JPH06298933A - 有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン−トリアジン化合物 - Google Patents

有機材料用の安定剤として使用するのに適当な新規なピペリジン−トリアジン化合物

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JPH06298933A
JPH06298933A JP6037700A JP3770094A JPH06298933A JP H06298933 A JPH06298933 A JP H06298933A JP 6037700 A JP6037700 A JP 6037700A JP 3770094 A JP3770094 A JP 3770094A JP H06298933 A JPH06298933 A JP H06298933A
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alkylene
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Valerio Borzatta
ボルツァッタ ヴァレリオ
Graziano Vignali
ヴィニャーリ グラツィアーノ
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Ciba Geigy AG
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光、熱および酸化による崩壊を受けやすい有
機材料を安定化する化合物の提供 【構成】 次式Ｉ： 【化１】 で表される新規なピペリジン−トリアジン化合物、なら
びに該化合物と上記有機材料との安定化組成物。上記化
合物は例えば以下の化合物である。 【化２】

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なピペリジン−トリ
アジン化合物、有機材料、特に合成ポリマーに対する光
安定剤、熱安定剤および酸化防止剤としてのそれらの用
途ならびにこのように安定化された有機材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４０８６２０４号、第４３１
５５８９号、第４３３１５８６号、第４３３５２４２
号、第４４１２０２０号、第４４５９３９５号、第４４
７７６１５号、第４５４７５４８号、第４６９６９６１
号および第４８８９８８２号、ヨーロッパ特許第１１７
２２９号、第２１７１４９号、第３５４１８５号、第４
３５８２８号、第４６２０６９号、４６８９２８号、４
７９７２４号および５４８０１５号および日本国特許６
３−１９６６５４号に記載されているように、２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン基を含む合成ポリマ
ー、トリアジンオリゴマーおよびコオリゴマーに対する
安定剤として使用することは公知である。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は次式（Ｉ）：
【化３０】 ｛式中、基Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし８のア
ルキル基、Ｏ・、ＯＨ、ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数１ない
し１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル
基、または未置換のもしくはフェニルにおいて１、２も
しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換
された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、ま
たは炭素原子数１ないし８のアシル基を表し；Ｒ2 およ
びＲ3 は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２
ないし３のアルキレン基を表し；Ｒ4 は−ＣＯ−、−Ｃ
ＯＣＯ−、−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−または−ＣＨ2 ＣＯ−を
表し；Ｘ1 およびＸ3 は同じかまたは異なってよく、下
式（IIａ）ないし（IIｅ）：
【化３１】 〔式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ4 およびＡ5 は、同じかまたは
異なっていてよく、−Ｏ−または基：
【化３２】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基、未置換のもしくは１、２もしくは３個の炭素
原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数
５ないし１２のシクロアルキル基、未置換のもしくはフ
ェニルにおいて１、２もしくは３個の炭素原子数１ない
し４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基、または式（III ）で表される基
【化３３】 を表し、Ｒ11はＲ1 に対して与えられた意味のいずれか
１つを表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原子数２ないし１２
のアルキレン基、１、２もしくは３個の酸素原子により
または１もしくは２個の基：
【化３４】 （基中、Ｒ12はＲ10に対して与えられた意味を表すか、
または炭素原子数１ないし８のアシル基もしくは（炭素
原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基を表
す。）により中断された炭素原子数４ないし１２のアル
キレン基を表すか、あるいはＲ5 は炭素原子数５または
７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシク
ロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）
基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数
５ないし７のシクロアルキレン）基、炭素原子数２ない
し４のアルキリデンジ（炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキレン）基、フェニレン基、フェニレンジ（炭素原
子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし
４のアルキレンジフェニレン基または炭素原子数２ない
し４のアルキリデンジフェニレン基を表し、各々のフェ
ニレン基は未置換のもしくは１または２個の炭素原子数
１ないし４のアルキル基で置換されており；あるいはＲ
5 は式（IV) ：
【化３５】 （基中、Ｒ13は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を
表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合または−
ＣＨ2 −を表し；ｐは０、１、２または３を表し；Ｒ6
およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよく、炭素原
子数２ないし６のアルキレン基を表し；ｑは０または１
を表し；Ｒ8 はＲ10に対して上記で定義した意味を表
し；およびＲ9 は水素原子または炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表す。〕で表される基の１つを表し；Ｘ
2 は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、１、２ま
たは３個の酸素原子で中断された炭素原子数４ないし１
２のアルキレン基、２−ヒドロキシトリメチレン基、フ
ェニレンジメチレン基、カルボニル基、または下式（Ｖ
ａ）ないし（Ｖｅ）：
【化３６】 〔式中、Ｒ14は式（ＶIa）ないし（ＶId）：
【化３７】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ11は上記で定義した
意味を表し、そしてｓは０または１を表す。）で表され
る基を表すか、あるいはＲ14は式（VII)：
【化３８】 （基中、Ａ6 は直接結合、−Ｏ−、−ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 ＣＨ2 −または基：
【化３９】 を表す。）を表すか、あるいはＲ14はＲ18Ｏ−または
基：
【化４０】 （基中、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20は、同じかまたは異なっ
ていてよく、Ｒ10に対して与えられた意味のいずれか１
つを表すか、または炭素原子数３ないし１８のアルケニ
ル基、テトラヒドロフルフリル基、未置換のまたは１、
２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基も
しくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換され
たフェニル基、あるいは炭素原子数１ないし８のアルコ
キシ基により、またはジ（炭素原子数１ないし４のアル
キル）アミノ基により、または式（VII ）で表される基
により、２−、３−もしくは４−位において置換された
炭素原子数２ないし４のアルキル基を表す。）を表し；
Ｒ15は直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン
基、炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基、シクロ
ヘキシレン基、メチルシクロヘキシレン基またはフェニ
レン基を表し；Ｒ16はＲ5 に対して与えられた意味のい
ずれか１つを表し；ｒは１ないし１０の整数を表しなら
びにＲ17はＲ5 に対して与えられた意味のいずれか１つ
を表すか、基：
【化４１】 で表される基を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍ
は０、１、２、３または４を表しならびに、ｍが０以外
のときのみ、ｎが１である条件で、ｎは１ないし５０の
数を表し；Ｙ1 およびＹ2 は製造に使用される試薬のタ
イプおよびモル比によって、種々の意味を持つことが可
能な末端基である。）で表される新規な化合物に関す
る。特に、Ｙ1 はＣｌ、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、
または−Ｘ1 Ｚもしくは−Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素
原子、メチル基、ベンジル基、炭素原子数１ないし８の
アシル基または（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）
カルボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 はＺ、基：
【化４２】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す。
【０００４】１８個以下の炭素原子を有するアルキル基
の例は、メチル基、エチル基、、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三
ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基およびオクタデシル基である。
【０００５】炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、好
ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメ
トキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数
２ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル
基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、
３−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３
−オクトキシプロピル基および４−メトキシブチル基で
ある。
【０００６】ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル基）
アミノ基、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチル
アミノ基により置換された炭素原子数２ないし４のアル
キル基は２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチルア
ミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−ジ
エチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピル
基または４−ジエチルアミノブチル基である。
【０００７】式（VII)で表される基により置換された炭
素原子数２ないし４のアルキル基は、
【化４３】 が特に好ましい。
【０００８】１８以下の炭素原子を有するアルコキシ基
の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキ
シ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ
基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基およ
びオクタデシルオキシ基である。
【０００９】Ｒ1 およびＲ11の好ましい例は炭素原子数
６ないし１２のアルコキシ基、特にヘプトキシ基および
オクトキシ基である。
【００１０】未置換のもしくは１、２または３個の炭素
原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数
５ないし１２のシクロアルキル基の例はシクロペンチル
基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメ
チルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、
第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シク
ロデシル基およびシクロドデシル基である。
【００１１】未置換のまたは置換されたシクロヘキシル
基が好ましい。
【００１２】Ｒ1 およびＲ11に対する炭素原子数５ない
し１２のシクロアルコキシ基の例はシクロペントキシ
基、シクロヘクソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロ
オクトキシ基、シクロデシルオキシ基およびシクロドデ
シルオキシ基である。シクロペントキシ基およびシクロ
ヘキソキシ基が好ましい。
【００１３】１８個以下の炭素原子を有するアルケニル
基の例はアリル基、２−メチルアリル基、ヘキセニル
基、ブテニル基、デセニル基、ウンデセニル基およびオ
クタデセニル基である。
【００１４】１位において炭素原子が飽和しているアル
ケニル基の例は好ましく；アリル基が特に好ましい。
【００１５】置換フェニル基の例はメチルフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチ
ルフェニル基、ジ−第三ブチルフェニル基、３，５−ジ
第三ブチル−４−メチルフェニル基、メトキシフェニル
基およびエトキシフェニル基である。
【００１６】未置換のもしくはフェニル基において１、
２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で
置換されている炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチル
ベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジ
ル基および２−フェニルエチル基である。ベンジル基が
好ましい。
【００１７】８個以下の炭素原子を有するアシル基とし
てのＲ1 、Ｒ11、Ｒ12およびＺはは脂肪族または芳香族
基であってよい。代表例は、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサ
ノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ベンゾイ
ル基、アクリロイル基およびクロトニル基である。好ま
しいものは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭
素原子数３ないし８のアルケノイル基およびベンゾイル
基であり、特にアセチル基である。
【００１８】炭素原子数１２個以下のアルキレン基の例
は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２
−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメ
チルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレ
ン基およびドデカメチレン基である。
【００１９】炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基
の好ましい例は、エチリデン基、プロピリデン基、ブチ
リデン基、ペンチリデン基、ヘプチリデン基、ノニリデ
ン基、ウンデシリデン基、トリデシリデン基、ペンタデ
シリデン基、ヘプタデシリデン基およびノナデシリデン
基である。
【００２０】１、２もしくは３個の酸素原子で中断され
た炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は３−オ
キサペンタン−１，５−ジイル基、４−オキサヘプタン
−１，７−ジイル基、３，６−ジオキサオクタン−１，
８−ジイル基、４，７−ジオキサデカン−１，１０−ジ
イル基、４，９−ジオキサドデカン−１，１２−ジイル
基、３，６，９−トリオキサウンデカン−１，１１−ジ
イル基および４，７，１０−トリオキサトリデカン−
１，１３−ジイル基である。
【００２１】Ｒ5 、Ｒ16、およびＲ17が、１もしくは２
個の基：
【化４４】 で中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基で
ある場合、代表例は基：
【化４５】 である。
【００２２】１または２個の炭素原子数５ないし７のシ
クロアルキレン基を含有する基の代表例は、シクロヘキ
シレン基、メチルシクロヘキシレン基、シクロヘキシレ
ンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレンおよびイ
ソプロピリデンジシクロヘキシレン基である。
【００２３】１または２個の未置換のもしくは置換フェ
ニレン基を含有する基の代表例は、フェニレン基、メチ
ルフェニレン基、ジメチルフェニレン基、フェニレンジ
メチレン基、メチレンジフェニレン基、イソプロピリデ
ンジフェニレン基である。
【００２４】Ｒ1 およびＲ11の好ましい意味は、水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ基、炭素
原子数６ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ない
し８のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基また
はアセチル基であり、とりわけ水素原子またはメチル基
である。
【００２５】式（Ｉ）で表される好ましい化合物は、式
中、Ｒ2 およびＲ3 は、同じかまたは異なっていてよ
く、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表し；Ｒ4
は−ＣＯ−、−ＣＯＣＯ−または−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−を
表し；Ｘ1 およびＸ3 は、同じかまたは異なっていてよ
く、上記式（IIａ）ないし（IIｅ）〔式中、Ａ1 、
Ａ2 、Ａ4 およびＡ5 は、同じかまたは異なっていてよ
く、−Ｏ−または基：
【化４６】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、未置換のもしくは１、２もしくは３個の炭素
原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数
５ないし８のシクロアルキル基、未置換のもしくはフェ
ニルにおいて１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし
４のアルキル基で置換されたベンジル基、または上記式
（III ）で表される基を表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原
子数２ないし１０のアルキレン基、１、２もしくは３個
の酸素原子によりまたは１もしくは２個の基：
【化４７】 （基中、Ｒ12はＲ10に対して与えられた意味を表すか、
または炭素原子数１ないし４のアシル基もしくは（炭素
原子数１ないし４のアルコキシ）カルボニル基を表
す。）により中断された炭素原子数４ないし１０のアル
キレン基を表すか、あるいはＲ5 はシクロヘキシレン
基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロ
ヘキシレン基、イソプロピリデンジシクロヘキシレン
基、フェニレン基、メチルフェニレン基、フェニレンジ
メチレン基、メチレンジフェニレン基またはイソプロピ
リデンジフェニレン基を表すか；あるいはＲ5 は上記式
（IV) （基中、Ｒ13は炭素原子数２ないし４のアルキレ
ン基を表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合ま
たは−ＣＨ2 −を表し；ｐは０、１、２または３を表
し；Ｒ6 およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよ
く、炭素原子数２ないし４のアルキレン基を表し；ｑは
０または１を表し；Ｒ8 はＲ10に対して上記で定義した
意味を表し；およびＲ9 は水素原子または炭素原子数１
ないし４のアルキル基を表す。〕で表される基の１つを
表し；Ｘ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、
１、２もしくは３個の酸素原子で中断された炭素原子数
４ないし１０のアルキレン基、２−ヒドロキシトリメチ
レン基、フェニレンジメチレン基、または上記式（Ｖ
ａ）ないし（Ｖｅ）：〔式中、Ｒ14は上記式（ＶIa）な
いし（ＶId）（式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は上記で定
義した意味を表し、そしてｓは０または１を表す。）で
表される基を表すか、あるいはＲ14は１−ピロリジル
基、１−ピペリジル基、４−モルホリニル基または１−
ヘキサヒドロアゼピニル基を表し、あるいはＲ18Ｏ−ま
たは基：
【化４８】 （基中、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20は、同じかまたは異なっ
ていてよく、Ｒ10に対して与えられた意味のいずれか１
つであるか、または炭素原子数３ないし１２のアルケニ
ル基、テトラヒドロフルフリル基、未置換のまたは１、
２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で
置換されたフェニル基、あるいは炭素原子数１ないし４
のアルコキシ基により、またはジ（炭素原子数１ないし
４のアルキル）アミノ基により、または１−ピロリジル
基、１−ピペリジル基、４−モルホリニル基もしくは１
−ヘキサヒドロアゼピニル基により、２−もしくは３−
位において置換された炭素原子数２ないし３のアルキル
基を表す。）を表し；Ｒ15は直接結合、炭素原子数１な
いし１０のアルキレン基、炭素原子数２ないし１４のア
ルキリデン基、シクロヘキシレン基またはフェニレン基
を表し；Ｒ16はＲ5 に対して与えられた意味のいずれか
１つを表し；ｒは１ないし５の整数を表しおよびＲ17は
Ｒ5 に対して与えられた意味のいずれか１つを表すか、
基：
【化４９】 で表される基を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍ
は０、１、２または３を表しならびに、ｍが０以外のと
きのみ、ｎが１である条件で、ｎは１ないし３０の数を
表し；Ｙ1 はＣｌ、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、また
は−Ｘ1 Ｚもしくは−Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原
子、メチル基、ベンジル基、炭素原子数１ないし４のア
シル基または（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カ
ルボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 はＺ、基：
【化５０】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す、化合物である。
【００２６】特に好ましい式（Ｉ）で表される化合物
は、式中、Ｒ2 およびＲ3 は、同じかまたは異なってい
てよく、炭素原子数２ないし３のアルキレン基を表しお
よびＲ4 は−ＣＯ−または−ＣＯＣＯ−を表し；Ｘ1 お
よびＸ3 は、同じかまたは異なっていてよく、上記式
（IIａ）ないし（IIｅ）〔式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ4 およ
びＡ5 は、同じかまたは異なっていてよく、−Ｏ−また
は基：
【化５１】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、未置換のもしくは１、２もしくは３個の炭素原
子数１ないし４のアルキル基で置換されたシクロヘキシ
ル基、ベンジル基、または上記式（III ）で表される基
を表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原子数２ないし８のアル
キレン基、１、２もしくは３個の酸素原子によりまたは
基：
【化５２】 （基中、Ｒ12は水素原子、メチル基、アセチル基または
（炭素原子数１ないし２のアルコキシ）カルボニル基を
表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０のア
ルキレン基を表し、あるいはＲ5 はシクロヘキシレン
基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロ
ヘキシレン基、フェニレンジメチレン基またはイソプロ
ピリデンジフェニレン基を表すか；あるいはＲ5 は上記
式（IV) （基中、Ｒ13は炭素原子数３ないし４のアルキ
レン基を表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合
または−ＣＨ2 −を表し；ｐは０または１を表し；Ｒ6
およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよく、炭素原
子数２ないし３のアルキレン基を表し；ｑは０または１
を表し；Ｒ8 はＲ10に対して上記で定義した意味を表
し；およびＲ9 は水素原子またはメチル基を表す。〕で
表される基の１つを表し；Ｘ2 は炭素原子数２ないし８
のアルキレン基、１または２個の酸素原子で中断された
炭素原子数４ないし８のアルキレン基、２−ヒドロキシ
トリメチレン基、フェニレンジメチレン基、または上記
式（Ｖａ）ないし（Ｖｅ）：〔式中、Ｒ14は上記式（Ｖ
Ia）ないし（ＶId）（式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は上
記で定義した意味を表し、そしてｓは０または１を表
す。）で表される基を表すか、あるいはＲ14は４−モル
ホリニル基、またはＲ18Ｏ−または基：
【化５３】 （基中、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20は、同じかまたは異なっ
ていてよく、Ｒ10に対して与えられた意味のいずれか１
つであるか、またはアリル基、ウンデセニル基、テトラ
ヒドロフルフリル基、フェニル基、または炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基により、ジメチルアミノ基によ
り、ジエチルアミノ基により、または４−モルホリニル
基により、２−もしくは３−位において置換された炭素
原子数２ないし３のアルキル基を表す。）を表し；Ｒ15
は直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基、炭
素原子数２ないし６のアルキリデン基、シクロヘキシレ
ン基またはフェニレン基を表し；Ｒ16は炭素原子数２な
いし８のアルキレン基、１、２もしくは３個の酸素原子
により中断された炭素原子数４ないし１０のアルキレン
基、シクロヘキシレンジメチレン基、イソプロピリデン
ジシクロヘキシレン基またはイソプロピリデンジフェニ
レン基を表し；ｒは１ないし４の整数を表しおよびＲ17
はＲ5 に対して与えられた意味のいずれか１つを表す
か、メチルフェニレン基、メチレンジフェニレン基また
は基：
【化５４】 を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍは０、１また
は２を表しならびに、ｍが０以外のときのみ、ｎが１で
ある条件で、ｎは１ないし２０の数を表し；Ｙ1 はＯ
Ｈ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、または−Ｘ1 Ｚもしくは−
Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原子、メチル基、アセチル
基、または（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カル
ボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 はＺ、基：
【化５５】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す、化合物である。
【００２７】特別に重要である式（Ｉ）で表される化合
物は、式中、Ｒ2 およびＲ3 は、同じかまたは異なって
いてよく、エチレン基またはトリメチレン基を表しおよ
びＲ4 は−ＣＯ−または−ＣＯＣＯ−を表し；Ｘ1 およ
びＸ3 は、同じかまたは異なっていてよく、上記式（II
ａ）ないし（IIｅ）〔式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ4 およびＡ
5 は、同じかまたは異なっていてよく、−Ｏ−または
【化５６】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし４のアル
キル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、上記式（III
）で表される基を表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原子数
２ないし６のアルキレン基、２もしくは３個の酸素原子
により中断された炭素原子数６ないし１０のアルキレン
基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロ
ヘキシレン基またはフェニレンジメチレン基を表すか；
あるいはＲ5 は上記式（IV) （基中、Ｒ13はトリメチレ
ン基を表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合を
表し；ｐは０または１を表し；Ｒ6 およびＲ7 は、同じ
かまたは異なっていてよく、エチレン基またはトリメチ
レン基を表し；ｑは０または１を表し；Ｒ8 はＲ10に対
して上記で定義した意味を表し；およびＲ9 は水素原子
またはメチル基を表す。〕で表される基の１つを表し；
Ｘ2 は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、２−ヒド
ロキシトリメチレン基、フェニレンジメチレン基、また
は上記式（Ｖａ）ないし（Ｖｅ）：〔式中、Ｒ14は上記
式（ＶIa）（式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は上記で定義
した意味を表すかまたは４−モルホリニル基、またはＲ
18Ｏ−または基：
【化５７】 （基中、Ｒ18は炭素原子数１ないし４のアルキル基、シ
クロヘキシル基、アリル基、フェニル基、ベンジル基ま
たは式（III ）で表される基を表し、そしてＲ19および
Ｒ20は、同じかまたは異なっていてよく、Ｒ10に対して
与えられた意味のいずれか１つを表す。）を表し；Ｒ15
は直接結合または炭素原子数１ないし６のアルキレン基
を表し；Ｒ16は炭素原子数４ないし６のアルキレン基を
表し；ｒは１または２を表しおよびＲ17は炭素原子数２
ないし６のアルキレン基または基：
【化５８】を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍは
０、１または２を表しならびに、ｍが０以外のときの
み、ｎが１である条件で、ｎは１ないし１５の数を表
し；Ｙ1 はＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、または−Ｘ1
Ｚもしくは−Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原子、メチル
基、アセチル基、または（炭素原子数１ないし２のアル
コキシ）カルボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 は
Ｚ、基：
【化５９】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す。｝を表す、化合物である。
【００２８】特に重要な式（Ｉ）の化合物は、式中、Ｒ
1 およびＲ11は、同じかまたは異なっていてよく、水素
原子またはメチル基を表し、Ｒ2 およびＲ3 はエチレン
基を表しおよびＲ4 は−ＣＯ−または−ＣＯＣＯ−を表
し；Ｘ1 は上記式（IIａ）ないし（IIｃ）〔式中、
Ａ1 、Ａ2 およびＡ4 は、基：
【化６０】 （基中、Ｒ10は水素原子、メチル基、エチル基または上
記式（III ）で表される基を表す。）；またはＡ2 は−
Ｏ−を表し；Ｒ5 は−（ＣＨ2 ）2-6 −または−（ＣＨ
2 ）3 −Ｏ−（ＣＨ2 ）2-4 −Ｏ−（ＣＨ2 ）3 −を表
しＡ3 は直接結合を表し；ｐおよびｑは０を表し；Ｒ6
は、エチレン基を表す。〕で表される基の１つを表し；
ｎは２ないし１０の数を表し；Ｙ1 はＯＨ、ＯＮａ、Ｏ
Ｋ、Ｒ14基、または−Ｘ1 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原子
またはメチル基を表す。〕を表し；Ｙ2 は水素原子、メ
チル基、または基：
【化６１】 を表し；Ｒ14は式VIａ（基中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 および
Ｒ11は上記で定義された意味を表す。）を表す、化合物
である。
【００２９】式（Ｉ）で表される化合物はそれ自体公知
の方法に従って、例えば、米国特許４０８６２０４号、
４４５９３９５号および４５４７５４８号に記載されて
いるように、シアヌル酸塩化物と、下式（ＶIIIa) ない
し（ＶIIId)
【化６２】 〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ3 は上
記で定義されたものと同じ意味を表し、ならびにＧ1 お
よびＧ2 はＣｌ、Ｂｒまたは例えば１ないし４のアルコ
キシ基を表すか、Ｇ1 −Ｘ2 −Ｇ2 はエピクロロヒドリ
ンまたはジイソシアネートＯＣＮ−Ｒ17−ＮＣＯ（式
中、Ｒ17は上記で定義したものと同じ意味を表す。）を
表す。〕で表される化合物とを、いずれかの順番で、適
当なモル比により反応させることによって製造すること
ができる。
【００３０】このようにして、Ｒ1 ＝Ｈである式（Ｉ）
で表される化合物が得られ、それからＲ1 ≠Ｈである相
当する化合物をその後に得ることができる。
【００３１】有利には、反応は不活性溶媒、例えばトル
エン、キシレンまたはトリメチルベンゼン中、−２０℃
ないし２００℃、好ましい−１０℃ないし１８０℃の温
度での作業で行われる。
【００３２】式（ＶIIIa) で表される化合物は、ヨーロ
ッパ特許出願５４８０１５号に記載されているように、
下式（IX）で表される化合物と式（Ｘ）( 式中、Ｇ3 は
ＮＨ2 または例えば１ないし４のアルコキシ基を表
す。）で表される化合物とを反応させることによって製
造することができる。
【化６３】
【００３３】式(IX)で表される化合物は、水素化触媒の
存在下、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリド
ンとのトリアミンＨ2 Ｎ−Ｒ2 −ＮＨ−Ｒ3 −ＮＨ2 の
還元的アルキル化による公知の方法に従って得ることが
できる。
【００３４】式（Ｉ）で表される化合物の製造に必要な
他の試薬は市販品であるか、または公知の方法で製造で
きる。
【００３５】最初から指摘するように、式（Ｉ）で表さ
れる化合物は、有機材料、特に合成ポリマーおよびコポ
リマーの耐光性、耐熱性および抗酸化性を改良するのに
非常に有効である。
【００３６】そのような有機材料の例は以下のようなも
のである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレ
ン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００３７】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる： ａ）（通常、高圧および高温においての）ラジカル重合 ｂ）通常周期表のIVｂ、Ｖｂ、VIｂまたはVIII属の金属
の１個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び／またはアリールのような配位子の１つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン（III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン（該金属
は周期表のIa、IIa および／またはIIIa属の元素であ
る。）のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）
〔Ziegler-(Natta) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）
と称されるものである。
【００３８】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００３９】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【００４０】４. それらの水素化変性物（例えば粘着付
与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。
【００４１】５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００４２】６．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００４３】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタア
クリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
【００４４】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化
ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニル
コポリマー。
【００４５】９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
【００４６】10．上記９に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００４７】11．不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
【００４８】12．環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００４９】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。
【００５０】14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
【００５１】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
【００５２】16. ジアミンおよびジカルボン酸および／
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、
６／９、６／１２、４／６および１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
／またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタル
アミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー；またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に
縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
【００５３】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【００５４】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカー
ボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。
【００５５】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。
【００５６】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
【００５７】21．一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。
【００５８】22．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００５９】23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００６０】24．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
【００６１】25．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００６２】26．ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
【００６３】27．天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
【００６４】28．前述のポリマーの混合物（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。
【００６５】29．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
【００６６】30．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００６７】式（Ｉ）の化合物は、ポリオレフィン、特
に、ポリプロピレンまたはポリエチレンの光安定性、熱
安定性、酸化安定性を改良するのに特に適当である。
【００６８】式（Ｉ）の化合物は、安定化されるべき材
料の性質に依存して、最終用途に依存しておよび他の安
定剤の存在に依存して、種々の割合における有機材料の
混合物を使用できる。
【００６９】一般に、例えば安定化される有機材料の重
量に関して、式（Ｉ）の化合物０．０１ないし５％、特
に０．０５ないし１％で使用するのが適当である。
【００７０】一般には、式（Ｉ）の化合物はポリマー材
料の重合または架橋の前、最中もしくは後にポリマー材
料に添合できる。
【００７１】式（Ｉ）で表される化合物は純粋な形態ま
たはワックス、油もしくはポリマー封入の形態でポリマ
ー材料中に混合できる。
【００７２】式（Ｉ）で表される化合物はさまざまな方
法によって、例えば粉末の形態での乾式混合によって、
あるいは溶液もしくは懸濁物の形態でのまたはマスター
バッチの形態での湿式混合によって、ポリマー材料に混
合でき；そしてこの様な操作では、ポリマーは粉末、グ
ラニュール、溶液、懸濁物の形態またはラテックスの形
態で使用できる。
【００７３】式（Ｉ）の生成物で安定化された材料は、
例えば、成形品、フィルム、テープ、モノフィラメン
ト、繊維、表面塗装等の製造に対して使用できる。
【００７４】所望ならば、合成ポリマー用の他の慣用の
添加剤、例えば抗酸化剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定
剤、顔料、充填剤、可塑剤、静電防止剤、難燃剤、潤滑
剤、腐蝕抑制剤および金属不活性化剤を式（Ｉ）で表さ
れる化合物と有機材料との混合物に加えることができ
る。
【００７５】式（Ｉ）の化合物との混合に使用できる添
加剤の特別な例は以下に示すものである：１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデシ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそ
れらの混合物。
【００７６】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
【００７７】１．３ ハイドロキノンとアルキル化ハイ
ドロキノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メト
キシフェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、２，５−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル、２，６−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）アジペート。
【００７８】１．４ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
【００７９】１．５ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。
【００８０】１．６． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イ
ソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
【００８１】１．７．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【００８２】１．８． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００８３】１．９． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【００８４】１．１０． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【００８５】１．１１． アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。
【００８６】１．１２． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト
リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００８７】１．１３． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００８８】１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００８９】１．１５． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００９０】１．１６． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００９１】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。
【００９２】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
【００９３】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００９４】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【００９５】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
【００９６】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−
（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三
オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−
トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス
（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），４−
ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，
４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジ
アミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−
ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成
物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，
３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−
ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８
−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ド
デシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン。
【００９７】２．７． シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−
２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキ
シ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
【００９８】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン。
【００９９】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【０１００】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
【０１０１】４ａ． ヒドロキシルアミン、例えばジベ
ンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒドロキシルア
ミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテトラデシル
ヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロキシルアミ
ン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベ
ンゾエートまたはビス（１−ヒドロキシ−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート。
【０１０２】５． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
【０１０３】６． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【０１０４】７． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
【０１０５】８． 核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１０６】９． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【０１０７】10. その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
【０１０８】11. ベンゾフラノンまたはインドリノン、
例えば米国特許４３２５８６３号明細書、米国特許４３
３８２４４号明細書または米国特許５１７５３１２号明
細書に記載されているものまたは３−［４−（２−アセ
トキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル
−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−
３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニ
ル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７
−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキ
シ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ
−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフ
ラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラ
ノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイ
ルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン。
【０１０９】式（Ｉ）の化合物はまた、安定剤として、
特に、例えばリサーチ ディスクロージャー（Research
Disclosure) １９９０，３１４２９（４７４頁ないし
４８０頁）に記載されているような、写真複写および他
の複写技術の中で技術的に周知である殆ど全ての材料に
対する、光安定剤としてもまた使用できる。
【０１１０】
【実施例】本発明をさらに明確に説明するために、ここ
で幾つかの製造実施例および式（Ｉ）の化合物の使用例
を記載する；これらの実施例は純粋に説明の目的で示
し、いかなる制限を含むものではない。
【０１１１】実施例１：０℃ないし５℃の温度に保持し
て、１−（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−３−［２−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）エチル］−２−イミダゾリジ
ノン１６．３０ｇ（０．０４ｍｏｌ）をキシレン７０ｍ
ｌ中のシアヌル酸塩化物７．３８ｇ（０．０４ｍｏｌ）
の溶液にゆっくりと加える。添加が完了したら、混合物
を約１０℃で１時間攪拌し、温度を０℃に保持したま
ま、３３％水酸化ナトリウム水溶液５．１０ｇ（０．０
４２ｍｏｌ）を加え、そして混合物を０℃ないし２０℃
でさらに１時間攪拌する。Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミン１７．３７ｇ（０．０４ｍｏｌ）を添加
しそして混合物を６０℃で２時間加熱する。その後、粉
砕した水酸化ナトリウム４．８ｇ（０．１２ｍｏｌ）を
加え混合物を１時間還流下で加熱し、そして水を共沸除
去しながら還流下で１２時間加熱する。６０℃に冷却
後、反応混合物を水１５ｍｌと共に攪拌し、加えた水を
共沸除去しながら還流下で加熱し、ろ過しそして減圧下
で蒸発させる。融点１１６ないし１２０℃および数平均
分子量Ｍｎ＝１８００の生成物が得られ、それは下式の
繰り返し単位を含む。
【化６４】
【０１１２】実施例２： 実施例１に記載した手順に従
って、１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−４−［２−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）エチル］−２，３−ピペラジ
ンジオン１７．４３ｇ（０．０４ｍｏｌ）とシアヌル酸
塩化物７．３８ｇ（０．０４ｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン１７．３７ｇ（０．０
４４ｍｏｌ）との反応により、下式の繰り返し単位を含
有する融点１２０℃ないし１２４℃および数平均分子量
Ｍｎ＝２６００の生成物を得る。
【化６５】
【０１１３】実施例３： 実施例１に記載した手順に従
って、１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−４−［２−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）エチル］−２，３−ピペラジ
ンジオン１７．４３ｇ（０．０４ｍｏｌ）とシアヌル酸
塩化物７．３８ｇ（０．０４ｍｏｌ）および１，６−ヘ
キサンジアミン５．１０ｇ（０．０４４ｍｏｌ）との反
応により、下式の繰り返し単位を含有する融点１９０℃
ないし１９５℃および数平均分子量Ｍｎ＝２５６０の生
成物を得る。
【化６６】
【０１１４】実施例４： 実施例１に記載した手順に従
って、１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−３−［２−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）エチル］−２−イミダゾリジ
ノン１６．３０ｇ（０．０４ｍｏｌ）とシアヌル酸塩化
物７．３８ｇ（０．０４ｍｏｌ）および１−ピペラジン
エタンアミン５．６８ｇ（０．０４４ｍｏｌ）との反応
により、下式の繰り返し単位を含有する融点１９２℃な
いし１９４℃および数平均分子量Ｍｎ＝５９００の生成
物を得る。
【化６７】
【０１１５】実施例５： 実施例１に記載した手順に従
って、１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−３−［２−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）エチル］−２−イミダゾリジ
ノン１６．３０ｇ（０．０４ｍｏｌ）とシアヌル酸塩化
物７．３８ｇ（０．０４ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，６−ヘキサンジアミン７．８９ｇ（０．０２ｍｏ
ｌ）および２−エチルアミノエタノール２．２３ｇ
（０．０２５ｍｏｌ）との反応により、下式の繰り返し
単位を含有する融点１６０℃ないし１６４℃および数平
均分子量Ｍｎ＝１６８０の生成物を得る。
【化６８】
【０１１６】実施例６： 実施例１に記載した手順に従
って、１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−３−［２−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアミノ）エチル］−２−イミダゾリジ
ノン１６．３０ｇ（０．０４ｍｏｌ）とシアヌル酸塩化
物７．３８ｇ（０．０４ｍｏｌ）および１，６−ヘキサ
ンジアミン５．１０ｇ（０．０４ｍｏｌ）との反応によ
り、下式の繰り返し単位を含有する融点１４８℃ないし
１５１℃および数平均分子量Ｍｎ＝２３６０の生成物を
得る。
【化６９】
【０１１７】実施例７：（ポリプロピレンファイバーに
おける光安定化作用） 下の表１で示す製造実施例の生成物２．５ｇ、トリス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、
カルシウムモノエチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホナイト０．５ｇ、ステアリン酸
カルシウム１ｇおよび二酸化チタン２．５ｇを、メルト
インデックス＝１２ｇ／１０分（２３０℃および２．１
６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末１０００ｇ
と共に低速ミキサーで混合する。混合物２００ないし２
３０℃で押し出して、ポリマー粒状物を得て、それは続
いて半工業型の装置〔レオナルド−シュミラゴ(Leonard
-Sumirago)（ＶＡ）社，イタリア〕を使用して、以下の
条件の下で操作してファイバーに加工する： 押出温度 ： ２００−２３０℃ ヘッド温度 ： ２５５−２６０℃ 引張率 ： １：３．５ ゲージ ： １１ ｄｔｅｘ／フィラメント このように製造されたファイバーを白い厚紙に据付け、
そして次に６３℃のプラックパネル温度でウエザロメー
ターモデルＷＲ（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）に曝露
する。定速の張力計により種々の光曝露時間後取り出さ
れた試料における残留靱性(recidual tenacity) が測定
され、それから初期靱性(initial tenacity)（Ｔ50）を
半減にするのに必要な曝露時間（時間単位で）が計算さ
れる。比較のため、本発明の安定剤を加えないで、上記
で与えたものと同様の条件下で製造したファイバーを曝
露する。得られた結果を表１で報告する。 表１ 安定剤 Ｔ50（時間） 安定剤無 １７０ 実施例１の化合物 ＞１８００ 実施例２の化合物 １７８０ 実施例３の化合物 ９９０ 実施例４の化合物 ９６０
【化５８】
【化５８】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/3492 ＫＢＮ 7242−4Ｊ Ｃ０８Ｌ 79/04 ＬＱＺ 9285−4Ｊ 101/00 (72)発明者 グラツィアーノ ヴィニャーリ イタリア国，40037 サッソー マルコー ニ−ボローニャ、ヴィア クァルト ノヴ ェンブレ、15

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式（Ｉ）： 【化１】 ｛式中、基Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし８のア
    ルキル基、Ｏ・、ＯＨ、ＣＨ2 ＣＮ、炭素原子数１ない
    し１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシク
    ロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル
    基、または未置換のもしくはフェニルにおいて１、２も
    しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換
    された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、ま
    たは炭素原子数１ないし８のアシル基を表し；Ｒ2 およ
    びＲ3 は同じかまたは異なっていてよく、炭素原子数２
    ないし３のアルキレン基を表し；Ｒ4 は−ＣＯ−、−Ｃ
    ＯＣＯ−、−ＣＯＣＨ2 ＣＯ−または−ＣＨ2 ＣＯ−を
    表し；Ｘ1 およびＸ3 は同じかまたは異なってよく、下
    式（IIａ）ないし（IIｅ）： 【化２】 〔式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ4 およびＡ5 は、同じかまたは
    異なっていてよく、−Ｏ−または基： 【化３】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
    ルキル基、未置換のもしくは１、２もしくは３個の炭素
    原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数
    ５ないし１２のシクロアルキル基、未置換のもしくはフ
    ェニルにおいて１、２もしくは３個の炭素原子数１ない
    し４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９の
    フェニルアルキル基、または式（III ）で表される基 【化４】 を表し、Ｒ11はＲ1 に対して与えられた意味のいずれか
    １つを表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原子数２ないし１２
    のアルキレン基、１、２もしくは３個の酸素原子により
    または１もしくは２個の基： 【化５】 （基中、Ｒ12はＲ10に対して与えられた意味を表すか、
    または炭素原子数１ないし８のアシル基もしくは（炭素
    原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基を表
    す。）により中断された炭素原子数４ないし１２のアル
    キレン基を表すか、あるいはＲ5 は炭素原子数５または
    ７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシク
    ロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）
    基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数
    ５ないし７のシクロアルキレン）基、炭素原子数２ない
    し４のアルキリデンジ（炭素原子数５ないし７のシクロ
    アルキレン）基、フェニレン基、フェニレンジ（炭素原
    子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし
    ４のアルキレンジフェニレン基または炭素原子数２ない
    し４のアルキリデンジフェニレン基を表し、各々のフェ
    ニレン基は未置換のもしくは１または２個の炭素原子数
    １ないし４のアルキル基で置換されており；あるいはＲ
    5 は式（IV) ： 【化６】 （基中、Ｒ13は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を
    表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合または−
    ＣＨ2 −を表し；ｐは０、１、２または３を表し；Ｒ6
    およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよく、炭素原
    子数２ないし６のアルキレン基を表し；ｑは０または１
    を表し；Ｒ8 はＲ10に対して上記で定義した意味を表
    し；およびＲ9 は水素原子または炭素原子数１ないし４
    のアルキル基を表す。〕で表される基の１つを表し；Ｘ
    2 は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、１、２ま
    たは３個の酸素原子で中断された炭素原子数４ないし１
    ２のアルキレン基、２−ヒドロキシトリメチレン基、フ
    ェニレンジメチレン基、カルボニル基、または下式（Ｖ
    ａ）ないし（Ｖｅ）： 【化７】 〔式中、Ｒ14は式（ＶIa）ないし（ＶId）： 【化８】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ11は上記で定義した
    意味を表し、そしてｓは０または１を表す。）で表され
    る基を表すか、あるいはＲ14は式（VII)： 【化９】 （基中、Ａ6 は直接結合、−Ｏ−、−ＣＨ2 −、−ＣＨ
    2 ＣＨ2 −または基： 【化１０】 を表す。）を表すか、あるいはＲ14はＲ18Ｏ−または
    基： 【化１１】 （基中、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20は、同じかまたは異なっ
    ていてよく、Ｒ10に対して与えられた意味のいずれか１
    つを表すか、または炭素原子数３ないし１８のアルケニ
    ル基、テトラヒドロフルフリル基、未置換のまたは１、
    ２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基も
    しくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換され
    たフェニル基、あるいは炭素原子数１ないし８のアルコ
    キシ基によりまたはジ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）アミノ基により、または式（VII ）で表される基に
    より２−、３−もしくは４−位において置換された炭素
    原子数２ないし４のアルキル基を表す。）を表し；Ｒ15
    は直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、
    炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基、シクロヘキ
    シレン基、メチルシクロヘキシレン基またはフェニレン
    基を表し；Ｒ16はＲ5 に対して与えられた意味のいずれ
    か１つを表し；ｒは１ないし１０の整数を表しならびに
    Ｒ17はＲ5 に対して与えられた意味のいずれか１つを表
    すか、基： 【化１２】 で表される基を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍ
    は０、１、２、３または４を表しならびに、ｍが０以外
    のときのみ、ｎが１である条件で、ｎは１ないし５０の
    数を表し；Ｙ1 はＣｌ、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、
    または−Ｘ1 Ｚもしくは−Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素
    原子、メチル基、ベンジル基、炭素原子数１ないし８の
    アシル基または（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）
    カルボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 はＺ、基： 【化１３】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す。｝で表される化合物。
  2. 【請求項２】 式中、基Ｒ1 およびＲ11は、同じかまた
    は異なっていてよく、水素原子、炭素原子数１ないし４
    のアルキル基、ＯＨ、炭素原子数６ないし１２のアルコ
    キシ基、炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基、
    アリル基、ベンジル基またはアセチル基を表す請求項１
    に記載の式（Ｉ）で表される化合物。
  3. 【請求項３】 式中、Ｒ2 およびＲ3 は、同じかまたは
    異なっていてよく、炭素原子数２ないし３のアルキレン
    基を表し；Ｒ4 は−ＣＯ−、−ＣＯＣＯ−または−ＣＯ
    ＣＨ2 ＣＯ−を表し；Ｘ1 およびＸ3 は、同じかまたは
    異なっていてよく、上記式（IIａ）ないし（IIｅ）〔式
    中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ4 およびＡ5 は、同じかまたは異な
    っていてよく、−Ｏ−または基： 【化１４】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
    ルキル基、未置換のもしくは１、２もしくは３個の炭素
    原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数
    ５ないし８のシクロアルキル基、未置換のもしくはフェ
    ニルにおいて１、２もしくは３個の炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基で置換されたベンジル基、または上記式
    （III ）で表される基を表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原
    子数２ないし１０のアルキレン基、１、２もしくは３個
    の酸素原子によりまたは１もしくは２個の基： 【化１５】 （基中、Ｒ12はＲ10に対して与えられた意味を表すか、
    または炭素原子数１ないし４のアシル基もしくは（炭素
    原子数１ないし４のアルコキシ）カルボニル基を表
    す。）により中断された炭素原子数４ないし１０のアル
    キレン基を表すか、あるいはＲ5 はシクロヘキシレン
    基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロ
    ヘキシレン基、イソプロピリデンジシクロヘキシレン
    基、フェニレン基、メチルフェニレン基、フェニレンジ
    メチレン基、メチレンジフェニレン基またはイソプロピ
    リデンジフェニレン基を表すか；あるいはＲ5 は上記式
    （IV) （基中、Ｒ13は炭素原子数２ないし４のアルキレ
    ン基を表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合ま
    たは−ＣＨ2 −を表し；ｐは０、１、２または３を表
    し；Ｒ6 およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよ
    く、炭素原子数２ないし４のアルキレン基を表し；ｑは
    ０または１を表し；Ｒ8 はＲ10に対して上記で定義した
    意味を表し；およびＲ9 は水素原子または炭素原子数１
    ないし４のアルキル基を表す。〕で表される基の１つを
    表し；Ｘ2 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、
    １、２もしくは３個の酸素原子で中断された炭素原子数
    ４ないし１０のアルキレン基、２−ヒドロキシトリメチ
    レン基、フェニレンジメチレン基、または上記式（Ｖ
    ａ）ないし（Ｖｅ）：〔式中、Ｒ14は上記式（ＶIa）な
    いし（ＶId）（式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は上記で定
    義した意味を表し、そしてｓは０または１を表す。）で
    表される基を表すか、あるいはＲ14は１−ピロリジル
    基、１−ピペリジル基、４−モルホリニル基または１−
    ヘキサヒドロアゼピニル基を表し、あるいはＲ18Ｏ−ま
    たは基： 【化１６】 （基中、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20は、同じかまたは異なっ
    ていてよく、Ｒ10に対して与えられた意味のいずれか１
    つであるか、または炭素原子数３ないし１２のアルケニ
    ル基、テトラヒドロフルフリル基、未置換のまたは１、
    ２もしくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で
    置換されたフェニル基、あるいは炭素原子数１ないし４
    のアルコキシ基によりまたはジ（炭素原子数１ないし４
    のアルキル）アミノ基により、または１−ピロリジル
    基、１−ピペリジル基、４−モルホリニル基もしくは１
    −ヘキサヒドロアゼピニル基により、２−もしくは３−
    位において置換された炭素原子数２ないし３のアルキル
    基を表す。）を表し；Ｒ15は直接結合、炭素原子数１な
    いし１０のアルキレン基、炭素原子数２ないし１４のア
    ルキリデン基、シクロヘキシレン基またはフェニレン基
    を表し；Ｒ16はＲ5 に対して与えられた意味のいずれか
    １つを表し；ｒは１ないし５の整数を表しおよびＲ17は
    Ｒ5 に対して与えられた意味のいずれか１つを表すか、
    基： 【化１７】 で表される基を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍ
    は０、１、２または３を表しならびに、ｍが０以外のと
    きのみ、ｎが１である条件で、ｎは１ないし３０の数を
    表し；Ｙ1 はＣｌ、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、また
    は−Ｘ1 Ｚもしくは−Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原
    子、メチル基、ベンジル基、炭素原子数１ないし４のア
    シル基または（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カ
    ルボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 はＺ、基： 【化１８】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す請求項１に記載の式（Ｉ）で
    表される化合物。
  4. 【請求項４】 式中、Ｒ2 およびＲ3 は、同じかまたは
    異なっていてよく、炭素原子数２ないし３のアルキレン
    基を表しおよびＲ4 は−ＣＯ−または−ＣＯＣＯ−を表
    し；Ｘ1 およびＸ3 は、同じかまたは異なっていてよ
    く、上記式（IIａ）ないし（IIｅ）〔式中、Ａ1 、
    Ａ2 、Ａ4 およびＡ5 は、同じかまたは異なっていてよ
    く、−Ｏ−または基： 【化１９】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
    キル基、未置換のもしくは１、２もしくは３個の炭素原
    子数１ないし４のアルキル基で置換されたシクロヘキシ
    ル基、ベンジル基、または上記式（III ）で表される基
    を表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原子数２ないし８のアル
    キレン基、１、２もしくは３個の酸素原子によりまたは
    基： 【化２０】 （基中、Ｒ12は水素原子、メチル基、アセチル基または
    （炭素原子数１ないし２のアルコキシ）カルボニル基を
    表す。）により中断された炭素原子数４ないし１０のア
    ルキレン基を表し、あるいはＲ5 はシクロヘキシレン
    基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロ
    ヘキシレン基、フェニレンジメチレン基またはイソプロ
    ピリデンジフェニレン基を表すか；あるいはＲ5 は上記
    式（IV) （基中、Ｒ13は炭素原子数３ないし４のアルキ
    レン基を表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合
    または−ＣＨ2 −を表し；ｐは０または１を表し；Ｒ6
    およびＲ7 は、同じかまたは異なっていてよく、炭素原
    子数２ないし３のアルキレン基を表し；ｑは０または１
    を表し；Ｒ8 はＲ10に対して上記で定義した意味を表
    し；およびＲ9 は水素原子またはメチル基を表す。〕で
    表される基の１つを表し；Ｘ2 は炭素原子数２ないし８
    のアルキレン基、１または２個の酸素原子で中断された
    炭素原子数４ないし８のアルキレン基、２−ヒドロキシ
    トリメチレン基、フェニレンジメチレン基、または上記
    式（Ｖａ）ないし（Ｖｅ）：〔式中、Ｒ14は上記式（Ｖ
    Ia）ないし（ＶId）（式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は上
    記で定義した意味を表し、そしてｓは０または１を表
    す。）で表される基を表すか、あるいはＲ14は４−モル
    ホリニル基、またはＲ18Ｏ−または基： 【化２１】 （基中、Ｒ18、Ｒ19およびＲ20は、同じかまたは異なっ
    ていてよく、Ｒ10に対して与えられた意味のいずれか１
    つであるか、またはアリル基、ウンデセニル基、テトラ
    ヒドロフルフリル基、フェニル基、または炭素原子数１
    ないし４のアルコキシ基により、ジメチルアミノ基によ
    り、ジエチルアミノ基により、または４−モルホリニル
    基により２−もしくは３−位において置換された炭素原
    子数２ないし３のアルキル基を表す。）を表し；Ｒ15は
    直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基、炭素
    原子数２ないし６のアルキリデン基、シクロヘキシレン
    基またはフェニレン基を表し；Ｒ16は炭素原子数２ない
    し８のアルキレン基、１、２もしくは３個の酸素原子に
    より中断された炭素原子数４ないし１０のアルキレン
    基、シクロヘキシレンジメチレン基、イソプロピリデン
    ジシクロヘキシレン基またはイソプロピリデンジフェニ
    レン基を表し；ｒは１ないし４の整数を表しおよびＲ17
    はＲ5 に対して与えられた意味のいずれか１つを表す
    か、メチルフェニレン基、メチレンジフェニレン基また
    は基： 【化２２】 を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍは０、１また
    は２を表しならびに、ｍが０以外のときのみ、ｎが１で
    ある条件で、ｎは１ないし２０の数を表し；Ｙ1 はＯ
    Ｈ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、または−Ｘ1 Ｚもしくは−
    Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原子、メチル基、アセチル
    基、または（炭素原子数１ないし４のアルコキシ）カル
    ボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 はＺ、基： 【化２３】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す、請求項１に記載の式（Ｉ）
    で表される化合物。
  5. 【請求項５】 式中、Ｒ2 およびＲ3 は、同じかまたは
    異なっていてよく、エチレン基またはトリメチレン基を
    表しおよびＲ4 は−ＣＯ−または−ＣＯＣＯ−を表し；
    Ｘ1 およびＸ3 は、同じかまたは異なっていてよく、上
    記式（IIａ）ないし（IIｅ）〔式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ4
    およびＡ5 は、同じかまたは異なっていてよく、−Ｏ−
    または 【化２４】 （基中、Ｒ10は水素原子、炭素原子数１ないし４のアル
    キル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、上記式（III
    ）で表される基を表す。）を表し；Ｒ5 は炭素原子数
    ２ないし６のアルキレン基、２もしくは３個の酸素原子
    により中断された炭素原子数６ないし１０のアルキレン
    基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロ
    ヘキシレン基またはフェニレンジメチレン基を表すか；
    あるいはＲ5 は上記式（IV) （基中、Ｒ13はトリメチレ
    ン基を表す。）で表される基を表し；Ａ3 は直接結合を
    表し；ｐは０または１を表し；Ｒ6 およびＲ7 は、同じ
    かまたは異なっていてよく、エチレン基またはトリメチ
    レン基を表し；ｑは０または１を表し；Ｒ8 はＲ10に対
    して上記で定義した意味を表し；およびＲ9 は水素原子
    またはメチル基を表す。〕で表される基の１つを表し；
    Ｘ2 は炭素原子数２ないし６のアルキレン基、２−ヒド
    ロキシトリメチレン基、フェニレンジメチレン基、また
    は上記式（Ｖａ）ないし（Ｖｅ）：〔式中、Ｒ14は上記
    式（ＶIa）（式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は上記で定義
    した意味を表すかまたは４−モルホリニル基、またはＲ
    18Ｏ−または基： 【化２５】 （基中、Ｒ18は炭素原子数１ないし４のアルキル基、シ
    クロヘキシル基、アリル基、フェニル基、ベンジル基ま
    たは式（III ）で表される基を表し、そしてＲ19および
    Ｒ20は、同じかまたは異なっていてよく、Ｒ10に対して
    与えられた意味のいずれか１つを表す。）を表し；Ｒ15
    は直接結合または炭素原子数１ないし６のアルキレン基
    を表し；Ｒ16は炭素原子数４ないし６のアルキレン基を
    表し；ｒは１または２を表しおよびＲ17は炭素原子数２
    ないし６のアルキレン基または基： 【化２６】 を表す。〕で表される基の１つを表し；ｍは０、１また
    は２を表しならびに、ｍが０以外のときのみ、ｎが１で
    ある条件で、ｎは１ないし１５の数を表し；Ｙ1 はＯ
    Ｈ、ＯＮａ、ＯＫ、Ｒ14基、または−Ｘ1 Ｚもしくは−
    Ｘ3 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原子、メチル基、アセチル
    基、または（炭素原子数１ないし２のアルコキシ）カル
    ボニル基を表す。〕を表しおよび；Ｙ2 はＺ、基： 【化２７】 または−Ｘ2 ＯＨ基を表す。｝を表す請求項１に記載の
    式（Ｉ）で表される化合物。
  6. 【請求項６】 式中、Ｒ1 およびＲ11は、同じかまたは
    異なっていてよく、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ
    2 およびＲ3 はエチレン基を表しおよびＲ4は−ＣＯ−
    または−ＣＯＣＯ−を表し；Ｘ1 は上記式（IIａ）ない
    し（IIｃ）〔式中、Ａ1 、Ａ2 およびＡ4 は、基： 【化２８】 （基中、Ｒ10は水素原子、メチル基、エチル基または上
    記式（III ）で表される基を表す。）；またはＡ2 は−
    Ｏ−を表し；Ｒ5 は−（ＣＨ2 ）2-6 −または−（ＣＨ
    2 ）3 −Ｏ−（ＣＨ2 ）2-4 −Ｏ−（ＣＨ2 ）3 −を表
    しＡ3 は直接結合を表し；ｐおよびｑは０を表し；Ｒ6
    は、エチレン基を表す。〕で表される基の１つを表し；
    ｎは２ないし１０の数を表し；Ｙ1 はＯＨ、ＯＮａ、Ｏ
    Ｋ、Ｒ14基、または−Ｘ1 Ｚ基〔基中、Ｚは、水素原子
    またはメチル基を表す。〕を表し；Ｙ2 は水素原子、メ
    チル基、または基： 【化２９】 を表し；Ｒ14は式VIａ（基中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 および
    Ｒ11は上記で定義された意味を表す。）を表す、請求項
    １に記載の式（Ｉ）で表される化合物。
  7. 【請求項７】 光、熱および、酸化により誘発される崩
    壊を受け易い材料および請求項１に記載の式（Ｉ）で表
    される化合物の少なくとも１つからなる組成物。
  8. 【請求項８】 有機材料が合成ポリマーである請求項７
    に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 式（Ｉ）で表される化合物に加えて、合
    成ポリマー用の他の慣用の添加剤を含む請求項８に記載
    の組成物。
  10. 【請求項１０】 有機材料がポリオレフィンである請求
    項７に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 有機材料がポリエチレンまたはポリプ
    ロピレンである請求項７に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 光、熱および酸化により誘発される崩
    壊に対して有機材料を安定化するための請求項１に記載
    の式Ｉで表される化合物の使用方法。
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