JP4114177B2 - 相乗安定剤混合物 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は２種の特定の高分子量ポリアルキルピペリジン誘導体よりなる安定剤系、有機材料を安定化させるためのこの安定剤系の使用、および前記安定剤系により熱、酸化もしくは光誘発の崩壊に対して保護された有機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
米国特許発明明細書第４６９２４８６号、同第４８６３９８１号、同第４９５７９５３号、同第５４３９９５９号、国際公開パンフレット第９２−１２２０１号、ヨーロッパ特許庁公開公報第４４９６８５号、同第６３２０９２号、英国特許出願公開明細書第２２６７４９９号およびリサーチディスクロージャー３４５４９（１９９３年１月）において２種のポリアルキルピペリジン誘導体を含有する安定剤混合物が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、２種のポリアルキルピペリジン誘導体よりなる安定剤系を用いて、熱、酸化もしくは光誘発の崩壊から有機材料を保護することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）よりなる安定剤混合物であって、
成分ａ）は少なくとも１つの次式Ｉ
【化１４】
〔式中、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしくは−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基上で−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表すか、または次式ＩＩ
【化１５】
で表される基を表し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、または基Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 はそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成するか、
または基Ｒ4 およびＲ5 はそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、Ｏ・、−ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭素原子数１ないし８のアシル基を表し、
ｎ1 は２ないし５０の数を表し、および
少なくとも１つのＲ1 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｂ）は次式ＩＩＩａ
【化１６】
（式中、ｎ2 ’、ｎ2 ’’およびｎ2 ’’’は互いに独立して２ないし１２の数を表す。）で表されるポリアミンと塩化シアヌルとの反応により得られる生成物を、次式ＩＩＩｂ
【化１７】
（式中、Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基もしくは炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、および
Ｒ8 はＲ6 について定義された意味を表す。）で表される化合物と反応させることにより得られる生成物を表し、
成分ｃ）は少なくとも１つの次式ＩＶａおよびＩＶｂ
【化１８】
（式中、ｎ3 およびｎ3 *は互いに独立して２ないし５０の数を表す。）で表される化合物を表し、
成分ｄ）は少なくとも１つの次式Ｖ
【化１９】
〔式中、Ｒ9 およびＲ13は互いに独立して、直接結合もしくは−Ｎ（Ｘ1 ）−ＣＯ−Ｘ2 −ＣＯ−Ｎ（Ｘ3 ）−基を表し、Ｘ1 およびＸ3 は他方と独立して、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基もしくは式ＩＩで表される基を表し、
Ｘ2 は直接結合もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表し、
Ｒ10はＲ6 において定義された意味を表し、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ15およびＲ16は互いに独立して、水素原子もしくは炭素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基もしくはフェニル基を表し、
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基もしくは前記式ＩＩの基を表し、および
ｎ4 は１ないし５０の数を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｅ）は少なくとも１種の次式ＶＩ
【化２０】
（式中、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21は互いに独立して直接結合もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキレン基を表し、
Ｒ22はＲ6 について定義された意味を表し、および
ｎ5 は１ないし５０の数を表す。）で表される化合物を表す安定剤混合物に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
３０個までの炭素原子を含有するアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二−ブチル基、イソブチル基、第三−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、ドコシル基およびトリアコンチル基である。
Ｒ6 、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ22の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアルキル基であり、特にメチル基である。
Ｒ11およびＲ15の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし２５のアルキル基であり、特に炭素原子数１５ないし２５のアルキル基、例えばヘキサデシル基および炭素原子数１８ないし２２のアルキル基である。
Ｒ14の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし２５のアルキル基、特にオクタデシル基である。
【０００６】
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例はシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基およびシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、特にシクロヘキシル基が好ましい。
【０００７】
炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は、例えばメチルシクロヘキシル基もしくはジメチルシクロヘキシル基を表す。
【０００８】
−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基は、例えばメチルフェニル基、ジメチルペンチル基、トリメチルペンチル基、第三−ブチルペンチル基もしくは３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基を表す。
【０００９】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例はベンジル基およびフェニルエチル基である。
【００１０】
フェニル核において−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数が１０個までのアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えばメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基もしくは３，５−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
【００１１】
炭素原子数３ないし６のアルケニル基の例はアリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペンテニル基およびヘキセニル基である。アリル基が好ましい。
【００１２】
炭素原子数１ないし８のアシル基は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル基もしくはベンゾイル基である。具体例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基およびクロトノイル基である。
【００１３】
１８個までの炭素原子を有するアルキレン基の例は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン基およびデカメチレン基を表す。Ｒ2 は好ましくはヘキサメチレン基を表し、Ｒ17およびＲ19は好ましくはメチレン基を表し、Ｒ20は好ましくは２，２−ジメチルエチレン基を表し、およびＲ21は１，１−ジメチルエチレン基を表す。
【００１４】
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例は、シクロヘキシレン基である。
【００１５】
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例は、メチレンジシクロヘキシレン基である。
【００１６】
基Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 がそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成する場合、これは例えば次式
【化２１】
で表される。
６員複素環が好ましい。
【００１７】
基Ｒ4 およびＲ5 がそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成する場合、これは例えば１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基を表す。モルホリノ基が特に好ましい。
【００１８】
Ｒ11およびＲ15の好ましい意味の１つは、フェニル基である。
Ｘ2 およびＲ18は好ましくは直接結合を表す。
Ｘ1 、Ｘ3 。Ｒ6 、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ22は好ましくは水素原子を表す。
【００１９】
ｎ1 は好ましくは２ないし２５を表す。
ｎ2 ’、ｎ2 ’’、ｎ2 ’’’は好ましくは２ないし４を表す。
ｎ3 およびｎ3 * は好ましくは２ないし２５、特に２ないし２０もしくは２ないし１０を表す。
ｎ4 は好ましくは１ないし２５、特に１ないし２０もしくは１ないし１０を表す。
ｎ5 は好ましくは１ないし２５、特に１ないし２０もしくは１ないし１０を表す。
【００２０】
成分ａ）ないしｅ）として記載された化合物は本来知られており（いくつかの場合には商業的に入手可能である）そして知られている方法、例えば米国特許発明明細書第４０８６２０４号、同第４３３１５８６号、同第４４７７６１５号、ケミカルアブストラクト−ＣＡＳ(Chemical Abstract CAS) Ｎｏ．１３６５０４−９６−６、米国特許発明明細書第４３４０５３４号、同第４８５７５９５号、ＤＤ−Ａ−２６２４３９（Derwent 89-122983/17、 ケミカルアブストラクト１１１：５８ ９６４ｕ）、国際事務局国際公開パンフレット−９４／１２５４４（Derwent 94-177274/22)、および米国特許発明明細書第４５２９７６０号において記載された方法により製造され得る。
【００２１】
成分ｂ）は知られている方法に類似して、例えば式ＩＩＩａのポリアミンを塩化シアヌルと１：２ないし１：４のモル比において有機溶媒例えば、１，２−ジクロルエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、ジオキサンもしくは第三アミルアルコール中の無水炭酸リチウム、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの存在下において−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−１０℃ないし＋１０℃、特に０℃ないし＋１０℃の温度において２ないし８時間反応させ、そして続いて得られる生成物を式ＩＩＩｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと反応させることにより製造される。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと式ＩＩＩａのポリアミンのモル比は例えば４：１ないし８：１である。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの量は全部一度にもしくは数時間の間隔ごとにいくらかずつに分けて添加することができる。
【００２２】
式ＩＩＩａのポリアミン：塩化シアヌル：式ＩＩＩｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの比は好ましくは１：３：５ないし１：３：６である。
【００２３】
以下の例は好ましい成分ｂ）を製造する１つの方法を示す。
実施例：塩化シアヌル２３．６ｇ（０．１２８モル）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロピル］エチレンジアミン７．４３ｇ（０．０４２６モル）および無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を、５℃において３時間攪拌しながら１，２−ジクロルエタン２５０ｍｌ中で反応させた。混合物を室温にさらに４時間温めた。Ｎ−（２，２，６，６）−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８モル）を加えてそして得られた混合物を６０℃で２時間温めた。さらに無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を加えてそして混合物を６０℃においてさらに６時間温めた。溶媒をわずかに真空下（２００ｍｂａｒ）において蒸留除去しそしてキシレンに置きかえた。Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン１８．２ｇ（０．０８５モル）および粉砕した水酸化ナトリウム５．２ｇ（０．１３モル）を加えそして混合物を２時間還流しそして反応の間に生成した水を共沸蒸留によりさらに１２時間にわたって取り除いた。混合物をろ過した。溶液を水で洗浄しそしてＮａ2 ＳＯ4 上で乾燥させた。溶媒を蒸発させそして残渣を１２０ないし１３０℃において真空下（０．１ｍｂａｒ）において乾燥させた。成分ｂ）が無色の樹脂として得られた。
【００２４】
一般に、成分ｂ）は、例えば次式ＩＩＩ−１、ＩＩＩ−２もしくはＩＩＩ−３の化合物により表すことができる。それはまたこれら３つの化合物の混合物の形態であってもよい。
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【００２５】
好ましい式ＩＩＩ−１の意味は次式
【化２５】
で表されるものである。
【００２６】
好ましい式ＩＩＩ−２の意味は次式
【化２６】
で表されるものである。
【００２７】
好ましい式ＩＩＩ−３の意味は次式
【化２７】
で表されるものである。
【００２８】
上記式ＩＩＩ−１ないしＩＩＩ−３において、ｎ2 は好ましくは１ないし２０を表す。
【００２９】
成分ａ）は好ましくは登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６もしくは登録商標ＤＡＳＴＩＢ１０８２を表し、成分ｂ）は好ましくは登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８を表し、成分ｃ）は好ましくは登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０を表し、成分ｄ）は好ましくは登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０ Ｈ、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１もしくは登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８を表し、および成分ｅ）は好ましくは登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３もしくは登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８を表す。
【００３０】
式ＩＶａおよびＩＶｂの化合物は混合物として一緒に得られ、そしてまたそれ自体は新規な安定剤系の成分ｃ）として使用され得る。ＩＶａ：ＩＶｂの比は、例えば２０：１ないし１：２０もしくは１：１０ないし１０：１である。
【００３１】
式Ｉ、ＩＩＩ−１、ＩＩＩ−２、ＩＩＩ−３、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＶおよびＶＩの化合物において自由価を飽和させる末端基の意味は、前記化合物の製造に使用される方法に依存する。末端基はまた化合物の合成の後にさらに修飾され得る。
【００３２】
式Ｉの化合物が次式
【化２８】
（式中、Ｘは例えばハロゲン原子、特に塩素原子を表し、およびＲ4 およびＲ5 は上記で定義された意味を表す。）で表される化合物と、次式
【化２９】
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は上記で定義された意味を表す。）で表される化合物を反応させて製造される場合、ジアミノ基に結合している末端基は水素原子もしくは次式
【化３０】
で表され、およびトリアジン基に結合している末端基はＸもしくは次式
【化３１】
で表される。
【００３３】
もしＸがハロゲン原子を表すとき、反応が終了したとき、それを例えば−ＯＨもしくはアミノ基に置き換えることが都合がよい。注目されるアミノ基の例はピロリジニー１−イル基、モルホリノ基、−ＮＨ2 、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 および−ＮＲ（炭素原子数１ないし８のアルキル）（式中、Ｒは水素原子もしくは式ＩＩで表される基を表す。）である。
【００３４】
式ＩＩＩ−１、ＩＩＩ−２およびＩＩＩ−３の化合物において、トリアジン基に結合している末端基は、例えばＣｌもしくは次式
【化３２】
で表され、アミノ基に結合する末端基は例えば水素原子もしくは次式
【化３３】
で表される基を表す。
【００３５】
式ＩＶａの化合物において、窒素原子に結合している末端基は例えば、水素原子を表し、および２−ヒドロキシプロピレン基に結合している末端基は例えば次式
【化３４】
で表される基を表す。
【００３６】
式ＩＶｂの化合物において、ジメチレン基に結合している末端基は、例えば−ＯＨを表し、および酸素原子に結合している末端基は例えば水素原子を表し得る。末端基はまたポリエーテル基でも有り得る。
【００３７】
式Ｖの化合物において、２，５−ジオキソピロリジン環に結合している末端基は例えば水素原子を表し、および−Ｃ（Ｒ15）（Ｒ16）基に結合する末端基は例えば次式
【化３５】
で表される基を表す。
【００３８】
式ＶＩの化合物において、カルボニル基に結合している末端基は例えば、次式
【化３６】
で表され、および酸素原子の基に結合している末端基は例えば次式
【化３７】
で表される。
【００３９】
好ましいものは、Ｒ6 、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ22は互いに独立して水素原子もしくはメチル基を表す安定剤混合物により与えられる。
【００４０】
好ましいものは、同様に、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または式ＩＩで表される基を表すか、または
基Ｒ4 およびＲ5 はそれらが結合する窒素原子と一緒になって、６員複素環を形成し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基を表し、および
ｎ1 は２ないし２５の数を表し、
ｎ2 ’、ｎ2 ’’およびｎ2 ’’’は互いに独立して、２ないし４の数を表し、
およびＲ7 は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
ｎ3 およびｎ3 * は互いに独立して２ないし２５の数を表し、
Ｒ9 およびＲ13は直接結合もしくは−Ｎ（Ｘ1 ）−ＣＯ−Ｘ2 −ＣＯ−Ｎ（Ｘ3 ）−基を表し、
Ｘ1 およびＸ3 は互いに独立して水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｘ2 は直接結合を表し、
Ｒ11およびＲ15は炭素原子数１ないし２５のアルキル基もしくはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ16は水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ14は炭素原子数１ないし２５のアルキル基もしくは式ＩＩの基を表し、およびｎ4 は１ないし２５の数を表し、
Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21は炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表し、
Ｒ8 は直接結合を表し、および
ｎ5 は１ないし２５の数を表す安定剤混合物により与えられる。
【００４１】
特に好ましいものは、成分ａ）は少なくとも１種の次式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）もしくは（Ｉ−ｃ）
【化３８】
（式中、ｎ1 は２ないし２０の数を表す。）で表される化合物を表し、
成分ｂ）は次式
【化３９】
で表されるポリアミンと塩化シアヌルとの反応より得られる生成物を次式
【化４０】
で表される化合物と反応させることにより得られる生成物を表し、
成分ｃ）中のｎ3 およびｎ3 * は互いに独立して２ないし２０の数を表し、
成分ｄ）は少なくとも１種の次式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）もしくは（Ｖ−ｃ）
【化４１】
【化４２】
（式中、ｎ4 は１ないし２０の数を表す。）で表される化合物を表し、
成分ｅ）は少なくとも１つの次式ＶＩ−ａ
【化４３】
（式中、Ｒ22は水素原子もしくはメチル基を表し、およびｎ5 は１ないし２０の数を表す。）で表される化合物を表す安定剤混合物により与えられる。
【００４２】
以下に示される安定剤混合物が、例として挙げられる。
１．成分ａ）およびｄ）よりなる安定剤混合物。
２．成分ａ）およびｅ）よりなる安定剤混合物。
３．成分ｂ）およびｄ）よりなる安定剤混合物。
４．成分ｂ）およびｅ）よりなる安定剤混合物。
５．成分ｃ）およびｄ）よりなる安定剤混合物。
６．成分ｃ）およびｅ）よりなる安定剤混合物。
特に好ましいものは、以下に示される安定剤混合物系である。
ａ）少なくとも１つの式（Ｉ−ａ）の化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
ｂ）少なくとも１つの式（Ｉ−ｂ）の化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
ｃ）少なくとも１つの式（Ｉ−ｃ）の化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
ｄ）次式
【化４４】
で表されるポリアミンと塩化シアヌルとの反応により得られる生成物を、次式
【化４５】
で表される化合物と反応させることにより得られる生成物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。および
ｅ）少なくとも１つの式ＩＶａおよびＩＶｂの化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
【００４３】
以下の組み合わせの例が特に注目される。
登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＭＡＲＫＬＡ ６３、および登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＭＡＲＫＬＡ ６８。
【００４４】
本発明はまた、互いに独立して前に定義された成分ｄ）およびｅ）より選択された２種の化合物よりなる安定剤混合物であって、但しこれらの化合物は同一であってはならない安定剤混合物に関する。
【００４５】
好ましいものは、成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）よりなる群より、互いに独立して、選択された２種の成分よりなり、該成分は異なるものであり、そして成分ｄ−１）は少なくとも１つの式Ｖ−ａの化合物を表し、成分ｄ−２）は少なくとも１つの式Ｖ−ｂの化合物を表し、成分ｄ−３）は少なくとも１つの式Ｖ−ｃの化合物を表し、成分ｅ−１）は少なくとも１つの式ＶＩ−ａ（式中、Ｒ22は水素原子を表す。）の化合物を表し、および成分ｅ−２）は少なくとも１つの式ＶＩ−ａ（式中、Ｒ22はメチル基を表す。）の化合物を表し、および式Ｖ−ａ、Ｖ−ｂ、Ｖ−ｃおよびＶＩ−ａは前に定義された意味を表すところの安定剤混合物である。
【００４６】
特に好ましいものは、また以下に示される安定剤混合物系である。
Ｉ）成分ｄ−１）と、成分ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）もしくはｅ−２）よりなる安定剤混合物。
ＩＩ）成分ｄ−２）と、成分ｄ−３）、ｅ−１）もしくはｅ−２）よりなる安定剤混合物。
ＩＩＩ）成分ｄ−３）と、成分ｅ−１）もしくはｅ−２）よりなる安定剤混合物。および
ＩＶ）成分ｅ−１）と、成分ｅ−２）よりなる安定剤混合物。
【００４７】
以下の組み合わせが、例として特に注目される。
登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ１８、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、および登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８。
【００４８】
本発明の新規な安定剤混合物は、熱、酸化または光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化させるのに適している。
【００４９】
そのような有機材料の例は以下のようなものである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００５０】
ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、好ましくは以下の方法により製造できる：
ａ）（通常、高圧および高められた温度においての）ラジカル重合
ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素である。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基により改良され得る。
これら触媒系は通常フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディアナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称されるものである。
【００５１】
２． １．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００５２】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポリマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【００５３】
４. それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
【００５４】
５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００５５】
６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；高衝撃強度のスチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの混合物；およびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００５６】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００５７】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００５８】
９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；ブチルアクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレート。
【００５９】
10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【００６０】
11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００６１】
12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００６２】
13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００６３】
14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。
【００６４】
15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物質。
【００６５】
16. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００６６】
17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
【００６７】
18. ジカルボン酸およびジオールから、および/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
【００６８】
19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。
【００６９】
20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００７０】
21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００７１】
22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００７２】
23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００７３】
24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００７４】
25．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００７５】
26．促進剤を使用してもしくは使用せずに無水物またはアミンのような慣用の硬化剤により架橋する、脂肪族、環状脂肪族、複素環式、芳香族グリシジルエーテル、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架橋エポキシ樹脂。
【００７６】
27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘導体。
【００７７】
28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００７８】
29．純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワックス、ならびに典型的には紡糸組成物として用いられるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。
【００７９】
30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００８０】
本発明はさらに酸化、熱または光に誘発される崩壊を受けやすい有機材料、および本発明の安定剤混合物よりなる組成物にも関する。
【００８１】
有機材料は、好ましくは合成ポリマー、より特別には前記にされた群の中のポリマーである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレン、ポリプロピレンおよびそれらのコポリマーが特に好ましい。
【００８２】
新規な安定剤系の成分は個別にもしくは混合物として安定化されるべき材料中に混入され得る。成分は互いに独立して０．０１ないし４．９９％の量で使用される、但し成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）の全量、成分ｄ）およびｅ）の全量、成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）より選択された２種の成分の全量は、安定化されるべき材料の全重量に基づいて０．０２ないし５％である。
【００８３】
成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）の全量、成分ｄ）およびｅ）の全量、および成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）より選択された２種の成分の全量は、安定化されるべき材料の全重量に基づいて好ましくは０．０５ないし３％であり、特別には０．０５ないし２％もしくは０．０５ないし１％である。
【００８４】
成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）の重量比、成分ｄ）および成分ｅ）より選択された２種の化合物間の重量比、成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）より選択された２種の成分間の重量比は、好ましくは２０：１ないし１：２０であり、特別には１０：１ないし１：１０、例えば１：５ないし５：１もしくは２：１ないし１：２、または１：１である。
【００８５】
新規な安定剤混合物もしくはその成分は、有機材料中に知られている方法により、例えば成形物品に成形する前もしくは成形している間に混入されるか、または溶解したもしくは分散させた化合物を有機材料に塗布し、必要により続いて溶媒を蒸発させることにより混入される。新規な安定剤混合物の個々の成分は安定化される材料中に粉末、顆粒もしくはこれらの成分を２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態で加えられ得る。
【００８６】
所望により、新規な安定剤系の成分は、混入される前に各々互いに溶融混合され得る。
【００８７】
新規な安定剤系もしくはその成分はまた重合前もしくは重合中または架橋前に加えられ得る。
【００８８】
この方法により安定化された材料は、広く多様な形態で、例えば、フィルム、繊維、テープ、成形品、形材もしくは塗料、接着剤もしくはパテの結合剤として使用される。
【００８９】
種々の慣用の添加剤、例えば以下のものを本発明の安定化された有機材料は含み得る。
１．抗酸化剤
１．１ アルキル化モノフェノール、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
直鎖のまたは側鎖に枝分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。
【００９０】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００９１】
１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロキノン、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００９２】
１．４ トコフェロール、例えば
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
【００９３】
１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば
２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
【００９４】
１．６ アルキリデンビスフェノール、例えば
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、
ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００９５】
１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば
３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
【００９６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【００９７】
１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００９８】
１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【００９９】
１．１１． べンジルホスホネート、例えばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【０１００】
１．１２． アシルアミノフェノール、例えば
ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、
ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、
カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエステル。
【０１０１】
１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０２】
１．１４． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０３】
１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０４】
１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０５】
１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【０１０６】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１０７】
１．１９．アミン酸抗酸化剤の例
Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オンおよび２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【０１０８】
２． 紫外線吸収剤および光安定剤
２．１． ２− ( ２′−ヒドロキシフェニル ) ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］2 −（式中，Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニルを表す。）。
【０１０９】
２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【０１１０】
２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば
４−第三ブチルフェニル＝サリチレート、
フェニル＝サリチレート、
オクチルフェニル＝サリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、
ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１１１】
２．４． アクリレート、例えば
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、および
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【０１１２】
２．５． ニッケル化合物，例えば
２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位子を伴うもの。
【０１１３】
２．６． 立体障害アミン、例えば
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）サクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ 登録Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物。
【０１１４】
２．７． シュウ酸ジアミド、例えば
４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、
２，２′−ジエトキシオキサニリド、
２，２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシオキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物，
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１１５】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【０１１６】
３． 金属奪活剤，例えば
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、
Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイル−ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【０１１７】
４． ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
トリステアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【０１１８】
５．ヒドロキシルアミン、例えば
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン
【０１１９】
６． ニトロン、例えば
Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンより誘導されたニトロン
【０１２０】
７．チオシネルギスト、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、もしくはジステアリルチオプロピオネート
【０１２１】
８． 過酸化物スカベンジャー、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１２２】
９． ポリアミド安定剤、例えば
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。
【０１２３】
１０．塩基性補助安定剤、例えば
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。
【０１２４】
１１．核剤、例えば、無機物質、例えば、タルク、金属酸化物、二酸化チタンもしくは酸化マグネシウム、アルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩もしくは硫酸塩、有機化合物、例えばモノ−もしくはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば、４−第三−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムもしくは安息香酸ナトリウム、ポリマー性化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。
【０１２５】
１２．充填剤および強化剤、例えば
炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉、もしくは他の天然生成物の粉末もしくは繊維、合成繊維。
【０１２６】
１３．その他の添加剤、例えば
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、静電防止剤および発泡剤。
【０１２７】
１４ . ベンゾフラノンまたはインドリノン、例えば
ＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
【０１２８】
新規な安定剤混合物と慣用の添加剤との重量比は、例えば１：０．５ないし１：５である。
【０１２９】
本発明はさらに、酸化、熱もしくは光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化するための新規な安定剤混合物の使用に関する。
【０１３０】
新規な安定剤系により安定化された有機材料は実質的に改良された光安定性のみならず、ある場合には改良された熱安定性に特徴を有するものとなる。
【０１３１】
以下の実施例は本発明をより詳細に説明する。全ての百分率は特に断りのない限り重量百分率を示す。
【０１３２】
実施例１および２において使用された光安定剤
（平均重合度が各々の場合において記載されている）
化合物Ａ−１：
【化４６】
【０１３３】
化合物Ａ−２：
【化４７】
【０１３４】
化合物Ｂ：
次式
【化４８】
で表されるポリアミンと塩化シアヌルとの反応により得られる生成物を、次式
【化４９】
で表される化合物と反応させることより得られる化合物
【０１３５】
化合物Ｃ：
次式
【化５０】
で表される化合物、約４：１の比の混合物
【０１３６】
化合物Ｄ−１：
【化５１】
【０１３７】
化合物Ｄ−２：
【化５２】
【０１３８】
化合物Ｅ−１：
【化５３】
【０１３９】
化合物Ｅ−２：
【化５４】
【０１４０】
実施例１：ポリプロピレンブロックコポリマーフィルムにおける光安定化作用
ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部を、ペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．１０部、カルシウムステアレート０．１部および表１に記載された量の光安定剤と共にブラベンダープラストグラフ中において２００℃で１０分間均質化させた。
得られた組成物を配合機よりできるだけ速く取り除き、そしてトグルプレスによりプレスして２ないし３ｍｍ厚のシートにした。得られた未処理のプレス物の一片を切り取り、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔間において６分間２６０℃において油圧式ベンチプレスを使用してプレスして０．５ｍｍ厚のフィルムを得、それを即座に水冷プレス中で急冷させた。その後この０．５ｍｍフィルムより各々６０ｍｍ×２５ｍｍの寸法を有するピースを打ち抜き、そしてウエザロメータＣｉ６５（ブラックパネル温度６３±２℃、雨水暴露なし）中において光に暴露した。これらの試験試料は暴露装置より規則的な間隔で取り出し、そしてそれらのカルボニル含量についてＩＲスペクトルメータで試験した。暴露の間のカルボニル吸光度の増加は、ポリマーの光酸化崩壊の指標であり、また機械的特性の劣化に関連すると経験的に知られているものである。
カルボニル吸光度０．２に達するのにかかる時間（Ｔ0.2 測定値）は表１に示されている。
相乗効果は、計算値Ｔ0.2 値と測定値Ｔ0.2 値との比較により決定される。
Ｔ0.2 値はadditivity law(B.Ranby and J.F.Rabek,Photodegradation,Photo-Oxidation and Photostabilization of Polymers,Principles and Applications, Wiley-Interscience ,1975,pages 418-422) に基いて以下の式により計算した。
測定値Ｔ0.2 ＞計算値Ｔ0.2 の場合、問題の混合物は相乗効果を有する。
Ｔ0.2 計算値もまた表１にまとめられている。
【０１４１】
実施例２：低密度ポリエチレンフィルムにおける光安定化作用
低密度ポリエチレン粉末（ＰＥ−ＬＤ粉末、密度＝０．９１８ｇ／ｃｍ3 ）１００部を、オクタデシル３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０３部および表２に記載された光安定剤と共にブラベンダープラストグラフ中において１８０℃で１０分間均質化させた。
得られた組成物を配合機よりできるでけ速く取り除き、そしてトグルプレス機によりプレスして２ないし３ｍｍ厚のシートにした。得られた未処理のプレス物の一片を切り取り、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔間において６分間１７０℃において油圧式ベンチプレスを使用してプレスして０．２ｍｍ厚のフィルムを得、それを即座に冷水中で急冷させた。この０．２ｍｍフィルムより６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法を有するピースを打ち抜き、そしてこれを一週間に一回発煙塩酸の上方に１６時間の間吊した。これはハロゲン含有化合物、例えば、ある種の有害生物防除剤もしくは難燃剤の影響の模擬試験と認められる。
試料を続いてウエザロメータＣｉ６５（ブラックパネル温度６３±２℃、雨水への暴露なし）中において光に暴露した。これら試験試料は暴露装置より規則的な間隔で取り出し、そしてそれらのカルボニル含量においてＩＲスペクトルメータで試験した。暴露の間のカルボニル吸光度の増加は、ポリマーの光酸化崩壊の指標であり、また機械的特性の劣化に関連すると経験的に知られている。
カルボニル吸光度０．２に達するのにかかる時間（Ｔ0.2 測定値）は表２に示されている。
相乗効果は、実施例１と同様に計算値Ｔ0.2 値と測定値Ｔ0.2 値との比較により決定される。
【発明の属する技術分野】
本発明は２種の特定の高分子量ポリアルキルピペリジン誘導体よりなる安定剤系、有機材料を安定化させるためのこの安定剤系の使用、および前記安定剤系により熱、酸化もしくは光誘発の崩壊に対して保護された有機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
米国特許発明明細書第４６９２４８６号、同第４８６３９８１号、同第４９５７９５３号、同第５４３９９５９号、国際公開パンフレット第９２−１２２０１号、ヨーロッパ特許庁公開公報第４４９６８５号、同第６３２０９２号、英国特許出願公開明細書第２２６７４９９号およびリサーチディスクロージャー３４５４９（１９９３年１月）において２種のポリアルキルピペリジン誘導体を含有する安定剤混合物が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、２種のポリアルキルピペリジン誘導体よりなる安定剤系を用いて、熱、酸化もしくは光誘発の崩壊から有機材料を保護することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）よりなる安定剤混合物であって、
成分ａ）は少なくとも１つの次式Ｉ
【化１４】
【化１５】
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基を表すか、または基Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 はそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成するか、
または基Ｒ4 およびＲ5 はそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成し、
Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、Ｏ・、−ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭素原子数１ないし８のアシル基を表し、
ｎ1 は２ないし５０の数を表し、および
少なくとも１つのＲ1 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は式ＩＩの基を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｂ）は次式ＩＩＩａ
【化１６】
【化１７】
Ｒ8 はＲ6 について定義された意味を表す。）で表される化合物と反応させることにより得られる生成物を表し、
成分ｃ）は少なくとも１つの次式ＩＶａおよびＩＶｂ
【化１８】
成分ｄ）は少なくとも１つの次式Ｖ
【化１９】
Ｘ2 は直接結合もしくは炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表し、
Ｒ10はＲ6 において定義された意味を表し、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ15およびＲ16は互いに独立して、水素原子もしくは炭素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基もしくはフェニル基を表し、
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基もしくは前記式ＩＩの基を表し、および
ｎ4 は１ないし５０の数を表す。〕で表される化合物を表し、
成分ｅ）は少なくとも１種の次式ＶＩ
【化２０】
Ｒ22はＲ6 について定義された意味を表し、および
ｎ5 は１ないし５０の数を表す。）で表される化合物を表す安定剤混合物に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
３０個までの炭素原子を含有するアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二−ブチル基、イソブチル基、第三−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、ドコシル基およびトリアコンチル基である。
Ｒ6 、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ22の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし４のアルキル基であり、特にメチル基である。
Ｒ11およびＲ15の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし２５のアルキル基であり、特に炭素原子数１５ないし２５のアルキル基、例えばヘキサデシル基および炭素原子数１８ないし２２のアルキル基である。
Ｒ14の好ましい意味の１つは炭素原子数１ないし２５のアルキル基、特にオクタデシル基である。
【０００６】
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例はシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基およびシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、特にシクロヘキシル基が好ましい。
【０００７】
炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は、例えばメチルシクロヘキシル基もしくはジメチルシクロヘキシル基を表す。
【０００８】
−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基は、例えばメチルフェニル基、ジメチルペンチル基、トリメチルペンチル基、第三−ブチルペンチル基もしくは３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基を表す。
【０００９】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例はベンジル基およびフェニルエチル基である。
【００１０】
フェニル核において−ＯＨおよび／もしくは炭素原子数が１０個までのアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えばメチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基もしくは３，５−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
【００１１】
炭素原子数３ないし６のアルケニル基の例はアリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペンテニル基およびヘキセニル基である。アリル基が好ましい。
【００１２】
炭素原子数１ないし８のアシル基は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル基もしくはベンゾイル基である。具体例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基およびクロトノイル基である。
【００１３】
１８個までの炭素原子を有するアルキレン基の例は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン基およびデカメチレン基を表す。Ｒ2 は好ましくはヘキサメチレン基を表し、Ｒ17およびＲ19は好ましくはメチレン基を表し、Ｒ20は好ましくは２，２−ジメチルエチレン基を表し、およびＲ21は１，１−ジメチルエチレン基を表す。
【００１４】
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例は、シクロヘキシレン基である。
【００１５】
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例は、メチレンジシクロヘキシレン基である。
【００１６】
基Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 がそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成する場合、これは例えば次式
【化２１】
６員複素環が好ましい。
【００１７】
基Ｒ4 およびＲ5 がそれらが結合する窒素原子と一緒になって、５ないし１０員複素環を形成する場合、これは例えば１−ピロリジル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、１−ピペラジニル基、４−メチル−１−ピペラジニル基、１−ヘキサヒドロアゼピニル基、５，５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル基もしくは４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニル基を表す。モルホリノ基が特に好ましい。
【００１８】
Ｒ11およびＲ15の好ましい意味の１つは、フェニル基である。
Ｘ2 およびＲ18は好ましくは直接結合を表す。
Ｘ1 、Ｘ3 。Ｒ6 、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ22は好ましくは水素原子を表す。
【００１９】
ｎ1 は好ましくは２ないし２５を表す。
ｎ2 ’、ｎ2 ’’、ｎ2 ’’’は好ましくは２ないし４を表す。
ｎ3 およびｎ3 * は好ましくは２ないし２５、特に２ないし２０もしくは２ないし１０を表す。
ｎ4 は好ましくは１ないし２５、特に１ないし２０もしくは１ないし１０を表す。
ｎ5 は好ましくは１ないし２５、特に１ないし２０もしくは１ないし１０を表す。
【００２０】
成分ａ）ないしｅ）として記載された化合物は本来知られており（いくつかの場合には商業的に入手可能である）そして知られている方法、例えば米国特許発明明細書第４０８６２０４号、同第４３３１５８６号、同第４４７７６１５号、ケミカルアブストラクト−ＣＡＳ(Chemical Abstract CAS) Ｎｏ．１３６５０４−９６−６、米国特許発明明細書第４３４０５３４号、同第４８５７５９５号、ＤＤ−Ａ−２６２４３９（Derwent 89-122983/17、 ケミカルアブストラクト１１１：５８ ９６４ｕ）、国際事務局国際公開パンフレット−９４／１２５４４（Derwent 94-177274/22)、および米国特許発明明細書第４５２９７６０号において記載された方法により製造され得る。
【００２１】
成分ｂ）は知られている方法に類似して、例えば式ＩＩＩａのポリアミンを塩化シアヌルと１：２ないし１：４のモル比において有機溶媒例えば、１，２−ジクロルエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、ジオキサンもしくは第三アミルアルコール中の無水炭酸リチウム、炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの存在下において−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−１０℃ないし＋１０℃、特に０℃ないし＋１０℃の温度において２ないし８時間反応させ、そして続いて得られる生成物を式ＩＩＩｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと反応させることにより製造される。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと式ＩＩＩａのポリアミンのモル比は例えば４：１ないし８：１である。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの量は全部一度にもしくは数時間の間隔ごとにいくらかずつに分けて添加することができる。
【００２２】
式ＩＩＩａのポリアミン：塩化シアヌル：式ＩＩＩｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンの比は好ましくは１：３：５ないし１：３：６である。
【００２３】
以下の例は好ましい成分ｂ）を製造する１つの方法を示す。
実施例：塩化シアヌル２３．６ｇ（０．１２８モル）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロピル］エチレンジアミン７．４３ｇ（０．０４２６モル）および無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を、５℃において３時間攪拌しながら１，２−ジクロルエタン２５０ｍｌ中で反応させた。混合物を室温にさらに４時間温めた。Ｎ−（２，２，６，６）−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８モル）を加えてそして得られた混合物を６０℃で２時間温めた。さらに無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３モル）を加えてそして混合物を６０℃においてさらに６時間温めた。溶媒をわずかに真空下（２００ｍｂａｒ）において蒸留除去しそしてキシレンに置きかえた。Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン１８．２ｇ（０．０８５モル）および粉砕した水酸化ナトリウム５．２ｇ（０．１３モル）を加えそして混合物を２時間還流しそして反応の間に生成した水を共沸蒸留によりさらに１２時間にわたって取り除いた。混合物をろ過した。溶液を水で洗浄しそしてＮａ2 ＳＯ4 上で乾燥させた。溶媒を蒸発させそして残渣を１２０ないし１３０℃において真空下（０．１ｍｂａｒ）において乾燥させた。成分ｂ）が無色の樹脂として得られた。
【００２４】
一般に、成分ｂ）は、例えば次式ＩＩＩ−１、ＩＩＩ−２もしくはＩＩＩ−３の化合物により表すことができる。それはまたこれら３つの化合物の混合物の形態であってもよい。
【化２２】
好ましい式ＩＩＩ−１の意味は次式
【化２５】
【００２６】
好ましい式ＩＩＩ−２の意味は次式
【化２６】
【００２７】
好ましい式ＩＩＩ−３の意味は次式
【化２７】
【００２８】
上記式ＩＩＩ−１ないしＩＩＩ−３において、ｎ2 は好ましくは１ないし２０を表す。
【００２９】
成分ａ）は好ましくは登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６もしくは登録商標ＤＡＳＴＩＢ１０８２を表し、成分ｂ）は好ましくは登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８を表し、成分ｃ）は好ましくは登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ３０を表し、成分ｄ）は好ましくは登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０ Ｈ、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１もしくは登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８を表し、および成分ｅ）は好ましくは登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３もしくは登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８を表す。
【００３０】
式ＩＶａおよびＩＶｂの化合物は混合物として一緒に得られ、そしてまたそれ自体は新規な安定剤系の成分ｃ）として使用され得る。ＩＶａ：ＩＶｂの比は、例えば２０：１ないし１：２０もしくは１：１０ないし１０：１である。
【００３１】
式Ｉ、ＩＩＩ−１、ＩＩＩ−２、ＩＩＩ−３、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＶおよびＶＩの化合物において自由価を飽和させる末端基の意味は、前記化合物の製造に使用される方法に依存する。末端基はまた化合物の合成の後にさらに修飾され得る。
【００３２】
式Ｉの化合物が次式
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【００３３】
もしＸがハロゲン原子を表すとき、反応が終了したとき、それを例えば−ＯＨもしくはアミノ基に置き換えることが都合がよい。注目されるアミノ基の例はピロリジニー１−イル基、モルホリノ基、−ＮＨ2 、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 および−ＮＲ（炭素原子数１ないし８のアルキル）（式中、Ｒは水素原子もしくは式ＩＩで表される基を表す。）である。
【００３４】
式ＩＩＩ−１、ＩＩＩ−２およびＩＩＩ−３の化合物において、トリアジン基に結合している末端基は、例えばＣｌもしくは次式
【化３２】
【化３３】
【００３５】
式ＩＶａの化合物において、窒素原子に結合している末端基は例えば、水素原子を表し、および２−ヒドロキシプロピレン基に結合している末端基は例えば次式
【化３４】
【００３６】
式ＩＶｂの化合物において、ジメチレン基に結合している末端基は、例えば−ＯＨを表し、および酸素原子に結合している末端基は例えば水素原子を表し得る。末端基はまたポリエーテル基でも有り得る。
【００３７】
式Ｖの化合物において、２，５−ジオキソピロリジン環に結合している末端基は例えば水素原子を表し、および−Ｃ（Ｒ15）（Ｒ16）基に結合する末端基は例えば次式
【化３５】
【００３８】
式ＶＩの化合物において、カルボニル基に結合している末端基は例えば、次式
【化３６】
【化３７】
【００３９】
好ましいものは、Ｒ6 、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ22は互いに独立して水素原子もしくはメチル基を表す安定剤混合物により与えられる。
【００４０】
好ましいものは、同様に、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基または式ＩＩで表される基を表すか、または
基Ｒ4 およびＲ5 はそれらが結合する窒素原子と一緒になって、６員複素環を形成し、
Ｒ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基を表し、および
ｎ1 は２ないし２５の数を表し、
ｎ2 ’、ｎ2 ’’およびｎ2 ’’’は互いに独立して、２ないし４の数を表し、
およびＲ7 は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
ｎ3 およびｎ3 * は互いに独立して２ないし２５の数を表し、
Ｒ9 およびＲ13は直接結合もしくは−Ｎ（Ｘ1 ）−ＣＯ−Ｘ2 −ＣＯ−Ｎ（Ｘ3 ）−基を表し、
Ｘ1 およびＸ3 は互いに独立して水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｘ2 は直接結合を表し、
Ｒ11およびＲ15は炭素原子数１ないし２５のアルキル基もしくはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ16は水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ14は炭素原子数１ないし２５のアルキル基もしくは式ＩＩの基を表し、およびｎ4 は１ないし２５の数を表し、
Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20およびＲ21は炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表し、
Ｒ8 は直接結合を表し、および
ｎ5 は１ないし２５の数を表す安定剤混合物により与えられる。
【００４１】
特に好ましいものは、成分ａ）は少なくとも１種の次式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）もしくは（Ｉ−ｃ）
【化３８】
成分ｂ）は次式
【化３９】
【化４０】
成分ｃ）中のｎ3 およびｎ3 * は互いに独立して２ないし２０の数を表し、
成分ｄ）は少なくとも１種の次式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）もしくは（Ｖ−ｃ）
【化４１】
成分ｅ）は少なくとも１つの次式ＶＩ−ａ
【化４３】
【００４２】
以下に示される安定剤混合物が、例として挙げられる。
１．成分ａ）およびｄ）よりなる安定剤混合物。
２．成分ａ）およびｅ）よりなる安定剤混合物。
３．成分ｂ）およびｄ）よりなる安定剤混合物。
４．成分ｂ）およびｅ）よりなる安定剤混合物。
５．成分ｃ）およびｄ）よりなる安定剤混合物。
６．成分ｃ）およびｅ）よりなる安定剤混合物。
特に好ましいものは、以下に示される安定剤混合物系である。
ａ）少なくとも１つの式（Ｉ−ａ）の化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
ｂ）少なくとも１つの式（Ｉ−ｂ）の化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
ｃ）少なくとも１つの式（Ｉ−ｃ）の化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
ｄ）次式
【化４４】
【化４５】
ｅ）少なくとも１つの式ＩＶａおよびＩＶｂの化合物と、少なくとも１つの式（Ｖ−ａ）、（Ｖ−ｂ）、（Ｖ−ｃ）もしくは（ＶＩ−ａ）の化合物よりなる安定剤混合物。
【００４３】
以下の組み合わせの例が特に注目される。
登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３３４６／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＤＡＳＴＩＢ １０８２／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＡ ８８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＭＡＲＫＬＡ ６３、および登録商標ＨＯＳＴＡＶＩＮ Ｎ ３０／登録商標ＭＡＲＫＬＡ ６８。
【００４４】
本発明はまた、互いに独立して前に定義された成分ｄ）およびｅ）より選択された２種の化合物よりなる安定剤混合物であって、但しこれらの化合物は同一であってはならない安定剤混合物に関する。
【００４５】
好ましいものは、成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）よりなる群より、互いに独立して、選択された２種の成分よりなり、該成分は異なるものであり、そして成分ｄ−１）は少なくとも１つの式Ｖ−ａの化合物を表し、成分ｄ−２）は少なくとも１つの式Ｖ−ｂの化合物を表し、成分ｄ−３）は少なくとも１つの式Ｖ−ｃの化合物を表し、成分ｅ−１）は少なくとも１つの式ＶＩ−ａ（式中、Ｒ22は水素原子を表す。）の化合物を表し、および成分ｅ−２）は少なくとも１つの式ＶＩ−ａ（式中、Ｒ22はメチル基を表す。）の化合物を表し、および式Ｖ−ａ、Ｖ−ｂ、Ｖ−ｃおよびＶＩ−ａは前に定義された意味を表すところの安定剤混合物である。
【００４６】
特に好ましいものは、また以下に示される安定剤混合物系である。
Ｉ）成分ｄ−１）と、成分ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）もしくはｅ−２）よりなる安定剤混合物。
ＩＩ）成分ｄ−２）と、成分ｄ−３）、ｅ−１）もしくはｅ−２）よりなる安定剤混合物。
ＩＩＩ）成分ｄ−３）と、成分ｅ−１）もしくはｅ−２）よりなる安定剤混合物。および
ＩＶ）成分ｅ−１）と、成分ｅ−２）よりなる安定剤混合物。
【００４７】
以下の組み合わせが、例として特に注目される。
登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１、登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８、登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＵＶＩＮＵＬ ５０５０Ｈ／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１／登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ１８、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ ＵＶ ３１／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３、登録商標ＬＵＣＨＥＭ Ｂ １８／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８、および登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６３／登録商標ＭＡＲＫ ＬＡ ６８。
【００４８】
本発明の新規な安定剤混合物は、熱、酸化または光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化させるのに適している。
【００４９】
そのような有機材料の例は以下のようなものである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００５０】
ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、好ましくは以下の方法により製造できる：
ａ）（通常、高圧および高められた温度においての）ラジカル重合
ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素である。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基により改良され得る。
これら触媒系は通常フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディアナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称されるものである。
【００５１】
２． １．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００５２】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポリマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【００５３】
４. それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
【００５４】
５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００５５】
６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；高衝撃強度のスチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの混合物；およびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００５６】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００５７】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００５８】
９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；ブチルアクリレートとの耐衝撃性改良ポリメチルメタクリレート。
【００５９】
10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【００６０】
11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００６１】
12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００６２】
13. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００６３】
14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。
【００６４】
15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物質。
【００６５】
16. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー；またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００６６】
17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
【００６７】
18. ジカルボン酸およびジオールから、および/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
【００６８】
19. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。
【００６９】
20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００７０】
21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００７１】
22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００７２】
23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００７３】
24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００７４】
25．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００７５】
26．促進剤を使用してもしくは使用せずに無水物またはアミンのような慣用の硬化剤により架橋する、脂肪族、環状脂肪族、複素環式、芳香族グリシジルエーテル、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物から誘導された架橋エポキシ樹脂。
【００７６】
27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘導体。
【００７７】
28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳもしくはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００７８】
29．純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワックス、ならびに典型的には紡糸組成物として用いられるいずれか重量比での合成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。
【００７９】
30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００８０】
本発明はさらに酸化、熱または光に誘発される崩壊を受けやすい有機材料、および本発明の安定剤混合物よりなる組成物にも関する。
【００８１】
有機材料は、好ましくは合成ポリマー、より特別には前記にされた群の中のポリマーである。ポリオレフィンが好ましく、またポリエチレン、ポリプロピレンおよびそれらのコポリマーが特に好ましい。
【００８２】
新規な安定剤系の成分は個別にもしくは混合物として安定化されるべき材料中に混入され得る。成分は互いに独立して０．０１ないし４．９９％の量で使用される、但し成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）の全量、成分ｄ）およびｅ）の全量、成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）より選択された２種の成分の全量は、安定化されるべき材料の全重量に基づいて０．０２ないし５％である。
【００８３】
成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）の全量、成分ｄ）およびｅ）の全量、および成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）より選択された２種の成分の全量は、安定化されるべき材料の全重量に基づいて好ましくは０．０５ないし３％であり、特別には０．０５ないし２％もしくは０．０５ないし１％である。
【００８４】
成分ａ）、ｂ）もしくはｃ）および成分ｄ）もしくはｅ）の重量比、成分ｄ）および成分ｅ）より選択された２種の化合物間の重量比、成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｄ−３）、ｅ−１）およびｅ−２）より選択された２種の成分間の重量比は、好ましくは２０：１ないし１：２０であり、特別には１０：１ないし１：１０、例えば１：５ないし５：１もしくは２：１ないし１：２、または１：１である。
【００８５】
新規な安定剤混合物もしくはその成分は、有機材料中に知られている方法により、例えば成形物品に成形する前もしくは成形している間に混入されるか、または溶解したもしくは分散させた化合物を有機材料に塗布し、必要により続いて溶媒を蒸発させることにより混入される。新規な安定剤混合物の個々の成分は安定化される材料中に粉末、顆粒もしくはこれらの成分を２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態で加えられ得る。
【００８６】
所望により、新規な安定剤系の成分は、混入される前に各々互いに溶融混合され得る。
【００８７】
新規な安定剤系もしくはその成分はまた重合前もしくは重合中または架橋前に加えられ得る。
【００８８】
この方法により安定化された材料は、広く多様な形態で、例えば、フィルム、繊維、テープ、成形品、形材もしくは塗料、接着剤もしくはパテの結合剤として使用される。
【００８９】
種々の慣用の添加剤、例えば以下のものを本発明の安定化された有機材料は含み得る。
１．抗酸化剤
１．１ アルキル化モノフェノール、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
直鎖のまたは側鎖に枝分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。
【００９０】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００９１】
１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロキノン、例えば
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００９２】
１．４ トコフェロール、例えば
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
【００９３】
１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば
２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
【００９４】
１．６ アルキリデンビスフェノール、例えば
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
２，２′−メチレン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール] 、
４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、
ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００９５】
１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば
３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート。
【００９６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【００９７】
１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００９８】
１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、
２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【００９９】
１．１１． べンジルホスホネート、例えばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【０１００】
１．１２． アシルアミノフェノール、例えば
ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、
ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、
カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエステル。
【０１０１】
１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０２】
１．１４． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０３】
１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０４】
１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、
メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１０５】
１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【０１０６】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１０７】
１．１９．アミン酸抗酸化剤の例
Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オンおよび２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【０１０８】
２． 紫外線吸収剤および光安定剤
２．１． ２− ( ２′−ヒドロキシフェニル ) ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］2 −（式中，Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニルを表す。）。
【０１０９】
２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【０１１０】
２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば
４−第三ブチルフェニル＝サリチレート、
フェニル＝サリチレート、
オクチルフェニル＝サリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、
ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、
ベンゾイルレゾルシノール、
２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１１１】
２．４． アクリレート、例えば
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、
メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、および
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【０１１２】
２．５． ニッケル化合物，例えば
２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位子を伴うもの。
【０１１３】
２．６． 立体障害アミン、例えば
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）サクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ 登録Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物。
【０１１４】
２．７． シュウ酸ジアミド、例えば
４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、
２，２′−ジエトキシオキサニリド、
２，２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、
２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシオキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物，
ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１１５】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【０１１６】
３． 金属奪活剤，例えば
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、
Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイル−ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【０１１７】
４． ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、
トリステアリルソルビトールトリホスフィット、
テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【０１１８】
５．ヒドロキシルアミン、例えば
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン
【０１１９】
６． ニトロン、例えば
Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンより誘導されたニトロン
【０１２０】
７．チオシネルギスト、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、もしくはジステアリルチオプロピオネート
【０１２１】
８． 過酸化物スカベンジャー、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１２２】
９． ポリアミド安定剤、例えば
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。
【０１２３】
１０．塩基性補助安定剤、例えば
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。
【０１２４】
１１．核剤、例えば、無機物質、例えば、タルク、金属酸化物、二酸化チタンもしくは酸化マグネシウム、アルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩もしくは硫酸塩、有機化合物、例えばモノ−もしくはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば、４−第三−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムもしくは安息香酸ナトリウム、ポリマー性化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。
【０１２５】
１２．充填剤および強化剤、例えば
炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉、もしくは他の天然生成物の粉末もしくは繊維、合成繊維。
【０１２６】
１３．その他の添加剤、例えば
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調節剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、静電防止剤および発泡剤。
【０１２７】
１４ . ベンゾフラノンまたはインドリノン、例えば
ＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
【０１２８】
新規な安定剤混合物と慣用の添加剤との重量比は、例えば１：０．５ないし１：５である。
【０１２９】
本発明はさらに、酸化、熱もしくは光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化するための新規な安定剤混合物の使用に関する。
【０１３０】
新規な安定剤系により安定化された有機材料は実質的に改良された光安定性のみならず、ある場合には改良された熱安定性に特徴を有するものとなる。
【０１３１】
以下の実施例は本発明をより詳細に説明する。全ての百分率は特に断りのない限り重量百分率を示す。
【０１３２】
実施例１および２において使用された光安定剤
（平均重合度が各々の場合において記載されている）
化合物Ａ−１：
【化４６】
化合物Ａ−２：
【化４７】
化合物Ｂ：
次式
【化４８】
【化４９】
【０１３５】
化合物Ｃ：
次式
【化５０】
【０１３６】
化合物Ｄ−１：
【化５１】
化合物Ｄ−２：
【化５２】
化合物Ｅ−１：
【化５３】
化合物Ｅ−２：
【化５４】
実施例１：ポリプロピレンブロックコポリマーフィルムにおける光安定化作用
ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部を、ペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．０５部、トリス（２，４−ジ−第三−ブチルフェニル）ホスフィット０．１０部、カルシウムステアレート０．１部および表１に記載された量の光安定剤と共にブラベンダープラストグラフ中において２００℃で１０分間均質化させた。
得られた組成物を配合機よりできるだけ速く取り除き、そしてトグルプレスによりプレスして２ないし３ｍｍ厚のシートにした。得られた未処理のプレス物の一片を切り取り、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔間において６分間２６０℃において油圧式ベンチプレスを使用してプレスして０．５ｍｍ厚のフィルムを得、それを即座に水冷プレス中で急冷させた。その後この０．５ｍｍフィルムより各々６０ｍｍ×２５ｍｍの寸法を有するピースを打ち抜き、そしてウエザロメータＣｉ６５（ブラックパネル温度６３±２℃、雨水暴露なし）中において光に暴露した。これらの試験試料は暴露装置より規則的な間隔で取り出し、そしてそれらのカルボニル含量についてＩＲスペクトルメータで試験した。暴露の間のカルボニル吸光度の増加は、ポリマーの光酸化崩壊の指標であり、また機械的特性の劣化に関連すると経験的に知られているものである。
カルボニル吸光度０．２に達するのにかかる時間（Ｔ0.2 測定値）は表１に示されている。
相乗効果は、計算値Ｔ0.2 値と測定値Ｔ0.2 値との比較により決定される。
Ｔ0.2 値はadditivity law(B.Ranby and J.F.Rabek,Photodegradation,Photo-Oxidation and Photostabilization of Polymers,Principles and Applications, Wiley-Interscience ,1975,pages 418-422) に基いて以下の式により計算した。
Ｔ0.2 計算値もまた表１にまとめられている。
実施例２：低密度ポリエチレンフィルムにおける光安定化作用
低密度ポリエチレン粉末（ＰＥ−ＬＤ粉末、密度＝０．９１８ｇ／ｃｍ3 ）１００部を、オクタデシル３−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．０３部および表２に記載された光安定剤と共にブラベンダープラストグラフ中において１８０℃で１０分間均質化させた。
得られた組成物を配合機よりできるでけ速く取り除き、そしてトグルプレス機によりプレスして２ないし３ｍｍ厚のシートにした。得られた未処理のプレス物の一片を切り取り、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔間において６分間１７０℃において油圧式ベンチプレスを使用してプレスして０．２ｍｍ厚のフィルムを得、それを即座に冷水中で急冷させた。この０．２ｍｍフィルムより６０ｍｍ×２５ｍｍ寸法を有するピースを打ち抜き、そしてこれを一週間に一回発煙塩酸の上方に１６時間の間吊した。これはハロゲン含有化合物、例えば、ある種の有害生物防除剤もしくは難燃剤の影響の模擬試験と認められる。
試料を続いてウエザロメータＣｉ６５（ブラックパネル温度６３±２℃、雨水への暴露なし）中において光に暴露した。これら試験試料は暴露装置より規則的な間隔で取り出し、そしてそれらのカルボニル含量においてＩＲスペクトルメータで試験した。暴露の間のカルボニル吸光度の増加は、ポリマーの光酸化崩壊の指標であり、また機械的特性の劣化に関連すると経験的に知られている。
カルボニル吸光度０．２に達するのにかかる時間（Ｔ0.2 測定値）は表２に示されている。
相乗効果は、実施例１と同様に計算値Ｔ0.2 値と測定値Ｔ0.2 値との比較により決定される。
Claims (4)
- 成分ａ）、ｂ）及びｃ）からなる群より選択される１種の成分と、成分ｄ）及びｅ）からなる群より選択される１種の成分よりなる安定剤混合物であって、
成分ａ）は、次式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）もしくは（Ｉ−ｃ）：
成分ｂ）は、次式：
成分ｃ）は、次式ＩＶａ：
で表される化合物及び
次式ＩＶｂ：
で表される化合物の４：１の比の混合物であり；
成分ｄ）は、次式（Ｖ−ａ）もしくは（Ｖ−ｂ）：
成分ｅ）は、次式ＶＩ−ａ：
- 酸化、熱もしくは光誘発の崩壊を受けやすい有機材料、および請求項１記載の安定剤混合物よりなるところの組成物。
- 互いに独立して請求項１において定義された成分ｄ）およびｅ）より選択された２種の化合物よりなる安定剤混合物であって、但しこれらの化合物は同一であってはならない安定剤混合物。
- 成分ｄ−１）、ｄ−２）、ｅ−１）およびｅ−２）よりなる群より、互いに独立して、選択された２種の成分よりなり、該成分は異なるものであり、そして成分ｄ−１）は式Ｖ−ａの化合物を表し、成分ｄ−２）は式Ｖ−ｂの化合物を表し、成分ｅ−１）は式ＶＩ−ａ（式中、Ｒ22は水素原子を表す。）の化合物を表し、および成分ｅ−２）は式ＶＩ−ａ（式中、Ｒ22はメチル基を表す。）の化合物を表し、および式Ｖ−ａ、Ｖ−ｂ、およびＶＩ−ａは請求項１において定義された意味を表すところの安定剤混合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE95810289.9 | 1995-05-03 | ||
| EP95810289 | 1995-05-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08302188A JPH08302188A (ja) | 1996-11-19 |
| JP4114177B2 true JP4114177B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=8221737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13599696A Expired - Fee Related JP4114177B2 (ja) | 1995-05-03 | 1996-05-02 | 相乗安定剤混合物 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5965643A (ja) |
| EP (1) | EP0741163B1 (ja) |
| JP (1) | JP4114177B2 (ja) |
| KR (1) | KR100382591B1 (ja) |
| BR (1) | BR9602133A (ja) |
| CA (1) | CA2175529C (ja) |
| DE (1) | DE59605572D1 (ja) |
| ES (1) | ES2148715T3 (ja) |
| TW (1) | TW360678B (ja) |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW464670B (en) * | 1996-08-07 | 2001-11-21 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures containing a hindered amine |
| IT1292040B1 (it) * | 1997-05-30 | 1999-01-25 | Ciba Spec Chem Spa | Processo per la preparazione di prodotti politriazinici contenenti gruppi 2,2,6,6-tetrametil-4-piperidile |
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-
1996
- 1996-04-09 TW TW085104110A patent/TW360678B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-04-24 DE DE59605572T patent/DE59605572D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-24 EP EP96810263A patent/EP0741163B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-24 ES ES96810263T patent/ES2148715T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-30 US US08/640,303 patent/US5965643A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-01 CA CA002175529A patent/CA2175529C/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-02 JP JP13599696A patent/JP4114177B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-02 KR KR1019960014622A patent/KR100382591B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-05-03 BR BR9602133A patent/BR9602133A/pt not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08302188A (ja) | 1996-11-19 |
| KR960041254A (ko) | 1996-12-19 |
| ES2148715T3 (es) | 2000-10-16 |
| EP0741163A1 (de) | 1996-11-06 |
| US5965643A (en) | 1999-10-12 |
| BR9602133A (pt) | 1997-12-30 |
| KR100382591B1 (ko) | 2003-08-02 |
| CA2175529A1 (en) | 1996-11-04 |
| CA2175529C (en) | 2007-10-02 |
| DE59605572D1 (de) | 2000-08-17 |
| EP0741163B1 (de) | 2000-07-12 |
| TW360678B (en) | 1999-06-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050920 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050928 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20051227 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060328 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070426 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071114 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080312 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080404 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120425 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130425 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140425 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |