JP4716055B2 - レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 127
- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims description 126
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 31
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
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Description
通常は、体積基準が用いられ、
図1は本発明の実施の形態の構成図であり、光学的構成を表す模式図と電気的構成を表すブロック図とを併記して示す図である。
2 照射光学系
3 集光レンズ
4 リングディテクタ
5 側方散乱光センサ
6 後方散乱光センサ
7 データサンプリング回路
8 コンピュータ
9 表示器
10 プリンタ
P 被測定粒子群
P1 ファーストピーク
P2 セカンドピーク
B1 ファーストボトム
Claims (2)
- 分散状態の被測定粒子群に平行レーザ光を照射する照射光学系と、そのレーザ光の照射により生じる回折・散乱光の空間強度分布を測定する測定光学系と、その回折・散乱光の空間強度分布を用いて被測定粒子群の粒度分布を算出する演算手段を備えたレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置において、
上記測定光学系により測定された回折・散乱光の空間強度分布における回折・散乱角度の小さい方から大きい方に向かって最初のボトムを検出するボトム検出手段を有し、最初のボトムが存在する場合には、上記演算手段は、小角度側から最初のボトムまでの回折・散乱光の空間強度分布データを用いて被測定粒子群の粒度分布を算出することを特徴とするレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置。 - 分散状態の被測定粒子群に平行レーザ光を照射する照射光学系と、そのレーザ光の照射により生じる回折・散乱光の空間強度分布を測定する測定光学系と、その回折・散乱光の空間強度分布を用いて被測定粒子群の粒度分布を算出する演算手段を備えたレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置において、
上記測定光学系により測定された回折・散乱光の空間強度分布におけるピークおよびボトムを検出するピーク/ボトム検出手段と、そのピークおよびボトムの検出結果から、回折・散乱角度の小さい方から大きい方に向かって最初のピークと、最初のボトム、および2番目のピークの各値を用いて、最初のピーク値と最初のボトム値の差に対する2番目のピーク値の比があらかじめ設定されている値よりも大きいか否かを判定する判定手段と、その判定結果に基づき、上記比が大きい場合に限り、上記演算手段は小角度側から最初のボトムまでの回折・散乱光の空間強度分布を用いて被測定粒子群の粒度分布を算出することを特徴とするレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008317835A JP4716055B2 (ja) | 2008-12-15 | 2008-12-15 | レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008317835A JP4716055B2 (ja) | 2008-12-15 | 2008-12-15 | レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005010785U Continuation JP3123009U (ja) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009085969A JP2009085969A (ja) | 2009-04-23 |
JP4716055B2 true JP4716055B2 (ja) | 2011-07-06 |
Family
ID=40659536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008317835A Active JP4716055B2 (ja) | 2008-12-15 | 2008-12-15 | レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4716055B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6191426B2 (ja) * | 2013-12-05 | 2017-09-06 | 株式会社島津製作所 | 粒度分布測定装置及びこれに用いられる表示処理装置並びに粒度分布測定方法 |
CN104535298B (zh) * | 2014-12-29 | 2017-07-11 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 应用于成像流式细胞仪的侧向散射光模拟装置 |
CN111678846B (zh) * | 2020-06-12 | 2023-03-07 | 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学 | 基于米氏散射理论和夫琅禾费衍射理论二维喷雾场测量方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63259435A (ja) * | 1987-04-15 | 1988-10-26 | Shimadzu Corp | 粒度分布測定方法 |
JPH0364911A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Nec Corp | 半導体装置の製造装置 |
JPH0640058B2 (ja) * | 1990-11-26 | 1994-05-25 | 株式会社島津製作所 | 粒度分布測定装置 |
-
2008
- 2008-12-15 JP JP2008317835A patent/JP4716055B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63259435A (ja) * | 1987-04-15 | 1988-10-26 | Shimadzu Corp | 粒度分布測定方法 |
JPH0364911A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Nec Corp | 半導体装置の製造装置 |
JPH0640058B2 (ja) * | 1990-11-26 | 1994-05-25 | 株式会社島津製作所 | 粒度分布測定装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009085969A (ja) | 2009-04-23 |
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