JPH0997455A - 光記録媒体の製造装置および製造方法 - Google Patents

光記録媒体の製造装置および製造方法

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JPH0997455A
JPH0997455A JP27639795A JP27639795A JPH0997455A JP H0997455 A JPH0997455 A JP H0997455A JP 27639795 A JP27639795 A JP 27639795A JP 27639795 A JP27639795 A JP 27639795A JP H0997455 A JPH0997455 A JP H0997455A
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JP
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recording medium
optical recording
substrate
cooling
cooling air
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JP27639795A
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Inventor
Fumiaki Kishi
文昭 貴志
Yuji Watanabe
雄二 渡辺
Toshiharu Nakanishi
俊晴 中西
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光記録媒体の基板やディスクの冷却完了まで
の時間を短縮するとともに、製造装置全体の小型化、省
スペース化をはかる。 【解決手段】 光記録媒体を支持・搬送する手段と、光
記録媒体に向けて冷却風を吹き出す送風機構を設けたこ
とを特徴とする、光記録媒体の製造装置および製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
装置および製造方法に関し、とくに光記録媒体の支持機
構にディスク冷却機能ももたせた光記録媒体の製造装置
およびそれを用いた光記録媒体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光記録媒体は、ディスク基板上に光学的
に記録再生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等の
ファイル用ディスクとして用いられている。光記録媒体
を高速で回転させながら、1μm程度に絞り込んだレー
ザ光を照射し、焦点調整および位置検出を行いながら、
記録層からデータを読み出したり記録層にデータを記録
したりしている。この記録層を、レーザ光により結晶と
アモルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成
し、オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒
体も既に知られている。
【0003】このような光記録媒体の製造においては、
たとえばプラスチックからなるディスク基板を成形した
後、該基板上に記録層等の層をスパッタリングや真空蒸
着等により膜付け(成膜)した後、あるいは、ハードコ
ート、オーバコート等保護コートを施した後、あるいは
アニール後に、基板やディスクの冷却工程が設けられて
いる。たとえば成形後の基板の冷却は、基板をたとえば
射出成形した後、該成形基板を搬送する際には積極的に
冷却せず、所定の冷却ポジションまで搬送した後、同ポ
ジションで完全に雰囲気温度まで冷やすようにしてい
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な冷却においては、基板やディスクを所定の位置まで搬
送した後に冷却が行われるので、搬送に要する時間と冷
却に要する時間がそれぞれ別個に必要である。この両時
間によって製造ラインのタクトが制約されることがあ
り、より短時間での冷却完了が望まれている。
【0005】また、専用の冷却装置および/または冷却
用スペースが必要となるため、光記録媒体製造装置全体
の小型化、省スペース化にとってこのスペースが障害の
一つとなっている。
【0006】本発明の課題は、光記録媒体の基板やディ
スクの冷却を要する工程において、冷却完了までの時間
を短縮して製造ラインのタクトタイム低減を実現すると
ともに、省スペース化して製造装置全体の小型化、省ス
ペース化に寄与することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る光記録媒体の製造装置は、光記録媒体
を支持・搬送する手段と、光記録媒体に向けて冷却風を
吹き出す送風機構を設けたことを特徴とするものからな
る。また、本発明に係る光記録媒体の製造方法は、光記
録媒体を支持・搬送しながら冷却することを特徴とする
方法からなる。
【0008】上記支持・搬送手段は、上記送風機構と一
体的に構成されていてもよい。たとえば、基板や成膜後
の媒体を支持・搬送するロボットアーム等に冷却風送風
機構を設けることができる。また、上記送風機構は光記
録媒体を個別に冷却するものであることが好ましい。
【0009】また、上記送風機構は、たとえば、光記録
媒体に対向する冷却風吹出口を有しており、該冷却風吹
出口が、光記録媒体の外周方向に、実質的に全周にわた
って配設されているものに構成できる。この冷却風吹出
口は、たとえば多孔質板を通して冷却風が吹き出される
もの、多孔板の各孔を通して冷却風が吹き出されるも
の、あるいは、たとえば同心円状に配設された環状スリ
ットの各スリット口から冷却風が吹き出されるもの等に
形成することができる。
【0010】また、上記媒体とは、成形後の基板、該基
板上に成膜された媒体、さらにはその後にアニールを施
した媒体等の、冷却が要求される光記録媒体製造工程に
おける中間製品形態のものをいう。
【0011】さらに、上記冷却風には、湿度60%以下
の気体、あるいは0.5μm以上の粒子の混入率が10
0,000個/m3 以下の清浄な気体を用いることが好
ましい。気体の種類としては、空気の他、不活性ガス
や、不活性ガスと空気との混合気体等を用いることがで
きる。
【0012】このような光記録媒体の製造装置および製
造方法においては、光記録媒体の支持・搬送中に、冷却
風によって媒体を積極的に冷却できるようになる。たと
えば、基板を成形した後に、成形基板を次の工程に支持
・搬送するときに冷却風によって冷却できるようにな
る。積極的な冷却によって効率よく冷却され、かつ、支
持・搬送と冷却が実質的に同時に行われるので、冷却完
了までの時間が大幅に短縮される。また、光記録媒体の
支持・搬送手段が冷却風送風機構を備え、媒体の冷却機
能を兼ね備えるから、独立した冷却装置や冷却用スペー
スの不要化も可能となり、光記録媒体製造装置全体の小
型化や省スペース化が可能となる。
【0013】また、本発明の好ましい態様によると、光
記録媒体の支持・搬送手段と送風機構とが一体的に構成
されるため、媒体と送風機構との相対位置関係を一定に
保ったまま搬送・冷却できるため、冷却を均一にするこ
とができる。
【0014】さらに、別の好ましい態様によると、各記
録媒体を個別に冷却するため、媒体ごとの冷却むらを低
減することができる。なお上記「個別に」とは、1枚1
枚の媒体を実質的に同一の形態で保持し、実質的に同一
の条件で冷却することを指す。したがって、媒体を1枚
ずつ搬送し、その過程で1枚ずつ冷却してもよく、数枚
ずつ搬送し、その際各媒体を同一形態の送風機構で冷却
してもよい。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態について、図面を参照して説明する。図1ないし図
3は、本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装置
を示しており、とくに本発明を基板成形後の基板支持・
搬送工程に適用した場合を示している。
【0016】図において、1は、プラスチック、たとえ
ばポリカーボネートからなる光記録媒体用の基板で、成
形(たとえば射出成形)直後のものを示している。成形
された基板1は、光記録媒体(基板)の支持・搬送手段
としてのロボットアーム2により、所定の姿勢に支持さ
れつつ次の工程に搬送される。
【0017】ロボットアーム2の基板支持部には、支持
本体3が設けられており、その先端面に、基板1を吸着
保持する吸着パッド4が複数設けられている。吸着パッ
ド4には、支持本体3内に穿設された吸引孔5が連通し
ており、適当な外部吸引手段6によって吸引孔5を通し
てエア吸引することにより、基板1が吸着パッド4に吸
着保持される。この吸着のオン、オフは、吸引回路中に
適当な切換弁あるいは開閉弁を設けておくことにより容
易に制御される。
【0018】このディスク支持・搬送手段に、吸着保持
されている基板1に向けて冷却風を吹き出す送風機構が
次のように設けられている。冷却風送風機構は、基板1
に対向する部位に冷却風吹出口7を有しており、該冷却
風吹出口7は、基板1の周方向全周にわたって環状に延
びている。冷却風吹出口7は、本実施態様では、多孔質
板8から構成されており、多孔質板8を通して送られる
冷却風が基板1に向けて吹き出されるようになってい
る。多孔質板8は、焼結金属等から構成すればよい。
【0019】多孔質板8の背面側(基板1とは反対側)
には、均圧室9が形成されている。均圧室9に、支持本
体3中に穿設された送気孔10を通して、冷却用気体圧
送手段11からの冷却用気体が送給され、均圧化された
後、多孔質板8を通して基板1に向けて冷却風として吹
き出される。
【0020】冷却用気体としては、とくに限定されない
が、たとえば空気や不活性ガス、あるいはこれらの混合
気体を用いることができる。基板1がプラスチックの場
合、吸湿しやすいので、冷却風の湿度を十分に低くして
おくことが好ましい。好ましくは湿度60%以下、より
好ましくは40%以下に保っておく。また、光記録媒体
は、製造のいずれの段階においても異物を極力少なく保
つ必要があることから、冷却風中の異物(粒子)も極力
少ない方が好ましい。たとえば、0.5μm以上の粒子
の混入率が100,000個/m3 以下の気体であるこ
とが好ましい。この粒子の混入率は、パーティクルカウ
ンタで容易に測定できる。また、冷却時間を大幅に短縮
したい場合には、冷却風温度を室温〜室温−20℃程度
にすることも有効である。
【0021】上記のように構成された装置においては、
基板1は、成形された後、ロボットアーム2の吸着パッ
ド4を介して吸着保持されつつ、ロボットアーム2の動
作によって次の工程へと搬送される。このとき、冷却用
気体圧送手段11から送気孔10を介して均圧室9に冷
却用気体が圧送され、該気体は、多孔質板8を通して冷
却風吹出口7から基板1に向けて冷却風として吹き出さ
れる。この冷却用気体圧送手段11に適当な切換弁、開
閉弁あるいは調整弁を取り付けることも可能である。こ
れにより気体のオンオフや流量調整が可能となり、基板
の温度や冷却速度の調整ができるため、例えば熱収縮に
伴う基板歪を抑制したり、緩和したりするなど、より最
適な調整を行うことができる。
【0022】この冷却風により、基板1は支持・搬送中
に同時に冷却されることになる。また、冷却風吹出によ
る積極的な冷却であるから、極めて効率のよい短時間の
冷却が可能となる。その結果、従来の搬送後に冷却ある
いは搬送後に放冷する場合に比べ、基板1を必要な低温
までに冷却するのに要求される時間、つまり冷却完了ま
での時間が大幅に短縮される。冷却完了までの時間が短
縮される結果、製造ラインのタクトを速めることが可能
となり、タクトタイムの短縮も可能となる。
【0023】ちなみに、従来法では1分要していた基板
冷却時間を、10秒程度の冷却時間までに、大幅に短縮
することができた。
【0024】また、支持・搬送中に上記のように積極的
に効率のよい冷却を行うので、所定の搬送を完了するま
でに、同時に冷却を完了させることも可能となる。した
がって、従来のように独立した冷却装置や冷却用スペー
スを設けることの不要化が可能となる。その結果、光記
録媒体製造装置全体の小型化や省スペース化が可能とな
る。
【0025】また、冷却風吹出口7は、支持本体3の基
板1との対向部位に、現状でも存在するスペースを有効
利用して形成できるので、支持・搬送手段自身の大型化
も回避される。
【0026】さらに、本実施態様では、均圧室9で均圧
化した後多孔質板8を通して冷却風を吹き出す方式とし
たので、基板1に対し、冷却風を均一な強さで吹き出す
ことができる。しかも、冷却風吹出口7は、基板1の冷
却を必要とする部位の略全面にわたって吹き出されるこ
とになる。その結果、基板1の均一冷却が可能となる。
【0027】上記において、冷却風吹出口は種々の形態
を採り得る。たとえば図4に示すような多孔板21(た
とえばパンチングメタル)を用い、各孔から冷却風を吹
き出すようにしてもよい。
【0028】また、図5に示すような同心円状に配設さ
れた環状スリット31を有する板体32から構成し、各
環状スリット31の開口から冷却風を吹き出すようにし
てもよい。この環状スリットを有するタイプにおいて
は、図6に示すように、環状スリット31aを板体32
aの軸心33aに沿う方向に開設したものの他、図7に
示すように、環状スリット31bを板体32bの軸心3
3bに対し傾斜させて開設するようにしてもよい。この
ようにすれば、基板1の被冷却面に対して、冷却風を内
周側から外周側の方向に流すことができ、より効率のよ
い冷却が可能となる。
【0029】上記実施態様では、基板1成形後に該成形
基板1を冷却する場合について説明したが、本発明はこ
れに限らず、光記録媒体製造工程において基板や媒体の
冷却を要する全ての工程に適用可能である。たとえば、
基板上に記録層等の成膜が行われた媒体の冷却、さらに
は、その後の工程で媒体のアニールを行った後の冷却、
等にも適用できる。
【0030】なお、本発明においては、光記録媒体自身
の構成は特に限定されるものではないが、その一例につ
いて説明しておく。本発明に係る光記録媒体の形式とし
ては特に限定されないが、たとえば相変化型光記録媒体
を対象とすることができる。相変化型光記録媒体は、通
常透明な基板上に記録層を設けたものであり、記録層構
成に、レーザ光により結晶とアモルファスとの可逆変化
が可能な特定の金属が用いられている。基板上の層構成
としては、たとえば、透明な基板上に、少なくとも第1
保護層/記録層/第2保護層/反射層を有する層構成と
することができる。これらの各層形成後に、さらにオー
バーコート層を設けることができる。また、各層形成前
の基板の反記録面側には、ハードコート層を設けること
ができる。
【0031】相変化型光記録媒体の記録層には、たとえ
ば、Te−Ge−Sb−Pd合金、Te−Ge−Sb−
Pd−Nb合金、Nb−Ge−Sb−Te合金、Pt−
Ge−Sb−Te合金、Ni−Ge−Sb−Te合金、
Ge−Sb−Te合金、Co−Ge−Sb−Te合金、
In−Sb−Te合金、In−Se合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにTe−Ge−
Sb−Pd合金、Te−Ge−Sb−Pd−Nb合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。これら合金
を、基板上に設けられた第1保護層上に、たとえばスパ
ッタリングで膜付けし、記録層が形成される。
【0032】第1保護層および第2保護層は、記録層を
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはZnS、
SiO2 、Ta2 5 、ITO、ZrC、TiC、Mg
2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にZnSとSiO2 およびZnSとMgF2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
【0033】反射層としては、金属または、金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばZr、Cr、Ta、Mo、Si、Al、Au、P
d、Hfなどの金属やこれらの合金、これらとZr酸化
物、Si酸化物、Si窒化物、Al酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にAl、Au、Taやそれらの
合金やAl、Hf、Pdの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
【0034】基板上に、第1保護層、記録層、第2保護
層、反射層を形成する方法としては、真空(減圧)雰囲
気中での薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真
空蒸着法、イオンプレーティング法などを用いることが
できる。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことか
らスパッタリング法が好ましい。
【0035】基板としては、基板側から記録再生を行う
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
【0036】基板は、円盤体に成形されるものである。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
【0037】基板の大きさは、光記録媒体ドライブ装置
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
90mmや120mm、130mmの基板に成形するこ
となどが規定される。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の製造装置および製造方法によるときは、基板や媒体
の支持・搬送手段に冷却風送風機構を設け、支持・搬送
中に同時に積極的に効率のよい冷却を行うことができる
ようにしたので、冷却完了までの時間を大幅に短縮で
き、その分製造ラインのタクトを速めることができる。
【0039】また、従来のような冷却専用の装置やスペ
ースの不要化が可能となり、光記録媒体製造装置全体と
しての小型化や省スペース化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装
置の概略構成図である。
【図2】図1のII−II線に沿う正面図である。
【図3】図1の装置のロボットアームを含めた概略構成
図である。
【図4】別の実施態様に係る冷却風吹出口の正面図であ
る。
【図5】さらに別の実施態様に係る冷却風吹出口の正面
図である。
【図6】図5の装置の環状スリット開設方法を示す部分
縦断面図である。
【図7】図5の装置の別の環状スリット開設方法を示す
部分縦断面図である。
【符号の説明】
1 基板 2 支持・搬送手段としてのロボットアーム 3 支持本体 4 吸着パッド 5 吸引孔 6 吸引手段 7 冷却風吹出口 8 多孔質板 9 均圧室 10 送気孔 11 冷却用気体圧送手段 21 多孔板 31、31a、31b 環状スリット 32、32a、32b 板体 33a、33b 軸心

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光記録媒体を支持・搬送する手段と、光
    記録媒体に向けて冷却風を吹き出す送風機構を設けたこ
    とを特徴とする、光記録媒体の製造装置。
  2. 【請求項2】 前記支持・搬送手段と、前記送風機構と
    が一体的に構成されている、請求項1の光記録媒体の製
    造装置。
  3. 【請求項3】 前記送風機構が光記録媒体を個別に冷却
    するものである、請求項1または2の光記録媒体の製造
    装置。
  4. 【請求項4】 前記送風機構が光記録媒体に対向する冷
    却風吹出口を有しており、該冷却風吹出口が、光記録媒
    体の外周方向に、実質的に全周にわたって配設されてい
    る、請求項1ないし3のいずれかに記載の光記録媒体の
    製造装置。
  5. 【請求項5】 前記冷却風吹出口が、多孔質板、多孔
    板、環状スリットのいずれかによって形成されている、
    請求項4に記載の光記録媒体の製造装置。
  6. 【請求項6】 前記光記録媒体が、成形後の基板、該基
    板上に成膜された後の媒体、保護コートを施した後の媒
    体、さらにアニールを施した後の媒体のいずれかであ
    る、請求項1ないし5のいずれかに記載の光記録媒体の
    製造装置。
  7. 【請求項7】 前記冷却風に、湿度60%以下の気体あ
    るいは0.5μm以上の粒子の混入率が100,000
    個/m3 以下の気体が用いられている、請求項1ないし
    6のいずれかに記載の光記録媒体の製造装置。
  8. 【請求項8】 光記録媒体を支持・搬送しながら冷却す
    ることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
JP27639795A 1995-09-29 1995-09-29 光記録媒体の製造装置および製造方法 Pending JPH0997455A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7168940B2 (en) 2001-12-05 2007-01-30 Origin Electric Company, Limited Method and apparatus for treating a disc substrate

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US7168940B2 (en) 2001-12-05 2007-01-30 Origin Electric Company, Limited Method and apparatus for treating a disc substrate
US7267790B2 (en) 2001-12-05 2007-09-11 Origin Electric Company Method and apparatus for treating a disc substrate

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