JPH0816646B2 - 粒度分布測定装置 - Google Patents
粒度分布測定装置Info
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- JPH0816646B2 JPH0816646B2 JP4257877A JP25787792A JPH0816646B2 JP H0816646 B2 JPH0816646 B2 JP H0816646B2 JP 4257877 A JP4257877 A JP 4257877A JP 25787792 A JP25787792 A JP 25787792A JP H0816646 B2 JPH0816646 B2 JP H0816646B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
- G01N15/0211—Investigating a scatter or diffraction pattern
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N2021/4704—Angular selective
- G01N2021/4711—Multiangle measurement
- G01N2021/4716—Using a ring of sensors, or a combination of diaphragm and sensors; Annular sensor
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ回折／散乱式の粒
度分布測定装置に関し、特に乾式での粒度分布測定に適
した装置に関する。
度分布測定装置に関し、特に乾式での粒度分布測定に適
した装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ回折／散乱式の粒度分布測定装置
においては、一般に、分散飛翔状態の被測定粒子群にレ
ーザ光を照射することによって得られる回折／散乱光を
リングデテクタ等の光センサ群に導いてその空間強度分
布を測定し、その測定結果をフラウンホーファ回折理論
ないしはミーの散乱理論に基づく関数によって粒度分布
に換算する。
においては、一般に、分散飛翔状態の被測定粒子群にレ
ーザ光を照射することによって得られる回折／散乱光を
リングデテクタ等の光センサ群に導いてその空間強度分
布を測定し、その測定結果をフラウンホーファ回折理論
ないしはミーの散乱理論に基づく関数によって粒度分布
に換算する。
【０００３】このような粒度分布測定装置では、被測定
粒子群を分散させるための分散媒としては通常は液体が
用いられるが、特に医薬品やセメント等、液体に溶解ま
たは凝固してしまうような粉粒体の測定に当たっては分
散媒を空気とした、いわゆる乾式での測定が強いられ
る。
粒子群を分散させるための分散媒としては通常は液体が
用いられるが、特に医薬品やセメント等、液体に溶解ま
たは凝固してしまうような粉粒体の測定に当たっては分
散媒を空気とした、いわゆる乾式での測定が強いられ
る。
【０００４】乾式測定における被測定粒子群のサンプリ
ングは、圧縮空気を用いた吸引分散器（エジェクタ）に
対して試料粉粒体を定量供給することによってエアロゾ
ルを生成し、レーザ光の照射部位に吹きつけることによ
って行われている。
ングは、圧縮空気を用いた吸引分散器（エジェクタ）に
対して試料粉粒体を定量供給することによってエアロゾ
ルを生成し、レーザ光の照射部位に吹きつけることによ
って行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
測定方式においては、その原理上、被測定粒子群の分散
媒に対する濃度が所定の範囲内に収まり、なおかつ濃度
変動が少ない状態で回折／散乱光の強度分布を測定しな
ければ、正確な粒度分布測定結果を得ることができな
い。
測定方式においては、その原理上、被測定粒子群の分散
媒に対する濃度が所定の範囲内に収まり、なおかつ濃度
変動が少ない状態で回折／散乱光の強度分布を測定しな
ければ、正確な粒度分布測定結果を得ることができな
い。
【０００６】液体を分散媒とする湿式測定においては、
被測定粒子群の均一分散が容易で、上記の条件を定常的
に満足することが可能であるが、乾式測定においては、
従来、種々のサンプリング装置が提案または実用化され
ているものの、圧縮空気圧の変動や試料の前処理ないし
はサンプリング装置の不具合等に起因して、試料濃度を
一定に維持することは極めて困難であり、また、サンプ
リング装置をいかに工夫しようとも、試料粉粒体の種類
によってはエジェクタから吐出される試料の濃度が大き
く変化してしまい、粒度分布測定精度が劣化するという
問題がある。
被測定粒子群の均一分散が容易で、上記の条件を定常的
に満足することが可能であるが、乾式測定においては、
従来、種々のサンプリング装置が提案または実用化され
ているものの、圧縮空気圧の変動や試料の前処理ないし
はサンプリング装置の不具合等に起因して、試料濃度を
一定に維持することは極めて困難であり、また、サンプ
リング装置をいかに工夫しようとも、試料粉粒体の種類
によってはエジェクタから吐出される試料の濃度が大き
く変化してしまい、粒度分布測定精度が劣化するという
問題がある。
【０００７】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
ので、何らかの原因でエジェクタからの試料濃度が変化
しても、その影響を受けずに正確な測定結果を得ること
のできる粒度分布測定装置の提供を目的としている。
ので、何らかの原因でエジェクタからの試料濃度が変化
しても、その影響を受けずに正確な測定結果を得ること
のできる粒度分布測定装置の提供を目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの構成を、図１に示す基本概念図を参照しつつ説明す
ると、本発明の粒度分布測定装置は、レーザ光源ａから
の光を被測定粒子群ｂに照射することにより得られる回
折／散乱光の強度分布を光センサ群ｃによって測定する
光学系と、その光強度分布測定結果を用いて被測定試料
群の粒度分布を算出する演算手段ｄを備えた装置におい
て、光センサ群ｃのうちの所定個のセンサ出力をモニタ
して、そのいずれかがあらかじめ設定された第１値Ｘ1
を超えたか否かの判別により試料が光学系内に導入され
たか否かを判別する第１の判別手段ｅと、試料導入判別
後に全光センサ出力を取り込み、そのうちの最大値Ａ
MAXがあらかじめ設定された第２値Ｘ2 と第３値Ｘ3 の
範囲内に入っているか否かの判別により試料濃度が適切
であるか否かを判別する第２の判別手段ｆと、試料濃度
適切状態での最大値ＡMAX と前回の試料濃度適切状態で
の最大値ＢMAX との差があらかじめ設定された第４値Ｘ
4 以内であるか否かを判別する第３の判別手段ｇと、そ
の第３の判別手段ｇによる判別結果に基づき、差｜Ａ
MAX −ＢMAX ｜が第４値Ｘ4 以内である場合に限り光セ
ンサ群ｃの出力を有効データとして記憶する記憶手段ｈ
と、その記憶手段ｈ内の有効データが規定個数Ｘ5 に達
したか否かを判別する第４の判別手段ｉを有し、有効デ
ータが規定個数揃った時点で演算手段ｄによる算出を実
行するよう構成されていることによって特徴づけられ
る。
めの構成を、図１に示す基本概念図を参照しつつ説明す
ると、本発明の粒度分布測定装置は、レーザ光源ａから
の光を被測定粒子群ｂに照射することにより得られる回
折／散乱光の強度分布を光センサ群ｃによって測定する
光学系と、その光強度分布測定結果を用いて被測定試料
群の粒度分布を算出する演算手段ｄを備えた装置におい
て、光センサ群ｃのうちの所定個のセンサ出力をモニタ
して、そのいずれかがあらかじめ設定された第１値Ｘ1
を超えたか否かの判別により試料が光学系内に導入され
たか否かを判別する第１の判別手段ｅと、試料導入判別
後に全光センサ出力を取り込み、そのうちの最大値Ａ
MAXがあらかじめ設定された第２値Ｘ2 と第３値Ｘ3 の
範囲内に入っているか否かの判別により試料濃度が適切
であるか否かを判別する第２の判別手段ｆと、試料濃度
適切状態での最大値ＡMAX と前回の試料濃度適切状態で
の最大値ＢMAX との差があらかじめ設定された第４値Ｘ
4 以内であるか否かを判別する第３の判別手段ｇと、そ
の第３の判別手段ｇによる判別結果に基づき、差｜Ａ
MAX −ＢMAX ｜が第４値Ｘ4 以内である場合に限り光セ
ンサ群ｃの出力を有効データとして記憶する記憶手段ｈ
と、その記憶手段ｈ内の有効データが規定個数Ｘ5 に達
したか否かを判別する第４の判別手段ｉを有し、有効デ
ータが規定個数揃った時点で演算手段ｄによる算出を実
行するよう構成されていることによって特徴づけられ
る。
【０００９】
【作用】レーザ光回折／散乱式の粒度分布測定装置の光
学系に被測定粒子群を乾式で供給した状態での光センサ
群ｃの出力の最大値と、その試料濃度との関係は、図４
に例示するようにほぼ比例関係にある。
学系に被測定粒子群を乾式で供給した状態での光センサ
群ｃの出力の最大値と、その試料濃度との関係は、図４
に例示するようにほぼ比例関係にある。
【００１０】そこで、第１の判別手段ｅにより試料導入
を自動的に検知した後、第２の判別手段ｆによって試料
濃度が適正状態にあり、しかも、第３の判別手段ｇによ
って今回の最大値ＡMAX と前回の濃度適正状態での最大
値ＢMAX との差が規定値以内である場合に限り、光セン
サ群ｃの出力を記憶手段ｈに格納することで、記憶手段
ｈ内には、適正な濃度範囲に収まり、なおかつ相互に変
動の少ない濃度状態における回折／散乱光強度分布デー
タが蓄積されていくことになる。そのデータ数が規定個
集まった時点で演算手段ｄによる粒度分布分布への換算
を行うことにより、エジェクタからの試料濃度が変化し
ても不適当な濃度状態でのデータが棄却され、濃度変化
の影響の少ない粒度分布測定結果を得ることができる。
を自動的に検知した後、第２の判別手段ｆによって試料
濃度が適正状態にあり、しかも、第３の判別手段ｇによ
って今回の最大値ＡMAX と前回の濃度適正状態での最大
値ＢMAX との差が規定値以内である場合に限り、光セン
サ群ｃの出力を記憶手段ｈに格納することで、記憶手段
ｈ内には、適正な濃度範囲に収まり、なおかつ相互に変
動の少ない濃度状態における回折／散乱光強度分布デー
タが蓄積されていくことになる。そのデータ数が規定個
集まった時点で演算手段ｄによる粒度分布分布への換算
を行うことにより、エジェクタからの試料濃度が変化し
ても不適当な濃度状態でのデータが棄却され、濃度変化
の影響の少ない粒度分布測定結果を得ることができる。
【００１１】
【実施例】図２は本発明実施例の構成図である。エジェ
クタ１は、コンプレッサ（図示せず）に接続されるエア
供給口１ａ、試料粉粒体供給部２に隣接配置される試料
吸引口１ｂ、および噴出口１ｃを備え、エア供給口１ａ
から圧縮空気を供給することにより試料吸引口１ｂから
試料粉粒体を吸引して、噴出口１ｃから試料エアロゾル
Ａを噴出するようになっている。
クタ１は、コンプレッサ（図示せず）に接続されるエア
供給口１ａ、試料粉粒体供給部２に隣接配置される試料
吸引口１ｂ、および噴出口１ｃを備え、エア供給口１ａ
から圧縮空気を供給することにより試料吸引口１ｂから
試料粉粒体を吸引して、噴出口１ｃから試料エアロゾル
Ａを噴出するようになっている。
【００１２】エジェクタ１の噴出口１ｃに対向して集塵
吸引口３が設けられており、噴出口１ｃから出た試料エ
アロゾルＡはこの集塵吸引口３を介して集塵器（図示せ
ず）に回収されるようになっている。
吸引口３が設けられており、噴出口１ｃから出た試料エ
アロゾルＡはこの集塵吸引口３を介して集塵器（図示せ
ず）に回収されるようになっている。
【００１３】エジェクタ１の噴出口１ｃと集塵吸引口３
との間に、測定光学系の光軸Ｌが位置しており、この光
軸Ｌに沿って、レーザ光源４からの出力光がビーム成形
系５を経て所定の断面積を持つ平行光束に成形された状
態で、試料エアロゾルＡに対して照射される。
との間に、測定光学系の光軸Ｌが位置しており、この光
軸Ｌに沿って、レーザ光源４からの出力光がビーム成形
系５を経て所定の断面積を持つ平行光束に成形された状
態で、試料エアロゾルＡに対して照射される。
【００１４】試料エアロゾルＡを挟んでビーム成形系５
の反対側の光軸Ｌ上には、集光レンズ６と、その焦点面
上に置かれたリングデテクタ７が配設されており、リン
グデテクタ７の受光面上に試料エアロゾルＡによる回折
／散乱像が結ばれる。
の反対側の光軸Ｌ上には、集光レンズ６と、その焦点面
上に置かれたリングデテクタ７が配設されており、リン
グデテクタ７の受光面上に試料エアロゾルＡによる回折
／散乱像が結ばれる。
【００１５】リングデテクタ７は、光軸Ｌを中心として
互いに半径の異なるリング状の受光面を持つ複数（例え
ば数十個）の光センサが同心状に設けられた公知のもの
で、その各光センサの出力の大きさから、試料エアロゾ
ルＡによる回折／散乱光の強度分布を知ることができ
る。
互いに半径の異なるリング状の受光面を持つ複数（例え
ば数十個）の光センサが同心状に設けられた公知のもの
で、その各光センサの出力の大きさから、試料エアロゾ
ルＡによる回折／散乱光の強度分布を知ることができ
る。
【００１６】リングデテクタ７に含まれる各光センサの
出力は、それぞれＡ−Ｄ変換器（図示せず）を介してデ
ジタル化された後に、所定のタイミングで刻々とコンピ
ュータ８に取り込まれるが、コンピュータ８では、後述
するプログラムに従って必要なデータのみを抽出してメ
モリ９内に格納するとともに、そのメモリ９内に蓄えら
れたデータを用いて粒度分布を算出するように構成され
ている。
出力は、それぞれＡ−Ｄ変換器（図示せず）を介してデ
ジタル化された後に、所定のタイミングで刻々とコンピ
ュータ８に取り込まれるが、コンピュータ８では、後述
するプログラムに従って必要なデータのみを抽出してメ
モリ９内に格納するとともに、そのメモリ９内に蓄えら
れたデータを用いて粒度分布を算出するように構成され
ている。
【００１７】図３はコンピュータ８に書き込まれたプロ
グラムの内容を示すフローチャートで、以下、この図を
参照しつつ本発明実施例の作用を述べる。エジェクタ１
による試料エアロゾルＡの噴出を開始する前に装置に起
動をかけると、リングデテクタ７内の光センサの中から
少数の光センサが選択されるとともに、その選択された
光センサの出力データが取り込まれ（ＳＴ１，ＳＴ
２）、そのデータ中の最大値ＤMAX が検索される（ＳＴ
３）。
グラムの内容を示すフローチャートで、以下、この図を
参照しつつ本発明実施例の作用を述べる。エジェクタ１
による試料エアロゾルＡの噴出を開始する前に装置に起
動をかけると、リングデテクタ７内の光センサの中から
少数の光センサが選択されるとともに、その選択された
光センサの出力データが取り込まれ（ＳＴ１，ＳＴ
２）、そのデータ中の最大値ＤMAX が検索される（ＳＴ
３）。
【００１８】検索された最大値ＤMAX はあらかじめ設定
されている値Ｘ1 と比較される（ＳＴ４）。この値Ｘ1
は、ビーム成形系５と集光レンズ６の間に粉粒体がある
程度以上存在している場合にはその回折／散乱作用によ
り各光センサへの入射光強度が増すことを利用して、そ
の粉粒体の存在の有無を判定するためのもので、最大値
ＤMAX がＸ1 に達していない場合にはＳＴ２以下が繰り
返され、ＤMAX がＸ1に達している場合には、エジェク
タ１から試料エアロゾルＡが測定光学系に導入されたと
自動的に判断して、ＳＴ５以下の濃度範囲チェックルー
チンへと進む。
されている値Ｘ1 と比較される（ＳＴ４）。この値Ｘ1
は、ビーム成形系５と集光レンズ６の間に粉粒体がある
程度以上存在している場合にはその回折／散乱作用によ
り各光センサへの入射光強度が増すことを利用して、そ
の粉粒体の存在の有無を判定するためのもので、最大値
ＤMAX がＸ1 に達していない場合にはＳＴ２以下が繰り
返され、ＤMAX がＸ1に達している場合には、エジェク
タ１から試料エアロゾルＡが測定光学系に導入されたと
自動的に判断して、ＳＴ５以下の濃度範囲チェックルー
チンへと進む。
【００１９】濃度チェックルーチンでは、まず測定回数
Ｎが０にリセットされ（ＳＴ５）、リングデテクタ７内
の全光センサからのデータが取り込まれ、その最大値Ａ
MAXが検索される（ＳＴ６，ＳＴ７）。そしてこのＡ
MAX は、あらかじめ設定された値Ｘ2 とＸ3 の間に収ま
っているか否かの判別に供される（ＳＴ８）。
Ｎが０にリセットされ（ＳＴ５）、リングデテクタ７内
の全光センサからのデータが取り込まれ、その最大値Ａ
MAXが検索される（ＳＴ６，ＳＴ７）。そしてこのＡ
MAX は、あらかじめ設定された値Ｘ2 とＸ3 の間に収ま
っているか否かの判別に供される（ＳＴ８）。
【００２０】値Ｘ2 とＸ3 はそれぞれ測定に適した試料
濃度範囲の下限値および上限値に対応する値であって、
全光センサ出力中の最大値ＡMAX と試料濃度との関係
は、図４に実験結果をグラフで示すように、所定の濃度
範囲においてほぼ直線的な比例関係にあり、この関係を
基に、測定に適した濃度範囲に対応する値Ｘ2 とＸ3 が
前もって設定される。
濃度範囲の下限値および上限値に対応する値であって、
全光センサ出力中の最大値ＡMAX と試料濃度との関係
は、図４に実験結果をグラフで示すように、所定の濃度
範囲においてほぼ直線的な比例関係にあり、この関係を
基に、測定に適した濃度範囲に対応する値Ｘ2 とＸ3 が
前もって設定される。
【００２１】さて、ＳＴ８においてＡMAX がＸ2 とＸ3
の範囲内にないときには、ＳＴ６へと戻って同様なチェ
ックが繰り返されるとともに、ＡMAX がＸ2 とＸ3 の範
囲内に収まっている場合には、試料濃度が適正範囲内に
あると判断してＳＴ９以下の濃度変動幅チェックルーチ
ンへと進む。
の範囲内にないときには、ＳＴ６へと戻って同様なチェ
ックが繰り返されるとともに、ＡMAX がＸ2 とＸ3 の範
囲内に収まっている場合には、試料濃度が適正範囲内に
あると判断してＳＴ９以下の濃度変動幅チェックルーチ
ンへと進む。
【００２２】濃度変動幅チェックルーチンでは、測定開
始後、試料濃度が最初に適正範囲内に入ったとき、つま
り測定回数Ｎ＝０の状態では、その最大値ＡMAX を仮に
前回最大値ＢMAX として（ＳＴ９，ＳＴ１０）、ＳＴ１
１において今回最大値ＡMAXと前回最大値ＢMAX との差
｜ＡMAX −ＢMAX ｜が値Ｘ4 と比較される。
始後、試料濃度が最初に適正範囲内に入ったとき、つま
り測定回数Ｎ＝０の状態では、その最大値ＡMAX を仮に
前回最大値ＢMAX として（ＳＴ９，ＳＴ１０）、ＳＴ１
１において今回最大値ＡMAXと前回最大値ＢMAX との差
｜ＡMAX −ＢMAX ｜が値Ｘ4 と比較される。
【００２３】この値Ｘ4 は、試料濃度が適正範囲内に収
まっているものの、その範囲内で急激に変化したときの
データを棄却するために設定された、言わば濃度の許容
変動幅に対応する値であって、この差｜ＡMAX −ＢMAX
｜がＸ4 以内であれば急激な濃度変動はないと判断し
て、ＳＴ６で取り込まれた全光センサからのデータ群が
メモリ９内に保存されるとともに（ＳＴ１２）、今回の
最大値ＡMAX を次回の比較のための前回最大値ＢMAX と
して記憶し（ＳＴ１３）、測定回数Ｎを１カウントアッ
プして（ＳＴ１４）、ＳＴ１５を経てＳＴ６以下が繰り
返される。なお、Ｎ＝０の場合にはＡMAX ＝ＢMAX であ
るから、そのデータ群は必ず保存されることになる。
まっているものの、その範囲内で急激に変化したときの
データを棄却するために設定された、言わば濃度の許容
変動幅に対応する値であって、この差｜ＡMAX −ＢMAX
｜がＸ4 以内であれば急激な濃度変動はないと判断し
て、ＳＴ６で取り込まれた全光センサからのデータ群が
メモリ９内に保存されるとともに（ＳＴ１２）、今回の
最大値ＡMAX を次回の比較のための前回最大値ＢMAX と
して記憶し（ＳＴ１３）、測定回数Ｎを１カウントアッ
プして（ＳＴ１４）、ＳＴ１５を経てＳＴ６以下が繰り
返される。なお、Ｎ＝０の場合にはＡMAX ＝ＢMAX であ
るから、そのデータ群は必ず保存されることになる。
【００２４】Ｎ＝１以降について、前回のデータ群の保
存時から試料濃度が許容限度を超えて変化している場合
には、差｜ＡMAX −ＢMAX ｜がＸ4 を超えることにな
り、その場合、今回のデータ群は保存されず、ＳＴ６以
下がが繰り返される。
存時から試料濃度が許容限度を超えて変化している場合
には、差｜ＡMAX −ＢMAX ｜がＸ4 を超えることにな
り、その場合、今回のデータ群は保存されず、ＳＴ６以
下がが繰り返される。
【００２５】以上の動作により、メモリ９内には、試料
濃度が適正範囲内にあり、かつ、前回データ群を保存し
たときからの濃度変化が許容範囲内である場合に限った
データ群が蓄積されていくことになるが、その蓄積回数
（測定回数）Ｎがあらかじめ設定されたＸ5 回（通常は
数百回）に達すると、メモリ９内の全データを用いて、
公知の演算によって粒度分布が算出される（ＳＴ１５，
ＳＴ１６）。
濃度が適正範囲内にあり、かつ、前回データ群を保存し
たときからの濃度変化が許容範囲内である場合に限った
データ群が蓄積されていくことになるが、その蓄積回数
（測定回数）Ｎがあらかじめ設定されたＸ5 回（通常は
数百回）に達すると、メモリ９内の全データを用いて、
公知の演算によって粒度分布が算出される（ＳＴ１５，
ＳＴ１６）。
【００２６】以上の本発明実施例によって得られた粒度
分布測定結果には、従って、エジェクタ１からの試料エ
アロゾルＡ中の試料濃度変化の影響が殆ど含まれること
がなく、正確で安定したものとなる。
分布測定結果には、従って、エジェクタ１からの試料エ
アロゾルＡ中の試料濃度変化の影響が殆ど含まれること
がなく、正確で安定したものとなる。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
いくつかの光センサの出力の大きさに基づいて試料エア
ロゾルの光学系への導入を自動的に検知するとともに、
その検知後には全光センサの出力の最大値に基づいて試
料濃度が適切な範囲内にあるか否かを判別するととも
に、その最大値と前回の最大値との差から試料濃度の変
化が許容範囲内であるか否かを判別して、試料濃度が適
切な範囲内で、しかも前回からの濃度変化が許容範囲内
である場合に限って、光センサ群からのデータを有効デ
ータとしてメモリ内に蓄積して粒度分布の算出に供する
から、試料濃度が何らかの原因で刻々と変動していて
も、その変動の影響の少ない正確で安定した粒度分布測
定結果を得ることができる。
いくつかの光センサの出力の大きさに基づいて試料エア
ロゾルの光学系への導入を自動的に検知するとともに、
その検知後には全光センサの出力の最大値に基づいて試
料濃度が適切な範囲内にあるか否かを判別するととも
に、その最大値と前回の最大値との差から試料濃度の変
化が許容範囲内であるか否かを判別して、試料濃度が適
切な範囲内で、しかも前回からの濃度変化が許容範囲内
である場合に限って、光センサ群からのデータを有効デ
ータとしてメモリ内に蓄積して粒度分布の算出に供する
から、試料濃度が何らかの原因で刻々と変動していて
も、その変動の影響の少ない正確で安定した粒度分布測
定結果を得ることができる。
【図１】本発明の構成を示す基本概念図
【図２】本発明実施例の構成図
【図３】そのコンピュータ８に書き込まれたプログラム
の内容を示すフローチャート
の内容を示すフローチャート
【図４】リングデテクタ６内の光センサ群の出力の最大
値と試料濃度の関係を示すグラフ
値と試料濃度の関係を示すグラフ
１ エジェクタ ２ 試料粉粒体供給部 ４ レーザ光源 ５ ビーム成形系 ６ 集光レンズ ７ リングデテクタ ８ コンピュータ ９ メモリ Ａ 試料エアロゾル Ｌ 光軸
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザ光源からの光を被測定粒子群に照
射することにより得られる回折／散乱光の強度分布を光
センサ群によって測定する光学系と、その光強度分布測
定結果を用いて被測定試料群の粒度分布を算出する演算
手段を備えた装置において、上記光センサ群のうちの所
定個のセンサ出力をモニタして、そのいずれかがあらか
じめ設定された第１値を超えたか否かの判別により試料
が上記光学系内に導入されたか否かを判別する第１の判
別手段と、試料導入判別後に全光センサ出力を取り込
み、そのうちの最大値があらかじめ設定された第２値と
第３値の範囲内に入っているか否かの判別により試料濃
度が適切であるか否かを判別する第２の判別手段と、試
料濃度適切状態での上記最大値と前回の試料濃度適切状
態での最大値との差があらかじめ設定された第４値以内
であるか否かを判別する第３の判別手段と、その第３の
判別手段による判別結果に基づき、上記差が第４値以内
である場合に限り上記全光センサ出力を有効データとし
て記憶する記憶手段と、その記憶手段内の有効データが
規定個数に達したか否かを判別する第４の判別手段を有
し、有効データが規定個数揃った時点で上記演算手段に
よる算出を実行するよう構成されていることを特徴とす
る粒度分布測定装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4257877A JPH0816646B2 (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | 粒度分布測定装置 |
| SG1996004241A SG49703A1 (en) | 1992-09-28 | 1993-09-20 | Particle size measuring device |
| US08/123,097 US5379113A (en) | 1992-09-28 | 1993-09-20 | Particle size measuring device |
| EP93307418A EP0590841B1 (en) | 1992-09-28 | 1993-09-20 | Device and method for determining the particle size distribution |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4257877A JPH0816646B2 (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | 粒度分布測定装置 |
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Family
ID=17312427
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JPH0816646B2 (ja) |
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-
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-
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- 1993-09-20 DE DE69312617T patent/DE69312617T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1993-09-20 US US08/123,097 patent/US5379113A/en not_active Expired - Lifetime
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