JPH0770360A - 有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン化合物 - Google Patents
有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン化合物Info
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- JPH0770360A JPH0770360A JP6187728A JP18772894A JPH0770360A JP H0770360 A JPH0770360 A JP H0770360A JP 6187728 A JP6187728 A JP 6187728A JP 18772894 A JP18772894 A JP 18772894A JP H0770360 A JPH0770360 A JP H0770360A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
Abstract
(57)【要約】
【構成】 次式（Ｉ）
【化１】
で表される新規なピペリジン化合物およびその用途、な
らびに有機材料と該化合物からなる組成物。該化合物は
例えば、以下のような化合物。 【化２】 【効果】 上記化合物は、有機材料、特に合成ポリマー
（ポリエチレン、ポリプロピレン等）用の光安定剤、熱
安定剤および酸化防止剤として優れている。
らびに有機材料と該化合物からなる組成物。該化合物は
例えば、以下のような化合物。 【化２】 【効果】 上記化合物は、有機材料、特に合成ポリマー
（ポリエチレン、ポリプロピレン等）用の光安定剤、熱
安定剤および酸化防止剤として優れている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なピペリジン化合
物、有機材料、特に合成ポリマーに対する光安定剤、熱
安定剤および酸化安定剤としてのそれらの用途ならびに
このように安定化された有機材料に関する。
物、有機材料、特に合成ポリマーに対する光安定剤、熱
安定剤および酸化安定剤としてのそれらの用途ならびに
このように安定化された有機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４８８３８３１号および第４
８８３８６０号明細書はある種のトリアジニルアミノ酸
のピペリジンエステルによる合成ポリマーの安定化を記
載している。
８８３８６０号明細書はある種のトリアジニルアミノ酸
のピペリジンエステルによる合成ポリマーの安定化を記
載している。
【０００３】米国特許第４１０２８５８号明細書では、
ある種のアスパラギン酸のピペリジンエステルが合成ポ
リマーの安定剤として報告されている。
ある種のアスパラギン酸のピペリジンエステルが合成ポ
リマーの安定剤として報告されている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は次式（Ｉ）：
【化２５】 ｛式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまたは異なっていてよ
く、式（II）
く、式（II）
【化２６】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし８アルキ
ル基、Ｏ・、ＯＨ、ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数１ないし１
８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
ルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基；未
置換のまたはフェニル基において炭素原子数１ないし４
のアルキル基により一置換、二置換もしくは三置換され
た炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または
炭素原子数１ないし８の脂肪族アシル基を表し；Ｒ2 は
水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；未置
換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基により一
置換、二置換もしくは三置換された炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基；未置換のまたはフェニル基に
おいて炭素原子数１ないし４のアルキル基により一置
換、二置換もしくは三置換された炭素原子数７ないし９
のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基また
は式（III ）：
ル基、Ｏ・、ＯＨ、ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数１ないし１
８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
ルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基；未
置換のまたはフェニル基において炭素原子数１ないし４
のアルキル基により一置換、二置換もしくは三置換され
た炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または
炭素原子数１ないし８の脂肪族アシル基を表し；Ｒ2 は
水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；未置
換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基により一
置換、二置換もしくは三置換された炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基；未置換のまたはフェニル基に
おいて炭素原子数１ないし４のアルキル基により一置
換、二置換もしくは三置換された炭素原子数７ないし９
のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基また
は式（III ）：
【化２７】 （式中、Ｒ3 はＲ1 に対して定義された意味を表すか、
あるいは２−、３−もしくは４位において炭素原子数１
ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ない
し４のアルキル）アミノ基によりまたは式（IV)
あるいは２−、３−もしくは４位において炭素原子数１
ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ない
し４のアルキル）アミノ基によりまたは式（IV)
【化２８】 （式中、Ｑ1 は直接結合、−Ｏ−、−ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 ＣＨ2 −または基：
2 ＣＨ2 −または基：
【化２９】 を表す。）で表される基により置換された炭素原子数２
ないし４のアルキル基を表す。）で表される基を表し；
およびＡは−Ｏ−または基：
ないし４のアルキル基を表す。）で表される基を表し；
およびＡは−Ｏ−または基：
【化３０】 （基中、Ｒ4 は水素原子もしくは炭素原子数１ないし１
２のアルキル基を表す。）を表す。〕で表される基を表
すか；あるいはＸ1 およびＸ2 は式（IV）で表される基
を表すかまたは以下の式（Ｖa)−（Ｖe)
２のアルキル基を表す。）を表す。〕で表される基を表
すか；あるいはＸ1 およびＸ2 は式（IV）で表される基
を表すかまたは以下の式（Ｖa)−（Ｖe)
【化３１】 （式中、Ｒ3 は上記で定義された意味を表し；Ｒ5 、Ｒ
6 およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよく、Ｒ2
に対して定義された意味を表し、あるいはＲ7 はまた炭
素原子数３ないし１８のアルケニル基を表すか、または
未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基もし
くは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により一置
換、二置換もしくは三置換された置換されたフェニル基
をも表し；Ｑ2 は−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯ
ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＯ−または−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−を表
し；およびｐは０または１を表す。）で表される基の１
つを表し；ならびにｎは１，２，３または４を表し；な
らびにｎが１である場合、Ｘ3 はＸ1 およびＸ2 に対し
て定義された意味を表し；ならびにｎが２である場合、
Ｘ3 は式（VIa)−(VIc) ：
6 およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよく、Ｒ2
に対して定義された意味を表し、あるいはＲ7 はまた炭
素原子数３ないし１８のアルケニル基を表すか、または
未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基もし
くは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により一置
換、二置換もしくは三置換された置換されたフェニル基
をも表し；Ｑ2 は−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯ
ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＯ−または−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−を表
し；およびｐは０または１を表す。）で表される基の１
つを表し；ならびにｎは１，２，３または４を表し；な
らびにｎが１である場合、Ｘ3 はＸ1 およびＸ2 に対し
て定義された意味を表し；ならびにｎが２である場合、
Ｘ3 は式（VIa)−(VIc) ：
【化３２】 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12は同じかまたは異なって
いてよく、Ｒ2 に対して定義された意味を表すか、ある
いはＲ8 およびＲ10は式（VII)
いてよく、Ｒ2 に対して定義された意味を表すか、ある
いはＲ8 およびＲ10は式（VII)
【化３３】 （式中、Ｒ1 およびＡは上記で定義されたものと同じ意
味を表す。）で表される基をも表し；Ｒ9 は炭素原子数
２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７の
シクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５な
いし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原
子数１ないし４のアルキレン）基を表すかあるいは；
１，４−ピペラジンジイル基によりまたは１、２もしく
は３個の酸素原子により、または１もしくは２個の基：
味を表す。）で表される基をも表し；Ｒ9 は炭素原子数
２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７の
シクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５な
いし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原
子数１ないし４のアルキレン）基を表すかあるいは；
１，４−ピペラジンジイル基によりまたは１、２もしく
は３個の酸素原子により、または１もしくは２個の基：
【化３４】 （基中、Ｒ13はＲ2 に対して定義された意味を表すかま
たは、炭素原子数１ないし１２の脂肪族アシル基、また
は（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル
基を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１２
のアルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基：
たは、炭素原子数１ないし１２の脂肪族アシル基、また
は（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル
基を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１２
のアルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基：
【化３５】 を表し；Ｒ11およびＲ14は炭素原子数２ないし６のアル
キレン基を表しおよび；ｑは０または１を表す。〕で表
される基の１つを表し；ならびにｎが３である場合、Ｘ
3 は式（VIIIａ）または（VIIIｂ)
キレン基を表しおよび；ｑは０または１を表す。〕で表
される基の１つを表し；ならびにｎが３である場合、Ｘ
3 は式（VIIIａ）または（VIIIｂ)
【化３６】 （基中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23は同
じかまたは異なっていてよく、Ｒ8 およびＲ10に対して
上記で定義された意味を表し；Ｒ16、Ｒ17およびＲ19は
同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ないし６
のアルキレン基を表し；ｒおよびｕは０または１を表
し、およびｓおよびｔは同じかまたは異なっていてよ
く、２ないし６の整数を表す。）で表される基を表し；
ならびにｎが４である場合、Ｘ3 は式（IX）
じかまたは異なっていてよく、Ｒ8 およびＲ10に対して
上記で定義された意味を表し；Ｒ16、Ｒ17およびＲ19は
同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ないし６
のアルキレン基を表し；ｒおよびｕは０または１を表
し、およびｓおよびｔは同じかまたは異なっていてよ
く、２ないし６の整数を表す。）で表される基を表し；
ならびにｎが４である場合、Ｘ3 は式（IX）
【化３７】 （式中、Ｒ24およびＲ28は、同じかまたは異なっていて
よく、Ｒ8 およびＲ10に対して上記で定義された意味を
表し、Ｒ25、Ｒ26およびＲ27は同じかまたは異なってい
てよく、炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
す。）で表される基を表し；但し、式（II) または式
（VII)で表される基の少なくとも１つは式（Ｉ）で表さ
れる化合物中に存在する。｝で表される新規な化合物に
関する。
よく、Ｒ8 およびＲ10に対して上記で定義された意味を
表し、Ｒ25、Ｒ26およびＲ27は同じかまたは異なってい
てよく、炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
す。）で表される基を表し；但し、式（II) または式
（VII)で表される基の少なくとも１つは式（Ｉ）で表さ
れる化合物中に存在する。｝で表される新規な化合物に
関する。
【０００５】１８個以下の炭素原子を有するアルキル基
の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブ
チル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オ
クチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシ
ル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
およびオクタデシル基である。
の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブ
チル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オ
クチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシ
ル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
およびオクタデシル基である。
【０００６】炭素原子数１ないし８のアルコキシ基で、
好ましくは、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特
にメトキシ基またはエトキシ基で置換された炭素原子数
２ないし４のアルキル基の例は２−メトキシエチル基、
２−エトキシエチル基、１−メトキシプロピル基、３−
エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オ
クトキシプロピル基および４−メトキシブチル基であ
る。
好ましくは、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特
にメトキシ基またはエトキシ基で置換された炭素原子数
２ないし４のアルキル基の例は２−メトキシエチル基、
２−エトキシエチル基、１−メトキシプロピル基、３−
エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オ
クトキシプロピル基および４−メトキシブチル基であ
る。
【０００７】ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）ア
ミノ基で、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチル
アミノ基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル
基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチル
アミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−
ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピ
ル基および４−ジエチルアミノブチル基である。
ミノ基で、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチル
アミノ基で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル
基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチル
アミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−
ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピ
ル基および４−ジエチルアミノブチル基である。
【０００８】式(IV ）で表される基で置換された炭素原
子数２ないし４のアルキル基の好ましい例は
子数２ないし４のアルキル基の好ましい例は
【化３８】 で表される基であり、
【化３９】 で表される基が特に好ましい。
【０００９】１８個以下の炭素原子を含むアルコキシ基
の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキ
シ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ
基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基およ
びオクタデシルオキシ基である。好ましいＲ1 の例は、
炭素原子数６ないし１２のアルコキシ基、特に、ヘプト
キシ基またはオクトキシ基が好ましい。
の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキ
シ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ
基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基およ
びオクタデシルオキシ基である。好ましいＲ1 の例は、
炭素原子数６ないし１２のアルコキシ基、特に、ヘプト
キシ基またはオクトキシ基が好ましい。
【００１０】未置換のまたは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基により一置換、二置換もしくは三置換された炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シク
ロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシ
ル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘ
キシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチ
ル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。
未置換のまたは置換されたシクロヘキシルが好ましい。
ルキル基により一置換、二置換もしくは三置換された炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シク
ロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシ
ル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘ
キシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチ
ル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。
未置換のまたは置換されたシクロヘキシルが好ましい。
【００１１】Ｒ1 およびＲ3 に対する炭素原子数５ない
し１２のシクロアルコキシ基の例は、シクロペントキシ
基、シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロ
オクトキシ基、シクロデシルオキシ基およびシクロドデ
シルオキシ基である。シクロペントキシ基およびシクロ
ヘキソキシ基が好ましい。
し１２のシクロアルコキシ基の例は、シクロペントキシ
基、シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロ
オクトキシ基、シクロデシルオキシ基およびシクロドデ
シルオキシ基である。シクロペントキシ基およびシクロ
ヘキソキシ基が好ましい。
【００１２】１８個以下の炭素原子を含むアルケニル基
の例は、アリル基、２−メタリルアリル基、ブテニル
基、ヘキセニル基、ウンデセニル基およびオクタデセニ
ル基である。１−位において炭素原子が飽和されたアル
ケニル基が好ましく、アリル基が特に好ましい。
の例は、アリル基、２−メタリルアリル基、ブテニル
基、ヘキセニル基、ウンデセニル基およびオクタデセニ
ル基である。１−位において炭素原子が飽和されたアル
ケニル基が好ましく、アリル基が特に好ましい。
【００１３】炭素原子数１ないし４のアルキル基もしく
は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により一置換、
二置換もしくは三置換されたされたフェニル基の代表例
は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチ
ルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ−第三ブチル
フェニル基、３，５−ジ−第三ブチル−４−メチルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基およ
びブトキシフェニル基である。
は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により一置換、
二置換もしくは三置換されたされたフェニル基の代表例
は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチ
ルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ−第三ブチル
フェニル基、３，５−ジ−第三ブチル−４−メチルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基およ
びブトキシフェニル基である。
【００１４】未置換のまたはフェニル基において炭素原
子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換もし
くは三置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアル
キル基の例はベンジル基、メチルベンジル基、ジメチル
ベンジル基、トリメチルベンジル基、２−ブチルベンジ
ル基および２−フェニルエチル基である。ベンジル基が
好ましい。
子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換もし
くは三置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアル
キル基の例はベンジル基、メチルベンジル基、ジメチル
ベンジル基、トリメチルベンジル基、２−ブチルベンジ
ル基および２−フェニルエチル基である。ベンジル基が
好ましい。
【００１５】１２個以下の炭素原子を含有する脂肪族ア
シル基の代表例は、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイ
ル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、２−エチルヘ
キサノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデ
カノイル基、アクリロイル基、クロトニル基および１０
−ウンデセノイル基である。炭素原子数１ないし８のア
ルカノイル基および炭素原子数３ないし８のアルケノイ
ル基が特に好ましい。
シル基の代表例は、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイ
ル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、２−エチルヘ
キサノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデ
カノイル基、アクリロイル基、クロトニル基および１０
−ウンデセノイル基である。炭素原子数１ないし８のア
ルカノイル基および炭素原子数３ないし８のアルケノイ
ル基が特に好ましい。
【００１６】１２個以下の炭素原子を含有するアルキレ
ン基の例は、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン
基、２−メチルトリメチレン基、２，２−ジメチルトリ
メチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基で
ある。
ン基の例は、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン
基、２−メチルトリメチレン基、２，２−ジメチルトリ
メチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基で
ある。
【００１７】１，４−ピペラジンジイル基で中断された
炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の好ましい例
は、基
炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の好ましい例
は、基
【化４０】 である。
【００１８】１、２もしくは３個の酸素原子で中断され
た炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、４−
オキサヘプタン−１，７−ジイル基、４，７−ジオキサ
デカン−１，１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカ
ン−１，１２−ジイル基および４，７，１０−トリオキ
サトリデカン−１，１３−ジイル基である。
た炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、４−
オキサヘプタン−１，７−ジイル基、４，７−ジオキサ
デカン−１，１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカ
ン−１，１２−ジイル基および４，７，１０−トリオキ
サトリデカン−１，１３−ジイル基である。
【００１９】Ｒ9 が、式：
【化４１】 で表される基で中断された炭素原子数４ないし１２のア
ルキレン基である代表例は、基：
ルキレン基である代表例は、基：
【化４２】 である。
【００２０】１または２個の炭素原子数５ないし７のシ
クロアルキレン基を含有する基の代表例は、シクロヘキ
シレン基、メチルシクロヘキシレン基、シクロヘキレン
ジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基および基
クロアルキレン基を含有する基の代表例は、シクロヘキ
シレン基、メチルシクロヘキシレン基、シクロヘキレン
ジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基および基
【化４３】 である。フェニレンジメチレン基がフェニレンジ（炭素
原子数１ないし４のアルキレン）基の好ましい例であ
る。
原子数１ないし４のアルキレン）基の好ましい例であ
る。
【００２１】Ｒ1 およびＲ3 の好ましい意味は水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ、炭素原
子数６ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
８のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基または
アセチル基であり、特に水素原子またはメチル基であ
る。
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ、炭素原
子数６ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
８のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基または
アセチル基であり、特に水素原子またはメチル基であ
る。
【００２２】式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまたは異な
っていてよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、炭
素原子数１ないし１６のアルキル基；未置換のまたは炭
素原子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換
もしくは三置換された炭素原子数５ないし８のシクロア
ルキル基；未置換のまたはフェニル基において炭素原子
数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換もしく
は三置換されたベンジル基；テトラヒドロフルフリル
基、上記式（III)で表される基；２−または３−位にお
いて、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により、ジ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基によりま
たは上記式（IV）（式中、Ｑ1 が直接結合、−Ｏ−、−
ＣＨ2 −もしくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表す。）で表され
る基により置換された炭素原子数２ないし３のアルキル
基を表し；ならびにＡは、−Ｏ−または
っていてよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、炭
素原子数１ないし１６のアルキル基；未置換のまたは炭
素原子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換
もしくは三置換された炭素原子数５ないし８のシクロア
ルキル基；未置換のまたはフェニル基において炭素原子
数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換もしく
は三置換されたベンジル基；テトラヒドロフルフリル
基、上記式（III)で表される基；２−または３−位にお
いて、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により、ジ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基によりま
たは上記式（IV）（式中、Ｑ1 が直接結合、−Ｏ−、−
ＣＨ2 −もしくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表す。）で表され
る基により置換された炭素原子数２ないし３のアルキル
基を表し；ならびにＡは、−Ｏ−または
【化４４】 （式中、Ｒ4 は水素原子または炭素原子数１ないし１０
のアルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表さ
れる基を表すか；あるいはＸ1 およびＸ2 は上記式（I
V）で表される基；または上記式（Va) −（Ve) （式
中、Ｒ5 、Ｒ6 およびＲ7 が同じかまたは異なっていて
よく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表すか、ある
いはＲ7 はまた炭素原子数３ないし１２のアルケニル基
または；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によ
り一置換、二置換もしくは三置換されたフェニル基をも
表し、Ｑ2 が−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯＣＯ
−もしくは−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−を表し、ｐは０もしくは
１を表す。）で表される基の一つを表し；ならびにｎは
１、２、３または４を表し；ならびにｎが１を表す場
合、Ｘ3 はＸ1 およびＸ2 に対して定義された意味を表
し；ならびにｎが２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VI
ａ) − (VIｃ) 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じか
または異なっていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された
意味を表すか；または基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（V
II)で表される基を表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし１
０のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシ
レンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、フ
ェニレンジメチレン基；１，４−ピペラジンジイル基ま
たは１、２もしくは３個の酸素原子によりまたは１もし
くは２個の基
のアルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表さ
れる基を表すか；あるいはＸ1 およびＸ2 は上記式（I
V）で表される基；または上記式（Va) −（Ve) （式
中、Ｒ5 、Ｒ6 およびＲ7 が同じかまたは異なっていて
よく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表すか、ある
いはＲ7 はまた炭素原子数３ないし１２のアルケニル基
または；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によ
り一置換、二置換もしくは三置換されたフェニル基をも
表し、Ｑ2 が−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯＣＯ
−もしくは−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−を表し、ｐは０もしくは
１を表す。）で表される基の一つを表し；ならびにｎは
１、２、３または４を表し；ならびにｎが１を表す場
合、Ｘ3 はＸ1 およびＸ2 に対して定義された意味を表
し；ならびにｎが２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VI
ａ) − (VIｃ) 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じか
または異なっていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された
意味を表すか；または基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（V
II)で表される基を表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし１
０のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシ
レンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、フ
ェニレンジメチレン基；１，４−ピペラジンジイル基ま
たは１、２もしくは３個の酸素原子によりまたは１もし
くは２個の基
【化４５】 （基中、Ｒ13は上記Ｒ2 に対して定義された意味を表す
か、または炭素原子数１ないし８の脂肪族アシル基また
は（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基
を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０の
アルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基
か、または炭素原子数１ないし８の脂肪族アシル基また
は（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基
を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０の
アルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基
【化４６】 で表される基をも表し；Ｒ11およびＲ14は炭素原子数２
ないし４のアルキレン基を表し；およびｑは０もしくは
１を表す。〕で表される基の１つを表し；ならびにｎが
３を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIIIa)または (VIIIb)
（式中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同
じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対
して定義された意味を表し；ならびにＲ16、Ｒ17および
Ｒ19は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２な
いし４のアルキレン基を表し、ｒおよびｕが０または１
を表し；ならびにｓおよびｔが同じかまたは異なってい
てよく、３ないし６の整数を表す。）で表される基を表
し；ならびにｎが４を表す場合、Ｘ3 は上記式（IX)
（式中、Ｒ24およびＲ28がＲ8 およびＲ10に対して上記
で定義された意味を表し；ならびにＲ25、Ｒ26およびＲ
27は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ない
し４のアルキレン基を表す。）で表される基を表し但
し、式（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表され
る基、または式（VII)の少なくとも１つが存在する、式
（Ｉ）で表される化合物が好ましい化合物である。
ないし４のアルキレン基を表し；およびｑは０もしくは
１を表す。〕で表される基の１つを表し；ならびにｎが
３を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIIIa)または (VIIIb)
（式中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同
じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対
して定義された意味を表し；ならびにＲ16、Ｒ17および
Ｒ19は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２な
いし４のアルキレン基を表し、ｒおよびｕが０または１
を表し；ならびにｓおよびｔが同じかまたは異なってい
てよく、３ないし６の整数を表す。）で表される基を表
し；ならびにｎが４を表す場合、Ｘ3 は上記式（IX)
（式中、Ｒ24およびＲ28がＲ8 およびＲ10に対して上記
で定義された意味を表し；ならびにＲ25、Ｒ26およびＲ
27は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ない
し４のアルキレン基を表す。）で表される基を表し但
し、式（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表され
る基、または式（VII)の少なくとも１つが存在する、式
（Ｉ）で表される化合物が好ましい化合物である。
【００２３】式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまたは異な
っていてよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、炭
素原子数１ないし１４のアルキル基；未置換のまたは炭
素原子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換
もしくは三置換されたシクロヘキシル基；ベンジル基、
テトラヒドロフルフリル基、上記式（III)で表される
基；２−または３−位においてメトキシ基により、エト
キシ基により、ジメチルアミノ基により、ジエチルアミ
ノ基によりもしくは４−モルホリニル基により置換され
た炭素原子数２ないし３のアルキル基を表し；ならびに
Ａは、−Ｏ−または
っていてよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、炭
素原子数１ないし１４のアルキル基；未置換のまたは炭
素原子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換
もしくは三置換されたシクロヘキシル基；ベンジル基、
テトラヒドロフルフリル基、上記式（III)で表される
基；２−または３−位においてメトキシ基により、エト
キシ基により、ジメチルアミノ基により、ジエチルアミ
ノ基によりもしくは４−モルホリニル基により置換され
た炭素原子数２ないし３のアルキル基を表し；ならびに
Ａは、−Ｏ−または
【化４７】 （式中、Ｒ4 は水素原子または炭素原子数１ないし８の
アルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表され
る基を表し；あるいはＸ1 およびＸ2 は４−モルホリニ
ル基；または上記式（Va) −（Ve) （式中、Ｒ5 、Ｒ6
およびＲ7 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2
に対して定義された意味を表すか、あるいはＲ7 はまた
炭素原子数３ないし１１のアルケニル基またはフェニル
基をも表し、Ｑ2 が−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −もしく
は−ＣＯＣＯ−を表し、ｐは０もしくは１を表す。）で
表される基の一つを表し；ならびにｎは１、２、３また
は４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ3 はＸ1 お
よびＸ2 に対して定義された意味を表し；ならびにｎが
２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIａ) − (VIｃ) 〔式
中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じかまたは異なっていて
よく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表すか；また
は基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（VII)で表される基を
も表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、
シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキ
シレン基、フェニレンジメチレン基；１，４−ピペラジ
ンジイル基または１、２もしくは３個の酸素原子により
または１もしくは２個の基：
アルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表され
る基を表し；あるいはＸ1 およびＸ2 は４−モルホリニ
ル基；または上記式（Va) −（Ve) （式中、Ｒ5 、Ｒ6
およびＲ7 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2
に対して定義された意味を表すか、あるいはＲ7 はまた
炭素原子数３ないし１１のアルケニル基またはフェニル
基をも表し、Ｑ2 が−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −もしく
は−ＣＯＣＯ−を表し、ｐは０もしくは１を表す。）で
表される基の一つを表し；ならびにｎは１、２、３また
は４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ3 はＸ1 お
よびＸ2 に対して定義された意味を表し；ならびにｎが
２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIａ) − (VIｃ) 〔式
中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じかまたは異なっていて
よく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表すか；また
は基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（VII)で表される基を
も表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、
シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキ
シレン基、フェニレンジメチレン基；１，４−ピペラジ
ンジイル基または１、２もしくは３個の酸素原子により
または１もしくは２個の基：
【化４８】 （基中、Ｒ13は上記Ｒ2 に対して定義された意味を表す
か、または炭素原子数１ないし４の脂肪族アシル基また
は（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カルボニル基
を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０の
アルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基
か、または炭素原子数１ないし４の脂肪族アシル基また
は（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カルボニル基
を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０の
アルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基
【化４９】 で表される基をも表し；Ｒ11およびＲ14は炭素原子数２
ないし４のアルキレン基を表し；およびｑは０もしくは
１を表す。〕で表される基の１つを表し；ならびにｎが
３を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIIIa)または (VIIIb)
（式中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同
じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対
して定義された意味を表し；Ｒ16、Ｒ17およびＲ19は同
じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ないし４の
アルキレン基を表し、ｒおよびｕが０または１を表し、
ならびにｓおよびｔが同じかまたは異なっていてよく、
３ないし５の整数を表す。）で表される基を表し；なら
びにｎが４を表す場合、Ｘ3 は上記式（IX) （式中、Ｒ
24およびＲ28がＲ8 およびＲ10に対して上記で定義され
た意味を表し；ならびにＲ25、Ｒ26およびＲ27は同じか
または異なっていてよく、炭素原子数２ないし４のアル
キレン基を表す。）で表される基を表し；但し、式
（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表される基、
または式（VII)の少なくとも１つが存在する、式（Ｉ）
で表される化合物が特に好ましい。
ないし４のアルキレン基を表し；およびｑは０もしくは
１を表す。〕で表される基の１つを表し；ならびにｎが
３を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIIIa)または (VIIIb)
（式中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同
じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対
して定義された意味を表し；Ｒ16、Ｒ17およびＲ19は同
じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ないし４の
アルキレン基を表し、ｒおよびｕが０または１を表し、
ならびにｓおよびｔが同じかまたは異なっていてよく、
３ないし５の整数を表す。）で表される基を表し；なら
びにｎが４を表す場合、Ｘ3 は上記式（IX) （式中、Ｒ
24およびＲ28がＲ8 およびＲ10に対して上記で定義され
た意味を表し；ならびにＲ25、Ｒ26およびＲ27は同じか
または異なっていてよく、炭素原子数２ないし４のアル
キレン基を表す。）で表される基を表し；但し、式
（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表される基、
または式（VII)の少なくとも１つが存在する、式（Ｉ）
で表される化合物が特に好ましい。
【００２４】式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまたは異な
っていてよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、シクロヘキシル
基、上記式（III)で表される基を表し；ならびにＡは、
−Ｏ−または
っていてよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、シクロヘキシル
基、上記式（III)で表される基を表し；ならびにＡは、
−Ｏ−または
【化５０】 （式中、Ｒ4 は水素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表され
る基を表し；あるいはＸ1 およびＸ2 は４−モルホリニ
ル基；または上記式（Va) −（Ve) （式中、Ｒ5 、Ｒ6
およびＲ7 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2
に対して定義された意味を表し、Ｑ2 が−ＣＯ−もしく
は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表し、ｐは０もしくは１を表
す。）で表される基の一つを表し；ならびにｎは１、
２、３または４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ
3 はＸ1 およびＸ2 に対して定義された意味を表し；な
らびにｎが２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIａ) −
(VIｃ) 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じかまたは
異なっていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を
表すか；または基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（VII)で
表される基を表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし６のアル
キレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジ
シクロヘキシレン基；１，４−ピペラジンジイル基また
は２もしくは３個の酸素原子によりまたは基：
アルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表され
る基を表し；あるいはＸ1 およびＸ2 は４−モルホリニ
ル基；または上記式（Va) −（Ve) （式中、Ｒ5 、Ｒ6
およびＲ7 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2
に対して定義された意味を表し、Ｑ2 が−ＣＯ−もしく
は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表し、ｐは０もしくは１を表
す。）で表される基の一つを表し；ならびにｎは１、
２、３または４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ
3 はＸ1 およびＸ2 に対して定義された意味を表し；な
らびにｎが２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIａ) −
(VIｃ) 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じかまたは
異なっていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を
表すか；または基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（VII)で
表される基を表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし６のアル
キレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジ
シクロヘキシレン基；１，４−ピペラジンジイル基また
は２もしくは３個の酸素原子によりまたは基：
【化５１】 （基中、Ｒ13は上記Ｒ2 に対して定義された意味を表
す。）により中断された炭素原子数６ないし１０のアル
キレン基を表し；Ｒ11は炭素原子数２ないし３のアルキ
レン基を表し；およびｑは０もしくは１を表す。〕で表
される基の１つを表し；ならびにｎが３を表す場合、Ｘ
3 は、式（VIIIa)または (VIIIb)（式中、ｒは０を表
し；Ｒ15、Ｒ18、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同じかまたは
異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対して定義さ
れた意味を表し；Ｒ16およびＲ17は同じかまたは異なっ
ていてよく、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表
し、ｕが０または１を表し、ならびにｓおよびｔが同じ
かまたは異なっていてよく、３ないし５の整数を表
す。）で表される基を表し；ならびにｎが４を表す場
合、Ｘ3 は式（IX) （式中、Ｒ24およびＲ28がＲ8 およ
びＲ10に対して上記で定義された意味を表し；ならびに
Ｒ25、Ｒ26およびＲ27は同じかまたは異なっていてよ
く、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表す。）で
表される基を表し；但し、式（Ｉ）で表される化合物中
に、式 (II) で表される基、または式（VII)の少なくと
も１つが存在する、式（Ｉ）で表される化合物が特別に
重要である。
す。）により中断された炭素原子数６ないし１０のアル
キレン基を表し；Ｒ11は炭素原子数２ないし３のアルキ
レン基を表し；およびｑは０もしくは１を表す。〕で表
される基の１つを表し；ならびにｎが３を表す場合、Ｘ
3 は、式（VIIIa)または (VIIIb)（式中、ｒは０を表
し；Ｒ15、Ｒ18、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同じかまたは
異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対して定義さ
れた意味を表し；Ｒ16およびＲ17は同じかまたは異なっ
ていてよく、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表
し、ｕが０または１を表し、ならびにｓおよびｔが同じ
かまたは異なっていてよく、３ないし５の整数を表
す。）で表される基を表し；ならびにｎが４を表す場
合、Ｘ3 は式（IX) （式中、Ｒ24およびＲ28がＲ8 およ
びＲ10に対して上記で定義された意味を表し；ならびに
Ｒ25、Ｒ26およびＲ27は同じかまたは異なっていてよ
く、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表す。）で
表される基を表し；但し、式（Ｉ）で表される化合物中
に、式 (II) で表される基、または式（VII)の少なくと
も１つが存在する、式（Ｉ）で表される化合物が特別に
重要である。
【００２５】式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまたは異な
っていてよく、上記式(II)（式中、Ｒ1 が水素原子また
はメチル基を表し；Ｒ2 が炭素原子数１ないし８のアル
キル基、シクロヘキシル基、２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル基または１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル基を表し；ならびにＡは、
−Ｏ−を表す。）で表される基を表し；あるいはＸ1 お
よびＸ2 は上記式（Va) または（Vb) （式中、Ｒ5 およ
びＲ6 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2 に対
して定義された意味を表し、およびＲ7 は２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル基または１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を表
す。）で表される基を表し；ならびにｎは１、２、３ま
たは４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ3 はＸ1
およびＸ2 に対して定義された意味を表し；ならびにｎ
が２を表す場合、Ｘ3 は、式
っていてよく、上記式(II)（式中、Ｒ1 が水素原子また
はメチル基を表し；Ｒ2 が炭素原子数１ないし８のアル
キル基、シクロヘキシル基、２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル基または１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル基を表し；ならびにＡは、
−Ｏ−を表す。）で表される基を表し；あるいはＸ1 お
よびＸ2 は上記式（Va) または（Vb) （式中、Ｒ5 およ
びＲ6 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2 に対
して定義された意味を表し、およびＲ7 は２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル基または１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を表
す。）で表される基を表し；ならびにｎは１、２、３ま
たは４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ3 はＸ1
およびＸ2 に対して定義された意味を表し；ならびにｎ
が２を表す場合、Ｘ3 は、式
【化５２】 （式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12は、同じかまたは異なっ
ていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表す
か、または水素原子を表し、または基Ｒ8 およびＲ10は
また上記式（VII)で表される基をも表し、およびｑは０
もしくは１を表す。）で表される基の１つを表し；なら
びにｎが３を表す場合、Ｘ3 は、式
ていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表す
か、または水素原子を表し、または基Ｒ8 およびＲ10は
また上記式（VII)で表される基をも表し、およびｑは０
もしくは１を表す。）で表される基の１つを表し；なら
びにｎが３を表す場合、Ｘ3 は、式
【化５３】 （式中、Ｒ15およびＲ18は、Ｒ8 およびＲ10に対して定
義された意味を表す。）で表される基を表し；ならびに
ｎが４を表す場合、Ｘ3 は式
義された意味を表す。）で表される基を表し；ならびに
ｎが４を表す場合、Ｘ3 は式
【化５４】 （式中、Ｒ24およびＲ28は、Ｒ8 およびＲ10に対して定
義された意味を表す。）で表される基を表し；但し、式
（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表される基、
または式（VII)の少なくとも１つが存在する、式（Ｉ）
で表される化合物が特に重要である。
義された意味を表す。）で表される基を表し；但し、式
（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表される基、
または式（VII)の少なくとも１つが存在する、式（Ｉ）
で表される化合物が特に重要である。
【００２６】本発明の化合物は例えば、米国特許第４１
０８８２９号；米国特許第４３６３４３４号明細書；米
国特許第４８８３８６０号；米国特許第４８８３８３１
号または米国特許第４１０２８５８号明細書に概説され
ているような、それ自体公知の種々の方法により製造で
きる。
０８８２９号；米国特許第４３６３４３４号明細書；米
国特許第４８８３８６０号；米国特許第４８８３８３１
号または米国特許第４１０２８５８号明細書に概説され
ているような、それ自体公知の種々の方法により製造で
きる。
【００２７】方法Ａに従えば、第一段階では、下式
（Ｘ）
（Ｘ）
【化５５】 で表されるマレイン酸またはフマル酸のジピペリジル誘
導体を、少なくとも１つのＮＨ2 を含む適当なアミンに
添加して、式（XI）
導体を、少なくとも１つのＮＨ2 を含む適当なアミンに
添加して、式（XI）
【化５６】 で表される基の１つまたはそれ以上を含む化合物を得
る。
る。
【００２８】個々の反応は不活性有機溶媒、例えばトル
エン、キシレン、炭素原子数１ないし５のアルカノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはジメチルホ
ルムアミド中で、０ないし１５０℃、好ましくは１０な
いし１２０℃の温度で行われる。
エン、キシレン、炭素原子数１ないし５のアルカノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンまたはジメチルホ
ルムアミド中で、０ないし１５０℃、好ましくは１０な
いし１２０℃の温度で行われる。
【００２９】次の段階では、このように得られたアスパ
ラギン酸のジピペリジル誘導体を任意の順に、および適
当なモル比で、シアヌル酸塩化物および他の適当な試薬
と反応させて式（Ｉ）で表される化合物を得る。反応は
不活性溶媒中、例えばトルエン、キシレン、トリメチル
ベンゼン、第三アミルアルコールまたはそれらの混合物
中で、第三アミルアルコールと上記炭化水素との第三ア
ミルアルコールとの任意の割合中で、水酸化ナトリウム
もしくはカリウム、または炭酸ナトリウムもしくはカリ
ウムのような適当な無機塩基の存在下、−２０ないし２
００℃、好ましくは−１０ないし１８０℃で行われる。
ラギン酸のジピペリジル誘導体を任意の順に、および適
当なモル比で、シアヌル酸塩化物および他の適当な試薬
と反応させて式（Ｉ）で表される化合物を得る。反応は
不活性溶媒中、例えばトルエン、キシレン、トリメチル
ベンゼン、第三アミルアルコールまたはそれらの混合物
中で、第三アミルアルコールと上記炭化水素との第三ア
ミルアルコールとの任意の割合中で、水酸化ナトリウム
もしくはカリウム、または炭酸ナトリウムもしくはカリ
ウムのような適当な無機塩基の存在下、−２０ないし２
００℃、好ましくは−１０ないし１８０℃で行われる。
【００３０】方法Ｂに従えば、以下の基
【化５７】 （式中、Ｒは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
す。）で表される基の１またはそれ以上を含む化合物を
最初に、公知の手順により、ジ（炭素原子数１ないし４
のアルキル）マレエートまたはフマレートを、少なくと
も１つのＮＨ2 基を含む適当なアミンに加えることによ
って製造する。
す。）で表される基の１またはそれ以上を含む化合物を
最初に、公知の手順により、ジ（炭素原子数１ないし４
のアルキル）マレエートまたはフマレートを、少なくと
も１つのＮＨ2 基を含む適当なアミンに加えることによ
って製造する。
【００３１】次の段階で、得られた上記ジ（炭素原子数
１ないし４のアルキル）アスパルテートを、任意の順に
および、適当なモル比において、シアヌル酸塩化物およ
び他の適当な試薬と、方法Ａの手順に従って反応させ
て、式
１ないし４のアルキル）アスパルテートを、任意の順に
および、適当なモル比において、シアヌル酸塩化物およ
び他の適当な試薬と、方法Ａの手順に従って反応させ
て、式
【化５８】 で表される基の１個またはそれ以上を含む化合物を得
て；最後に、アルカリ金属、アルカリ金属の炭素原子数
１ないし４のアルコキシドもしくはアミドもしくは水素
化物、チタン（ＩＶ）もしくはジブチル錫オキシドの炭
素原子数１ないし４のアルコキシドのような触媒の存在
下で、式（XII)
て；最後に、アルカリ金属、アルカリ金属の炭素原子数
１ないし４のアルコキシドもしくはアミドもしくは水素
化物、チタン（ＩＶ）もしくはジブチル錫オキシドの炭
素原子数１ないし４のアルコキシドのような触媒の存在
下で、式（XII)
【化５９】 で表される化合物の適当なモル量と反応させる；該反応
は溶媒の不在下でまたは例えばトルエン、キシレンもし
くはトリメチルベンゼンのような不活性溶媒中で、１０
０ないし２００℃好ましくは１１０ないし１８０℃の温
度で行われる。
は溶媒の不在下でまたは例えばトルエン、キシレンもし
くはトリメチルベンゼンのような不活性溶媒中で、１０
０ないし２００℃好ましくは１１０ないし１８０℃の温
度で行われる。
【００３２】方法Ｂに従って操作する場合、基Ａが−Ｏ
−を表す場合、シアヌル酸塩化物との反応は、放出され
た塩酸に対する一時受容体として、基Ａが−Ｏ−を表
す、式（XII ）で表される化合物を使用でき、得られた
塩酸塩は次にナトリウムまたはカリウムの水酸化物もし
くは炭素原子数１ないし４のアルコキシドによって中和
されて遊離塩基を再び形成し、該塩基はエステル交換反
応に利用可能となる。
−を表す場合、シアヌル酸塩化物との反応は、放出され
た塩酸に対する一時受容体として、基Ａが−Ｏ−を表
す、式（XII ）で表される化合物を使用でき、得られた
塩酸塩は次にナトリウムまたはカリウムの水酸化物もし
くは炭素原子数１ないし４のアルコキシドによって中和
されて遊離塩基を再び形成し、該塩基はエステル交換反
応に利用可能となる。
【００３３】方法Ｃに従えば、方法Ｂに示したように製
造されたジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アスパ
ルテートを、方法Ｂで示した、式（XII ）で表される化
合物の適当なモル量とを反応させて、式（XI）で表され
る基の１またはそれ以上を含む化合物を得て；最後に、
方法Ａの手順に従って、任意の順で、適当なモル比でシ
アヌル酸塩化物および他の試薬と反応させて、式（Ｉ）
で表される化合物を得る。
造されたジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アスパ
ルテートを、方法Ｂで示した、式（XII ）で表される化
合物の適当なモル量とを反応させて、式（XI）で表され
る基の１またはそれ以上を含む化合物を得て；最後に、
方法Ａの手順に従って、任意の順で、適当なモル比でシ
アヌル酸塩化物および他の試薬と反応させて、式（Ｉ）
で表される化合物を得る。
【００３４】種々の反応の種々の段階は、単一の反応器
中でおよび同じ溶媒中もしくは異なる溶媒中で、中間生
成物を単離することなく行うことができ、またはそれら
の分離後、適当ならば精製を行うことが出来る。
中でおよび同じ溶媒中もしくは異なる溶媒中で、中間生
成物を単離することなく行うことができ、またはそれら
の分離後、適当ならば精製を行うことが出来る。
【００３５】式（Ｘ）および（XII)で表される化合物は
公知の方法により製造でき；上記他の試薬は市販により
入手できるかあるいは公知技術に従って製造できる。
公知の方法により製造でき；上記他の試薬は市販により
入手できるかあるいは公知技術に従って製造できる。
【００３６】最初から述べているように、本発明の化合
物は有機材料特に合成ポリマーおよびコポリマーの光安
定性、熱安定性および酸化安定性を改良することにおい
て非常に有効であり、とりわけポリプロピレンファイバ
ーの安定化に対して適当である。
物は有機材料特に合成ポリマーおよびコポリマーの光安
定性、熱安定性および酸化安定性を改良することにおい
て非常に有効であり、とりわけポリプロピレンファイバ
ーの安定化に対して適当である。
【００３７】安定化され得る有機材料の例は以下のよう
なものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレ
ン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
なものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレ
ン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００３８】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる： ａ）（通常、高圧および高温においての）ラジカル重合 ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属
の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属
は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素であ
る。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）
〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）
と称されるものである。
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる： ａ）（通常、高圧および高温においての）ラジカル重合 ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属
の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属
は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素であ
る。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）
〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）
と称されるものである。
【００３９】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００４０】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【００４１】４. それらの水素化変性物（例えば粘着付
与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
【００４２】５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００４３】６．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００４４】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタア
クリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタア
クリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
【００４５】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化
ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニル
コポリマー。
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化
ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニル
コポリマー。
【００４６】９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
【００４７】10．上記９に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００４８】11．不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
【００４９】12．環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００５０】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００５１】14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
【００５２】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
【００５３】16. ジアミンおよびジカルボン酸および／
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
／またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタル
アミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー；またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に
縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
／またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタル
アミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー；またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に
縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００５４】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【００５５】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカー
ボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカー
ボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
【００５６】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。
−カーボネート。
【００５７】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
およびポリエーテルケトン。
【００５８】21．一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。
【００５９】22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００６０】23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００６１】24．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
【００６２】25．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００６３】26．ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
【００６４】27．天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
【００６５】28．前述のポリマーの混合物（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。
【００６６】29．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
【００６７】30．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００６８】式（Ｉ）の化合物は、ポリオレフィン、特
に、ポリエチレンまたはポリプロピレンの光安定性、熱
安定性、酸化安定性を改良するのに特に適当である。
に、ポリエチレンまたはポリプロピレンの光安定性、熱
安定性、酸化安定性を改良するのに特に適当である。
【００６９】本発明は光、熱可塑性および／または酸化
により誘発される崩壊を受けやすい有機材料および式
（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１つからなる組成
物にも関する。
により誘発される崩壊を受けやすい有機材料および式
（Ｉ）で表される化合物の少なくとも１つからなる組成
物にも関する。
【００７０】式（Ｉ）の化合物は、安定化されるべき材
料の性質に依存して、最終用途に依存しておよび他の安
定剤の存在に依存して、種々の割合における有機材料と
の混合物に使用できる。
料の性質に依存して、最終用途に依存しておよび他の安
定剤の存在に依存して、種々の割合における有機材料と
の混合物に使用できる。
【００７１】一般に、例えば安定化される有機材料の重
量に関して、式（Ｉ）の化合物０．０１ないし５％、好
ましくは０．０５ないし１％で使用するのが適当であ
る。
量に関して、式（Ｉ）の化合物０．０１ないし５％、好
ましくは０．０５ないし１％で使用するのが適当であ
る。
【００７２】一般には、式（Ｉ）の化合物はポリマー材
料の重合または架橋の前、最中もしくは後にポリマー材
料に添加できる。
料の重合または架橋の前、最中もしくは後にポリマー材
料に添加できる。
【００７３】式（Ｉ）で表される化合物は純粋な形態ま
たはワックス、油もしくはポリマー封入の形態でポリマ
ー材料中に混合できる。
たはワックス、油もしくはポリマー封入の形態でポリマ
ー材料中に混合できる。
【００７４】式（Ｉ）で表される化合物はさまざまな方
法によって、例えば粉末の形態での乾式混合によって、
あるいは溶液もしくは懸濁物の形態での湿式混合によっ
てまたはマスターバッチの形態によっても、ポリマー材
料に混合でき；そしてこの様な操作では、ポリマーは粉
末、グラニュール、溶液、懸濁物の形態またはラテック
スの形態で使用できる。
法によって、例えば粉末の形態での乾式混合によって、
あるいは溶液もしくは懸濁物の形態での湿式混合によっ
てまたはマスターバッチの形態によっても、ポリマー材
料に混合でき；そしてこの様な操作では、ポリマーは粉
末、グラニュール、溶液、懸濁物の形態またはラテック
スの形態で使用できる。
【００７５】式（Ｉ）の生成物で安定化された材料は、
成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維、
表面塗料等の製造のために使用できる。
成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維、
表面塗料等の製造のために使用できる。
【００７６】所望ならば、合成ポリマー用の他の慣用の
添加剤、例えば抗酸化剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定
剤、顔料、充填剤、可塑剤、静電防止剤、難燃剤、潤滑
剤、腐蝕抑制剤および金属不活性化剤を式（Ｉ）で表さ
れる化合物と有機材料との混合物に加えることができ
る。
添加剤、例えば抗酸化剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定
剤、顔料、充填剤、可塑剤、静電防止剤、難燃剤、潤滑
剤、腐蝕抑制剤および金属不活性化剤を式（Ｉ）で表さ
れる化合物と有機材料との混合物に加えることができ
る。
【００７７】式（Ｉ）の化合物との混合に使用できる添
加剤の特別な例は以下に示すものである：１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデシ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそ
れらの混合物。
加剤の特別な例は以下に示すものである：１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデシ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそ
れらの混合物。
【００７８】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
【００７９】１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロ
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
【００８０】１．４ トコフェロール、例えばα−トコ
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）
【００８１】１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
【００８２】１．６ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。
【００８３】１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イ
ソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イ
ソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
【００８４】１．８．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【００８５】１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチ
ルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメ
チルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチ
ルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメ
チルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００８６】１．１０．トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【００８７】１．１１． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【００８８】１．１２． アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。
【００８９】１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト
リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト
リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００９０】１．１４． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００９１】１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００９２】１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００９３】１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００９４】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。
【００９５】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
【００９６】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００９７】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【００９８】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
【００９９】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−
（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三
オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−
トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス
（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），４−
ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，
４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジ
アミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−
ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成
物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，
３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−
ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８
−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ド
デシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン。
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−
（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三
オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−
トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス
（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），４−
ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，
４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジ
アミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−
ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成
物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，
３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−
ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８
−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ド
デシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン。
【０１００】２．７． シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−
２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキ
シ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−
２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキ
シ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
【０１０１】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン。
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン。
【０１０２】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【０１０３】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
【０１０４】５． ヒドロキシルアミン、例えばＮ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデ
シルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導さ
れたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデ
シルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導さ
れたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１０５】６． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
【０１０６】７． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【０１０７】８． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
【０１０８】９．造核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１０９】10． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【０１１０】11. その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
【０１１１】12．ベンゾフラノンまたはインドリノン、
例えば米国特許４３２５８６３号明細書、米国特許４３
３８２４４号明細書または米国特許５１７５３１２号明
細書に記載されているものまたは３−［４−（２−アセ
トキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル
−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−
３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニ
ル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７
−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキ
シ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ
−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフ
ラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラ
ノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイ
ルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン。
例えば米国特許４３２５８６３号明細書、米国特許４３
３８２４４号明細書または米国特許５１７５３１２号明
細書に記載されているものまたは３−［４−（２−アセ
トキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル
−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−
３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニ
ル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７
−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキ
シ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ
−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフ
ラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラ
ノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイ
ルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン。
【０１１２】式（Ｉ）の化合物はまた、例えばリサーチ
ディスクロージャー（Research Disclosure) １９９
０，３１４２９（４７４頁ないし４８０頁）に記載され
ているような、写真複写および他の複写技術のうち技術
的に周知である殆ど全ての材料に対する安定剤として、
特に、光安定剤としてもまた使用できる。
ディスクロージャー（Research Disclosure) １９９
０，３１４２９（４７４頁ないし４８０頁）に記載され
ているような、写真複写および他の複写技術のうち技術
的に周知である殆ど全ての材料に対する安定剤として、
特に、光安定剤としてもまた使用できる。
【０１１３】
【実施例】本発明をさらに明確に説明するために、幾つ
かの製造実施例および式（Ｉ）の化合物の使用例を報告
する；これらの実施例は単に説明の目的で示し、いかな
る制限を含むものではない。
かの製造実施例および式（Ｉ）の化合物の使用例を報告
する；これらの実施例は単に説明の目的で示し、いかな
る制限を含むものではない。
【０１１４】実施例１： ａ）テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアスパルテー
トの製造 ジメチルホルムアミド１２０ｍｌ中のビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）マレエート６
３．１ｇ（０．１６ｍｏｌ）およびヘキサメチレンジア
ミン９．３ｇ（０．０８ｍｏｌ）を９０℃で１６時間加
熱し、その後ゆっくりと室温まで冷却させる。形成され
た沈澱物をろ過により分離除去し、少量のジメチルホル
ムアミドでおよび次にアセトンで洗浄し、そして最後に
真空下で乾燥させる。得られた生成物は１２４−１２６
℃で融解する。 Ｃ50Ｈ92Ｎ6 Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６６．３４％；Ｈ＝１０．２４％；
Ｎ＝９．２８％ 実測値： Ｃ＝６６．１７％；Ｈ＝１０．２４％；
Ｎ＝９．３０％
ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアスパルテー
トの製造 ジメチルホルムアミド１２０ｍｌ中のビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）マレエート６
３．１ｇ（０．１６ｍｏｌ）およびヘキサメチレンジア
ミン９．３ｇ（０．０８ｍｏｌ）を９０℃で１６時間加
熱し、その後ゆっくりと室温まで冷却させる。形成され
た沈澱物をろ過により分離除去し、少量のジメチルホル
ムアミドでおよび次にアセトンで洗浄し、そして最後に
真空下で乾燥させる。得られた生成物は１２４−１２６
℃で融解する。 Ｃ50Ｈ92Ｎ6 Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６６．３４％；Ｈ＝１０．２４％；
Ｎ＝９．２８％ 実測値： Ｃ＝６６．１７％；Ｈ＝１０．２４％；
Ｎ＝９．３０％
【０１１５】ｂ）次式
【化６０】 （式中、Ｂｕ＝ブチル基を意味する。以降同様。）で表
される生成物の製造方法。 テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアスパルテート３
１．７ｇ（０．０３５ｍｏｌ）を−１０℃に温度を保持
したジクロロメタン１３０ｍｍ中のシアヌル酸塩化物１
２．９ｇ（０．０７ｍｏｌ）溶液に４５分かけて加え
る。添加の終了後、混合物を−１０℃で３０分間攪拌
し、そして次に温度を０℃まで上昇させ、この温度で水
１５ｍｌ中のＮａＯＨ２．８ｇ（０．０７ｍｏｌ）をゆ
っくりと加え、混合物を２０℃で３０分間攪拌しそして
水相を分離除去する。メシチレン１５０ｍｌおよび４−
ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン４１．６ｇ（０．１９６ｍｏｌ）を加え、ジクロロメ
タンを留去し、そして混合物を１４０℃で３時間加熱す
る。粉砕したＫ2 ＣＯ3 ３８．７ｇ（０．２８ｍｏｌ）
を加え、混合物を１２時間還流下で加熱し、反応水を共
沸蒸留で除去する。室温に冷却後、無機塩を分離除去す
るために反応混合物をろ過し、そして溶媒および過剰の
４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジンを真空下で除去する。得られた生成物は９６−９
９℃で融解する。 Ｃ108 Ｈ198 Ｎ20Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６８．１０％；Ｈ＝１０．４８％；
Ｎ＝１４．７１％ 実測値： Ｃ＝６７．８９％；Ｈ＝１０．４０％；
Ｎ＝１４．５６％
される生成物の製造方法。 テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアスパルテート３
１．７ｇ（０．０３５ｍｏｌ）を−１０℃に温度を保持
したジクロロメタン１３０ｍｍ中のシアヌル酸塩化物１
２．９ｇ（０．０７ｍｏｌ）溶液に４５分かけて加え
る。添加の終了後、混合物を−１０℃で３０分間攪拌
し、そして次に温度を０℃まで上昇させ、この温度で水
１５ｍｌ中のＮａＯＨ２．８ｇ（０．０７ｍｏｌ）をゆ
っくりと加え、混合物を２０℃で３０分間攪拌しそして
水相を分離除去する。メシチレン１５０ｍｌおよび４−
ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン４１．６ｇ（０．１９６ｍｏｌ）を加え、ジクロロメ
タンを留去し、そして混合物を１４０℃で３時間加熱す
る。粉砕したＫ2 ＣＯ3 ３８．７ｇ（０．２８ｍｏｌ）
を加え、混合物を１２時間還流下で加熱し、反応水を共
沸蒸留で除去する。室温に冷却後、無機塩を分離除去す
るために反応混合物をろ過し、そして溶媒および過剰の
４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジンを真空下で除去する。得られた生成物は９６−９
９℃で融解する。 Ｃ108 Ｈ198 Ｎ20Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６８．１０％；Ｈ＝１０．４８％；
Ｎ＝１４．７１％ 実測値： Ｃ＝６７．８９％；Ｈ＝１０．４０％；
Ｎ＝１４．５６％
【０１１６】実施例２ 次式
【化６１】 で表される生成物の製造 第三アミルアルコール中のテトラキス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメ
チレンジアスパルテート２１．７ｇ（０．０２４ｍｏ
ｌ）および２−クロロ−４，６−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルオキシ）−１，３，５
−トリアジン２０．５ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を還流下
で１２時間加熱する。粉砕したＫ2 ＣＯ3 １３．３ｇ
（０．０９６ｍｏｌ）を加えおよび混合物を還流下で８
時間加熱する。溶媒を真空下で蒸発させそして残渣をジ
クロロメタン１５０ｍｌおよび水５０ｍｌに溶解する。
水相を分離除去し、有機相を水で洗浄し、無水Ｎａ2 Ｓ
Ｏ4 で乾燥し、そして真空下で蒸発させる。 Ｃ92Ｈ162 Ｎ16Ｏ12の分析 計算値： Ｃ＝６５．６０％；Ｈ＝９．６９％；Ｎ
＝１３．３０％ 実測値： Ｃ＝６５．１６％；Ｈ＝９．６９％；Ｎ
＝１３．２５％
−テトラメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメ
チレンジアスパルテート２１．７ｇ（０．０２４ｍｏ
ｌ）および２−クロロ−４，６−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルオキシ）−１，３，５
−トリアジン２０．５ｇ（０．０４８ｍｏｌ）を還流下
で１２時間加熱する。粉砕したＫ2 ＣＯ3 １３．３ｇ
（０．０９６ｍｏｌ）を加えおよび混合物を還流下で８
時間加熱する。溶媒を真空下で蒸発させそして残渣をジ
クロロメタン１５０ｍｌおよび水５０ｍｌに溶解する。
水相を分離除去し、有機相を水で洗浄し、無水Ｎａ2 Ｓ
Ｏ4 で乾燥し、そして真空下で蒸発させる。 Ｃ92Ｈ162 Ｎ16Ｏ12の分析 計算値： Ｃ＝６５．６０％；Ｈ＝９．６９％；Ｎ
＝１３．３０％ 実測値： Ｃ＝６５．１６％；Ｈ＝９．６９％；Ｎ
＝１３．２５％
【０１１７】実施例３ ａ）テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアスパル
テートを、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）マレエート４２．３ｇ（０．１ｍｏ
ｌ）とヘキサメチレンジアミン５．８ｇ（０．０５ｍｏ
ｌ）とを反応させることにより、実施例１ａに記載した
ように製造する。 得られた生成物は密度の高いオイルである。 Ｃ54Ｈ100 Ｎ6 Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６７．４６％；Ｈ＝１０．４８％；
Ｎ＝８．７４％ 実測値： Ｃ＝６７．４４％；Ｈ＝１０．４７％；
Ｎ＝８．６７％
４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアスパル
テートを、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）マレエート４２．３ｇ（０．１ｍｏ
ｌ）とヘキサメチレンジアミン５．８ｇ（０．０５ｍｏ
ｌ）とを反応させることにより、実施例１ａに記載した
ように製造する。 得られた生成物は密度の高いオイルである。 Ｃ54Ｈ100 Ｎ6 Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６７．４６％；Ｈ＝１０．４８％；
Ｎ＝８．７４％ 実測値： Ｃ＝６７．４４％；Ｈ＝１０．４７％；
Ｎ＝８．６７％
【０１１８】ｂ）次式
【化６２】 で表される生成物を、テトラキス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメ
チレンジアスパルテート３８．５ｇ（０．０４ｍｏｌ）
とシアヌル酸塩化物１４．８ｇ（０．０８ｍｏｌ）およ
び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジン４７．６ｇ（０．２２４ｍｏｌ）とを反応させ
ることにより、実施例１ｂに記載したように製造する。
得られた生成物は９３−９５℃で融解する。 Ｃ112 Ｈ206 Ｎ20Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６８．６０％；Ｈ＝１０．５９％；
Ｎ＝１４．２８％ 実測値： Ｃ＝６８．６０％；Ｈ＝１０．５５％；
Ｎ＝１４．２１％
−ペンタメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメ
チレンジアスパルテート３８．５ｇ（０．０４ｍｏｌ）
とシアヌル酸塩化物１４．８ｇ（０．０８ｍｏｌ）およ
び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジン４７．６ｇ（０．２２４ｍｏｌ）とを反応させ
ることにより、実施例１ｂに記載したように製造する。
得られた生成物は９３−９５℃で融解する。 Ｃ112 Ｈ206 Ｎ20Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６８．６０％；Ｈ＝１０．５９％；
Ｎ＝１４．２８％ 実測値： Ｃ＝６８．６０％；Ｈ＝１０．５５％；
Ｎ＝１４．２１％
【０１１９】実施例４：次式：
【化６３】 で表される生成物を、テトラキス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメ
チレンジアスパルテート１９．２ｇ（０．０２ｍｏｌ）
と２−クロロ−４，６−ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジルオキシ）−１，３，５−ト
リアジン１８．２ｇ（０．０４ｍｏｌ）とを反応させる
ことにより、実施例２に記載したように製造する。得ら
れた生成物は１０９−１１２℃で融解する。 Ｃ100 Ｈ178 Ｎ16Ｏ12の分析 計算値： Ｃ＝６６．８５％；Ｈ＝ ９．９２％；
Ｎ＝１２．４７％ 実測値： Ｃ＝６６．７６％；Ｈ＝ ９．９３％；
Ｎ＝１２．４３％
−ペンタメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメ
チレンジアスパルテート１９．２ｇ（０．０２ｍｏｌ）
と２−クロロ−４，６−ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジルオキシ）−１，３，５−ト
リアジン１８．２ｇ（０．０４ｍｏｌ）とを反応させる
ことにより、実施例２に記載したように製造する。得ら
れた生成物は１０９−１１２℃で融解する。 Ｃ100 Ｈ178 Ｎ16Ｏ12の分析 計算値： Ｃ＝６６．８５％；Ｈ＝ ９．９２％；
Ｎ＝１２．４７％ 実測値： Ｃ＝６６．７６％；Ｈ＝ ９．９３％；
Ｎ＝１２．４３％
【０１２０】実施例５： ａ）テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−（イミノジエチレン）ジアスパ
ルテートを、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）マレエート９４．７ｇ（０．２４ｍｏ
ｌ）とジエチレントリアミン１２．４ｇ（０．１２ｍｏ
ｌ）とを反応させることにより、実施例１ａに記載した
ように製造する。得られた生成物は密度の高いオイルで
ある。 Ｃ48Ｈ89Ｎ7 Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６４．６１％；Ｈ＝１０．０５％；
Ｎ＝１０．９９％ 実測値： Ｃ＝６４．０２％；Ｈ＝ ９．９０％；
Ｎ＝１０．９１％
ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−（イミノジエチレン）ジアスパ
ルテートを、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）マレエート９４．７ｇ（０．２４ｍｏ
ｌ）とジエチレントリアミン１２．４ｇ（０．１２ｍｏ
ｌ）とを反応させることにより、実施例１ａに記載した
ように製造する。得られた生成物は密度の高いオイルで
ある。 Ｃ48Ｈ89Ｎ7 Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６４．６１％；Ｈ＝１０．０５％；
Ｎ＝１０．９９％ 実測値： Ｃ＝６４．０２％；Ｈ＝ ９．９０％；
Ｎ＝１０．９１％
【０１２１】ｂ）次式：
【化６４】 で表される生成物を、テトラキス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−（イミノジエ
チレン）ジアスパルテート２６．８ｇ（０．０３ｍｏ
ｌ）とシアヌル酸塩化物１６．６ｇ（０．０９ｍｏｌ）
および４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン５３．５ｇ（０．２５２ｍｏｌ）とを反応
させることにより、実施例１ｂに記載したように製造す
る。得られた生成物は１１１−１１３℃で融解する。 Ｃ135 Ｈ248 Ｎ28Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６７．８０％；Ｈ＝１０．４５％；
Ｎ＝１６．４０％ 実測値： Ｃ＝６６．９０％；Ｈ＝１０．４１％；
Ｎ＝１６．３０％
トラメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−（イミノジエ
チレン）ジアスパルテート２６．８ｇ（０．０３ｍｏ
ｌ）とシアヌル酸塩化物１６．６ｇ（０．０９ｍｏｌ）
および４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン５３．５ｇ（０．２５２ｍｏｌ）とを反応
させることにより、実施例１ｂに記載したように製造す
る。得られた生成物は１１１−１１３℃で融解する。 Ｃ135 Ｈ248 Ｎ28Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６７．８０％；Ｈ＝１０．４５％；
Ｎ＝１６．４０％ 実測値： Ｃ＝６６．９０％；Ｈ＝１０．４１％；
Ｎ＝１６．３０％
【０１２２】実施例６： ａ）テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−［イミノビス（トリメチレ
ン）］ジアスパルテートを、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）マレエート６７．６
ｇ（０．１６ｍｏｌ）とビス（３−アミノプロピル）ア
ミン１０．５ｇ（０．０８ｍｏｌ）と反応させることよ
り、実施例１ａに記載したように製造する。得られた生
成物は密度の高いオイルである。 Ｃ54Ｈ101 Ｎ7 Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６６．４２％；Ｈ＝１０．４３％；
Ｎ＝１０．０４％ 実測値： Ｃ＝６５．８９％；Ｈ＝１０．４０％；
Ｎ＝ ９．９８％
４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−［イミノビス（トリメチレ
ン）］ジアスパルテートを、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）マレエート６７．６
ｇ（０．１６ｍｏｌ）とビス（３−アミノプロピル）ア
ミン１０．５ｇ（０．０８ｍｏｌ）と反応させることよ
り、実施例１ａに記載したように製造する。得られた生
成物は密度の高いオイルである。 Ｃ54Ｈ101 Ｎ7 Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６６．４２％；Ｈ＝１０．４３％；
Ｎ＝１０．０４％ 実測値： Ｃ＝６５．８９％；Ｈ＝１０．４０％；
Ｎ＝ ９．９８％
【０１２３】ｂ）次式：
【化６５】 で表される生成物を、テトラキス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−［イミノ
ビス（トリメチレン）］ジアスパルテート３９．１ｇ
（０．０４ｍｏｌ）とシアヌル酸塩化物２２．１ｇ
（０．１２ｍｏｌ）および４−ブチルアミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン７１．４ｇ（０．３３
６ｍｏｌ）とを反応させることにより、実施例１ｂに記
載したように製造する。得られた生成物は１１８−１２
１℃で融解する。 Ｃ141 Ｈ260 Ｎ28Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６８．４０％；Ｈ＝１０．５８％；
Ｎ＝１５．８４％ 実測値： Ｃ＝６８．４９％；Ｈ＝１０．４６％；
Ｎ＝１５．７１％
−ペンタメチル−４−ピペリジル）Ｎ，Ｎ’−［イミノ
ビス（トリメチレン）］ジアスパルテート３９．１ｇ
（０．０４ｍｏｌ）とシアヌル酸塩化物２２．１ｇ
（０．１２ｍｏｌ）および４−ブチルアミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン７１．４ｇ（０．３３
６ｍｏｌ）とを反応させることにより、実施例１ｂに記
載したように製造する。得られた生成物は１１８−１２
１℃で融解する。 Ｃ141 Ｈ260 Ｎ28Ｏ8 の分析 計算値： Ｃ＝６８．４０％；Ｈ＝１０．５８％；
Ｎ＝１５．８４％ 実測値： Ｃ＝６８．４９％；Ｈ＝１０．４６％；
Ｎ＝１５．７１％
【０１２４】実施例７：次式
【化６６】 で表される生成物をテトラメチルＮ，Ｎ’−［エチレン
ビス（イミノトリメチレン）］ジアスパルテート２３．
１ｇ（０．０５ｍｏｌ）を−１０℃に温度を保持したキ
シレン５００ｍｌ中のシアヌル酸塩化物３６．９ｇ
（０．２ｍｏｌ）および２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジノール４６．２ｇ（０．２７ｍｏｌ）の
混合物に４５分かけて加える。添加の終了後、混合物を
−１０℃で３０分間および２０℃で２時間攪拌する。４
−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン８５ｇ（０．４ｍｏｌ）を加え、そして混合物を９
０℃で３時間加熱する。粉砕したＫ2 ＣＯ3５５．３ｇ
（０．４ｍｏｌ）を加え、混合物を１２時間還流下で加
熱する。２０℃に冷却後、ナトリウムメトキシド１１．
９ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加え、そして混合物を１５分
間攪拌し、そして放出されたメタノールを蒸留により分
離除去しながら１２時間還流下で加熱する。室温に冷却
後、反応混合物を水で塩素イオンが完全に除去されるま
で洗浄し、そして最後に、過剰の２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジノールを分離除去するために、
６ｍｂａｒで２００℃に加熱することにより乾燥する。
得られた生成物は１２６−１２９℃で融解する。 Ｃ108 Ｈ310 Ｎ36Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６８．１１％；Ｈ＝１０．５５％；
Ｎ＝１７．０２％ 実測値： Ｃ＝６７．９０％；Ｈ＝１０．４２％；
Ｎ＝１７．００％
ビス（イミノトリメチレン）］ジアスパルテート２３．
１ｇ（０．０５ｍｏｌ）を−１０℃に温度を保持したキ
シレン５００ｍｌ中のシアヌル酸塩化物３６．９ｇ
（０．２ｍｏｌ）および２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジノール４６．２ｇ（０．２７ｍｏｌ）の
混合物に４５分かけて加える。添加の終了後、混合物を
−１０℃で３０分間および２０℃で２時間攪拌する。４
−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン８５ｇ（０．４ｍｏｌ）を加え、そして混合物を９
０℃で３時間加熱する。粉砕したＫ2 ＣＯ3５５．３ｇ
（０．４ｍｏｌ）を加え、混合物を１２時間還流下で加
熱する。２０℃に冷却後、ナトリウムメトキシド１１．
９ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加え、そして混合物を１５分
間攪拌し、そして放出されたメタノールを蒸留により分
離除去しながら１２時間還流下で加熱する。室温に冷却
後、反応混合物を水で塩素イオンが完全に除去されるま
で洗浄し、そして最後に、過剰の２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジノールを分離除去するために、
６ｍｂａｒで２００℃に加熱することにより乾燥する。
得られた生成物は１２６−１２９℃で融解する。 Ｃ108 Ｈ310 Ｎ36Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６８．１１％；Ｈ＝１０．５５％；
Ｎ＝１７．０２％ 実測値： Ｃ＝６７．９０％；Ｈ＝１０．４２％；
Ｎ＝１７．００％
【０１２５】実施例８： ａ）ジエチルＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）アスパルテートの製造。 テトラヒドロフラン２００ｍｌ中の４−アミノ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン７８．１ｇ
（０．５ｍｏｌ）およびジエチルマレエート８６．１ｇ
８０．５ｍｏｌ）を還流下で６時間加熱する。溶媒を真
空下で蒸発させ、そして生成物を蒸留により分離除去す
る：沸点１１６−１１８℃／０．５ｍｂａｒ。 Ｃ17Ｈ32Ｎ2 Ｏ4 に対する分析 計算値： Ｃ＝６２．１７％；Ｈ＝ ９．８２％；
Ｎ＝ ８．５３％ 実測値： Ｃ＝６２．０１％；Ｈ＝ ９．７８％；
Ｎ＝ ８．４９％
−ピペリジル）アスパルテートの製造。 テトラヒドロフラン２００ｍｌ中の４−アミノ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン７８．１ｇ
（０．５ｍｏｌ）およびジエチルマレエート８６．１ｇ
８０．５ｍｏｌ）を還流下で６時間加熱する。溶媒を真
空下で蒸発させ、そして生成物を蒸留により分離除去す
る：沸点１１６−１１８℃／０．５ｍｂａｒ。 Ｃ17Ｈ32Ｎ2 Ｏ4 に対する分析 計算値： Ｃ＝６２．１７％；Ｈ＝ ９．８２％；
Ｎ＝ ８．５３％ 実測値： Ｃ＝６２．０１％；Ｈ＝ ９．７８％；
Ｎ＝ ８．４９％
【０１２６】ｂ）次式：
【化６７】 で表される生成物の製造。 キシレン１００ｍｌ中のジエチルＮ−（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）アスパルテート３
２．８ｇ（０．１ｍｏｌ）を温度を０℃に保持したキシ
レン１００ｍｌ中のシアヌル酸塩化物１８．４ｇ（０．
１ｍｏｌ）の溶液にゆっくり加える。混合物を室温で３
時間攪拌し、水５０ｍｌ中のＫ2 ＣＯ3 １３．８ｇ
（０．１ｍｏｌ）を次に温度を１０℃に保持しながらゆ
っくりと加えて、混合物を室温で１時間攪拌し、水相を
分離除去する。４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン４２．５ｇ（０２ｍｏｌ）を加え
混合物を３時間還流下で加熱し、水を共沸蒸留で分離除
去する。混合物を６０℃に冷却し、粉砕したＫ2 ＣＯ3
４１．５ｇ（０．３ｍｏｌ）を加え、そして混合物を反
応水を共沸除去しながら再び還流下で８時間加熱する。
混合物を次に５０℃に冷却しそして無機塩を分離除去す
るためにろ過する。２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジノール３７．７ｇ（０．２４ｍｏｌ）および
Ｔｉ（IV) イソプロポキシド０．８ｍｌを上記で得られ
た溶液に加え、混合物を還流下で８時間加熱して反応中
に形成されたエタノールを除去する。室温に冷却後、過
剰の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノー
ルを除去するために溶液を水で数回洗浄し、そして真空
下で蒸発させる。得られた油状残渣はヘキサンからゆっ
くり結晶化される：融点７９−８１℃。 Ｃ60Ｈ111 Ｎ11Ｏ4 に対する分析 計算値： Ｃ＝６８．５９％；Ｈ＝１０．６５％；
Ｎ＝１４．６６％ 実測値： Ｃ＝６８．１９％；Ｈ＝１０．５８％；
Ｎ＝１４．６６％
−テトラメチル−４−ピペリジル）アスパルテート３
２．８ｇ（０．１ｍｏｌ）を温度を０℃に保持したキシ
レン１００ｍｌ中のシアヌル酸塩化物１８．４ｇ（０．
１ｍｏｌ）の溶液にゆっくり加える。混合物を室温で３
時間攪拌し、水５０ｍｌ中のＫ2 ＣＯ3 １３．８ｇ
（０．１ｍｏｌ）を次に温度を１０℃に保持しながらゆ
っくりと加えて、混合物を室温で１時間攪拌し、水相を
分離除去する。４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン４２．５ｇ（０２ｍｏｌ）を加え
混合物を３時間還流下で加熱し、水を共沸蒸留で分離除
去する。混合物を６０℃に冷却し、粉砕したＫ2 ＣＯ3
４１．５ｇ（０．３ｍｏｌ）を加え、そして混合物を反
応水を共沸除去しながら再び還流下で８時間加熱する。
混合物を次に５０℃に冷却しそして無機塩を分離除去す
るためにろ過する。２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジノール３７．７ｇ（０．２４ｍｏｌ）および
Ｔｉ（IV) イソプロポキシド０．８ｍｌを上記で得られ
た溶液に加え、混合物を還流下で８時間加熱して反応中
に形成されたエタノールを除去する。室温に冷却後、過
剰の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノー
ルを除去するために溶液を水で数回洗浄し、そして真空
下で蒸発させる。得られた油状残渣はヘキサンからゆっ
くり結晶化される：融点７９−８１℃。 Ｃ60Ｈ111 Ｎ11Ｏ4 に対する分析 計算値： Ｃ＝６８．５９％；Ｈ＝１０．６５％；
Ｎ＝１４．６６％ 実測値： Ｃ＝６８．１９％；Ｈ＝１０．５８％；
Ｎ＝１４．６６％
【０１２７】実施例８： ａ）ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）Ｎ−ブチルアスパルテートの製造。 キシレン２００ｍｌ中のジメチルＮ−ブチルアスパルテ
ート４３．５ｇ（０．２ｍｏｌ）、２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジノール７８．６ｇ（０．５ｍ
ｏｌ）およびチタン（IV) イソプロポキシド０．５ｍｌ
を、反応中に形成されたメタノールを除去しながら還流
下で１０時間加熱する。室温に冷却後、過剰の２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールを除去する
ために溶液を水で数回洗浄し、そして２ｍｂａｒで１０
０℃まで加熱することにより蒸発させる。生成物は油状
残渣として得られる。 Ｃ26Ｈ49Ｎ3 Ｏ4 に対する分析 計算値： Ｃ＝６６．７７％；Ｈ＝１０．５６％；
Ｎ＝ ８．９８％ 実測値： Ｃ＝６６．６３％；Ｈ＝１０．５２％；
Ｎ＝ ８．９４％
ジル）Ｎ−ブチルアスパルテートの製造。 キシレン２００ｍｌ中のジメチルＮ−ブチルアスパルテ
ート４３．５ｇ（０．２ｍｏｌ）、２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジノール７８．６ｇ（０．５ｍ
ｏｌ）およびチタン（IV) イソプロポキシド０．５ｍｌ
を、反応中に形成されたメタノールを除去しながら還流
下で１０時間加熱する。室温に冷却後、過剰の２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールを除去する
ために溶液を水で数回洗浄し、そして２ｍｂａｒで１０
０℃まで加熱することにより蒸発させる。生成物は油状
残渣として得られる。 Ｃ26Ｈ49Ｎ3 Ｏ4 に対する分析 計算値： Ｃ＝６６．７７％；Ｈ＝１０．５６％；
Ｎ＝ ８．９８％ 実測値： Ｃ＝６６．６３％；Ｈ＝１０．５２％；
Ｎ＝ ８．９４％
【０１２８】ｂ）次式：
【化６８】 で表される生成物の製造。 キシレン５０ｍｌ中のビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）Ｎ−ブチルアスパルテート５
６．１ｇ（０．１２ｍｏｌ）を、温度を２０℃に保持し
たキシレン２５０ｍｌ中のシアヌル酸塩化物２２．１ｇ
（０．１２ｍｏｌ）の溶液にゆっくり加える。添加の終
了後、混合物を２０℃で１時間攪拌し、粉砕したＫ2 Ｃ
Ｏ3 ２０ｇ（０．１４５ｍｏｌ）を加えそして温度を２
０℃でさらに２時間攪拌する。８０℃に加熱した後、キ
シレン５０ｍｌ中のビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）Ｎ−ブチルアスパルテート５６．
１ｇ（０．１２ｍｏｌ）をゆっくりと加える。混合物を
１１０℃に２時間攪拌し、粉砕したＫ2 ＣＯ3 ２０ｇ
（０．１４５ｍｏｌ）を加え、そして混合物を再び１１
０℃で５時間加熱する。８０℃まで冷却した後、ヘキサ
メチレンジアミン７ｇ（０．０６ｍｏｌ）および粉砕し
たＫ2 ＣＯ3 ２９ｇ（０．２１ｍｏｌ）を加え、反応水
を共沸蒸留で分離除去しながら還流下で８時間加熱す
る。混合物を室温に冷却後、無機塩を分離除去するため
に混合物をろ過し、真空下で溶媒を蒸発させる。生成物
は７７−８０℃で融解する。 Ｃ116 Ｈ206 Ｎ20Ｏ16に対する分析 計算値： Ｃ＝６５．２０％；Ｈ＝ ９．７２％；
Ｎ＝１３．１１％ 実測値： Ｃ＝６４．５０％；Ｈ＝ ９．６１％；
Ｎ＝１２．９６％
チル−４−ピペリジル）Ｎ−ブチルアスパルテート５
６．１ｇ（０．１２ｍｏｌ）を、温度を２０℃に保持し
たキシレン２５０ｍｌ中のシアヌル酸塩化物２２．１ｇ
（０．１２ｍｏｌ）の溶液にゆっくり加える。添加の終
了後、混合物を２０℃で１時間攪拌し、粉砕したＫ2 Ｃ
Ｏ3 ２０ｇ（０．１４５ｍｏｌ）を加えそして温度を２
０℃でさらに２時間攪拌する。８０℃に加熱した後、キ
シレン５０ｍｌ中のビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）Ｎ−ブチルアスパルテート５６．
１ｇ（０．１２ｍｏｌ）をゆっくりと加える。混合物を
１１０℃に２時間攪拌し、粉砕したＫ2 ＣＯ3 ２０ｇ
（０．１４５ｍｏｌ）を加え、そして混合物を再び１１
０℃で５時間加熱する。８０℃まで冷却した後、ヘキサ
メチレンジアミン７ｇ（０．０６ｍｏｌ）および粉砕し
たＫ2 ＣＯ3 ２９ｇ（０．２１ｍｏｌ）を加え、反応水
を共沸蒸留で分離除去しながら還流下で８時間加熱す
る。混合物を室温に冷却後、無機塩を分離除去するため
に混合物をろ過し、真空下で溶媒を蒸発させる。生成物
は７７−８０℃で融解する。 Ｃ116 Ｈ206 Ｎ20Ｏ16に対する分析 計算値： Ｃ＝６５．２０％；Ｈ＝ ９．７２％；
Ｎ＝１３．１１％ 実測値： Ｃ＝６４．５０％；Ｈ＝ ９．６１％；
Ｎ＝１２．９６％
【０１２９】実施例１０：式
【化６９】 で表される生成物の製造。 水５０ｍｌ中のホルムアルデヒド（メタノールを含まな
い）４．３ｇ（０．１４４ｍｏｌ）および蟻酸６．６ｇ
（０．１４４ｍｏｌ）を含む溶液を、還流下で加熱した
トルエン１５０ｍｌ中の実施例１からの生成物２８．６
ｇ（０．０１５ｍｏｌ）の溶液に、同時に、添加した水
および反応水を共沸除去しながら２時間かけて加える。
室温に冷却後、水５０ｍｌ中のＮａＯＨ５．８ｇの溶液
を加え、混合物１５分間攪拌し、水相を分離除去する。
有機相を水で洗浄し、真空下で蒸発させる。得られた生
成物は１１９−１２１℃で融解する。 Ｃ116 Ｈ216 Ｎ20Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６９．０７％；Ｈ＝１０．６９％；
Ｎ＝１３．８９％ 実測値： Ｃ＝６８．５６％；Ｈ＝１０．５３％；
Ｎ＝１３．６９％
い）４．３ｇ（０．１４４ｍｏｌ）および蟻酸６．６ｇ
（０．１４４ｍｏｌ）を含む溶液を、還流下で加熱した
トルエン１５０ｍｌ中の実施例１からの生成物２８．６
ｇ（０．０１５ｍｏｌ）の溶液に、同時に、添加した水
および反応水を共沸除去しながら２時間かけて加える。
室温に冷却後、水５０ｍｌ中のＮａＯＨ５．８ｇの溶液
を加え、混合物１５分間攪拌し、水相を分離除去する。
有機相を水で洗浄し、真空下で蒸発させる。得られた生
成物は１１９−１２１℃で融解する。 Ｃ116 Ｈ216 Ｎ20Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６９．０７％；Ｈ＝１０．６９％；
Ｎ＝１３．８９％ 実測値： Ｃ＝６８．５６％；Ｈ＝１０．５３％；
Ｎ＝１３．６９％
【０１３０】実施例１１：式
【化７０】 で表される生成物は、実施例６からの生成物２４．８ｇ
（０．０１ｍｏｌ）と、ホルムアルデヒド３．６ｇ
（０．１２ｍｏｌ）および蟻酸５．５ｇ（０．１２ｍｏ
ｌ）とを反応させることにより、実施例１０に記載した
方法と同様に製造できる。得られた生成物は１３３−１
３５℃で融解する。 Ｃ147 Ｈ272 Ｎ28Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６８．９７％；Ｈ＝１０．７１％；
Ｎ＝１５．３２％ 実測値： Ｃ＝６８．４１％；Ｈ＝１０．５４％；
Ｎ＝１５．３０％
（０．０１ｍｏｌ）と、ホルムアルデヒド３．６ｇ
（０．１２ｍｏｌ）および蟻酸５．５ｇ（０．１２ｍｏ
ｌ）とを反応させることにより、実施例１０に記載した
方法と同様に製造できる。得られた生成物は１３３−１
３５℃で融解する。 Ｃ147 Ｈ272 Ｎ28Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６８．９７％；Ｈ＝１０．７１％；
Ｎ＝１５．３２％ 実測値： Ｃ＝６８．４１％；Ｈ＝１０．５４％；
Ｎ＝１５．３０％
【０１３１】実施例１２：式
【化７１】 で表される生成物は、実施例７からの生成物２９．６ｇ
（０．０１ｍｏｌ）と、ホルムアルデヒド４．３ｇ
（０．１４４ｍｏｌ）および蟻酸６．６ｇ（０．１４４
ｍｏｌ）とを反応させることにより、実施例１０に記載
した方法と同様に製造できる。得られた生成物は１４１
−１４４℃で融解する。 Ｃ180 Ｈ334 Ｎ36Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６９．０５％；Ｈ＝１０．７５％；
Ｎ＝１６．１１％ 実測値： Ｃ＝６８．８１％；Ｈ＝１０．５８％；
Ｎ＝１５．９９％
（０．０１ｍｏｌ）と、ホルムアルデヒド４．３ｇ
（０．１４４ｍｏｌ）および蟻酸６．６ｇ（０．１４４
ｍｏｌ）とを反応させることにより、実施例１０に記載
した方法と同様に製造できる。得られた生成物は１４１
−１４４℃で融解する。 Ｃ180 Ｈ334 Ｎ36Ｏ8 に対する分析 計算値： Ｃ＝６９．０５％；Ｈ＝１０．７５％；
Ｎ＝１６．１１％ 実測値： Ｃ＝６８．８１％；Ｈ＝１０．５８％；
Ｎ＝１５．９９％
【０１３２】実施例１３：（ポリプロピレンファイバー
における光安定化作用） 下表１に示す製造実施例の生成物各々の場合２．５ｇ、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト１ｇ、カルシウムモノエチル３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート０．５ｇ、ステ
アリン酸カルシウム１ｇおよび二酸化チタン２．５ｇ
を、メルトインデックス＝１２ｇ／１０分（２３０℃お
よび２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末
１０００ｇと共にターボミキサーで混合する。混合物を
２３０ないし２４５℃で押し出して、ポリマーグラニュ
ールを得て、それを続いてパイロット型の装置〔レオナ
ルド−シュミラゴ(Leonard-Sumirago)（ＶＡ）社，イタ
リア〕を使用して、以下の条件の下で操作して、ファイ
バーに加工する： 押出温度 ： ２３０−２４５℃ ヘッド温度 ： ２５５−２６０℃ 引張率 ： １：３．５ 番手 ： １１ｄｔｅｘ／フィラメント このように製造されたファイバーを白い厚紙に据付け、
そして次に６３℃のブラックパネル温度で、モデル６５
ＷＲウエザロメーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）
に曝露する。種々の光曝露時間後取り出された試料にお
ける残留靱性(recidual tenacity)が、定速の張力計に
より測定され、それから初期靱性(initial tenacity)を
半減にするのに必要な曝露時間（時間単位で）（Ｔ50）
が計算される。比較のため、本発明の安定剤を加えない
で、上記で示したものと同様の条件下で製造したファイ
バーを曝露する。得られた結果を表１に示す。より時間
が長いほどよりよい安定化効果を示す。表１ 安定剤 Ｔ50（時間） 安定剤無 ２６０ 実施例１の生成物 ２９００ 実施例３の化合物 ２６３０ 実施例４の化合物 ２９００ 実施例５の化合物 ２６００ 実施例６の化合物 ２６００ 実施例１１の化合物 ２６００
における光安定化作用） 下表１に示す製造実施例の生成物各々の場合２．５ｇ、
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト１ｇ、カルシウムモノエチル３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート０．５ｇ、ステ
アリン酸カルシウム１ｇおよび二酸化チタン２．５ｇ
を、メルトインデックス＝１２ｇ／１０分（２３０℃お
よび２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末
１０００ｇと共にターボミキサーで混合する。混合物を
２３０ないし２４５℃で押し出して、ポリマーグラニュ
ールを得て、それを続いてパイロット型の装置〔レオナ
ルド−シュミラゴ(Leonard-Sumirago)（ＶＡ）社，イタ
リア〕を使用して、以下の条件の下で操作して、ファイ
バーに加工する： 押出温度 ： ２３０−２４５℃ ヘッド温度 ： ２５５−２６０℃ 引張率 ： １：３．５ 番手 ： １１ｄｔｅｘ／フィラメント このように製造されたファイバーを白い厚紙に据付け、
そして次に６３℃のブラックパネル温度で、モデル６５
ＷＲウエザロメーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）
に曝露する。種々の光曝露時間後取り出された試料にお
ける残留靱性(recidual tenacity)が、定速の張力計に
より測定され、それから初期靱性(initial tenacity)を
半減にするのに必要な曝露時間（時間単位で）（Ｔ50）
が計算される。比較のため、本発明の安定剤を加えない
で、上記で示したものと同様の条件下で製造したファイ
バーを曝露する。得られた結果を表１に示す。より時間
が長いほどよりよい安定化効果を示す。表１ 安定剤 Ｔ50（時間） 安定剤無 ２６０ 実施例１の生成物 ２９００ 実施例３の化合物 ２６３０ 実施例４の化合物 ２９００ 実施例５の化合物 ２６００ 実施例６の化合物 ２６００ 実施例１１の化合物 ２６００
【０１３３】実施例１４：（ポリプロピレンテープにお
ける光安定化作用） 下表２に示す製造実施例の生成物各々の場合１ｇ、トリ
ス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット１
ｇ、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］０．５ｇおよびステアリン酸カルシウム１ｇを、メ
ルトインデックス＝２ｇ／１０分（２３０℃および２．
１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末１０００
ｇと共にターボミキサーで混合する。混合物を２００な
いし２２０℃で押し出して、ポリマーグラニュールを得
て、それを続いて半工業型の装置〔レオナルド−シュミ
ラゴ(Leonard-Sumirago)（ＶＡ）社，イタリア〕を使用
して、以下の条件の下で操作して、厚さ５０μｍ、幅
２．５ｍｍの伸縮テープ（strech tape)に加工する： 押出温度 ： ２１０−２３０℃ ヘッド温度 ： ２４０−２６０℃ 引張率 ： １：６ このように製造されたテープを白い厚紙に据付け、そし
て次に６３℃のブラックパネル温度で、モデル６５ＷＲ
ウエザロメーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）に曝
露する。種々の光曝露時間後取り出された試料における
残留靱性(recidual tenacity)が、定速の張力計により
測定され、それから初期靱性(initial tenacity)を半減
にするのに必要な曝露時間（時間単位で）（Ｔ50）が計
算される。比較のため、本発明の安定剤を加えないで、
上記で示したものと同様の条件下で製造したテープを曝
露する。得られた結果を表２に示す。より時間が長いほ
どよりよい安定化効果を示す。表２ 安定剤 Ｔ50（時間） 安定剤無 ５３０ 実施例２の生成物 ３５９０
ける光安定化作用） 下表２に示す製造実施例の生成物各々の場合１ｇ、トリ
ス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット１
ｇ、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］０．５ｇおよびステアリン酸カルシウム１ｇを、メ
ルトインデックス＝２ｇ／１０分（２３０℃および２．
１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末１０００
ｇと共にターボミキサーで混合する。混合物を２００な
いし２２０℃で押し出して、ポリマーグラニュールを得
て、それを続いて半工業型の装置〔レオナルド−シュミ
ラゴ(Leonard-Sumirago)（ＶＡ）社，イタリア〕を使用
して、以下の条件の下で操作して、厚さ５０μｍ、幅
２．５ｍｍの伸縮テープ（strech tape)に加工する： 押出温度 ： ２１０−２３０℃ ヘッド温度 ： ２４０−２６０℃ 引張率 ： １：６ このように製造されたテープを白い厚紙に据付け、そし
て次に６３℃のブラックパネル温度で、モデル６５ＷＲ
ウエザロメーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）に曝
露する。種々の光曝露時間後取り出された試料における
残留靱性(recidual tenacity)が、定速の張力計により
測定され、それから初期靱性(initial tenacity)を半減
にするのに必要な曝露時間（時間単位で）（Ｔ50）が計
算される。比較のため、本発明の安定剤を加えないで、
上記で示したものと同様の条件下で製造したテープを曝
露する。得られた結果を表２に示す。より時間が長いほ
どよりよい安定化効果を示す。表２ 安定剤 Ｔ50（時間） 安定剤無 ５３０ 実施例２の生成物 ３５９０
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 15/30 (72)発明者 グラッツィアーノ ザグノニ イタリア国，40038 ヴェルガト（ビーオ ー），ヴィア フォルナチ，77
Claims (11)
- 【請求項１】 次式（Ｉ）： 【化１】 ｛式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまたは異なっていてよ
く、式（II） 【化２】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし８アルキ
ル基、Ｏ・、ＯＨ、ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数１ないし１
８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
ルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基；未
置換のまたはフェニル基において炭素原子数１ないし４
のアルキル基により一置換、二置換もしくは三置換され
た炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または
炭素原子数１ないし８の脂肪族アシル基を表し；Ｒ2 は
水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；未置
換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基により一
置換、二置換もしくは三置換された炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基；未置換のまたはフェニル基に
おいて炭素原子数１ないし４のアルキル基により一置
換、二置換もしくは三置換された炭素原子数７ないし９
のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基また
は式（III ）： 【化３】 （式中、Ｒ3 はＲ1 に対して定義された意味を表すか、
あるいは２−、３−もしくは４位において炭素原子数１
ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ない
し４のアルキル）アミノ基によりまたは式（IV) 【化４】 （式中、Ｑ1 は直接結合、−Ｏ−、−ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 ＣＨ2 −または基： 【化５】 を表す。）で表される基により置換された炭素原子数２
ないし４のアルキル基を表す。）で表される基を表し；
およびＡは−Ｏ−または基： 【化６】 （基中、Ｒ4 は水素原子もしくは炭素原子数１ないし１
２のアルキル基を表す。）を表す。〕で表される基を表
すか；あるいはＸ1 およびＸ2 は式（IV）で表される基
を表すかまたは以下の式（Ｖa)−（Ｖe) 【化７】 （式中、Ｒ3 は上記で定義された意味を表し；Ｒ5 、Ｒ
6 およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよく、Ｒ2
に対して定義された意味を表し、あるいはＲ7 はまた炭
素原子数３ないし１８のアルケニル基を表すか、または
未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基もし
くは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により一置
換、二置換もしくは三置換された置換されたフェニル基
をも表し；Ｑ2 は−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯ
ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＯ−または−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−を表
し；およびｐは０または１を表す。）で表される基の１
つを表し；ならびにｎは１，２，３または４を表し；な
らびにｎが１である場合、Ｘ3 はＸ1 およびＸ2 に対し
て定義された意味を表し；ならびにｎが２である場合、
Ｘ3 は式（VIa)−(VIc) ： 【化８】 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12は同じかまたは異なって
いてよく、Ｒ2 に対して定義された意味を表すか、ある
いはＲ8 およびＲ10は式（VII) 【化９】 （式中、Ｒ1 およびＡは上記で定義されたものと同じ意
味を表す。）で表される基をも表し；Ｒ9 は炭素原子数
２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７の
シクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５な
いし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原
子数１ないし４のアルキレン）基を表すかあるいは；
１，４−ピペラジンジイル基によりまたは１、２もしく
は３個の酸素原子により、または１もしくは２個の基： 【化１０】 （基中、Ｒ13はＲ2 に対して定義された意味を表すかま
たは、炭素原子数１ないし１２の脂肪族アシル基、また
は（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル
基を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１２
のアルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基： 【化１１】 を表し；Ｒ11およびＲ14は炭素原子数２ないし６のアル
キレン基を表しおよび；ｑは０または１を表す。〕で表
される基の１つを表し；ならびにｎが３である場合、Ｘ
3 は式（VIIIａ）または（VIIIｂ) 【化１２】 （基中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23は同
じかまたは異なっていてよく、Ｒ8 およびＲ10に対して
上記で定義された意味を表し；Ｒ16、Ｒ17およびＲ19は
同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ないし６
のアルキレン基を表し；ｒおよびｕは０または１を表
し、およびｓおよびｔは同じかまたは異なっていてよ
く、２ないし６の整数を表す。）で表される基を表し；
ならびにｎが４である場合、Ｘ3 は式（IX） 【化１３】 （式中、Ｒ24およびＲ28は、同じかまたは異なっていて
よく、Ｒ8 およびＲ10に対して上記で定義された意味を
表し、Ｒ25、Ｒ26およびＲ27は同じかまたは異なってい
てよく、炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
す。）で表される基を表し；但し、式（II) または式
（VII)で表される基の少なくとも１つは式（Ｉ）で表さ
れる化合物中に存在する。｝で表される化合物。 - 【請求項２】 上記式中、Ｒ1 およびＲ3 が水素原子、
炭素原子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ、炭素原子数
６ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし８の
シクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基またはアセ
チル基を表す、請求項１に記載の式（Ｉ）で表される化
合物。 - 【請求項３】 上記式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまた
は異なってよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、
炭素原子数１ないし１６のアルキル基；未置換のまたは
炭素原子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置
換もしくは三置換された炭素原子数５ないし８のシクロ
アルキル基；未置換のまたはフェニル基において炭素原
子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置換もし
くは三置換されたベンジル基；テトラヒドロフルフリル
基、上記式（III)で表される基；２−または３−位にお
いて、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により、ジ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基によりま
たは上記式（IV）（式中、Ｑ1 が直接結合、−Ｏ−、−
ＣＨ2 −もしくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表す。）で表され
る基により置換された炭素原子数２ないし３のアルキル
基を表し；ならびにＡは、−Ｏ−または 【化１４】 （式中、Ｒ4 は水素原子または炭素原子数１ないし１０
のアルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表さ
れる基を表すか；あるいはＸ1 およびＸ2 は上記式（I
V）で表される基；または上記式（Va) −（Ve) （式
中、Ｒ5 、Ｒ6 およびＲ7 が同じかまたは異なっていて
よく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表すか、ある
いはＲ7 はまた炭素原子数３ないし１２のアルケニル基
または；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によ
り一置換、二置換もしくは三置換されたフェニル基をも
表し、Ｑ2 が−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＯＣＯ
−もしくは−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−を表し、ｐは０もしくは
１を表す。）で表される基の一つを表し；ならびにｎは
１、２、３または４を表し；ならびにｎが１を表す場
合、Ｘ3 はＸ1 およびＸ2 に対して定義された意味を表
し；ならびにｎが２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VI
ａ) − (VIｃ) 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じか
または異なっていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された
意味を表すか；または基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（V
II)で表される基を表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし１
０のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシ
レンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、フ
ェニレンジメチレン基；１，４−ピペラジンジイル基ま
たは１、２もしくは３個の酸素原子によりまたは１もし
くは２個の基 【化１５】 （基中、Ｒ13は上記Ｒ2 に対して定義された意味を表す
か、または炭素原子数１ないし８の脂肪族アシル基もし
くは（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル
基を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０
のアルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基 【化１６】 で表される基をも表し；Ｒ11およびＲ14は炭素原子数２
ないし４のアルキレン基を表し；およびｑは０もしくは
１を表す。〕で表される基の１つを表し；ならびにｎが
３を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIIIa)または (VIIIb)
（式中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同
じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対
して定義された意味を表し；ならびにＲ16、Ｒ17および
Ｒ19は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２な
いし４のアルキレン基を表し、ｒおよびｕが０または１
を表し；ならびにｓおよびｔが同じかまたは異なってい
てよく、３ないし６の整数を表す。）で表される基を表
し；ならびにｎが４を表す場合、Ｘ3 は上記式（IX)
（式中、Ｒ24およびＲ28がＲ8 およびＲ10に対して上記
で定義された意味を表し；ならびにＲ25、Ｒ26およびＲ
27は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ない
し４のアルキレン基を表す。）で表される基を表し；但
し、式（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表され
る基、または式（VII)の少なくとも１つが存在する、請
求項１に記載の式（Ｉ）で表される化合物。 - 【請求項４】 上記式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまた
は異なってよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、
炭素原子数１ないし１４のアルキル基；未置換のまたは
炭素原子数１ないし４のアルキル基により一置換、二置
換もしくは三置換されたシクロヘキシル基；ベンジル
基、テトラヒドロフルフリル基、上記式（III)で表され
る基；２−または３−位においてメトキシ基により、エ
トキシ基により、ジメチルアミノ基により、ジエチルア
ミノ基によりもしくは４−モルホリニル基により置換さ
れた炭素原子数２ないし３のアルキル基を表し；ならび
にＡは、−Ｏ−または 【化１７】 （式中、Ｒ4 は水素原子または炭素原子数１ないし８の
アルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表され
る基を表し；あるいはＸ1 およびＸ2 は４−モルホリニ
ル基；または上記式（Va) −（Ve) （式中、Ｒ5 、Ｒ6
およびＲ7 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2
に対して定義された意味を表すか、あるいはＲ7 はまた
炭素原子数３ないし１１のアルケニル基またはフェニル
基をも表し、Ｑ2 が−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −もしく
は−ＣＯＣＯ−を表し、ｐは０もしくは１を表す。）で
表される基の一つを表し；ならびにｎは１、２、３また
は４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ3 はＸ1 お
よびＸ2 に対して定義された意味を表し；ならびにｎが
２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIａ) − (VIｃ) 〔式
中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じかまたは異なっていて
よく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表すか；また
は基Ｒ8およびＲ10はまた上記式（VII)で表される基を
も表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、
シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキ
シレン基、フェニレンジメチレン基；１，４−ピペラジ
ンジイル基または１、２もしくは３個の酸素原子により
または１もしくは２個の基： 【化１８】 （基中、Ｒ13は上記Ｒ2 に対して定義された意味を表す
か、または炭素原子数１ないし４の脂肪族アシル基もし
くは（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カルボニル
基を表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０
のアルキレン基を表すか、あるいはＲ9 はまた基 【化１９】 で表される基をも表し；Ｒ11およびＲ14は炭素原子数２
ないし４のアルキレン基を表し；およびｑは０もしくは
１を表す。〕で表される基の１つを表し；ならびにｎが
３を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIIIa)または (VIIIb)
（式中、Ｒ15、Ｒ18、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同
じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対
して定義された意味を表し；Ｒ16、Ｒ17およびＲ19は同
じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２ないし４の
アルキレン基を表し、ｒおよびｕが０または１を表し、
ならびにｓおよびｔが同じかまたは異なっていてよく、
３ないし５の整数を表す。）で表される基を表し；なら
びにｎが４を表す場合、Ｘ3 は上記式（IX) （式中、Ｒ
24およびＲ28がＲ8 およびＲ10に対して上記で定義され
た意味を表し；ならびにＲ25、Ｒ26およびＲ27は同じか
または異なっていてよく、炭素原子数２ないし４のアル
キレン基を表す。）で表される基を表し；但し、式
（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表される基、
または式（VII)の少なくとも１つが存在する、請求項１
に記載の式（Ｉ）で表される化合物。 - 【請求項５】 上記式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまた
は異なってよく、上記式(II)〔式中、Ｒ2 が水素原子、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、シクロヘキシル
基、上記式（III)で表される基を表し；ならびにＡは、
−Ｏ−または 【化２０】 （式中、Ｒ4 は水素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表す。）で表される基を表す。〕で表され
る基を表し；あるいはＸ1 およびＸ2 は４−モルホリニ
ル基；または上記式（Va) −（Ve) （式中、Ｒ5 、Ｒ6
およびＲ7 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ2
に対して定義された意味を表し、Ｑ2 が−ＣＯ−もしく
は−ＣＨ2 ＣＨ2 −を表し、ｐは０もしくは１を表
す。）で表される基の一つを表し；ならびにｎは１、
２、３または４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ
3 はＸ1 およびＸ2 に対して定義された意味を表し；な
らびにｎが２を表す場合、Ｘ3 は、上記式（VIａ) −
(VIｃ) 〔式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12が同じかまたは
異なっていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を
表すか；または基Ｒ8およびＲ10はまた式（VII)で表さ
れる基を表し、Ｒ9 は炭素原子数２ないし６のアルキレ
ン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシク
ロヘキシレン基；１，４−ピペラジンジイル基または２
もしくは３個の酸素原子によりまたは基： 【化２１】 （基中、Ｒ13は上記Ｒ2 に対して定義された意味を表
す。）により中断された炭素原子数６ないし１０のアル
キレン基を表し；Ｒ11は炭素原子数２ないし３のアルキ
レン基を表し；およびｑは０もしくは１を表す。〕で表
される基の１つを表し；ならびにｎが３を表す場合、Ｘ
3 は、上記式（VIIIa)または (VIIIb)（式中、ｒは０を
表し；Ｒ15、Ｒ18、Ｒ21、Ｒ22およびＲ23が同じかまた
は異なっていてよく、上記Ｒ8 およびＲ10に対して定義
された意味を表し；Ｒ16およびＲ17は同じかまたは異な
っていてよく、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を
表し、ｕが０または１を表し、ならびにｓおよびｔが同
じかまたは異なっていてよく、３ないし５の整数を表
す。）で表される基を表し；ならびにｎが４を表す場
合、Ｘ3 は上記式（IX) （式中、Ｒ24およびＲ28がＲ8
およびＲ10に対して上記で定義された意味を表し；なら
びにＲ25、Ｒ26およびＲ27は同じかまたは異なっていて
よく、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表す。）
で表される基を表し；但し、式（Ｉ）で表される化合物
中に、式 (II) で表される基、または式（VII)の少なく
とも１つが存在する、請求項１に記載の式（Ｉ）で表さ
れる化合物。 - 【請求項６】 上記式中、Ｘ1 およびＸ2 は同じかまた
は異なっていてよく、上記式(II)（式中、Ｒ1 が水素原
子またはメチル基を表し；Ｒ2 が炭素原子数１ないし８
のアルキル基、シクロヘキシル基、２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル基または１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を表し；ならびに
Ａは、−Ｏ−を表す。）で表される基を表し；あるいは
Ｘ1 およびＸ2 は上記式（Va) または（Vb) （式中、Ｒ
5 およびＲ6 が同じかまたは異なっていてよく、上記Ｒ
2 に対して定義された意味を表し、およびＲ7 は２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基または
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基
を表す。）で表される基を表し；ならびにｎは１、２、
３または４を表し；ならびにｎが１を表す場合、Ｘ3 は
Ｘ1 およびＸ2 に対して定義された意味を表し；ならび
にｎが２を表す場合、Ｘ3 は、式 【化２２】 （式中、Ｒ8 、Ｒ10およびＲ12は、同じかまたは異なっ
ていてよく、上記Ｒ2 に対して定義された意味を表すか
または水素原子を表し、または基Ｒ8 およびＲ10はまた
式（VII)で表される基をも表し、およびｑは０もしくは
１を表す。）で表される基を表し；ならびにｎが３を表
す場合、Ｘ3 は、式 【化２３】 （式中、Ｒ15およびＲ18は、Ｒ8 およびＲ10に対して定
義された意味を表す。）で表される基を表し；ならびに
ｎが４を表す場合、Ｘ3 は式 【化２４】 （式中、Ｒ24およびＲ28は、Ｒ8 およびＲ10に対して定
義された意味を表す。）で表される基を表し；但し、式
（Ｉ）で表される化合物中に、式 (II) で表される基、
または式（VII)の少なくとも１つが存在する、請求項１
に記載の式（Ｉ）で表される化合物。 - 【請求項７】 光、熱および、酸化により誘発される崩
壊を受け易い有機材料および請求項１に記載の式（Ｉ）
で表される化合物の少なくとも１つを含む組成物。 - 【請求項８】 有機材料が合成ポリマーである請求項７
に記載の組成物。 - 【請求項９】 式（Ｉ）で表される化合物に加えて、合
成ポリマー用の他の慣用の添加剤を含む請求項８に記載
の組成物。 - 【請求項１０】 有機材料がポリオレフィンである請求
項７に記載の組成物。 - 【請求項１１】 有機材料がポリエチレンまたはポリプ
ロピレンである請求項７に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT93A001581 | 1993-07-16 | ||
| IT93MI001581A IT1264945B1 (it) | 1993-07-16 | 1993-07-16 | Composti piperidinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0770360A true JPH0770360A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=11366625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6187728A Withdrawn JPH0770360A (ja) | 1993-07-16 | 1994-07-18 | 有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン化合物 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5457199A (ja) |
| EP (1) | EP0634412B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0770360A (ja) |
| KR (1) | KR950003284A (ja) |
| BR (1) | BR9402822A (ja) |
| CA (1) | CA2128066A1 (ja) |
| DE (1) | DE69403936T2 (ja) |
| IT (1) | IT1264945B1 (ja) |
| MX (1) | MXPA94005411A (ja) |
| SK (1) | SK83894A3 (ja) |
| TW (1) | TW268026B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013543516A (ja) * | 2010-10-20 | 2013-12-05 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 混合官能化による立体障害アミン型光安定剤 |
| WO2017014326A3 (ja) * | 2016-08-29 | 2017-03-16 | Jnc株式会社 | ピペリジン誘導体、液晶組成物、および液晶表示素子 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW350859B (en) * | 1994-04-13 | 1999-01-21 | Ciba Sc Holding Ag | HALS phosphonites as stabilizers |
| IT1271711B (it) * | 1994-11-09 | 1997-06-04 | Ciba Geigy Spa | Derivati della 2,2,6,6-tetrametilpiperidina utili come stabilizzanti alla luce, al calore e all'ossidazione per materiali organici |
| IT1275584B1 (it) * | 1995-07-21 | 1997-08-06 | 3V Sigma Spa | Composizioni per la stabilizzazione di polimeri sintetici |
| CN101381477B (zh) * | 2008-10-15 | 2011-04-27 | 天津大学 | 新型受阻胺光稳定剂及其合成方法 |
| CN101845013B (zh) * | 2010-05-18 | 2012-05-23 | 北京天罡助剂有限责任公司 | 一种用于光稳定剂的含多受阻哌啶基的受阻胺化合物及其制备方法 |
| CN106967048A (zh) * | 2017-04-26 | 2017-07-21 | 宿迁万康新材料有限公司 | 一种新型光稳定剂及其制备方法 |
| CN110606984B (zh) * | 2019-07-29 | 2021-02-19 | 宿迁联盛科技股份有限公司 | 一种光稳定剂及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1060458B (it) * | 1975-12-18 | 1982-08-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti piperidil triazinici adatti per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
| US4102858A (en) * | 1976-09-20 | 1978-07-25 | Argus Chemical Corporation | 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl thiocarboxylates and aminocarboxylates and synthetic resin compositions containing the same |
| JPS59122479A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-14 | Ube Ind Ltd | 新規なトリアジン系付加化合物およびその組成物 |
| US4532279A (en) * | 1983-01-31 | 1985-07-30 | Ciba-Geigy Corporation | Polyalkylpiperidine esters of aliphatic tetracarboxylic acids |
| GB2202853B (en) * | 1987-04-03 | 1990-10-24 | Ciba Geigy Ag | Light stabiliser combination |
| JPH01176662A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 密閉式鉛蓄電池 |
| AU621082B2 (en) * | 1988-02-08 | 1992-03-05 | Ciba-Geigy Ag | Tetramethylpiperidino-s-triazines |
| US4883831A (en) * | 1988-12-15 | 1989-11-28 | Ici Americas Inc. | Melamine-based light stabilizers for plastics |
| US4883860A (en) * | 1988-12-15 | 1989-11-28 | Ici Americas Inc. | Triazine-based light stabilizers for plastics |
-
1993
- 1993-07-16 IT IT93MI001581A patent/IT1264945B1/it active IP Right Grant
-
1994
- 1994-06-17 TW TW083105578A patent/TW268026B/zh active
- 1994-07-07 EP EP94810404A patent/EP0634412B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-07 DE DE69403936T patent/DE69403936T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-11 US US08/273,292 patent/US5457199A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-13 SK SK838-94A patent/SK83894A3/sk unknown
- 1994-07-14 CA CA002128066A patent/CA2128066A1/en not_active Abandoned
- 1994-07-15 KR KR1019940017254A patent/KR950003284A/ko not_active Application Discontinuation
- 1994-07-15 MX MXPA94005411A patent/MXPA94005411A/es not_active Application Discontinuation
- 1994-07-15 BR BR9402822A patent/BR9402822A/pt not_active Application Discontinuation
- 1994-07-18 JP JP6187728A patent/JPH0770360A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013543516A (ja) * | 2010-10-20 | 2013-12-05 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 混合官能化による立体障害アミン型光安定剤 |
| WO2017014326A3 (ja) * | 2016-08-29 | 2017-03-16 | Jnc株式会社 | ピペリジン誘導体、液晶組成物、および液晶表示素子 |
| JPWO2017014326A1 (ja) * | 2016-08-29 | 2019-06-27 | Jnc株式会社 | ピペリジン誘導体、液晶組成物、および液晶表示素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MXPA94005411A (es) | 2004-08-20 |
| TW268026B (ja) | 1996-01-11 |
| EP0634412B1 (en) | 1997-06-25 |
| IT1264945B1 (it) | 1996-10-17 |
| DE69403936T2 (de) | 1998-01-02 |
| BR9402822A (pt) | 1995-04-04 |
| SK83894A3 (en) | 1995-03-08 |
| ITMI931581A1 (it) | 1995-01-16 |
| ITMI931581A0 (it) | 1993-07-16 |
| KR950003284A (ko) | 1995-02-16 |
| CA2128066A1 (en) | 1995-01-17 |
| EP0634412A1 (en) | 1995-01-18 |
| DE69403936D1 (de) | 1997-07-31 |
| US5457199A (en) | 1995-10-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
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