JPH08184964A - 印刷版用感光性組成物 - Google Patents
印刷版用感光性組成物Info
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- JPH08184964A JPH08184964A JP33707094A JP33707094A JPH08184964A JP H08184964 A JPH08184964 A JP H08184964A JP 33707094 A JP33707094 A JP 33707094A JP 33707094 A JP33707094 A JP 33707094A JP H08184964 A JPH08184964 A JP H08184964A
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Abstract
含み、該樹脂が、下記(1)〜(3)からなるフェノール成分
及びアルデヒド類またはケトン類を縮合させた樹脂であ
り、且つこの樹脂の重水素化ジメチルスルホキシド溶液
の13C−NMRスペクトルにおいて、23.0〜31.
0ppmまでのピークの積分値をA、23.0〜37.
0ppmまでのピークの積分値をBとした際に、X=A
/Bの値がX≧0.57であるところの印刷版用感光性
組成物。 フェノール成分 (1)フェノール 50〜100モル% (2)m−アルキルフェノール 0〜50モル% (3)p−アルキルフェノール 0〜50モル% 【効果】 本発明の印刷版用感光性組成物を使用した平
版印刷版は、良好な感度、現像許容性、BP適性及び硬
調性のいずれにおいてもに優れ、更に印刷の際に使用さ
れる処理薬品に対する耐性も極めて良好である。
Description
した感光性組成物に関するものである。詳しくは、印刷
に用いられる処理薬品に対する耐性に優れ、高い感度と
現像許容性に優れているのみならず、BP適性と硬調性
にも優れた感光性平版印刷版に適した感光性組成物に関
するものである。
使用される種々の処理薬品、例えばプレートクリーナー
等に含まれる溶剤に対して耐性が低く、その結果として
耐刷力が低下するという欠点を有している。また、ポジ
型の感光性平版印刷版の現像処理は、通常アルカリ水溶
液から成る現像液中で行われるが、現像液の現像能力は
種々の条件で変動を受け易く、例えば大量処理による疲
労や空気酸化による劣化で現像能力が低下し、処理して
も印刷版の非現像部の感光層が完全に溶解されなくなる
場合がある。このような処理能力が低下した現像液で
も、標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す幅
広い現像許容性を有することが望まれている(以下、適
性な現像結果が得られる現像能力低下の許容範囲を「ア
ンダー現像性」という。)。
向上させる試みとして、感光性組成物にフェノール性水
酸基を有するTg100〜300℃のビニル系高分子あ
るいはアクリル系高分子を添加することが知られている
(特開平1-291245、特開平1-291244)。しかし、このフ
ェノール性水酸基を有するTg100〜300℃のビニ
ル系高分子あるいはアクリル系高分子は、感度が低く、
現像許容性が低いという欠点を有していた。
ィルムより露光する際、該原稿フィルムや感光性平版印
刷版にゴミ等の異物が付着していると、その付着部分か
ら極少量の光が入り込みジャープなレジスト像が形成で
きなくなる恐れがあった(焼きボケ現象)。更に、従来
の平版印刷版を白色灯(蛍光灯)下で長時間(10分程
度)露光、現像等の作業をすると、感光により印刷版の
感光層の膜減りが起こり、未露光部も現像されてしまう
という問題があった(セーフライト性)。そこで、原稿
フィルムや感光性平版印刷版にゴミ等の異物が付着して
も、シャープなレジスト像が得られるような硬調性に優
れた平版印刷版の開発が進められている。
オキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレン
セチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシ
エチレン高級アルコールエーテル等の界面活性剤を感光
性組成物に添加したり、オルトキノンジアジド基を含む
化合物としてo−ナフトキノンジアジドー4ースルホン
酸を用いる方法があった。
持体にこのような硬調な感光層を塗設しても、露光現像
後に支持体上に露光層の膜が残ってしまうなど現像性に
問題があった。従って、上述の焼きボケ現象やセーフラ
イト性といった作業性が改善されると共に、現像性も損
なわれないような感光性平版印刷版の出現がのぞまれて
いる。
酸エステルを含む感光性平版印刷版の感度を高める試み
については従来種々提案されてきた。例えば、環式酸無
水物の添加(特開昭52ー80022)や有機強酸を添加(特開
昭60ー88942)する試みがあるが、感度はあがるが現像許
容性が悪くなるという欠点を生ずる。また、現像許容性
を損なわず感度を上げる試みをしてはビスフェノールA
の添加(特開昭60ー150047)が知られているが、効果は
満足できるものではない。
付する際に位置合わせのためのトンボをかくために使用
されるが、ビスフェノールAを感度が上がる添加量まで
入れると、そのボールペン(以下BPと略記する。)描
画に対する耐性が悪くなるという欠点を生じる。
としてはノボラック樹脂が知られている。従来より、ノ
ボラック樹脂の様々な改良が試みられ、その中で、酸触
媒による重縮合反応で合成されるノボラック樹脂に比
べ、オルソーオルソ結合を多く含む、所謂ハイオルソノ
ボラック樹脂と呼ばれる樹脂が知れている。この樹脂は
フォトレジスト分野に使用され、γ値を高める試みをし
たり(特公平4ー2181)、高い感度で広いデフォーカスラ
チチュードとスカムの発生しにくい感電離放射線性樹脂
組成物(特開平3ー253859)或いは露光時の微細発泡によ
るパターンの欠陥が生じ難くまたスカムによる微細欠陥
も生じ難いポジ型フォトレジスト組成物(特開平3ー2538
60)が提案されている。
光性平版印刷版で問題となる耐薬品性、現像許容性、B
P描画に対する耐性に関しては何等記載されてなく、む
しろこれらのフォトレジストに適した組成物では、感光
性平版印刷版に求められる特性を満たすことはできな
い。
られる処理薬品に対する耐性にすぐれ、高感度で現像許
容性に優れ且つBP適性と硬調性に優れた感光性平版印
刷版に適した感光性組成物を提供するものである。
版印刷版に要求される諸特性を考慮し、バインダー樹脂
としてのノボラック樹脂について鋭意改良を検討した結
果、特定のフェノール類とアルデヒド或いはケトンとを
共縮合させて得られるノボラック樹脂で、そのミクロ構
造が特定の要件を満たすものをキノンジアジド化合物と
組み合わせた組成物が平版印刷版に極めて適しているこ
とを見いだし本発明に到達した。
びバインダー樹脂を含む印刷版用感光性組成物におい
て、該樹脂が、下記の(1)〜(3)からなるフェノール成分
及びアルデヒド類またはケトン類を縮合させた樹脂であ
り、且つ、この樹脂の重水素化ジメチルスルホキシド溶
液の13C−NMRスペクトルにおいて、23.0〜3
1.0ppmまでのピークの積分値をA、23.0〜3
7.0ppmまでのピークの積分値をBとした際に、X
=A/Bの値がX≧0.57であることを特徴とする印
刷版用感光性組成物を要旨とするものである。 フェノール成分 (1)フェノール 50〜100モル% (2)m−アルキルフェノール 0〜50モル% (3)p−アルキルフェノール 0〜50モル%
は、特定組成のフェノール成分とアルデヒド類またはケ
トン類を共縮合することにより製造され、且つ前記に規
定する所定のX値を有するノボラック樹脂からなるバイ
ンダー樹脂を使用することを要件とし、このいずれか一
方が欠けても本発明の効果が得られない。このような樹
脂を製造する際、フェノール成分は、(1)フェノール
50〜100モル%、好ましくは50〜95モル%
(2)m−アルキルフェノール0〜50モル%、(3)
p−アルキルフェノール0〜50モル%の範囲から選ば
れ、(1)のフェノールと共に(2)m−アルキルフェ
ノールと(3)p−アルキルフェノールの少なくとも1
種を含むのが好ましい。m−またはp−アルキルフェノ
ールのアルキル基は、低級アルキル基であり、メチル、
エチル、プロピル、i−プロピル基等である。
ェノール50〜75モル%、(2)m−アルキルフェノ
ール0〜50モル%、(3)p−アルキルフェノール0
〜30モル%からなるフェノール成分を用いて製造され
た樹脂であり、更に、フェノール成分が、(1)フェノ
ール 55〜75モル%、(2)m−アルキルフェノー
ル 10〜45モル%及び(3)p−アルキルフェノー
ル 0〜30モル%からなることがより好ましい。
(1)のフェノールとしてはフェノールの他カテコー
ル、レゾルシン、ヒドロキノン、ピロガロール等の一
価、二価及び三価フェノールが挙げられるが、一価フェ
ノールが好ましい。(2)のm−アルキルフェノールと
しては、m−クレゾール、3,5,−キシレノール、カ
ルバクロール、チモール等が挙げられ、(3)のp−ア
ルキルフェノールとしてはp−クレゾール、2,4−キ
シレノール等が挙げられるが、これらは単独でも混合し
ても使用できる。しかしながら、フェノールとしては一
価のフェノールを95モル%以上含み、m−アルキルフ
ェノールとしてはm−クレゾールを95モル%以上含
み、また、p−アルキルフェノールとしてはp−クレゾ
ールを95モル%以上含むものを使用するのが好まし
い。
ド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、アクロレイ
ン、メタクロレイン、クロトンアルデヒド、アクロレイ
ンジメチルアセタール、フルフラール等があげられる
が、好ましいのはホルムアルデヒドまたはベンズアルデ
ヒドである。ホルムアルデヒドとしては、ホルムアルデ
ヒド水溶液(ホルマリン)、ホルムアルデヒドのオリゴ
マーであるパラホルムアルデヒドを用いることができ
る。特に37%ホルマリンが工業的に多量に生産されて
おり好都合である。ケトン類としては、例えばアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
種反応に使用されている公知の方法、特にハイオルソノ
ボラック樹脂を製造する方法を適宜適用することができ
る。例えば、特公平4-2181に示されているような特定の
二価金属の有機酸塩を触媒に用い、pH4〜7の条件下
で、m−/p−混合クレゾールを含むフェノール類をア
ルデヒドと付加縮合する方法、或いは二価金属の有機酸
塩を触媒としてフェノール類とアルデヒド類を部分的に
付加縮合した後、さらに酸を触媒に用いて付加縮合する
方法がある。また、J.appl.Chem 1957年、
第676〜688頁に記載されている通り、二価金属の水酸化
物または酸化物を触媒に用いフェノール類をアルデヒド
と付加縮合する方法、或いは二価金属の水酸化物または
酸化物を触媒としてフェノール類とアルデヒド類を部分
的に付加縮合した後、さらに酸を触媒に用いて付加縮合
する方法がある。
で混合して調整したフェノール類にホルマリン水溶液を
添加し、トリエチルアミンを用いて縮合する方法(特開
平3ー253859、特開平3ー253860)、フェノール類とパラホ
ルムアルデヒドをトルエンのような非極性溶媒に溶解
し、加圧条件下で高温に加熱する方法等がある。ノボラ
ック樹脂の製造にシュウ酸等の酸触媒は広く使用されて
いるが、ハイオルソノボラック樹脂の製造法により製造
した樹脂は、通常のノボラック樹脂の製造法で得られた
樹脂に比べ、前記X値は高くなる傾向がある。本発明で
は、触媒として二価金属の有機酸塩又は酸化物を使用す
る方法を適用するのが好ましい。
水素化ジメチルスルホキシド溶液の13C−NMRスペク
トルにおいて、23.0〜31.0ppmまでのピーク
の積分値をA、23.0〜37.0ppmまでのピーク
の積分値をBとした際に、X=A/Bの値がX≧0.5
7であることを要件とする。ここで、13C−NMRの測
定は次の条件で行う。JOEL製 EX−270型フー
リエ変換核磁気共鳴装置(共鳴周波数 67.00MH
z)を用い、逆ゲーテッド・デカップリング法(非NO
Eデカップリング測定)を適用する。測定温度は、22
〜24℃、パルス幅6.8μs(約45度)、待ち時間
3秒、観測周波数幅 20000Hz、データポイント
数33K,積算回数4000回以上、基準はテトラメチ
ルシランを0.0ppmとする。
ピークはいずれも芳香環同志のメチレン結合に帰属され
るべきものであり、上記ピーク比、X値は二つの異な
る、あるいは同じ環の、配置も含めた両者の特定の結合
様式に対応するものと解釈される。しかし、現実にはフ
ェノールとアルキルフェノールとの混合ノボラック樹脂
においては、この部分のスペクトルは幅広く、多くのピ
ークの混合からなっている。その個々の帰属は未だ定か
ではなく、上記X値に含まれる結合の様式には様々なも
のが含まれているが、大略は、フェノールとアルキルフ
ェノール同志が互いにオルソ位置で結合したものの割合
に相関しているものと思われる。本発明のノボラック樹
脂は、上記X値がX≧0.57であるが、X≧0.60
を満たすものがより好ましい。
Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(G
PC)で測定してポリスチレン換算の表示を行ったとき
に、3.0×102〜3.0×104の範囲にあるのが好
ましく、特に1.0×103〜1.0×104の範囲にあ
るのが好ましい。一般に、3.0×102未満では、成
膜性に劣り、3.0×104を越えると感度が著しく低
下してしまう。
モノマー量は、5モル%以下、好ましくは2モル%以下
である。未反応モノマー量が5モル%を越えると、耐薬
品性が悪くなったり、あるいは印刷性能が低下する可能
性があるので好ましくない。樹脂の未反応モノマー量を
2モル%以下にするためには、例えば縮合反応後、減圧
度を高めることにより目的を達成することができる。
成時)におけるノボラック樹脂の占める割合は、通常3
0〜95重量%であり、より好ましくは50〜90重量
%である。
としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン酸
と、フェノール類とアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂
とのエステルが挙げられる。これら重縮合樹脂のフェノ
ール類としては、フェノール、o−クレゾール、m−ク
レゾール、p−クレゾール、3,5,−キシレノール、
カルバクロール、チモール等の一価のフェノール、カテ
コール、レゾルシン、ヒドロキノン等の二価フェノー
ル、ピロガロール、フロログルシン等の三価フェノール
等が挙げられる。アルデヒドとしては、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロトンア
ルデヒド、フルフラール等が挙げられる。また、ケトン
としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン等が挙
げられる。
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・
ホルムアルデヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。o−
ナフトキノンジアジド化合物の重縮合樹脂中のフェノー
ル類のOH基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸のエステル化率(OH基1個に対する反応率)は、
15〜80%が好ましく、より好ましくは20〜45%
である。
化合物としては特開昭58ー43451号公報明細書に記載され
ている以下の化合物を使用することが出来る。すなわ
ち、例えば1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エ
ステル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミ
ド、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドな
どの公知の1,2−キノンジアジド化合物等である。
sar)著「ライト・センシティブ システムズ」(“Lig
ht-Sensitive Systems”)第339〜352頁(1965年)、ジョ
ン・ウィリー アンド サンズ(John Wiley & Sons)
社(ニューヨーク)やダブリュー・エス・ディー・フォ
レスト(W.S.De Forest)著「フォトレジスト」(“Pho
toresist”)第50巻、(1975年)、マグローヒル(Mc Gr
aw-Hill)社(ニューヨーク)に記載されている1,2
−ベンゾキノンジアジドー4ースルホン酸フェニルエス
テル、1,2,1′,2′ージー(ベンゾキノンジアジ
ドー4ースルホニル)ージヒドロキシビフェニル、1,
2ーベンゾキノンジアジドー4ー(Nーエチル−N−β
ーナフチル)ースルホンアミド、1,2ーナフトキノン
ジアジドー5ースルホン酸シクロヘキシルエステル、1
−(1,2ーナフトキノンジアジドー5ースルホニル)
ー3,5ージメチルピラゾール、1,2−ナフトキノン
ジアジドー5ースルホン酸ー4″−ヒドロキシジフェニ
ル−4″−アゾ−β−ナフトールエステル、N,N−ジ
−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)
−アニリン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシーアントラキ
ノン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸
−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,
4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−
ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モル
と4,4′−ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジドー5ースルホン酸クロリ
ド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェ
ニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリ
ン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5
−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなどの
1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また特公昭37-1953号、同37-3627号、同37-13109
号、同40-26126号、同40-3801号、同45-5604号、同45-2
7345号、同51-13013号、特開昭48-96575号、同48-63802
号、同48-63803号各公報に記載された1,2−キノンジ
アジド化合物をも挙げることができる。
し、2種以上組合わせて用いてもよい。キノンジアジド
化合物の本発明の印刷版用感光性組成物(感光層形成
時)中に占める割合は、5〜70重量%が好ましく、特
に好ましいのは10〜50重量%である。
材のほか、必要に応じて他の添加剤を含むことができ
る。可塑剤としては各種低分子化合物類、例えばフタル
酸エステル類、トリフェニルホスフェート類、マレイン
酸エステル類、塗布性向上剤として界面活性剤、例えば
フッ素系界面活性剤、エチルセルロースポリアルキレン
エーテル等に代表されるノニオン活性剤等、更に露光に
より可視画像を形成させるためのプリントアウト材料等
が挙げられる。
は遊離基を生成する化合物と、これと相互作用すること
によりその色調を変える有機染料よりなるもので、露光
により酸もしくは遊離基を生成する化合物としては、例
えば特開昭50-36209号公報に記載されているo−ナフト
キノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53
-36223号公報に記載されているトリハロメチル−2−ピ
ロンやトリハロメチル−トリアジン、特開昭55-6244号
公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−
スルホン酸のクロライドと電子吸引性置換基を有するフ
ェノール類またはアニリン類とのエステル化合物、特開
昭55-77742号公報に記載されているハロメチルービニル
ーオキサジアゾール化合物およびジアゾニウム塩等が挙
げられる。
アピュアーブルーBOH[保土ケ谷化学]、オイルブル
ー#603[オリエント化学]、パテントピュアーブルー
[住友三国化学]、クリスタルバイオレット、ブリリア
ントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、
エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラカイトグリ
ーン、オイルレッド、m−クレゾールパープル、ローダ
ミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニル
イミノナフトキノン、シアノーp−ジエチルアミノフェ
ニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン
系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン
系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアント
ラキノン系の色素が挙げられる。これらのうちトリフェ
ニルメタン系色素が好ましい。
明の感光性組成物に添加することができる。増感剤とし
ては、特開昭57-118237号公報に記載されている没食子
酸誘導体、特開昭52-80022号公報に記載されているよう
な5員環状酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸等、
及び特開昭58-11932号公報に記載されているような6員
環状酸無水物、例えば無水グルタル酸及びその誘導体等
が挙げられる。これらのうち、好ましいのは環状酸無水
物であり、特に6員環状酸無水物が好ましい。
性組成物の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加
することもできる。
記に示すような溶媒に溶解させ、それを適当な支持体の
表面に塗布乾燥することによって感光性層を設け、感光
性平版印刷版を形成することができる。
ては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブ、エチルセロソブアセテート等の
セロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、ト
リクロロエチレン、メチルエチルケトン、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチ
ルエーテル、エチルカルビトール等のカルビトール類、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等
のプロピレングリコール類、乳酸エチル等が挙げられ
る。これらのうち、人体への毒性の観点から、カルビト
ール類、プロピレングリコール類、乳酸エチル等を使用
するのが好ましい。これらの溶媒は、単独でも2種以上
を混合して使用しても良い。
際に用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば
回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナ
イフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布
等が可能である。この際、塗布量は用途により異なる
が、例えば固形分として0.5〜5.0g/m2が好ましい。
を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅
等の金属板並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、プラ
スチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、
アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理した
プラスチックフィルム等が挙げられる。このうち好まし
いのはアルミニウム板である。本発明の感光性平版印刷
版の支持体としては砂目立て処理、陽極酸化処理および
必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されているアル
ミニウム板を用いることがより好ましい。これらの処理
には公知の方法を適用することができる。
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組み合わせて用いることができる。好
ましいのは電解エッチングによる方法である。
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行
われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリある
いは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して
水洗する。
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2
種以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電
解して行われる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50
mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg
/dm2である。陽極酸化皮膜量は、例えばアルミミウ
ム板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35m
l,酸化クロム(VI):20gを1リットルの水に溶
解して作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶
解前後の重量変化測定等から求められる。
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
で現像処理することができる。例えば、透明陽画フィル
ムを通して超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセ
ノンランプ、タングステンランプ等の光源により露光
し、次いで種々のアルカリ現像液にて現像する。この結
果未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジーポジ型の
レリーフ像が形成される。
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩
の濃度は0.1〜10重量%が好ましい。又、該現像液
中に必要に応じてアニオン界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶媒を加えることができる。
の条件を満足するノボラック樹脂を使用することによ
り、良好な感度、現像許容性、BP適性及び硬調性のい
ずれにおいてもに優れ、更に印刷の際に使用される処理
薬品に対する耐性も極めて良好である。
に具体的に説明するが、本発明はこれらの製造例及び実
施例に限定されるものではない。
ノール42.00g,メタクレゾール32.18g(フ
ェノール/メタクレゾール=60/40(モル比))、
ホルマリン(37%水溶液)35.88g,酢酸亜鉛二
水和物0.80gを仕込、110℃の油浴で1時間加熱
攪伴し反応させ、生成物を減圧乾燥してノボラック樹脂
を得た。この樹脂のGPCクロマトグラフィーによる重
量平均分子量は5000であった。
タクレゾール34.19g(フェノール/メタクレゾー
ル=57.5/42.5(モル比))、ホルマリン3
3.78gを用いた以外は製造例1と同様にしてノボラ
ック樹脂を製造した。得られた樹脂の重量平均分子量
は、3700であった。
タクレゾール20.11g(フェノール/メタクレゾー
ル=75/25(モル比))、ホルマリン36.79g
を用いた以外は製造例1と同様にしてノボラック樹脂を
製造した。得られた樹脂の重量平均分子量は、6500
であった。
タクレゾール24.13g、パラクレゾール8.04g
(フェノール/メタクレゾール/パラクレゾール=60
/30/10(モル比))、ホルマリン34.98gを
用いた以外は製造例1と同様にしてノボラック樹脂を製
造した。得られた樹脂の重量平均分子量は、6300で
あった。
タクレゾール16.09g、パラクレゾール16.09
g(フェノール/メタクレゾール/パラクレゾール=6
0/20/20(モル比))、ホルマリン36.79g
を用いた以外は製造例1と同様にしてノボラック樹脂を
製造した。得られた樹脂の重量平均分子量は、3100
であった。
タクレゾール8.04g、パラクレゾール24.13g
(フェノール/メタクレゾール/パラクレゾール=60
/10/30(モル比))、ホルマリン36.20gを
用いた以外は製造例1と同様にしてノボラック樹脂を製
造した。得られた樹脂の重量平均分子量は、6000で
あった。
タクレゾール48.26g(フェノール/メタクレゾー
ル=40/60(モル比))、ホルマリン34.67g
を用いた以外は製造例1と同様にしてノボラック樹脂を
製造した。得られた樹脂の重量平均分子量は、2800
であった。
タクレゾール44.24g(フェノール/メタクレゾー
ル=45/55(モル比))、ホルマリン34.98g
を用いた以外は製造例1と同様にしてノボラック樹脂を
製造した。得られた樹脂の重量平均分子量は、3000
であった。
クレゾール45.84g、パラクレゾール30.56g
(フェノール/メタクレゾール/パラクレゾール=5/
57/38(モル比))、ホルマリン37.69gを用
いた以外は製造例1と同様にしてノボラック樹脂を製造
した。得られた樹脂の重量平均分子量は、2500であ
った。
としてシュウ酸二水和物を用いた以外は同様にしてノボ
ラック樹脂を製造した。得られた樹脂の重量平均分子量
は3100であった。
ウム板(材質1050、調質H16)を5重量%の水酸化ナト
リウム水溶液中で60℃で1分間脱脂処理を行った後、
1リットルの0.5モル塩酸水溶液中において温度;2
5℃、電流密度;60A/dm2、処理時間;30秒間
の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、5重量
%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデス
マット処理を施した後、20重量%硫酸溶液中で温度;
20℃、電流密度;3A/dm2、処理時間;1分間の
条件で陽極酸化処理を行った。更に、80℃の熱水で2
0秒間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体
のアルミニウム板を作製した。
記のように作製したアルミニウム板に、キノンジアジド
化合物及び上記製造例で製造したノボラック樹脂を含む
下記組成の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて
塗布し、90℃で4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷
版試料1〜10(表ー1に記載)を作製した。
刷版試料1〜10の各々に絵柄の入ったポジ型フィルム
を密着して2KWメタルハライドランプ(日本電池社製
SPG−1000)を光源として8.0mW/cmの条件で露
光した。次に、この試料にSDR−1(コニカ(株)社
製)を水で6倍に希釈した現像液(標準現像液)、及び
9〜11倍に希釈した現像液(アンダー現像液)及び4
倍に希釈した現像液(オーバー現像液)を用いて25℃
にて40秒間現像処理を施した。処理後の試料表面を目
視で観察して、下記に示す評価基準に従い評価を行っ
た。その結果を表ー1に示す。
するために、印刷中に非画像部に発生する地汚れを除去
する洗浄液として用いられるウルトラプレートクリーナ
ー(UPC)(A.B.C.ケミカル社製)に対する耐
久性を調べた。画像が形成された印刷版を前記各処理液
に室温で所定時間(UPC:2時間)浸漬した後、水洗
し、浸漬前の画像部と比較することにより、画像部の処
理薬品に対する侵食度を判定した。その結果を表−1に
示す。
法に従いクリア感度を評価し、その結果を表−1に示し
た。感光性平版印刷版に感度測定用ステップタブレット
(イスートマン・コダック社製No.2、濃度差0.5ずつ
で21段階のグレースケール)を密着して、2KWメタル
ハライドランプ(日本電池社製SPG−1000)を光
源として8.0mW/cmの条件で露光した。次にこの試料
にSDR−1(コニカ(株)社製)を水で6倍に希釈し
た現像液(標準現像液)を用いて25℃にて40秒間現
像処理を施した。処理後、上記ステップタブレットの完
全に現像されている段数をクリア感度とした。
上記ステップタブレットの完全に現像されている段数を
いい、また「ベタ段数」は上記ステップタブレットの完
全に現像されていない段数をいう。硬調性はこのベタ段
数−クリア段数の値で評価され、この値が小さい程硬調
性にすぐれている。硬調性は、下記の評価基準に従って
評価し、その結果を表−2に示す。 硬調性の評価基準 ○:ベタ段数−クリア段数=7.0以下 △:ベタ段数−クリア段数=7.0〜8.0
1〜10に筆圧50gでボールペン描画した後、6倍希
釈したSDR−1現像液(コニカ(株)製)を用いて2
7℃で20秒間現像処理した。ボールペン描画部分の画
像部のやられを表ー2に示す。ボールペン描画やられの
評価基準 ○:やられ無し △:画像部に欠けがある。
に、本発明の感光性組成物を使用して作成した平版印刷
版は、処理薬品に対する耐性に優れ、クリヤー感度が高
く、且つ現像許容性にも勝り、更にBP適性と硬調性に
も優れている。
Claims (8)
- 【請求項1】キノンジアジド化合物及びバインダー樹脂
を含む印刷版用感光性組成物において、該樹脂は、下記
(1)〜(3)からなるフェノール成分及びアルデヒド類また
はケトン類を縮合させた樹脂であり、且つ、この樹脂の
重水素化ジメチルスルホキシド溶液の13C−NMRスペ
クトルにおいて、23.0〜31.0ppmまでのピー
クの積分値をA、23.0〜37.0ppmまでのピー
クの積分値をBとした際に、X=A/Bの値がX≧0.
57であることを特徴とする印刷版用感光性組成物。 フェノール成分 (1)フェノール 50〜100モル% (2)m−アルキルフェノール 0〜50モル% (3)p−アルキルフェノール 0〜50モル% - 【請求項2】 フェノール成分が、(1)フェノール
50〜95モル%、(2)m−アルキルフェノール 0
〜50モル%及び(3)p−アルキルフェノール 0〜
50モル%からなり、且つ(1)フェノールと(2)m
−アルキルフェノール及び(3)p−アルキルフェノー
ルのすくなくとも1種のフェノール成分とからなること
を特徴とする請求項1に記載の印刷版用感光性組成物。 - 【請求項3】 請求項1において、該X値がX≧0.6
0であることを特徴とする印刷版用感光性組成物。 - 【請求項4】 フェノール成分中、m−アルキルフェノ
ール類がm−クレゾールを95モル%以上含んでおり、
p−アルキルフェノール類がp−クレゾールを95モル
%以上含んでいることを特徴とする請求項1乃至3のい
ずれかに記載の印刷版用感光性組成物。 - 【請求項5】 フェノール成分中、(2)m−アルキル
フェノール及び/または(3)p−アルキルフェノール
が少なくとも25モル%であることを特徴とする請求項
1乃至4のいずれかに記載の印刷版用感光性組成物。 - 【請求項6】 フェノール成分が、(1)フェノール
50〜75モル%、(2)m−アルキルフェノール0〜
50モル%及び(3)p−アルキルフェノール 0〜3
0モル%からなることを特徴とする請求項2乃至5のい
ずれかに記載の印刷版用感光性組成物。 - 【請求項7】 フェノール成分が、(1)フェノール
55〜75モル%、(2)m−アルキルフェノール 1
0〜45モル%及び(3)p−アルキルフェノール 0
〜30モル%からなることを特徴とする請求項2乃至6
のいずれかに記載の印刷版用感光性組成物。 - 【請求項8】 キノンジアジド化合物がo−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸と、フェノール類とアルデヒド又
はケトンとの重縮合樹脂とのエステルであることを特徴
とする請求項1乃至8のいずれかに記載の印刷版用感光
性組成物。
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JP33707094A Expired - Fee Related JP3549929B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 印刷版用感光性組成物 |
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JP (1) | JP3549929B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005050319A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法 |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP33707094A patent/JP3549929B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005050319A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法 |
GB2424649A (en) * | 2003-11-21 | 2006-10-04 | Sekisui Chemical Co Ltd | Positive photoresist and method for producing structure |
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JP3549929B2 (ja) | 2004-08-04 |
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