JPH08269233A - 相乗安定剤混合物 - Google Patents
相乗安定剤混合物Info
- Publication number
- JPH08269233A JPH08269233A JP7303692A JP30369295A JPH08269233A JP H08269233 A JPH08269233 A JP H08269233A JP 7303692 A JP7303692 A JP 7303692A JP 30369295 A JP30369295 A JP 30369295A JP H08269233 A JPH08269233 A JP H08269233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- formula
- alkyl group
- independently
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/0622—Polycondensates containing six-membered rings, not condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C08G73/0638—Polycondensates containing six-membered rings, not condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms with at least three nitrogen atoms in the ring
- C08G73/0644—Poly(1,3,5)triazines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/02—Polyamines
- C08G73/0273—Polyamines containing heterocyclic moieties in the main chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/35—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having also oxygen in the ring
- C08K5/353—Five-membered rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は２つの特定のポリアルキルピペリジ
ン誘導体ポリマーよりなる安定剤系、有機材料を安定化
させるためのそれらの使用方法、および前記安定剤系に
より熱、酸化もしくは光により誘発される崩壊に対して
保護された有機材料を提供する。 【解決手段】次式ＩおよびＩＩＩで表される化合物より
なる安定剤混合物。 【化１】 〔式中、ｎ1 、ｎ2 ：２〜２０の整数、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ
6 、Ｒ8 ：各々互いに独立して水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 の
アルキル基もしくは次式ＩＩ 【化２】 （式中、Ｒ5 ：水素原子、メチル基、Ｒ2 、Ｒ7 ：各々
互いに独立してＣ2 −Ｃ6 のアルキレン基、Ｒ4 ：Ｃ1
−Ｃ10のアルキル基もしくはシクロヘキシル基、Ｒ9 、
Ｒ9 ：各々互いに独立してＣ1 −Ｃ8 のアルキル基もし
くは式ＩＩの基、Ｒ9 、Ｒ10：結合する窒素原子と一緒
になってモルホリノ基）で表される基。〕
ン誘導体ポリマーよりなる安定剤系、有機材料を安定化
させるためのそれらの使用方法、および前記安定剤系に
より熱、酸化もしくは光により誘発される崩壊に対して
保護された有機材料を提供する。 【解決手段】次式ＩおよびＩＩＩで表される化合物より
なる安定剤混合物。 【化１】 〔式中、ｎ1 、ｎ2 ：２〜２０の整数、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ
6 、Ｒ8 ：各々互いに独立して水素原子、Ｃ1 −Ｃ4 の
アルキル基もしくは次式ＩＩ 【化２】 （式中、Ｒ5 ：水素原子、メチル基、Ｒ2 、Ｒ7 ：各々
互いに独立してＣ2 −Ｃ6 のアルキレン基、Ｒ4 ：Ｃ1
−Ｃ10のアルキル基もしくはシクロヘキシル基、Ｒ9 、
Ｒ9 ：各々互いに独立してＣ1 −Ｃ8 のアルキル基もし
くは式ＩＩの基、Ｒ9 、Ｒ10：結合する窒素原子と一緒
になってモルホリノ基）で表される基。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は２つの特定のポリア
ルキルピペリジン誘導体ポリマーよりなる安定剤系、有
機材料を安定化させるためのその使用方法、および前記
安定剤系により熱、酸化もしくは光により誘発される崩
壊に対して保護された有機材料に関する。
ルキルピペリジン誘導体ポリマーよりなる安定剤系、有
機材料を安定化させるためのその使用方法、および前記
安定剤系により熱、酸化もしくは光により誘発される崩
壊に対して保護された有機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許発明明細書第４６９２４８６
号、同第４８６３９８１号、同第４９５７９５３号、国
際公開パンフレット第９２−１２２０１号、ヨーロッパ
特許庁公開公報第４４９６８５号、同第６３２０９２
号、ドイツ国特許出願公開明細書第２２６７４９９号お
よびリサーチディスクロージャー３４５４９（１９９３
年１月）において２種のポリアルキルピペリジン誘導体
を含有する安定剤混合物が開示されている。
号、同第４８６３９８１号、同第４９５７９５３号、国
際公開パンフレット第９２−１２２０１号、ヨーロッパ
特許庁公開公報第４４９６８５号、同第６３２０９２
号、ドイツ国特許出願公開明細書第２２６７４９９号お
よびリサーチディスクロージャー３４５４９（１９９３
年１月）において２種のポリアルキルピペリジン誘導体
を含有する安定剤混合物が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題および手段】その観点の
内の１つにおいて、本発明は成分ａ）、ｂ）、ｃ）およ
びｄ）の群より選択された少なくとも２つの異なる化合
物からなる安定剤混合物であって、成分ａ）は少なくと
も１つの次式Ｉ
内の１つにおいて、本発明は成分ａ）、ｂ）、ｃ）およ
びｄ）の群より選択された少なくとも２つの異なる化合
物からなる安定剤混合物であって、成分ａ）は少なくと
も１つの次式Ｉ
【化２０】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立して、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５な
いし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４の
アルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロ
アルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原
子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニ
ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フ
ェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１な
いし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７な
いし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは次式Ｉ
Ｉ
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５な
いし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４の
アルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロ
アルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原
子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニ
ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フ
ェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１な
いし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７な
いし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは次式Ｉ
Ｉ
【化２１】 （式中、Ｒ5 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、Ｏ・、−ＣＨ2ＣＮ、炭素原子数３ないし６の
アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基、フェニル核において炭素原子数１ないし４のアル
キル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基を表すか、もしくは炭素原子数１ないし８
のアシル基を表す。）で表される基を表し、およびＲ1
およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表
し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素
原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ない
し７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくはＲ1 、
Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって、５
ないし１０員複素環を形成し、ｎ1 は２ないし５０の整
数を表し、およびＲ1 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくと
も１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表
し、成分ｂ）は少なくとも１種の式ＩＩＩ
キル基、Ｏ・、−ＣＨ2ＣＮ、炭素原子数３ないし６の
アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基、フェニル核において炭素原子数１ないし４のアル
キル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基を表すか、もしくは炭素原子数１ないし８
のアシル基を表す。）で表される基を表し、およびＲ1
およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表
し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素
原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ない
し７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくはＲ1 、
Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって、５
ないし１０員複素環を形成し、ｎ1 は２ないし５０の整
数を表し、およびＲ1 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくと
も１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表
し、成分ｂ）は少なくとも１種の式ＩＩＩ
【化２２】 〔式中、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし
４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭
素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフ
ェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子
数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは
式ＩＩの基を表し、Ｒ7 は炭素原子数２ないし１８のア
ルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン
基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭
素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、
もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一
緒になって５ないし１０員複素環を形成し、Ｒ9 および
Ｒ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素
原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、
ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキ
ル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし
９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよ
び／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基によ
り置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくはＲ
9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって、５な
いし１０員複素環を形成し、ｎ2 は２ないし５０の整数
を表し、およびＲ6 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10のうち少な
くとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を
表し、成分ｃ）は次式ＩＶａで表されるポリアミンとシ
アヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、次
式ＩＶｂで表される化合物と反応させることにより得ら
れる生成物
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし
４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭
素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフ
ェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子
数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは
式ＩＩの基を表し、Ｒ7 は炭素原子数２ないし１８のア
ルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン
基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭
素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、
もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一
緒になって５ないし１０員複素環を形成し、Ｒ9 および
Ｒ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素
原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、
ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキ
ル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし
９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよ
び／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基によ
り置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくはＲ
9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって、５な
いし１０員複素環を形成し、ｎ2 は２ないし５０の整数
を表し、およびＲ6 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10のうち少な
くとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を
表し、成分ｃ）は次式ＩＶａで表されるポリアミンとシ
アヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、次
式ＩＶｂで表される化合物と反応させることにより得ら
れる生成物
【化２３】 （上記式中、ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々
互いに独立して２ないし１２の整数を表し、Ｒ11は水素
原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしく
は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、
およびＲ12はＲ5 に与えられた意味の内の１つを表
す。）であり、成分ｄ）は少なくとも１つの次式Ｖａお
よびＶｂ
互いに独立して２ないし１２の整数を表し、Ｒ11は水素
原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしく
は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、
およびＲ12はＲ5 に与えられた意味の内の１つを表
す。）であり、成分ｄ）は少なくとも１つの次式Ｖａお
よびＶｂ
【化２４】 （式中、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ない
し５０の整数を表す。）で表される化合物を表す安定剤
混合物〔但し、少なくとも１つの式Ｉの化合物、少なく
とも１つの式ＩＩＩの化合物および少なくとも１つの次
式ＶＩ
し５０の整数を表す。）で表される化合物を表す安定剤
混合物〔但し、少なくとも１つの式Ｉの化合物、少なく
とも１つの式ＩＩＩの化合物および少なくとも１つの次
式ＶＩ
【化２５】 （式中、Ｒ13は水素原子もしくはメチル基を表し、Ｒ14
は直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキレ
ン基を表し、およびｎ5 は２ないし１００の整数を表
す。）で表される化合物からなる安定剤混合物は除かれ
る。〕に関する。
は直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキレ
ン基を表し、およびｎ5 は２ないし１００の整数を表
す。）で表される化合物からなる安定剤混合物は除かれ
る。〕に関する。
【０００４】１２個までの炭素原子を含有するアルキル
基は、典型的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、第三−ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、１，１，３，３−テト
ラメチルブチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基
もしくはドデシル基である。Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ6 およびＲ
8 の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアル
キル基である。Ｒ10およびＲ11は好ましくは炭素原子数
１ないし８のアルキル基、より特別にはｎ−ブチル基で
ある。Ｒ4 は好ましくは炭素原子数１ないし１０のアル
キル基、より特別には１，１，３，３−テトラメチルブ
チル基である。Ｒ5 の好ましい意味の１つは炭素原子数
１ないし４のアルキル基、より特別にはメチル基であ
る。
基は、典型的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、第三−ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、１，１，３，３−テト
ラメチルブチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基
もしくはドデシル基である。Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ6 およびＲ
8 の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアル
キル基である。Ｒ10およびＲ11は好ましくは炭素原子数
１ないし８のアルキル基、より特別にはｎ−ブチル基で
ある。Ｒ4 は好ましくは炭素原子数１ないし１０のアル
キル基、より特別には１，１，３，３−テトラメチルブ
チル基である。Ｒ5 の好ましい意味の１つは炭素原子数
１ないし４のアルキル基、より特別にはメチル基であ
る。
【０００５】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基は典型的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基
もしくはシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし
７のシクロアルキル基が好ましく、より特別にはシクロ
ヘキシル基である。他の好ましいＲ4 の意味はシクロヘ
キシル基である。
基は典型的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基
もしくはシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし
７のシクロアルキル基が好ましく、より特別にはシクロ
ヘキシル基である。他の好ましいＲ4 の意味はシクロヘ
キシル基である。
【０００６】炭素原子数１ないし４のアルキル基置換さ
れた炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は典型
的にはメチルシクロヘキシル基もしくはジメチルシクロ
ヘキシル基である。
れた炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は典型
的にはメチルシクロヘキシル基もしくはジメチルシクロ
ヘキシル基である。
【０００７】ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし
１０のアルキル基により置換されたフェニル基は典型的
にはメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチ
ルフェニル基、第三−ブチルフェニル基もしくは３，５
−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基であ
る。
１０のアルキル基により置換されたフェニル基は典型的
にはメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチ
ルフェニル基、第三−ブチルフェニル基もしくは３，５
−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基であ
る。
【０００８】炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基は好ましくはベンジル基である。
基は好ましくはベンジル基である。
【０００９】フェニル核においてＯＨおよび／もしくは
炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的に
はメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、第三−ブチルベンジル基もしくは３，５−
ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的に
はメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、第三−ブチルベンジル基もしくは３，５−
ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
【００１０】フェニル核において炭素原子数１ないし４
のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基は典型的にはメチルベンジル基、ジ
メチルベンジル基、トリメチルベンジル基もしくは第三
−ブチルベンジル基である。
のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基は典型的にはメチルベンジル基、ジ
メチルベンジル基、トリメチルベンジル基もしくは第三
−ブチルベンジル基である。
【００１１】炭素原子数３ないし６のアルケニル基は典
型的にはアリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペン
テニル基およびヘキセニル基である。アリル基が好まし
い。
型的にはアリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペン
テニル基およびヘキセニル基である。アリル基が好まし
い。
【００１２】炭素原子数１ないし８のアシル基として定
義されたＲ5 は好ましくは炭素原子数１ないし８のアル
カノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル基も
しくはベンゾイル基である。具体例はホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル
基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、
アクリロイル基およびクロトノニル基である。
義されたＲ5 は好ましくは炭素原子数１ないし８のアル
カノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル基も
しくはベンゾイル基である。具体例はホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル
基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、
アクリロイル基およびクロトノニル基である。
【００１３】１８個までの炭素原子を含有するアルキレ
ン基は典型的にはエチレン基、プロピレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２
−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメ
チルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレ
ン基、ウンデカメチレン基およびドデカメチレン基であ
る。Ｒ2 およびＲ7 は好ましくは炭素原子数２ないし６
のアルキレン基である。Ｒ2 およびＲ7 は最も好ましく
はヘキサメチレン基である。
ン基は典型的にはエチレン基、プロピレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２
−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメ
チルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレ
ン基、ウンデカメチレン基およびドデカメチレン基であ
る。Ｒ2 およびＲ7 は好ましくは炭素原子数２ないし６
のアルキレン基である。Ｒ2 およびＲ7 は最も好ましく
はヘキサメチレン基である。
【００１４】炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン
基はシクロヘキシレン基により例示される。
基はシクロヘキシレン基により例示される。
【００１５】炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ
（炭素原子数５ないし７のシクロアルイキレン）基は、
メチレンジシクロヘキシレン基により例示される。
（炭素原子数５ないし７のシクロアルイキレン）基は、
メチレンジシクロヘキシレン基により例示される。
【００１６】結合する窒素原子と一緒になってＲ1 、Ｒ
2 およびＲ3 もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 により形成
される５ないし１０員複素環は典型的には、次式
2 およびＲ3 もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 により形成
される５ないし１０員複素環は典型的には、次式
【化２６】 で表される。６員複素環が好ましい。
【００１７】結合する窒素原子と一緒になってＲ9 およ
びＲ10により形成された５ないし１０員複素環は、典型
的には１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニ
ル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−ト
リメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，
５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基であ
る。次式
びＲ10により形成された５ないし１０員複素環は、典型
的には１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニ
ル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−ト
リメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，
５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基であ
る。次式
【化２７】 で表される基が最も好ましいモルホリノ基である。
【００１８】Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ6 およびＲ8 は最も好まし
くは式ＩＩの基である。
くは式ＩＩの基である。
【００１９】成分ａ）ないしｄ）として記載された化合
物はそれ自体知られており（いくつかは商業的に入手可
能である）そして知られている方法、特に米国特許発明
明細書第４０８６２０４号、同第４３３１５８６号およ
び同第４４７７６１５号、ケミカルアブストラクト−Ｃ
ＡＳ(Chemical Abstract CAS) Ｎｏ．１３６５０４−９
６−６および米国特許発明明細書第４３４０５３４号に
おいて記載された方法により製造され得る。
物はそれ自体知られており（いくつかは商業的に入手可
能である）そして知られている方法、特に米国特許発明
明細書第４０８６２０４号、同第４３３１５８６号およ
び同第４４７７６１５号、ケミカルアブストラクト−Ｃ
ＡＳ(Chemical Abstract CAS) Ｎｏ．１３６５０４−９
６−６および米国特許発明明細書第４３４０５３４号に
おいて記載された方法により製造され得る。
【００２０】成分ｃ）は知られている方法に類似して、
都合良くは式ＩＶａのポリアミンを塩化シアヌルと１：
２ないし１：４のモル比において有機溶媒例えば、１，
２−ジクロルエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、
ジオキサンもしくは第三アミルアルコール中の無水リチ
ウム、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの存在下に
おいて−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−１０℃な
いし＋１０℃、最も好ましくは０℃ないし＋１０℃の温
度範囲において２ないし８時間反応させ、そして続いて
得られる生成物を式ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルアミンと反応させることより製造
される。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ルアミンと式ＩＶａのポリアミンのモル比は都合良くは
４：１ないし８：１である。２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルアミンの量は全部一度にもしくは
数時間の間隔ごとにいくらかずつ増量して加えられる。
都合良くは式ＩＶａのポリアミンを塩化シアヌルと１：
２ないし１：４のモル比において有機溶媒例えば、１，
２−ジクロルエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、
ジオキサンもしくは第三アミルアルコール中の無水リチ
ウム、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの存在下に
おいて−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−１０℃な
いし＋１０℃、最も好ましくは０℃ないし＋１０℃の温
度範囲において２ないし８時間反応させ、そして続いて
得られる生成物を式ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルアミンと反応させることより製造
される。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ルアミンと式ＩＶａのポリアミンのモル比は都合良くは
４：１ないし８：１である。２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルアミンの量は全部一度にもしくは
数時間の間隔ごとにいくらかずつ増量して加えられる。
【００２１】式ＩＶａのポリアミン：塩化シアヌル：式
ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ルアミンの比は好ましくは１：３：５ないし１：３：６
である。
ＩＶｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ルアミンの比は好ましくは１：３：５ないし１：３：６
である。
【００２２】以下は好ましい成分ｃ）を製造する１つの
方法を構成する。
方法を構成する。
【００２３】攪拌しながら、塩化シアヌル２３．６ｇ
（０．１２８モル）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロ
ピル］エチレンジアミン７．４３ｇ（０．０４２６モ
ル）および無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を
１，２−ジクロルエタン２５０ｍｌ中で５℃において３
時間反応させた。混合物をさらに４時間室温まで暖め
た。その後Ｎ−（２，２，６，６）−テトラメチル−４
−ピペリジル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８モ
ル）を加えてそして得られた混合物を２時間６０℃まで
加熱した。他の無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モ
ル）を加えてそして混合物をさらに６時間６０℃におい
て加熱した。溶媒をわずかに真空下において（２００ｍ
ｂａｒ）蒸留除去しそしてキシレンで置きかえた。その
後Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブチルアミン１８．２ｇ（０．０８５モル）および
粉砕した水酸化ナトリウム５．２ｇ（０．１３モル）を
加えそして混合物を２時間還流しそして反応水を共沸物
としてさらに１２時間にわたる蒸留により取り除いた。
混合物をろ過した。溶液を水で洗浄しそしてＮａ2 ＳＯ
4 上で乾燥させた。溶媒を蒸発により取り除きそして残
渣を１２０ないし１３０℃において真空下（０．１ｍｂ
ａｒ）において乾燥させた。成分ｃ）が無色の樹脂とし
て得られた。成分ｃ）は典型的には次式ＩＶ−１、ＩＶ
−２もしくはＩＶ−３の化合物の形態にある。それはこ
れら３つの化合物の混合物としてもまた得られ得る。
（０．１２８モル）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロ
ピル］エチレンジアミン７．４３ｇ（０．０４２６モ
ル）および無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を
１，２−ジクロルエタン２５０ｍｌ中で５℃において３
時間反応させた。混合物をさらに４時間室温まで暖め
た。その後Ｎ−（２，２，６，６）−テトラメチル−４
−ピペリジル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８モ
ル）を加えてそして得られた混合物を２時間６０℃まで
加熱した。他の無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モ
ル）を加えてそして混合物をさらに６時間６０℃におい
て加熱した。溶媒をわずかに真空下において（２００ｍ
ｂａｒ）蒸留除去しそしてキシレンで置きかえた。その
後Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブチルアミン１８．２ｇ（０．０８５モル）および
粉砕した水酸化ナトリウム５．２ｇ（０．１３モル）を
加えそして混合物を２時間還流しそして反応水を共沸物
としてさらに１２時間にわたる蒸留により取り除いた。
混合物をろ過した。溶液を水で洗浄しそしてＮａ2 ＳＯ
4 上で乾燥させた。溶媒を蒸発により取り除きそして残
渣を１２０ないし１３０℃において真空下（０．１ｍｂ
ａｒ）において乾燥させた。成分ｃ）が無色の樹脂とし
て得られた。成分ｃ）は典型的には次式ＩＶ−１、ＩＶ
−２もしくはＩＶ−３の化合物の形態にある。それはこ
れら３つの化合物の混合物としてもまた得られ得る。
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【００２４】好ましい式ＩＶ−１の意味は次式
【化３１】 で表されるものである。
【００２５】好ましい式ＩＶ−２の意味は次式
【化３２】 で表されるものである。
【００２６】好ましい式ＩＶ−３の意味は次式
【化３３】 で表されるものである。
【００２７】上記式ＩＶ−１ないしＩＶ−３において、
ｎ3 は好ましくは１ないし２０を表す。
ｎ3 は好ましくは１ないし２０を表す。
【００２８】成分ａ）として商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲ
Ｂ９４４もしくは商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２、成分
ｂ）として商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６、成分
ｃ）として商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８、および成
分ｄ）としてＨＯＳＴＡＶＩＮＮ３０を使用することが
好ましい。
Ｂ９４４もしくは商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２、成分
ｂ）として商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６、成分
ｃ）として商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８、および成
分ｄ）としてＨＯＳＴＡＶＩＮＮ３０を使用することが
好ましい。
【００２９】式ＶＩの化合物は好ましくは商標名ＴＩＮ
ＵＶＩＮ６２２でありまた米国特許発明明細書第４２３
３４１２号において記載されている方法に類似して製造
され得る。
ＵＶＩＮ６２２でありまた米国特許発明明細書第４２３
３４１２号において記載されている方法に類似して製造
され得る。
【００３０】式ＶａおよびＶｂの化合物は混合物として
得られ、その場合Ｖａ：Ｖｂの比は都合良くは２０：１
ないし１：２０もしくは１：１０ないし１０：１であ
る。
得られ、その場合Ｖａ：Ｖｂの比は都合良くは２０：１
ないし１：２０もしくは１：１０ないし１０：１であ
る。
【００３１】式Ｉ、ＩＩＩ、ＩＶａ、ＩＶｂ、Ｖａおよ
びＶｂの化合物において自由価を飽和させる末端基の意
味は前記化合物の製造に使用される方法に依存する。末
端基はまた化合物の合成の後にさらに変性され得る。
びＶｂの化合物において自由価を飽和させる末端基の意
味は前記化合物の製造に使用される方法に依存する。末
端基はまた化合物の合成の後にさらに変性され得る。
【００３２】式ＩおよびＩＩＩの製造が次式
【化３４】 （式中、Ｘは典型的には水素原子、好ましくは塩素原子
を表し、およびＲ4 、Ｒ9 およびＲ10は上記で与えられ
た意味を有する。）で表される化合物を次式
を表し、およびＲ4 、Ｒ9 およびＲ10は上記で与えられ
た意味を有する。）で表される化合物を次式
【化３５】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は上
記で与えられた意味を有する。）で表される化合物と反
応させることにより行われる場合、その後にジアミノ基
に結合する末端基は水素原子もしくは次式
記で与えられた意味を有する。）で表される化合物と反
応させることにより行われる場合、その後にジアミノ基
に結合する末端基は水素原子もしくは次式
【化３６】 で表され、トリアジン基に結合する末端基はＸもしくは
次式
次式
【化３７】 で表される。
【００３３】もしＸがハロゲン置換基である場合、それ
は都合良くは反応後に例えば−ＯＨもしくはアミノ基に
より置換される。適したアミノ基は典型的には、ピロリ
ジニ−１−イル基、モルホリノ基、−ＮＨ2 、−Ｎ（炭
素原子数１ないし８のアルキル）2 および−ＮＲ（炭素
原子数１ないし８のアルキル）（式中、Ｒは水素原子も
しくは式ＩＩの基を表す。）である。
は都合良くは反応後に例えば−ＯＨもしくはアミノ基に
より置換される。適したアミノ基は典型的には、ピロリ
ジニ−１−イル基、モルホリノ基、−ＮＨ2 、−Ｎ（炭
素原子数１ないし８のアルキル）2 および−ＮＲ（炭素
原子数１ないし８のアルキル）（式中、Ｒは水素原子も
しくは式ＩＩの基を表す。）である。
【００３４】式ＩＶの化合物において、トリアジン基に
結合する末端基は典型的にはＣｌもしくは次式
結合する末端基は典型的にはＣｌもしくは次式
【化３８】 であり、またアミノ基に結合する末端基は典型的には水
素原子もしくは次式
素原子もしくは次式
【化３９】 で表される。
【００３５】式Ｖａの化合物において、窒素原子に結合
する末端基は典型的には水素原子を表し、また２−ヒド
ロキシプロピレン基に結合する末端基は典型的には次式
する末端基は典型的には水素原子を表し、また２−ヒド
ロキシプロピレン基に結合する末端基は典型的には次式
【化４０】 で表される。
【００３６】式Ｖｂの化合物において、ジメチレン基に
結合する末端基は典型的には−ＯＨであり、また酸素原
子に結合する末端基水素原子である。末端基はまたポリ
エーテル基である。
結合する末端基は典型的には−ＯＨであり、また酸素原
子に結合する末端基水素原子である。末端基はまたポリ
エーテル基である。
【００３７】式ＶＩの化合物が次式
【化４１】 （式中、Ｒ13は水素原子もしくはメチル基を表す。）で
表される化合物を次式 Ｙ−ＯＯＣ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙ （式中、Ｙはメチル基、エチル基もしくはプロピル基を
表し、およびＲ14は上記で与えられた意味を有する。）
で表される化合物と反応させることにより製造される場
合、２，２，６，６−テトラメチル−４−オキシピペリ
ジニ−１−イル基に結合する末端基は水素原子もしくは
−ＣＯ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙを表し、ジアシル基に結合す
る末端基−Ｏ−Ｙもしくは次式
表される化合物を次式 Ｙ−ＯＯＣ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙ （式中、Ｙはメチル基、エチル基もしくはプロピル基を
表し、およびＲ14は上記で与えられた意味を有する。）
で表される化合物と反応させることにより製造される場
合、２，２，６，６−テトラメチル−４−オキシピペリ
ジニ−１−イル基に結合する末端基は水素原子もしくは
−ＣＯ−Ｒ14−ＣＯＯ−Ｙを表し、ジアシル基に結合す
る末端基−Ｏ−Ｙもしくは次式
【化４２】 で表される。
【００３８】以下の安定剤系は本発明の特に好ましい態
様である。 １）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名Ｃ
ＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系 ２）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名Ｕ
ＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系 ３）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＣＹＡＳ
ＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系 ４）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＵＶＡＳ
ＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系 ５）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名Ｈ
ＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ６）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＨＯＳＴ
ＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ７）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名
ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ８）商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８および商標名ＨＯ
ＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ９）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名
ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系、および １０）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名
ＤＡＳＴＩＢ １０８２からなる安定剤系
様である。 １）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名Ｃ
ＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系 ２）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名Ｕ
ＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系 ３）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＣＹＡＳ
ＯＲＢ ＵＶ３３４６からなる安定剤系 ４）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＵＶＡＳ
ＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系 ５）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名Ｈ
ＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ６）商標名ＤＡＳＴＩＢ１０８２および商標名ＨＯＳＴ
ＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ７）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名
ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ８）商標名ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８および商標名ＨＯ
ＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０からなる安定剤系 ９）商標名ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ３３４６および商標名
ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ８８からなる安定剤系、および １０）商標名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４および商標名
ＤＡＳＴＩＢ １０８２からなる安定剤系
【００３９】好ましい本発明の態様は、少なくとも１つ
の成分ａ）の化合物および少なくとも１つの成分ｂ）も
しくは成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは少なくと
も１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少
なくとも１つの成分ｄ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ｂ）の化合物および少なくとも１
つの成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは、少なくと
も２つの成分ａ）の化合物よりなる系である。
の成分ａ）の化合物および少なくとも１つの成分ｂ）も
しくは成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは少なくと
も１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少
なくとも１つの成分ｄ）の化合物よりなるか、もしくは
少なくとも１つの成分ｂ）の化合物および少なくとも１
つの成分ｃ）の化合物よりなるか、もしくは、少なくと
も２つの成分ａ）の化合物よりなる系である。
【００４０】また好ましいものは、Ｒ5 が水素原子、炭
素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル
基もしくはアセチル基、好ましくは水素原子もしくはメ
チル基を表すところの安定剤混合物である。
素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル
基もしくはアセチル基、好ましくは水素原子もしくはメ
チル基を表すところの安定剤混合物である。
【００４１】他の好ましい安定剤混合物は、式中、
Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立して炭素原子数
１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシ
クロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置
換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フ
ェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４
のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数
７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核において
−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、およ
びＲ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原
子を表し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしく
は炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数
５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になっ
て５ないし７員複素環を形成し、およびｎ1 は２ないし
４０の整数を表し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立し
て水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１
ないし４のアルキル基置換炭素原子数５ないし７のシク
ロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニ
ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フ
ェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１な
いし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ない
し９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの
基を表し、Ｒ7 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしく
は炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数
５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一緒になっ
て５ないし７員複素環を形成し、Ｒ9 およびＲ10は各々
他方と独立して炭素原子数１ないし１０のアルキル基、
炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数
１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし
７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もし
くは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換され
たフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは
式ＩＩの基を表し、もしくはＲ9 およびＲ10は結合する
窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、
およびｎ2 は２ないし４０の整数を表し、ｎ4 およびｎ
4 * は各々他方と独立して２ないし４０の整数を表すと
ころの安定剤混合物である。
Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立して炭素原子数
１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシ
クロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置
換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フ
ェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４
のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数
７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核において
−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、およ
びＲ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原
子を表し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしく
は炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数
５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になっ
て５ないし７員複素環を形成し、およびｎ1 は２ないし
４０の整数を表し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立し
て水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１
ないし４のアルキル基置換炭素原子数５ないし７のシク
ロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニ
ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フ
ェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１な
いし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ない
し９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの
基を表し、Ｒ7 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしく
は炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数
５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくは
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一緒になっ
て５ないし７員複素環を形成し、Ｒ9 およびＲ10は各々
他方と独立して炭素原子数１ないし１０のアルキル基、
炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数
１ないし４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし
７のシクロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もし
くは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換され
たフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは
式ＩＩの基を表し、もしくはＲ9 およびＲ10は結合する
窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、
およびｎ2 は２ないし４０の整数を表し、ｎ4 およびｎ
4 * は各々他方と独立して２ないし４０の整数を表すと
ころの安定剤混合物である。
【００４２】また好ましいものは、式中、Ｒ1 およびＲ
3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし
８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキ
ル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表
し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シク
ロヘキシレン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレ
ン）基を表し、Ｒ4 は炭素原子数１ないし１０のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基もしく
は炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル基を表し、およびｎ1
は２ないし２５の整数を表し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他
方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェ
ニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表し、Ｒ7 は
炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロヘキシレ
ン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレン）基を表
し、Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１
ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの
基を表すか、もしくはＲ9 およびＲ10は結合する窒素原
子と一緒になって１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モ
ルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピ
ペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，
５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは
４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル
基を表し、およびｎ2 は２ないし２５の整数を表し、お
よびｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２
５の整数を表すところの安定剤混合物である。
3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし
８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキ
ル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表
し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シク
ロヘキシレン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレ
ン）基を表し、Ｒ4 は炭素原子数１ないし１０のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基もしく
は炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル基を表し、およびｎ1
は２ないし２５の整数を表し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他
方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェ
ニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表し、Ｒ7 は
炭素原子数２ないし８のアルキレン基、シクロヘキシレ
ン基もしくはメチレン−ジ（シクロヘキシレン）基を表
し、Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１
ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキル基、フェニル基、ベンジル基もしくは式ＩＩの
基を表すか、もしくはＲ9 およびＲ10は結合する窒素原
子と一緒になって１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モ
ルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピ
ペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，
５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは
４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル
基を表し、およびｎ2 は２ないし２５の整数を表し、お
よびｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２
５の整数を表すところの安定剤混合物である。
【００４３】少なくとも１つの成分ａ）の化合物および
少なくとも１つの成分ｂ）の化合物よりなる安定剤混合
物が特に好ましい。
少なくとも１つの成分ｂ）の化合物よりなる安定剤混合
物が特に好ましい。
【００４４】式Ｉの化合物および式ＩＩＩの化合物より
なる安定剤混合物がまた好ましい。
なる安定剤混合物がまた好ましい。
【００４５】本発明の他の好ましい態様は、少なくとも
１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少な
くとも１つの成分ｄ）の化合物よりなる安定剤混合物で
ある。
１つの成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）の化合物および少な
くとも１つの成分ｄ）の化合物よりなる安定剤混合物で
ある。
【００４６】同一もしくは異なる、変数ｎ1 、ｎ2 、ｎ
4 およびｎ4 * は好ましくは２ないし２０、より特別に
は２ないし２５、典型的には２ないし２０もしくは２な
いし１０の整数を表す。
4 およびｎ4 * は好ましくは２ないし２０、より特別に
は２ないし２５、典型的には２ないし２０もしくは２な
いし１０の整数を表す。
【００４７】ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々
互いに独立して好ましくは２ないし４を表す。
互いに独立して好ましくは２ないし４を表す。
【００４８】本発明の他の好ましい態様は、式中、Ｒ1
およびＲ3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数
１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は
水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を表し、Ｒ2
は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、Ｒ4 は
炭素原子数１ないし１０のアルキル基もしくはシクロヘ
キシル基を表し、およびｎ1 は２ないし２０の整数を表
し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭
素原子数１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式
中、Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を
表し、およびＲ7 は炭素原子数２ないし６のアルキレン
基を表し、Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原
子数１ないし８のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ
5 は上記で与えられた意味を有する。）の基を表し、も
しくはＲ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になっ
てモルホリノ基を表し、およびｎ2 は２ないし２０の整
数を表し、およびｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立し
て２ないし２０の整数を表すところの安定剤混合物であ
る。
およびＲ3 は各々他方と独立して水素原子、炭素原子数
１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は
水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を表し、Ｒ2
は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、Ｒ4 は
炭素原子数１ないし１０のアルキル基もしくはシクロヘ
キシル基を表し、およびｎ1 は２ないし２０の整数を表
し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭
素原子数１ないし４のアルキル基もしくは式ＩＩ（式
中、Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を表す。）の基を
表し、およびＲ7 は炭素原子数２ないし６のアルキレン
基を表し、Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原
子数１ないし８のアルキル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ
5 は上記で与えられた意味を有する。）の基を表し、も
しくはＲ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になっ
てモルホリノ基を表し、およびｎ2 は２ないし２０の整
数を表し、およびｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立し
て２ないし２０の整数を表すところの安定剤混合物であ
る。
【００４９】本発明の特に好ましい態様は、式Ｉの化合
物は次式
物は次式
【化４３】 で表されるかもしくは次式
【化４４】 で表され、および式ＩＩＩの化合物は次式
【化４５】 で表され、ｎ1 、ｎ2 、ｎ4 およびｎ4 * は各々互いに
独立して２ないし２０の整数を表すところの安定剤混合
物である。
独立して２ないし２０の整数を表すところの安定剤混合
物である。
【００５０】本発明のさらに特に好ましい態様は、次式
【化４６】 および次式
【化４７】 （式中、ｎ1 およびｎ2 は各々他方と独立して２ないし
２０の整数を表す。）で表される両化合物よりなるとこ
ろの安定剤混合物である。
２０の整数を表す。）で表される両化合物よりなるとこ
ろの安定剤混合物である。
【００５１】成分ｃ）の好ましい態様において、ｎ
3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々互いに独立して
２ないし４の整数を表し、Ｒ11は炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表し、およびＲ12は水素原子を表す。
3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々互いに独立して
２ないし４の整数を表し、Ｒ11は炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表し、およびＲ12は水素原子を表す。
【００５２】成分ｃ）は最も好ましくは次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる生成物を、次式
ることより得られる生成物を、次式
【化４８】 で表される化合物と反応させることより得られる生成物
である。
である。
【００５３】本発明の他の特に好ましい態様は、次のと
おりである。 （１）次式
おりである。 （１）次式
【化４９】 （式中、ｎ1 は２ないし２０の整数を表す。）で表され
る化合物、および次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる生成物を、次式
る化合物、および次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる生成物を、次式
【化５０】 で表される化合物と反応させることより得られる生成物
よりなるところの安定剤混合物。
よりなるところの安定剤混合物。
【００５４】（２）式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 およ
びｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表
す。）で表される化合物、および次式
びｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表
す。）で表される化合物、および次式
【化５１】 もしくは次式
【化５２】 （上記式中、ｎ1 およびｎ2 は各々他方と独立して２な
いし２０の整数を表す。）で表される化合物の混合物よ
りなるところの安定剤混合物。
いし２０の整数を表す。）で表される化合物の混合物よ
りなるところの安定剤混合物。
【００５５】（３）式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 およ
びｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表
す。）で表される化合物、および次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる反応生成物を、次式
びｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表
す。）で表される化合物、および次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる反応生成物を、次式
【化５３】 で表される化合物と反応させることにより得られる生成
物の混合物よりなるところの安定剤混合物。
物の混合物よりなるところの安定剤混合物。
【００５６】（４）次式
【化５４】 （式中、ｎ2 は２ないし２０の整数を表す。）で表され
る化合物と、次式Ｈ2 Ｎ −（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる生成物を、次式
る化合物と、次式Ｈ2 Ｎ −（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる生成物を、次式
【化５５】 で表される化合物と反応させることにより得られる生成
物よりなるところの安定剤混合物。
物よりなるところの安定剤混合物。
【００５７】本発明の安定剤混合物は、熱、酸化または
光により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化させ
るのに適している。
光により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化させ
るのに適している。
【００５８】そのような有機材料の例は以下のようなも
のである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分
子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および
超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度
ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、
枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
のである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分
子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および
超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度
ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、
枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００５９】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、好まし
くは以下の方法により製造できる： ａ）（通常、高圧および高められた温度においての）ラ
ジカル重合 ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属
の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属
は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素であ
る。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）
〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）
と称されるものである。
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、好まし
くは以下の方法により製造できる： ａ）（通常、高圧および高められた温度においての）ラ
ジカル重合 ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属
の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属
は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素であ
る。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）
〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）
と称されるものである。
【００６０】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００６１】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【００６２】４. それらの水素化変性物（例えば粘着付
与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
【００６３】５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００６４】６．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；高衝撃強度のスチレンコポリマーと他のポリマー、
例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレ
ン／プロピレン／ジエンターポリマーとの混合物；およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；高衝撃強度のスチレンコポリマーと他のポリマー、
例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレ
ン／プロピレン／ジエンターポリマーとの混合物；およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００６５】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタア
クリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタア
クリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
【００６６】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの
塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩
素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレン
および塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリ
ンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン含有ビ
ニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ
化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまた
は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
ロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの
塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩
素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレン
および塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリ
ンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン含有ビ
ニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ
化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまた
は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００６７】９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；ブチル
アクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレー
ト。
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；ブチル
アクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレー
ト。
【００６８】10．上記９に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【００６９】11．不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
【００７０】12．環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００７１】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００７２】14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
【００７３】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
【００７４】16. ジアミンおよびジカルボン酸および／
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよび
アジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；
ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／ま
たはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラ
ストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，
４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミ
ドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さら
に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフ
トしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこ
れらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレング
リコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢ
Ｓで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の
間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよび
アジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；
ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／ま
たはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラ
ストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，
４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミ
ドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さら
に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフ
トしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこ
れらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレング
リコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢ
Ｓで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の
間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００７５】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポ
リヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポ
リヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
【００７６】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカー
ボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカー
ボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
【００７７】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。
−カーボネート。
【００７８】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
およびポリエーテルケトン。
【００７９】21．一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。
【００８０】22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００８１】23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００８２】24．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
【００８３】25．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネ
ート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエ
ポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹脂、ポリエステル
樹脂およびアクリレート樹脂。
ート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエ
ポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹脂、ポリエステル
樹脂およびアクリレート樹脂。
【００８４】26．所望により促進剤を使用してアルデヒ
ドまたはアミンのような慣用の硬化剤により架橋する、
脂肪族、環状脂肪族、複素環式、芳香族グリシジルエー
テル、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦ
のジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架橋エ
ポキシ樹脂。
ドまたはアミンのような慣用の硬化剤により架橋する、
脂肪族、環状脂肪族、複素環式、芳香族グリシジルエー
テル、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦ
のジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架橋エ
ポキシ樹脂。
【００８５】27．天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
【００８６】28．前述のポリマーの混合物（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ
／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ
／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００８７】29．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびに典型的には紡糸組成物として用い
られるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合
物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびに典型的には紡糸組成物として用い
られるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合
物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。
【００８８】30．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００８９】本発明はさらに酸化、熱または光に誘発さ
れる崩壊を受けやすい有機材料、および本発明の安定剤
混合物よりなる組成物にも関する。
れる崩壊を受けやすい有機材料、および本発明の安定剤
混合物よりなる組成物にも関する。
【００９０】有機材料は、好ましくは合成ポリマー、よ
り特別には前記にされた群より選択された１つのポリマ
ーである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレ
ン、ポリプロピレンおよびそれらのコポリマーが特に好
ましい。
り特別には前記にされた群より選択された１つのポリマ
ーである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレ
ン、ポリプロピレンおよびそれらのコポリマーが特に好
ましい。
【００９１】本発明の安定剤系の化合物は単独でもしく
は各々互いに混合物として安定化されるべき材料中に混
入される。化合物は都合良くは各々互いに独立して０．
０１ないし４．９９％の量で使用される、但し安定剤混
合物の全量は、好ましくは安定化されるべき材料の全重
量に基づいて０．０２ないし５％である。
は各々互いに混合物として安定化されるべき材料中に混
入される。化合物は都合良くは各々互いに独立して０．
０１ないし４．９９％の量で使用される、但し安定剤混
合物の全量は、好ましくは安定化されるべき材料の全重
量に基づいて０．０２ないし５％である。
【００９２】安定剤系の全重量は好ましくは安定化され
るべき材料の全重量に基づいて０．０５ないし３％であ
り、特別には０．０５ないし２％もしくは０．０５ない
し１％である。
るべき材料の全重量に基づいて０．０５ないし３％であ
り、特別には０．０５ないし２％もしくは０．０５ない
し１％である。
【００９３】本発明の安定剤系２つの化合物の重量比は
好ましくは２０：１ないし１：２０であり、特別には１
０：１ないし１：１０、典型的には１：５ないっし５：
１である。
好ましくは２０：１ないし１：２０であり、特別には１
０：１ないし１：１０、典型的には１：５ないっし５：
１である。
【００９４】安定剤混合物もしくは個々の安定剤は、有
機材料中に知られている方法により、都合良くは成形物
品に成形する前もしくは成形している間に混入される
か、または他の方法では有機材料に化合物の溶液もしく
は分散剤を被覆しそして続いて蒸発により溶媒を取り除
くことにより混入される。安定剤混合物の個々の化合物
は安定化される材料中に粉末、顆粒もしくはこれらの化
合物を２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスタ
ーバッチの形態で混入される。
機材料中に知られている方法により、都合良くは成形物
品に成形する前もしくは成形している間に混入される
か、または他の方法では有機材料に化合物の溶液もしく
は分散剤を被覆しそして続いて蒸発により溶媒を取り除
くことにより混入される。安定剤混合物の個々の化合物
は安定化される材料中に粉末、顆粒もしくはこれらの化
合物を２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスタ
ーバッチの形態で混入される。
【００９５】所望により、新規な安定剤混合物の化合物
は、有機材料中に混入される前に各々互いに溶融混合さ
れ得る。
は、有機材料中に混入される前に各々互いに溶融混合さ
れ得る。
【００９６】本発明の安定剤混合物もしくは個々の安定
剤はまた重合中もしくは架橋中に加えられる。
剤はまた重合中もしくは架橋中に加えられる。
【００９７】安定化された材料は、いかなる呈示の形態
で、典型的にはシート、フィラメント、リボン、成形
品、形材もしくは被覆組成物の結合剤、接着剤もしくは
パテの形態にある。
で、典型的にはシート、フィラメント、リボン、成形
品、形材もしくは被覆組成物の結合剤、接着剤もしくは
パテの形態にある。
【００９８】他の異なる慣用の添加剤が安定化された有
機材料中にまた混入され得る。それは典型的には以下に
示されるものである。
機材料中にまた混入され得る。それは典型的には以下に
示されるものである。
【００９９】１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖のまたは側鎖に枝
分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニ
ル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデ
カ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６
−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノー
ルおよびそれらの混合物。
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖のまたは側鎖に枝
分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニ
ル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデ
カ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６
−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノー
ルおよびそれらの混合物。
【０１００】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
【０１０１】１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロ
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
【０１０２】１．４ トコフェロール、例えばα−トコ
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）
【０１０３】１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
【０１０４】１．６ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。
【０１０５】１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフ
タレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト
アセテート。
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフ
タレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト
アセテート。
【０１０６】１．８．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【０１０７】１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【０１０８】１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【０１０９】１．１１． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【０１１０】１．１２． アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。
【０１１１】１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【０１１２】１．１４． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウ
ンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒド
ロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサ
ビシクロ［２．２．２］オクタン。
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウ
ンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒド
ロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサ
ビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１３】１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１１４】１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【０１１５】１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【０１１６】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。
【０１１７】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
【０１１８】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１１９】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【０１２０】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
【０１２１】２．６． 立体障害アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン），４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マ
ロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラ
メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン
−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサ
メチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ
−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン
と１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの
縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチル
アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセ
チル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−
１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４
−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオ
ン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオ
ン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，
Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
との縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルア
ミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−
トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ 登録Ｎｏ．［１３
６５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−
ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デ
カン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウン
デシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生
成物。
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン），４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マ
ロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラ
メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン
−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサ
メチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ
−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン
と１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの
縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチル
アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセ
チル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−
１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４
−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオ
ン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオ
ン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，
Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
との縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルア
ミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−
トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ 登録Ｎｏ．［１３
６５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−
ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デ
カン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウン
デシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生
成物。
【０１２２】２．７． シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
エトキシオキサニリド、２，２′−ジ−オクチルオキシ
−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２′−
ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサ
ニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサ
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシ
オキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エ
チル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
エトキシオキサニリド、２，２′−ジ−オクチルオキシ
−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２′−
ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサ
ニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサ
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシ
オキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エ
チル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。
【０１２３】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）
−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４
−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオ
キシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデ
シルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポ
キシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリ
アジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）
フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−
４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，
４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ
−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４
−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，
５−トリアジン。
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）
−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４
−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオ
キシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデ
シルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポ
キシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリ
アジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）
フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−
４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，
４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ
−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，
５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４
−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，
５−トリアジン。
【０１２４】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポ
イル−ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−
シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポ
イル−ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−
シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【０１２５】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
【０１２６】５． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
【０１２７】６． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【０１２８】７． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
【０１２９】８． 核剤、例えば、４−第三ブチル安息
香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１３０】９． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【０１３１】１０．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、難燃剤、静電防止剤
および発泡剤。
滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、難燃剤、静電防止剤
および発泡剤。
【０１３２】１１. ベンゾフラノンまたはインドリノ
ン、例えばＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−
Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、
ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２
２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８
９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載
されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエ
トキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４
−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベン
ゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第
三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェ
ニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブ
チル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２
−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−
オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシ
フェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−
２−オン。
ン、例えばＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−
Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、
ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２
２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８
９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載
されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエ
トキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４
−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベン
ゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第
三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェ
ニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブ
チル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２
−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−
オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシ
フェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−
２−オン。
【０１３３】安定剤混合物と慣用の添加剤の重量比は、
１：０．５ないし１：５である。
１：０．５ないし１：５である。
【０１３４】本発明のたの目的は、酸化、熱もしくは光
により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化するた
めの新規な安定剤混合物の使用である。
により誘発される崩壊に対して有機材料を安定化するた
めの新規な安定剤混合物の使用である。
【０１３５】安定剤系により安定化された有機材料は実
質的に増強された耐光堅牢度だけでなく、また増強され
た耐熱度に特徴を有する。
質的に増強された耐光堅牢度だけでなく、また増強され
た耐熱度に特徴を有する。
【０１３６】
【発明の実施の態様】本発明はより詳細に以下の実施例
により説明される。全ての百分率は特に断らない限り重
量当りを示す。
により説明される。全ての百分率は特に断らない限り重
量当りを示す。
【０１３７】実施例１ないし４において使用された安定
剤：
剤：
【０１３８】化合物Ａ−１：
【化５６】 （式中、ｎ1 の平均値は４．５を表す。）
【０１３９】化合物Ａ−２：
【化５７】 （式中、ｎ1 の平均値は５．１を表す。）
【０１４０】化合物Ｂ：
【化５８】 （式中、ｎ2 の平均値は３．５を表す。）
【０１４１】化合物Ｃ：次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンとシアヌル酸クロリドとの反応に
より得られる生成物を、次式
より得られる生成物を、次式
【化５９】 で表される化合物と反応させることより得られる生成
物。
物。
【０１４２】化合物Ｄ：次式ＶａおよびＶｂで表される
化合物
化合物
【化６０】 （上記式中、ｎ4 の平均値は約３．９を表し、およびｎ
4 * の平均値は約４．２を表す。）、ＶａとＶｂの比は
約４：１を表す。
4 * の平均値は約４．２を表す。）、ＶａとＶｂの比は
約４：１を表す。
【０１４３】
【実施例】実施例１：ポリプロピレン繊維の光安定化 安定化されていないポリプロピレン粉末（２３０度およ
び２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ
／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中で
カルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス
（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット
０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシ
ウム１部および表１に挙げられた安定剤６部と混合しそ
してその後２２０℃において押出し機から押出しそして
顆粒化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用
溶融紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６０
０ｍ／分の速度において１２．１デジテックス（Dezite
x)のマルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラ
メントを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそ
して撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的
に３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られ
た。これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載
せ、そして２０分間１２０℃のオーブン中で処理し（幅
出しの模擬実験）そして最終的にXenotest 1200 中で暴
露した。
び２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ
／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中で
カルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス
（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット
０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシ
ウム１部および表１に挙げられた安定剤６部と混合しそ
してその後２２０℃において押出し機から押出しそして
顆粒化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用
溶融紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６０
０ｍ／分の速度において１２．１デジテックス（Dezite
x)のマルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラ
メントを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそ
して撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的
に３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られ
た。これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載
せ、そして２０分間１２０℃のオーブン中で処理し（幅
出しの模擬実験）そして最終的にXenotest 1200 中で暴
露した。
【０１４４】安定化作用の表示は、引張強さが５０％減
少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表１に
まとめられる。
少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表１に
まとめられる。
【０１４５】表１：ポリプロピレンマルチフィラメントの光安定化（３．９デジテックス） 引張強さが５０％減少するまでの 安定剤 Xenotest1200中での暴露時間 なし ２７０ ０．６％の化合物Ａ−１ ４０５０ ０．６％の化合物Ｂ−１ ３６００ ０．３％の化合物Ａ−１ ４３５０ および０．３％の化合物Ｂ
【０１４６】実施例２：ポリプロピレン繊維の光安定化 安定化されていないポリプロピレン粉末（２３０℃およ
び２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ
／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中で
カルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス
（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット
０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシ
ウム１部および表２に挙げられた安定剤と混合しそして
その後２２０℃において押出し機から押出しそして顆粒
化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用溶融
紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６００ｍ
／分の速度において１２．１デジテックス（Dezitex)の
マルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラメン
トを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそして
撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的に
３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られた。
これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載せ、
そしてその後Ｃｉ６５ウエザロメータ中で暴露した。
び２．１６ｋｇにおけるメルトインデックス：約１５ｇ
／１０分、）１０００部を、インペラー(impeller)中で
カルシウム３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルモノエチルホスホネート０．５部、トリス
（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット
０．５部、二酸化チタン２．５部、ステアリン酸カルシ
ウム１部および表２に挙げられた安定剤と混合しそして
その後２２０℃において押出し機から押出しそして顆粒
化した。そのようにして得られた顆粒を、実験室用溶融
紡糸ラインにおいて２７０℃の最高温度および６００ｍ
／分の速度において１２．１デジテックス（Dezitex)の
マルチフィラメントに紡糸した。このマルチフィラメン
トを引取撚糸機（draw-twister) 上で引き伸ばしそして
撚った。引き伸ばし率は１：３．２であり、最終的に
３．９デジテックスのマルチフィラメントが得られた。
これらのマルチフィラメントを白色ボール紙上に載せ、
そしてその後Ｃｉ６５ウエザロメータ中で暴露した。
【０１４７】安定化作用の表示は、引張強さが５０％減
少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表２に
まとめられる。
少するまでの暴露時間で示される。結果は以下の表２に
まとめられる。
【０１４８】表２：ポリプロピレンマルチフィラメントの光安定化（３．９デジテックス） 引張強さが５０％減少するまでの 安定剤 Ｃｉ６５ウエザロメータ中での暴露時間 なし ３００ ０．３％の化合物Ａ−１ ３５００ ０．３％の化合物Ｄ ３１７５ ０．１５％の化合物Ａ−１ ３９５０ および０．１５％の化合物Ｄ
【０１４９】実施例３：ポリプロピレンブロックコポリ
マーシートの光安定化 ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部、ペン
タエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−第三
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニ
ル）ホスフィット０．１０部、ステアリン酸カルシウム
０．１部および表３に挙げられた安定剤をブラベンダー
プラストグラフ中において２００℃において１０分間均
質化した。貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り
出しそしてトグルプレス中において２ないし３ｍｍ厚の
板に成形した。ブランク成形品の一部を切り取りそして
２つの高研磨硬質アルミニウムシート間において実験用
油圧プレスを用いて６分間２６０℃において０．５ｍｍ
厚のシートにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて
冷却した。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの
０．５ｍｍシートから打ち抜きしそしてＣｉ６５ウエザ
ロメータ（ブラック標準温度６３±２℃、ぬれなし）中
において暴露した。一定の間隔をおいてこれらの試料を
暴露装置より取り除きそしてそれらのカルボニル基含量
についてＩＲスペクトルメータで調べた。暴露の間カル
ボニル基の消滅の増加はポリマーの光酸化的崩壊の表示
となりそして通常機械的特性の減少と関連している。結
果は以下の表３にまとめられる。
マーシートの光安定化 ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部、ペン
タエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−第三
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニ
ル）ホスフィット０．１０部、ステアリン酸カルシウム
０．１部および表３に挙げられた安定剤をブラベンダー
プラストグラフ中において２００℃において１０分間均
質化した。貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り
出しそしてトグルプレス中において２ないし３ｍｍ厚の
板に成形した。ブランク成形品の一部を切り取りそして
２つの高研磨硬質アルミニウムシート間において実験用
油圧プレスを用いて６分間２６０℃において０．５ｍｍ
厚のシートにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて
冷却した。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの
０．５ｍｍシートから打ち抜きしそしてＣｉ６５ウエザ
ロメータ（ブラック標準温度６３±２℃、ぬれなし）中
において暴露した。一定の間隔をおいてこれらの試料を
暴露装置より取り除きそしてそれらのカルボニル基含量
についてＩＲスペクトルメータで調べた。暴露の間カル
ボニル基の消滅の増加はポリマーの光酸化的崩壊の表示
となりそして通常機械的特性の減少と関連している。結
果は以下の表３にまとめられる。
【０１５０】表３：ポリプロピレンブロックコポリマーシートの光安定化 １３１４時間暴露したの後の 安定剤 カルボニル基の消滅 なし ０．１００（９０時間後） ０．２０％の化合物Ａ−１ ０．０５９ ０．２０％の化合物Ａ−２ ０．１００（１２６０時間後） ０．２０％の化合物Ｄ ０．０５４ ０．１０％の化合物Ｄおよび ０．０２３ ０．１０％の化合物Ａ−１ ０．１０％の化合物Ｄおよび ０．０２５ ０．１０％の化合物Ｃ ０．１０％の化合物Ｄおよび ０．０２６ ０．１０％の化合物Ｂ ０．１０％の化合物Ｄおよび ０．０２０ ０．１０％の化合物Ａ−２ ０．１０％の化合物Ａ−１および ０．０５１ ０．１０％の化合物Ａ−２
【０１５１】実施例４：低密度ポリエチレン（ＰＥ−Ｌ
Ｄ）シートの光安定化 ＰＥ−ＬＤ粉末（密度＝０．９１８ｇ／ｃｍ3 ）１００
部、オクタデシル−３−（３，５−ジ−第三−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０３部お
よび表４に挙げられた安定剤をブラベンダープラストグ
ラフ中において１８０℃において１０分間均質化した。
貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り出しそして
トグルプレスにおいて２ないし３ｍｍ厚の板に成形し
た。ブランク成形品の一部を切り取りそして２つの高研
磨硬質アルミニウムシート間において実験室用油圧プレ
スを用いて６分間１７０℃において０．２ｍｍ厚のシー
トにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて冷却し
た。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの０．２
ｍｍシートから打ち抜きしそして０．１ＮのＨ2 ＳＯ3
溶液中に２４時間浸漬させた（酸性雨の模擬実験）。
Ｃｉ６５ウエザロメータ（ブラック標準温度６３±２
℃、ぬれなし）中において暴露した。一定の間隔をおい
てこれらの試料を暴露装置より取り除きそしてそれらの
カルボニル含量のためにＩＲスペクトロメータで調べ
た。暴露の間のカルボニル基の消滅の増加はポリマーの
光酸化的崩壊の示差となりそして通常機械的特性の減少
と関連している。結果は以下の表４にまとめられる。
Ｄ）シートの光安定化 ＰＥ−ＬＤ粉末（密度＝０．９１８ｇ／ｃｍ3 ）１００
部、オクタデシル−３−（３，５−ジ−第三−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０３部お
よび表４に挙げられた安定剤をブラベンダープラストグ
ラフ中において１８０℃において１０分間均質化した。
貯蔵物をニーダーよりできる限り素早く取り出しそして
トグルプレスにおいて２ないし３ｍｍ厚の板に成形し
た。ブランク成形品の一部を切り取りそして２つの高研
磨硬質アルミニウムシート間において実験室用油圧プレ
スを用いて６分間１７０℃において０．２ｍｍ厚のシー
トにプレス成形し、即座に水冷プレスにおいて冷却し
た。６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法のセグメントをこの０．２
ｍｍシートから打ち抜きしそして０．１ＮのＨ2 ＳＯ3
溶液中に２４時間浸漬させた（酸性雨の模擬実験）。
Ｃｉ６５ウエザロメータ（ブラック標準温度６３±２
℃、ぬれなし）中において暴露した。一定の間隔をおい
てこれらの試料を暴露装置より取り除きそしてそれらの
カルボニル含量のためにＩＲスペクトロメータで調べ
た。暴露の間のカルボニル基の消滅の増加はポリマーの
光酸化的崩壊の示差となりそして通常機械的特性の減少
と関連している。結果は以下の表４にまとめられる。
【０１５２】表４：低密度ポリエチレンシート（ＰＥ−ＬＤ）の光安定化 １９８１時間暴露したの後の 安定剤 カルボニル基の消滅 なし ０．１００（２６０時間後） ０．１５％の化合物Ａ−１ ０．０４５ ０．１５％の化合物Ｂ ０．０２７ ０．１５％の化合物Ｃ ０．０２０ ０．１５％の化合物Ｄ ０．０１６ ０．０７５％の化合物Ａ−１および ０．０１０ ０．０７５％の化合物Ｂ ０．０７５％の化合物Ａ−１および ０．０３１ ０．０７５％の化合物Ｃ ０．０７５％の化合物Ｂおよび ０．０１２ ０．０７５％の化合物Ｃ ０．０７５％の化合物Ｃおよび ０．０２１ ０．０７５％の化合物Ａ−２ ０．０７５％の化合物Ｄおよび ０．００９ ０．０７５％の化合物Ｂ ０．０７５％の化合物Ｄおよび ０．００５ ０．０７５％の化合物Ｃ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00
Claims (19)
- 【請求項１】成分ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）の群より
選択された少なくとも２つの異なる化合物からなる安定
剤混合物であって、成分ａ）は少なくとも１つの次式Ｉ 【化１】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立して、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５な
いし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４の
アルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシクロ
アルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原
子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニ
ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フ
ェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子数１な
いし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７な
いし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは次式Ｉ
Ｉ 【化２】 （式中、Ｒ5 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、Ｏ・、−ＣＨ2ＣＮ、炭素原子数３ないし６の
アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基、フェニル核において炭素原子数１ないし４のアル
キル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基を表すか、もしくは炭素原子数１ないし８
のアシル基を表す。）で表される基を表し、およびＲ1
およびＲ3 は付加的に各々他方と独立して水素原子を表
し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素
原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭素原子数５ない
し７のシクロアルキレン）基を表すか、もしくはＲ1 、
Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原子と一緒になって、５
ないし１０員複素環を形成し、ｎ1 は２ないし５０の整
数を表し、およびＲ1 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくと
も１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表
し、成分ｂ）は少なくとも１種の式ＩＩＩ 【化３】 〔式中、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし
４のアルキル基置換された炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭
素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフ
ェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基、フェニル核においてＯＨおよび／もしくは炭素原子
数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは
式ＩＩの基を表し、Ｒ7 は炭素原子数２ないし１８のア
ルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン
基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジ（炭
素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、
もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合する窒素原子と一
緒になって５ないし１０員複素環を形成し、Ｒ9 および
Ｒ10は各々他方と独立して炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素
原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、
ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキ
ル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし
９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよ
び／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基によ
り置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくはＲ
9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって、５な
いし１０員複素環を形成し、ｎ2 は２ないし５０の整数
を表し、およびＲ6 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10のうち少な
くとも１つは式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を
表し、成分ｃ）は次式ＩＶａで表されるポリアミンとシ
アヌル酸クロリドとの反応により得られる生成物を、次
式ＩＶｂで表される化合物と反応させることにより得ら
れる生成物 【化４】 （上記式中、ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ3 ’’’は各々
互いに独立して２ないし１２の整数を表し、Ｒ11は水素
原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしく
は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、
およびＲ12はＲ5 に与えられた意味の内の１つを表
す。）であり、成分ｄ）は少なくとも１つの次式Ｖａお
よびＶｂ 【化５】 （式中、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２ない
し５０の整数を表す。）で表される化合物を表す安定剤
混合物〔但し、少なくとも１つの式Ｉの化合物、少なく
とも１つの式ＩＩＩの化合物および少なくとも１つの次
式ＶＩ 【化６】 （式中、Ｒ13は水素原子もしくはメチル基を表し、Ｒ14
は直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキレ
ン基を表し、およびｎ5 は２ないし１００の整数を表
す。）で表される化合物からなる安定剤混合物は除かれ
る。〕。 - 【請求項２】 少なくとも１つの成分ａ）の化合物およ
び少なくとも１つの成分ｂ）もしくは成分ｃ）の化合物
よりなるか、もしくは少なくとも１つの成分ａ）、ｂ）
もしくはｃ）の化合物および少なくとも１つの成分ｄ）
の化合物よりなるか、もしくは少なくとも１つの成分
ｂ）の化合物および少なくとも１つの成分ｃ）の化合物
よりなるか、もしくは、少なくとも２つの成分ａ）の化
合物よりなるところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項３】 Ｒ5 は水素原子、炭素原子数１ないし４
のアルキル基、アリル基、ベンジル基もしくはアセチル
基を表すところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項４】 Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を表す
ところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項５】 Ｒ1 、Ｒ3 およびＲ4 は各々互いに独立
して炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数
５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４
のアルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキル基、フェニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル
基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェ
ニル核において−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１な
いし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ない
し９のフェニルアルキル基を表すか、もしくは式ＩＩの
基を表し、およびＲ1 およびＲ3 は付加的に各々他方と
独立して水素原子を表し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし１
０のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアル
キレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン−
ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表
すか、もしくはＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 は結合する窒素原
子と一緒になって５ないし７員複素環を形成し、および
ｎ1 は２ないし４０の整数を表し、Ｒ6 およびＲ8 は各
々他方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし１０の
アルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換された炭素
原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、Ｏ
Ｈおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基
により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基、フェニル核においてＯＨおよび／
もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換
された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表
すか、もしくは式ＩＩの基を表し、Ｒ7 は炭素原子数２
ないし１０のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシ
クロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアル
キレン−ジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレ
ン）基を表すか、もしくはＲ6 、Ｒ7 およびＲ8 は結合
する窒素原子と一緒になって５ないし７員複素環を形成
し、Ｒ9 およびＲ10は各々他方と独立して炭素原子数１
ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシク
ロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基置換
された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェ
ニル基、ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７
ないし９のフェニルアルキル基、フェニル核においてＯ
Ｈおよび／もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基
により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアル
キル基を表すか、もしくは式ＩＩの基を表し、もしくは
Ｒ9 およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって５な
いし７員複素環を形成し、およびｎ2 は２ないし４０の
整数を表し、ｎ4 およびｎ4 * は各々他方と独立して２
ないし４０の整数を表すところの請求項１記載の安定剤
混合物。 - 【請求項６】 Ｒ1 およびＲ3 は各々他方と独立して水
素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子
数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジ
ル基もしくは式ＩＩの基を表し、Ｒ2 は炭素原子数２な
いし８のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしくはメ
チレン−ジ（シクロヘキシレン）基を表し、Ｒ4 は炭素
原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし
７のシクロアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基置換された炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキル基を表し、およびｎ1 は２ないし２５の整数を表
し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他方と独立して水素原子、炭
素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし
７のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基もしく
は式ＩＩの基を表し、Ｒ7 は炭素原子数２ないし８のア
ルキレン基、シクロヘキシレン基もしくはメチレン−ジ
（シクロヘキシレン）基を表し、Ｒ9 およびＲ10は各々
他方と独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基、フェニル基、
ベンジル基もしくは式ＩＩの基を表すか、もしくはＲ9
およびＲ10は結合する窒素原子と一緒になって１−ピロ
リジル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、１−ピペラジ
ニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１−ヘキサ
ヒドロアゼピニル基、５，５，７−トリメチル−１−ホ
モピペラジニル基もしくは４，５，５，７−テトラメチ
ル−１−ホモピペラジニル基を表し、およびｎ2 は２な
いし２５の整数を表し、およびｎ4 およびｎ4 * は各々
他方と独立して２ないし２５の整数を表すところの請求
項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項７】 ｎ1 、ｎ2 、ｎ4 およびｎ4 * は各々互
いに独立して２ないし２０の整数を表すところの請求項
１記載の安定剤混合物。 - 【請求項８】 式中、Ｒ1 およびＲ3 は各々他方と独立
して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もし
くは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は水素原子もしくはメチル基を
表す。）の基を表し、Ｒ2 は炭素原子数２ないし６のア
ルキレン基を表し、Ｒ4 は炭素原子数１ないし１０のア
ルキル基もしくはシクロヘキシル基を表し、およびｎ1
は２ないし２０の整数を表し、Ｒ6 およびＲ8 は各々他
方と独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基もしくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は水素原子もしくはメ
チル基を表す。）の基を表し、およびＲ7 は炭素原子数
２ないし６のアルキレン基を表し、Ｒ9 およびＲ10は各
々他方と独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基も
しくは式ＩＩ（式中、Ｒ5 は上記で与えられた意味を有
する。）の基を表し、もしくはＲ9 およびＲ10は結合す
る窒素原子と一緒になってモルホリノ基を表し、および
ｎ2 は２ないし２０の整数を表し、およびｎ4 およびｎ
4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表すと
ころの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項９】 式Ｉの化合物は次式 【化７】 で表されるかもしくは次式 【化８】 で表され、および式ＩＩＩの化合物は次式 【化９】 で表され、ｎ1 、ｎ2 、ｎ4 およびｎ4 * は各々互いに
独立して２ないし２０の整数を表すところの請求項１記
載の安定剤混合物。 - 【請求項１０】 次式 【化１０】 および次式 【化１１】 （式中、ｎ1 およびｎ2 は各々他方と独立して２ないし
２０の整数を表す。）で表される両化合物よりなるとこ
ろの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項１１】 式中、ｎ3 ’、ｎ3 ’’およびｎ
3 ’’’は各々互いに独立して２ないし４の整数を表
し、Ｒ11は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
およびＲ12は水素原子を表すところの請求項１記載の安
定剤混合物。 - 【請求項１２】 成分ｃ）は次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる生成物を、次式 【化１２】 で表される化合物と反応させることより得られる生成物
であるところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項１３】 次式 【化１３】 （式中、ｎ1 は２ないし２０の整数を表す。）で表され
る化合物、および次式Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−
（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2で表される
ポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させることより
得られる生成物を、次式 【化１４】 で表される化合物と反応させることより得られる生成物
よりなるところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項１４】 式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 および
ｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表
す。）で表される化合物、および次式 【化１５】 もしくは次式 【化１６】 （上記式中、ｎ1 およびｎ2 は各々他方と独立して２な
いし２０の整数を表す。）で表される化合物の混合物よ
りなるところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項１５】 式ＶａおよびＶｂ（式中、ｎ4 および
ｎ4 * は各々他方と独立して２ないし２０の整数を表
す。）で表される化合物、および次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる反応生成物を、次式 【化１７】 で表される化合物と反応させることにより得られる生成
物の混合物よりなるところの請求項１記載の安定剤混合
物。 - 【請求項１６】 次式 【化１８】 （式中、ｎ2 は２ないし２０の整数を表す。）で表され
る化合物と、次式 Ｈ2 Ｎ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）2 −ＮＨ−（ＣＨ2 ）3 −ＮＨ2 で表されるポリアミンをシアヌル酸クロリドと反応させ
ることより得られる生成物を、次式 【化１９】 で表される化合物と反応させることより得られる生成物
よりなるところの請求項１記載の安定剤混合物。 - 【請求項１７】 酸化、熱もしくは光に誘発されて崩壊
しやすい有機材料、および請求項１記載の安定剤混合物
よりなるところの組成物。 - 【請求項１８】 有機材料はポリオレフィンであるとこ
ろの請求項１７記載の組成物。 - 【請求項１９】 有機材料はポリエチレン、ポリプロピ
レンもしくはポリエチレンもしくはポリプロピレンのコ
ポリマーであるところの請求項１７記載の組成物。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP94810621 | 1994-10-28 | ||
| CH1133/95-0 | 1995-04-20 | ||
| CH113395 | 1995-04-20 | ||
| CH94810621.6 | 1995-04-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08269233A true JPH08269233A (ja) | 1996-10-15 |
| JP3975409B2 JP3975409B2 (ja) | 2007-09-12 |
Family
ID=25686742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30369295A Expired - Lifetime JP3975409B2 (ja) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | 相乗安定剤混合物 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5719217A (ja) |
| JP (1) | JP3975409B2 (ja) |
| KR (1) | KR100426625B1 (ja) |
| CN (1) | CN1079808C (ja) |
| BR (1) | BR9504592A (ja) |
| CA (1) | CA2161499C (ja) |
| DE (1) | DE59508533D1 (ja) |
| ES (1) | ES2148464T5 (ja) |
| SK (1) | SK284174B6 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20180215898A1 (en) * | 2015-07-27 | 2018-08-02 | Basf Se | An additive mixture |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW358820B (en) * | 1995-04-11 | 1999-05-21 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic stabilizer mixture |
| TW464670B (en) | 1996-08-07 | 2001-11-21 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures containing a hindered amine |
| DE19820157B4 (de) | 1997-05-13 | 2010-04-08 | Clariant Produkte (Deutschland) Gmbh | Neue Verbindungen auf Basis von Polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecan-Verbindungen |
| DE19735255B4 (de) | 1997-08-14 | 2007-08-23 | Clariant Produkte (Deutschland) Gmbh | Synergistisches Stabilisatorgemisch auf Basis von Polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecan-Verbindungen und dessen Verwendung |
| DE19804910A1 (de) | 1998-02-07 | 1999-08-12 | Clariant Gmbh | Polyolefin-Formmasse zur Herstellung von kalandrierten Folien/Platten |
| US6120718A (en) * | 1998-07-31 | 2000-09-19 | Basf Corporation | Process of making hollow filaments |
| IL133922A (en) | 1999-02-01 | 2005-03-20 | Ciba Sc Holding Ag | Compositions comprising polyolefins produced by polymerization over a metallocene catalyst and a stabilizer mixture and a method for stabilizing said polyolefins |
| US6946517B2 (en) * | 1999-08-17 | 2005-09-20 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilizer mixtures |
| ATE388988T1 (de) | 2000-02-22 | 2008-03-15 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilisatormischungen für polyolefine |
| MX286035B (es) | 2000-05-31 | 2011-04-26 | Ciba Sc Holding Ag | Mezclas estabilizadoras. |
| US20030197151A1 (en) * | 2000-05-31 | 2003-10-23 | Francois Gugumus | Stabilizer mixtures |
| WO2001092393A2 (en) * | 2000-05-31 | 2001-12-06 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Stabilizer mixtures |
| ITMI20012085A1 (it) | 2000-10-17 | 2003-04-09 | Ciba Sc Holding Ag | Polpropilene metallocene stabilizzato |
| US20030225191A1 (en) * | 2002-04-12 | 2003-12-04 | Francois Gugumus | Stabilizer mixtures |
| US20040143041A1 (en) * | 2003-01-13 | 2004-07-22 | Pearson Jason Clay | Polyester compositions |
| US7482397B2 (en) * | 2003-01-13 | 2009-01-27 | Eastman Chemical Company | Polycarbonate compositions |
| US7297735B2 (en) * | 2003-03-05 | 2007-11-20 | Eastman Chemical Company | Polycarbonate compositions |
| BRPI0407952A (pt) * | 2003-03-05 | 2006-03-07 | Eastman Chem Co | composição polimérica |
| US20050277713A1 (en) * | 2003-03-05 | 2005-12-15 | Pearson Jason C | Polymer blends |
| US20040180994A1 (en) * | 2003-03-05 | 2004-09-16 | Pearson Jason Clay | Polyolefin compositions |
| CN100594220C (zh) * | 2003-03-05 | 2010-03-17 | 伊士曼化工公司 | 聚合物共混物 |
| US20040192813A1 (en) * | 2003-03-20 | 2004-09-30 | Pearson Jason Clay | Polymer compositions containing an ultraviolet light absorbing compound |
| US7338992B2 (en) * | 2003-03-05 | 2008-03-04 | Eastman Chemical Company | Polyolefin compositions |
| CN114409960B (zh) * | 2022-01-21 | 2023-05-09 | 深圳市那鸿科技有限公司 | 一种阻燃/抗氧协同助剂及其合成方法和在回收pet中的应用 |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9100257D0 (en) * | 1991-01-07 | 1991-02-20 | Sandoz Ltd | Improvements in or relating to organic compounds |
| NL125102C (ja) * | 1960-03-07 | |||
| US3808180A (en) * | 1970-04-13 | 1974-04-30 | Rohm & Haas | Composite interpolymer and low haze impact resistant thermoplastic compositions thereof |
| US3929933A (en) * | 1970-12-23 | 1975-12-30 | Stauffer Chemical Co | Rigid plastic admixed with crosslinked acrylate/vinyl chloride interpolymer |
| US3969431A (en) * | 1971-09-20 | 1976-07-13 | Stauffer Chemical Company | Reinforcement of vinyl chloride resins with suspension emulsion interpolymers |
| IT1052501B (it) * | 1975-12-04 | 1981-07-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti politriazinici utilizzabili per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
| DE2941004A1 (de) * | 1979-10-10 | 1981-04-23 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Ether auf polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecanbasis |
| US4331586A (en) * | 1981-07-20 | 1982-05-25 | American Cyanamid Company | Novel light stabilizers for polymers |
| EP0080431B1 (de) * | 1981-10-16 | 1986-09-24 | Ciba-Geigy Ag | Synergistisches Gemisch von niedermolekularen und hochmolekularen Polyalkylpiperidinen |
| IT1152192B (it) * | 1982-05-19 | 1986-12-31 | Apital Prod Ind | Composti per stabilizzare i polimeri |
| DE3511924A1 (de) * | 1984-04-13 | 1985-10-24 | Sandoz-Patent-GmbH, 7850 Lörrach | 2,2,6,6-tetraalkylpiperidin-stabilisatoren |
| US4863981A (en) * | 1986-06-30 | 1989-09-05 | Ciba-Geigy Corporation | Synergistic mixture of stabilizers |
| US4985479A (en) * | 1986-11-27 | 1991-01-15 | Sumitomo Chemical Company, Ltd. | Stabilized polyolefin composition |
| GB2202853B (en) * | 1987-04-03 | 1990-10-24 | Ciba Geigy Ag | Light stabiliser combination |
| DE3871855D1 (de) * | 1987-05-05 | 1992-07-16 | Ciba Geigy Ag | Gegen lichtschaedigung stabilisierte polyolefine. |
| JP2582385B2 (ja) * | 1987-12-11 | 1997-02-19 | 旭電化工業株式会社 | 安定化された合成樹脂組成物 |
| IT1219701B (it) * | 1988-05-31 | 1990-05-24 | Ciba Geigy Spa | Poliammine parzialmente sostituite con 4,6 bis (n,n bis(2,2,6,6 tetrametil 4 piperdil) ammino) 1,3,5-triazin-2-il |
| JP2803300B2 (ja) * | 1990-03-14 | 1998-09-24 | 住友化学工業株式会社 | 安定化されたポリプロピレン樹脂組成物 |
| US5221713A (en) * | 1991-10-07 | 1993-06-22 | Rohm And Haas Company | Co-microagglomeration of emulsion polymers (encapsulated core/shell additives for pvc) |
| GB9211602D0 (en) * | 1992-06-02 | 1992-07-15 | Sandoz Ltd | Improvements in or relating to organic compounds |
| US6077889A (en) * | 1993-03-24 | 2000-06-20 | Solvay Engineered Polymers | Light stabilizer packages for partial paint applications |
| US5380785A (en) * | 1993-04-05 | 1995-01-10 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Rubbery polymer |
| CA2127334A1 (en) * | 1993-07-02 | 1995-01-03 | Edward A. Bourbonais | Synergistic combination of uv light stabilizers for use with organic polymers |
| US5439959A (en) * | 1994-05-24 | 1995-08-08 | 3V Inc. | Compositions for the stabilization of synthetic polymers |
-
1995
- 1995-10-19 ES ES95810650T patent/ES2148464T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-19 DE DE59508533T patent/DE59508533D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-24 US US08/547,190 patent/US5719217A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-26 CA CA002161499A patent/CA2161499C/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-26 SK SK1345-95A patent/SK284174B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1995-10-27 JP JP30369295A patent/JP3975409B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-27 KR KR1019950037461A patent/KR100426625B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-10-27 CN CN95118518A patent/CN1079808C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-27 BR BR9504592A patent/BR9504592A/pt not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20180215898A1 (en) * | 2015-07-27 | 2018-08-02 | Basf Se | An additive mixture |
| US12006417B2 (en) * | 2015-07-27 | 2024-06-11 | Basf Se | Additive mixture containing a particular sterically hindered amine compound and a heat reflecting interference pigment |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1079808C (zh) | 2002-02-27 |
| SK134595A3 (en) | 1996-06-05 |
| CN1141931A (zh) | 1997-02-05 |
| ES2148464T3 (es) | 2000-10-16 |
| ES2148464T5 (es) | 2005-06-16 |
| KR100426625B1 (ko) | 2004-06-18 |
| US5719217A (en) | 1998-02-17 |
| SK284174B6 (sk) | 2004-10-05 |
| CA2161499C (en) | 2007-03-27 |
| DE59508533D1 (de) | 2000-08-10 |
| JP3975409B2 (ja) | 2007-09-12 |
| CA2161499A1 (en) | 1996-04-29 |
| KR960014218A (ko) | 1996-05-22 |
| BR9504592A (pt) | 1997-05-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3975409B2 (ja) | 相乗安定剤混合物 | |
| JP3635317B2 (ja) | 有機材料の安定剤としての２，２，６，６−テトラメチルピペリジル基を含有するブロックオリゴマー | |
| JP4114177B2 (ja) | 相乗安定剤混合物 | |
| JP3975410B2 (ja) | 相乗安定剤混合物 | |
| JPH08245834A (ja) | 相乗的安定剤混合物 | |
| JPH08283586A (ja) | 相乗安定剤混合物 | |
| JP4003194B2 (ja) | 相乗的安定剤混合物 | |
| EP0892827B1 (en) | Stabilizer composition | |
| KR19980087355A (ko) | 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜기를 함유하는 트리아진 유도체 | |
| JPH08333522A (ja) | 充填剤および安定剤としての、キャリアに結合された光安定剤および酸化防止剤 | |
| JPH06321965A (ja) | 有機材料用の安定剤として使用するのに適当なシラン基を含む新規なポリメチルピペリジン化合物 | |
| JPH08277248A (ja) | ビスフェノールエステル誘導体 | |
| EP0709426B2 (de) | Synergistisches Stabilisatorgemisch | |
| JP2003535206A (ja) | 安定剤混合物 | |
| JPH072842A (ja) | 有機材料用の光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤として使 用するための新規なピペリジン−トリアジン化合物 | |
| JPH07188167A (ja) | 高分子安定剤としてヒンダードアミン部分を含有するアゾジカルボン酸誘導体 | |
| JPH0770064A (ja) | 有機材料用の安定剤としての用途のための新規ポリアルキル−４−ピペリジノール誘導体 | |
| JPH08245619A (ja) | 光、熱および酸化に対する有機材料の安定剤としての２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体の使用方法 | |
| JPH0770360A (ja) | 有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン化合物 | |
| EP0984958B1 (en) | Block oligomers containing 1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl groups as stabilizers for organic materials | |
| JPH06340660A (ja) | 有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン−トリアジン化合物 | |
| JPH06298933A (ja) | 有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン−トリアジン化合物 | |
| JP4332817B2 (ja) | 有機材料のための安定剤としての１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含むブロックオリゴマー | |
| EP0850938B1 (en) | Triazine compounds containing 2,2,6,6-tetramenthyl-4-piperidyl groups as stabilizers for organic materials | |
| JPH05194388A (ja) | ２，６−ジアリールピペリジン−１−イル置換２−ブテン安定剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050610 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050629 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20050929 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20051004 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060104 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060913 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061213 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070124 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070424 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070523 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070607 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130629 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |