JP2000113527A - 光情報記録媒体製造方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スパッタ成膜装置の大きな改造を行うことな
く、スパッタ成膜によってディスク基板に加わる変形を
簡易的になくし、光情報記録媒体の生産、特に高速成
膜、厚肉成膜、薄肉ディスク基板への成膜、同一基板へ
の２層以上の繰り返し成膜等に係る光情報記録媒体の生
産を可能とする。 【解決手段】 真空の成膜室内で、光情報記録媒体（１
５）の内周及び外周をマスキングする内外周マスク（１
３，１４）と、該内外周マスク（１３，１４）を保持し
て光情報記録媒体を保持するホルダ（１２）とを含む基
板ホルダユニットをターゲット（１１）に対向させ、成
膜室内にスパッタガス導入系よりスパッタガスを導入し
た後該ターゲット（１１）にスパッタ電位を印加し、光
情報記録媒体上に反射層、記録層、保護層、又は誘電体
層等のいずれか１層あるいは２層以上の層構成を組み合
わせてスパッタ積層成膜を施す光情報記録媒体の製造方
法において、光情報記録媒体（１５）の非成膜面にディ
スク基板（１６）を少なくとも１枚重ね合わせた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体製
造方法及びその装置に関し、特に反射層や記録層を形成
する光情報記録媒体の光ディスク基板を冷却する方法を
含む製造方法及びその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】各種光ディスクメディアにおいては、反
射層、記録層、誘電体層、あるいは保護層をスパッタ成
膜装置により成膜する工程が不可欠となっている。この
スパッタ成膜装置は、真空中でＡｒプラズマ等を発生さ
せ、このプラズマ中のイオンによってターゲット表面を
たたき、対向する基板に膜を堆積させる方法であるた
め、スパッタ成膜時の熱の発生は避けることができな
い。

【０００３】一般的に光情報記録媒体においては、基板
にポリカーボネイト等の高分子材料が用いられているた
め、成膜室内の温度上昇は当該ディスク基板の変形を引
き起こす要因となる。特に、連続高速成膜を行う場合、
厚肉成膜を場合、あるいは同一基板に２層以上の成膜を
繰り返し行う場合等において顕著な問題となり、またＤ
ＶＤメディア用いられる０．６ｍｍの薄肉基板を用いる
場合には、更に重大な問題となる。

【０００４】この問題を解決するために、一般にはター
ゲット裏面に冷媒を流してターゲットの温度上昇を抑え
る方法が取られるが、この方法ではターゲットの加熱面
と冷媒都のに少なくともターゲット厚分の距離が離れて
おり、かつ通常ターゲット裏面にバッキングプレートを
配置してその裏面から冷却する構造となっているため、
熱源となるターゲット表面を効率的に冷却するには至っ
ていない。

【０００５】また、従来例として、例えば特開平１０−
１０６０５１号公報に示されているように、真空中にデ
ィスク基板に対する内外周マスクの脱着を行い、そのマ
スクを繰り返し使用してディスク基板の一部をマスキン
グし、非マスキング部をスパッタ成膜する光ディスクの
製造方法であって、スパッタ成膜によって蓄熱されたマ
スクの熱を当該マスクの表面に弾性ゴムシート付き金属
製クーラー冷却面を押圧し弾性ゴムシートを介して冷却
する方法が提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の方法では、スパッタ成膜によって蓄熱した部材を冷
却するに過ぎず、根本的に熱発生源の冷却を行うもので
なく、新たにマスク冷却機構を設けなければならないな
どの装置の大きな改造が必要となってしまう。また、こ
の従来の方法によってマスクの蓄熱を抑えることができ
たとしても、一次的な熱発生源であるスパッタターゲッ
トの蓄熱を防ぐことができず、熱による基板変形は避け
られない。

【０００７】また、この基板の変形は、その条件及び成
膜する層構成等によって、可逆性の変化に落ち着く場合
と、非可逆性の変化となって成膜後に基板変形が残留す
る場合とがある。非可逆性の変形が生じた場合は、メデ
ィアとしての仕様を満足できず生産が行えなくなるのは
言うまでもないが、可逆性の変形が生じた場合において
も、スパッタ成膜後の搬送における搬送トラブル等の原
因となり、また可逆性の変形とはいえ、変形の緩和過程
において外力が加わると永久変形に繋がり、メディアと
しての仕様を満足できなくなる。

【０００８】本発明はこれらの問題点を解決するための
ものであり、スパッタ成膜装置の大きな改造を行うこと
なく、スパッタ成膜によってディスク基板に加わる変形
を簡易的になくし、光情報記録媒体の生産、特に高速成
膜、厚肉成膜、薄肉ディスク基板への成膜、同一基板へ
の２層以上の繰り返し成膜等に係る光情報記録媒体の生
産を可能とする光情報記録媒体製造方法及びその装置を
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は前記問題点を解
決するために、真空の成膜室内で、光情報記録媒体の内
周及び外周をマスキングする内外周マスクと、該内外周
マスクを保持して光情報記録媒体を保持するホルダとを
含む基板ホルダユニットをターゲットに対向させ、成膜
室内にスパッタガス導入系よりスパッタガスを導入した
後該ターゲットにスパッタ電位を印加し、光情報記録媒
体上に反射層、記録層、保護層、又は誘電体層等のいず
れか１層あるいは２層以上の層構成を組み合わせてスパ
ッタ積層成膜を施す光情報記録媒体の製造方法におい
て、光情報記録媒体の非成膜面にディスク基板を少なく
とも１枚重ね合わせたことに特徴がある。よって、光情
報記録媒体の実効的な厚みが増すことにより成膜時に生
じる光ディスク基板の変形を少なくすることができる。

【００１０】また、ディスク基板の材質を有機高分子材
料とすることやディスク基板の材質を光情報記録媒体の
材質と同一にすることにより、重ね合わせた基板間の熱
応力による光ディスク基板の変形をより抑えることがで
きる。

【００１１】更に、ディスク基板は光情報記録媒体の光
ディスク基板と同一ロットで射出成形されることによ
り、基板間に発生する熱応力による光ディスク基板の変
形を確実に抑えることができる。

【００１２】また、ディスク基板を前記光情報記録媒体
に重ね合わせる際、射出成形における樹脂流入側に対応
する基板面が対向、あるいは樹脂非流入側に対応する基
板面が対向することにより、熱による基板の変形が基板
間で打ち消し合って成膜時における光ディスク基板の変
形をより少なくすることができる。

【００１３】更に、ディスク基板を光情報記録媒体に重
ね合わせて成膜した後に分離することや光情報記録媒体
の光ディスク基板の厚みと前記ディスク基板の厚みを同
一にすること、そして光情報記録媒体の光ディスク基板
の厚みが、１．２ｍｍ以下であることにより、ＣＤ用の
転用も可能となると共に、既存の装置構成を改造するこ
となくスパッタ成膜によってディスク基板に加わる変形
を簡易的になくすことができる。

【００１４】また、ディスク基板を光情報記録媒体に重
ね合わせて成膜した後も重ね合わせた状態で成膜工程以
降の工程を行うことにより、光ディスクの非成膜面に傷
がつくことを防ぐことができる。

【００１５】また、別の発明として、真空の成膜室内
で、光情報記録媒体の内周及び外周をマスキングする内
外周マスクと、該内外周マスクを保持して光情報記録媒
体を保持するホルダとを含む基板ホルダユニットをター
ゲットに対向させ、成膜室内にスパッタガス導入系より
スパッタガスを導入した後該ターゲットにスパッタ電位
を印加し、光情報記録媒体上に反射層、記録層、保護
層、又は誘電体層等のいずれか１層あるいは２層以上の
層構成を組み合わせてスパッタ積層成膜を施す光情報記
録媒体の製造装置において、光情報記録媒体の非成膜面
にディスク基板を少なくとも１枚重ね合わせた。

【００１６】

【発明の実施の形態】真空の成膜室内で、光情報記録媒
体の内周及び外周をマスキングする内外周マスクと、該
内外周マスクを保持して光情報記録媒体を保持するホル
ダとを含む基板ホルダユニットをターゲットに対向さ
せ、成膜室内にスパッタガス導入系よりスパッタガスを
導入した後該ターゲットにスパッタ電位を印加し、光情
報記録媒体上に反射層、記録層、保護層、又は誘電体層
等のいずれか１層あるいは２層以上の層構成を組み合わ
せてスパッタ積層成膜を施す光情報記録媒体の製造装置
において、光情報記録媒体の非成膜面に重ね合わせる少
なくとも１枚のディスク基板を具備する。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の一実施例における基板ホルダユニ
ットを示す断面図である。なお、本実施例における製造
方法は一般的な枚葉式のスパッタ成膜方法による製造方
法であって、基板ホルダに基板とマスクをセットしたユ
ニット（以下、基板ホルダユニットと称す）をターゲッ
トの対向面まで搬送して成膜を行う方法が一般的であ
る。この方法の他に、内外マスクが予めカソード側に配
置され、基板のみを搬送する方もあるが、本実施例では
前者の方法を例として説明する。但し、これに限定する
ものではないことは言うまでもない。

【００１８】図１において、本実施例における基板ホル
ダユニットは、光ディスク基板１５及びダミー基板１６
を保持する基板ホルダ１２、光ディスク基板１５及びダ
ミー基板１６の内周を保持する内周マスク１３、光ディ
スク基板１５及びダミー基板１６の外周を保持する外周
マスク１４を含んで構成している。１１はターゲットで
ある。このように基板ホルダユニットは、光ディスク基
板１５及びダミー基板１６を保持し、ターゲット１６の
対向面となる成膜室内の位置まで搬送された後、真空の
成膜室内スパッタガスが導入されてターゲット１１に印
加手段によりスパッタ電位を印加することにより所望の
膜の成膜が行われる。その後に、基板ホルダユニットは
成膜室を離れ、搬出、あるいは次の成膜室へ搬出され
る。

【００１９】ここで、光ディスク基板１５には、その非
成膜面にダミー基板１６を少なくとも１枚重ね合わせら
れる。成膜条件が同じ場合、光ディスク基板１５の変形
は基板が薄い方が顕著となるため、ダミー基板１６を重
ね合わせて光ディスク基板１５の実効的な厚みが増すこ
とで、光ディスク基板１５の変形を減らすことができ
る。

【００２０】また、光ディスクメディアのスパッタ成膜
装置においては、成膜室内の光ディスク基板の搬送は光
ディスク基板単独で行われる場合や本実施例のような基
板ホルダユニットとして搬送する場合が多い。そのた
め、ダミー基板を用いない、通常の設計で市販されてい
る装置においては、ダミー基板の形状や寸法によっては
光ディスク基板の非成膜面にダミー基板を重ね合わせた
状態での搬送ができない場合がある。そのような場合
は、ダミー基板の厚みを除いた形状や寸法を、成膜を行
う光ディスク基板と同一にすることにより、ダミー基板
を用いない、通常の設計で市販されている装置で本実施
例の製造方法を用いても搬送ホルダ等の寸法の変更を最
小限に済ませることができる。

【００２１】更に、光ディスク基板１５の厚みが１．２
ｍｍ未満であった場合には、光ディスク基板１５の非成
膜面にダミー基板１６を重ね合わせてできた基板全体の
厚みを本来の光ディスク基板と同じ厚みの１．２ｍｍに
することにより、本来の光ディスク基板成膜装置の転用
が可能となり、装置の改造を全く行うことなく光ディス
ク基板の変形を抑えたスパッタ成膜が可能となる。

【００２２】また、例えば、ＤＶＤ基板の非成膜面に別
の１枚のＤＶＤ基板をダミー基板として重ね合わせた場
合には、ＣＤの成膜装置を寸法に関する変更を全く行う
ことなく、ＤＶＤ用の装置として転用することができ
る。これは、ＤＶＤ基板の厚みは０．６ｍｍで、１．２
ｍｍの厚みを持つＣＤ基板のちょうど半分であるため、
ＤＶＤ基板を２枚重ねたものは、ＣＤ基板と形状が完全
に一致し、製造工程においてＣＤ基板と全く同様にして
取り扱えるからである。

【００２３】また、通常、光ディスク基板の材料として
は、ポリカボネート等の有機高分子材料が用いられる
が、ダミー基板の材料を高分子材料とすることにより、
光ディスク基板とダミー基板の熱的性質を近くすること
ができる。これにより、スパッタ成膜時に発生する熱に
よって生じる光ディスク基板とダミー基板との間の熱応
力による光ディスク基板の変形などを抑えることがで
き、各基板間の熱的性質の違いによる不具合を抑えるこ
とができる。更に、ダミー基板の材料を光ディスク基板
と同一にすることにより、上記効果をより一層奏するこ
とができる。

【００２４】また、通常、光ディスク基板は射出成形で
作製されるが、同一ロットで作製された基板をダミー基
板として用いることにより、光ディスク基板とダミー基
板の材質や形状を完全に一致させることができて、光デ
ィスク基板とダミー基板からなる基板全体の熱に対する
挙動はあたかも１枚の基板のようにすることができ、各
基板間に発生する熱応力による基板の変形などの問題を
確実に防止することができる。

【００２５】更に、同一ロットの基板を重ねる際、射出
成形における樹脂流入側に対応する基板面を対向、ある
いは樹脂非流入側に対応する基板面を対向させることに
より、熱による基板の変形が各基板間でちょうど打ち消
し合い、上記効果をより一層奏することができる。

【００２６】また、スパッタ成膜後の基板は、更に次工
程に搬送されるが、スパッタ成膜は真空チェンバーの中
で行われるため、成膜後大気中に搬出されてきた光ディ
スク基板の非成膜面にはダミー基板が真空吸着された形
で密着固定されている。本発明では、この現象を利用
し、このように密着固定された状態をそのままスパッタ
成膜以降の工程に搬送する。これにより、光ディスク基
板の非成膜面は、ダミー基板により保護されるから搬送
時に傷、汚れ等がつくことを防止でき、光ディスク基板
の非成膜面を工学的に平滑な表面状態に維持することが
できる。なお、光ディスク基板の非正確面はレーザ工の
入射面であるため、この面には極力傷等をつけないこと
が必要とされている。

【００２７】光ディスク基板の厚みとしては、１．２ｍ
ｍ〜０．６ｍｍが通常用いられるが、本発明の効果は基
板の厚みが薄い方が顕著にあらわれるため、１ｍｍ以
下、特に０．６ｍｍ以下の場合に効果が高い。例えば、
直径１２０ｍｍ、厚み０．６ｍｍのＤＶＤ基板をダミー
基板として重ね合わせ、スパッタ成膜室に投入し、ＤＶ
Ｄ基板の表面に、第１層：ＺｎＳ／ＳｉＯ₂、第２層：
ＡｇＩｎＳｂＴｅ、第３層：ＺｎＳ／ＳｉＯ₂、第４
層：Ａｌからなる積層構成の薄膜を成膜した。成膜後、
重なり合った基板を分離し、成膜を行ったＤＶＤ基板の
機械特性を機械特性測定装置で測定した。結果として、
基板面内における、基板半径方向（Ｒ−ｔｉｌｔ）と接
線方向（Ｔ−ｔｉｌｔ）のチルト角の絶対値の最大値を
図２に示した。この図２において、比較例は直径１２０
ｍｍ、厚み０．６ｍｍのＤＶＤ基板を単板のまま、本実
施例と同様な条件で成膜を行った結果である。同図に示
す結果から、本実施例、つまり本発明による製造方法を
用いることにより、光情報記録媒体の機械特性が改善さ
れることがわかる。尚、本実施例におけえる成膜はＣＤ
用スパッタ成膜装置を転用しており、装置の改善などを
全くせずに成膜が可能であった。

【００２８】次に、成膜した光ディスク基板を大気中に
搬出後、等がい光ディスク基板の非成膜面にダミー基板
が密着固定されたまま次工程へ搬送して、成膜面への樹
脂保護層作製工程などの後工程を行い、最後にダミー基
板を分離して情報記録媒体が製造されることとなる。こ
の場合、スパッタチェンバーから大気搬出された後にダ
ミー基板を分離してＤＶＤ基板単体で後工程を行い光情
報記録媒体が製造される場合に比べて、傷検査を行った
ところ、傷が少ないことがわかった。

【００２９】また、本発明は上記各実施例に限定される
ものでなく、特許請求の範囲に記載の範囲内であれば多
種の変形や置換可能であることは言うまでもない。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明よれば、真
空の成膜室内で、光情報記録媒体の内周及び外周をマス
キングする内外周マスクと、該内外周マスクを保持して
光情報記録媒体を保持するホルダとを含む基板ホルダユ
ニットをターゲットに対向させ、成膜室内にスパッタガ
ス導入系よりスパッタガスを導入した後該ターゲットに
スパッタ電位を印加し、光情報記録媒体上に反射層、記
録層、保護層、又は誘電体層等のいずれか１層あるいは
２層以上の層構成を組み合わせてスパッタ積層成膜を施
す光情報記録媒体の製造方法において、光情報記録媒体
の非成膜面にディスク基板を少なくとも１枚重ね合わせ
たことに特徴がある。よって、光情報記録媒体の実効的
な厚みが増すことにより成膜時に生じる光ディスク基板
の変形を少なくすることができる。

【００３１】また、ディスク基板の材質を有機高分子材
料とすることやディスク基板の材質を光情報記録媒体の
材質と同一にすることにより、重ね合わせた基板間の熱
応力による光ディスク基板の変形をより抑えることがで
きる。

【００３２】更に、ディスク基板は光情報記録媒体の光
ディスク基板と同一ロットで射出成形されることによ
り、基板間に発生する熱応力による光ディスク基板の変
形を確実に抑えることができる。

【００３３】また、ディスク基板を前記光情報記録媒体
に重ね合わせる際、射出成形における樹脂流入側に対応
する基板面が対向、あるいは樹脂非流入側に対応する基
板面が対向することにより、熱による基板の変形が基板
間で打ち消し合って成膜時における光ディスク基板の変
形をより少なくすることができる。

【００３４】更に、ディスク基板を光情報記録媒体に重
ね合わせて成膜した後に分離することや光情報記録媒体
の光ディスク基板の厚みと前記ディスク基板の厚みを同
一にすること、そして光情報記録媒体の光ディスク基板
の厚みが、１．２ｍｍ以下であることにより、ＣＤ用の
転用も可能となると共に、既存の装置構成を改造するこ
となくスパッタ成膜によってディスク基板に加わる変形
を簡易的になくすことができる。

【００３５】また、ディスク基板を光情報記録媒体に重
ね合わせて成膜した後も重ね合わせた状態で成膜工程以
降の工程を行うことにより、光ディスクの非成膜面に傷
がつくことを防ぐことができる。

【００３６】また、別の発明として、真空の成膜室内
で、光情報記録媒体の内周及び外周をマスキングする内
外周マスクと、該内外周マスクを保持して光情報記録媒
体を保持するホルダとを含む基板ホルダユニットをター
ゲットに対向させ、成膜室内にスパッタガス導入系より
スパッタガスを導入した後該ターゲットにスパッタ電位
を印加し、光情報記録媒体上に反射層、記録層、保護
層、又は誘電体層等のいずれか１層あるいは２層以上の
層構成を組み合わせてスパッタ積層成膜を施す光情報記
録媒体の製造装置において、光情報記録媒体の非成膜面
に重ね合わせる少なくとも１枚のディスク基板を具備す
ることに特徴がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における基板ホルダユニット
を示す断面図である。

【図２】本実施例と比較例とのＤＶＤ基板の機械特性を
示す図である。

【符号の説明】

１１ ターゲット １２ 基板ホルダ １３ 内周マスク １４ 外周マスク １５ 光ディスク基板 １６ ダミー基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿萬 康知 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 大谷 渉 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 伊藤 和典 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 出口 浩司 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 小名木 伸晃 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 花岡 克成 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 田代 浩子 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 5D121 AA01 AA02 AA04 AA05 DD05 EE03 EE20 EE27 EE30

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空の成膜室内で、光情報記録媒体の内
   周及び外周をマスキングする内外周マスクと、該内外周
   マスクを保持して前記光情報記録媒体を保持するホルダ
   とを含む基板ホルダユニットをターゲットに対向させ、
   成膜室内にスパッタガス導入系よりスパッタガスを導入
   した後該ターゲットにスパッタ電位を印加し、前記光情
   報記録媒体上に反射層、記録層、保護層、又は誘電体層
   等のいずれか１層あるいは２層以上の層構成を組み合わ
   せてスパッタ積層成膜を施す光情報記録媒体の製造方法
   において、 前記光情報記録媒体の非成膜面にディスク基板を少なく
   とも１枚重ね合わせたことを特徴とする光情報記録媒体
   の製造方法。
2. 【請求項２】 前記ディスク基板の材質は有機高分子材
   料とする請求項１記載の光情報記録媒体製造方法。
3. 【請求項３】 前記ディスク基板の材質は前記光情報記
   録媒体の材質と同一にする請求項１又は２記載の光情報
   記録媒体製造方法。
4. 【請求項４】 前記ディスク基板は前記光情報記録媒体
   の光ディスク基板と同一ロットで射出成形される請求項
   １〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体製造方
   法。
5. 【請求項５】 前記ディスク基板を前記光情報記録媒体
   に重ね合わせる際、射出成形における樹脂流入側に対応
   する基板面が対向、あるいは樹脂非流入側に対応する基
   板面が対向する請求項４記載の光情報記録媒体製造方
   法。
6. 【請求項６】 前記ディスク基板を前記光情報記録媒体
   に重ね合わせて成膜した後に分離する請求項１記載の光
   情報記録媒体製造方法。
7. 【請求項７】 前記ディスク基板を前記光情報記録媒体
   に重ね合わせて成膜した後も重ね合わせた状態で成膜工
   程以降の工程を行う請求項１記載の光情報記録媒体製造
   方法。
8. 【請求項８】 前記光情報記録媒体の光ディスク基板の
   厚みと前記ディスク基板の厚みを同一にする請求項１〜
   ７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体製造方法。
9. 【請求項９】 前記光情報記録媒体の光ディスク基板の
   厚みが、１．２ｍｍ以下である請求項１〜８のいずれか
   １項に記載の光情報記録媒体製造方法。
10. 【請求項１０】 前記光情報記録媒体の光ディスク基板
    と前記ディスク基板を重ね合わせた厚みは前記光情報記
    録媒体の厚みとする請求項１〜９のいずれか１項に記載
    の光情報記録媒体製造方法。
11. 【請求項１１】 真空の成膜室内で、光情報記録媒体の
    内周及び外周をマスキングする内外周マスクと、該内外
    周マスクを保持して前記光情報記録媒体を保持するホル
    ダとを含む基板ホルダユニットをターゲットに対向さ
    せ、成膜室内にスパッタガス導入系よりスパッタガスを
    導入した後該ターゲットにスパッタ電位を印加し、前記
    光情報記録媒体上に反射層、記録層、保護層、又は誘電
    体層等のいずれか１層あるいは２層以上の層構成を組み
    合わせてスパッタ積層成膜を施す光情報記録媒体の製造
    装置において、 前記光情報記録媒体の非成膜面に重ね合わせる少なくと
    も１枚のディスク基板を具備することを特徴とする光情
    報記録媒体製造装置。
12. 【請求項１２】 前記ディスク基板の材質は有機高分子
    材料とする請求項１１記載の光情報記録媒体製造装置。
13. 【請求項１３】 前記ディスク基板の材質は前記光情報
    記録媒体の材質と同一にする請求項１１又は１２記載の
    光情報記録媒体製造装置。
14. 【請求項１４】 前記ディスク基板は前記光情報記録媒
    体の光ディスク基板と同一ロットで射出成形される請求
    項１１〜１３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体製
    造装置。
15. 【請求項１５】 前記ディスク基板を前記光情報記録媒
    体に重ね合わせる際、射出成形における樹脂流入側に対
    応する基板面が対向、あるいは樹脂非流入側に対応する
    基板面が対向する請求項１４記載の光情報記録媒体製造
    装置。
16. 【請求項１６】 前記光情報記録媒体の光ディスク基板
    の厚みと前記ディスク基板の厚みを同一にする請求項１
    １〜１５のいずれか１項に記載の光情報記録媒体製造装
    置。
17. 【請求項１７】 前記光情報記録媒体の光ディスク基板
    の厚みが、１．２ｍｍ以下である請求項１１〜１６のい
    ずれか１項に記載の光情報記録媒体製造装置。
18. 【請求項１８】 前記光情報記録媒体の光ディスク基板
    と前記ディスク基板を重ね合わせた厚みは前記光情報記
    録媒体の厚みとする請求項１１〜１７のいずれか１項に
    記載の光情報記録媒体製造装置。