吹き付けによる冷却の時間を制御し、冷却終了後すぐに
薄膜形成ならびに保護膜形成を行えるようにしたため、
常に低い一定の温度で薄膜ならびに保護膜を形成出来、
常に一定でかつ反り量の少ないディスクを作製すること
が出来るとともに、保護膜形成時の保護膜の材料である
紫外線硬化樹脂によってディスクが熱変質することを防
ぐことが出来た。また、すべての装置を連動して動作さ
せることが出来るため、作製工程中にディスクを一時的
に滞留する必要がなく、ホコリ等による汚れの発生を無
くすことが出来、ディスクの品質を著しく向上すること
が出来る。
スクを取り出した直後に、ディスク冷却装置にて測定し
たディスクの温度でエアーあるいは窒素などのガス等の
吹き付けによる冷却の時間を制御し、冷却終了後すぐに
薄膜形成ならびに保護膜形成を行えるようにしたため、
常に低い一定の温度で薄膜ならびに保護膜を形成出来、
常に一定でかつ反り量の少ないディスクを作製すること
が出来るとともに、保護膜形成時の保護膜の材料である
紫外線硬化樹脂によってディスクが熱変質することを防
ぐことが出来た。また、すべての装置を連動して動作さ
せることが出来るため、作製工程中にディスクを一時的
に滞留する必要がなく、ホコリ等による汚れの発生を無
くすことが出来、ディスクの品質を著しく向上すること
が出来る。
【図１】本発明の第１の実施例における光ディスク作製
法を示す装置のブロック図
法を示す装置のブロック図
【図２】本発明の第１の実施例における冷却装置の平面
図
図
【図３】本発明の第１の実施例における冷却装置の冷却
部を示すブロック図
部を示すブロック図
【図４】成形後のディスク基板の温度特性示す図
【図５】成形後のディスク基板の反り量の変化を示す特
性を示す図
性を示す図
【図６】本発明第１の実施例におけるディスク冷却時の
温度変化を示す温度特性示す図
温度変化を示す温度特性示す図
【図７】光ディスクの作製方法を示す光ディスクの断面
図
図
【図８】従来の光ディスクの作製方法を示すブロック図
【図９】従来の光ディスクの作製に用いるディスク保管
用ポールの断面図
用ポールの断面図
11 成形機 12 取り出し装置 13 冷却装置 14 スパッタ装置 15 スピナー装置 16 収納コンベア17 エアー吹き出し部 18 ディスク搬送機 19 冷却用テーブル 20 ディスク21 温度測定部 22 温度測定器 23 温度表示器24 制御部 25 温度設定部 26 比較器 27 冷却用エアー切り換え器 28 エアー吹き出しノズル 29 エアー供給用配管
Claims (6)
- 【請求項１】光ディスクを複製するための成形機と、成
形機からディスクを取り出すための取り出し装置と、デ
ィスクを冷却するための冷却装置と、ディスクに薄膜を
形成するためのスパッタ装置と、薄膜上に保護膜を形成
するためのコータ装置と、ディスクを収納するための収
納装置により光ディスクを作製することを特徴とする光
ディスク作製方法。 - 【請求項２】光ディスクの作製において、各装置間で同
期をかけ全ての装置を連続動作するとともに、冷却装置
内で光ディスクの温度を自動測定し、エアーあるいはガ
スを吹き付けることにより、予め設定した温度まで自動
的に下げ、常に一定の温度にした状態でスパッタ装置な
らびにコータ装置に供給出来るようにしたことを特徴と
する請求項１記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項３】冷却装置において、ディスクを保持するた
めの冷却用テーブルと、ディスクを冷却するためのエア
ー吹き出し部と、ディスクの温度を測定するための温度
測定部と、設定温度にまで自動的に下げるための温度制
御部と、ディスクを搬送するための搬送機とを備えたこ
とを特徴とする請求項１記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項４】光ディスクを複製するための成形機と、成
形機からディスクを取り出すための取り出し装置と、デ
ィスクを冷却するための冷却装置と、ディスクに薄膜を
形成するためのスパッタ装置と、薄膜上に保護膜を形成
するためのコータ装置と、ディスクを収納するための収
納装置を具備することを特徴とする光ディスク作製装
置。 - 【請求項５】光ディスクの作製において、各装置間で同
期をかけ全ての装置を連続動作するとともに、冷却装置
内で光ディスクの温度を自動測定し、エアーあるいはガ
スを吹き付けることにより、予め設定した温度まで自動
的に下げ、常に一定の温度にした状態でスパッタ装置な
らびにコータ装置に供給出来るようにしたことを特徴と
する請求項４記載の光ディスク作製装置。 - 【請求項６】冷却装置において、ディスクを保持するた
めの冷却用テーブルと、ディスクを冷却するためのエア
ー吹き出し部と、ディスクの温度を測定するための温度
測定部と、設定温度にまで自動的に下げるための温度制
御部と、ディスクを搬送するための搬送機とを備えたこ
とを特徴とする請求項５記載の光ディスク作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5454993A JPH06267116A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 光ディスク作製方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5454993A JPH06267116A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 光ディスク作製方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06267116A true JPH06267116A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=12973767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5454993A Pending JPH06267116A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 光ディスク作製方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06267116A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08297868A (ja) * | 1995-04-27 | 1996-11-12 | Horon:Kk | 光学式記録情報媒体の製造装置 |
| EP1100080A2 (en) * | 1999-11-10 | 2001-05-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Information recording medium and method of manufacturing same |
| US6835270B2 (en) * | 1998-08-05 | 2004-12-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Process and apparatus of producing optical disk and process of producing substrate |
-
1993
- 1993-03-16 JP JP5454993A patent/JPH06267116A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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