JP2010101653A - 粒度分布測定装置および粒度分布測定プログラム - Google Patents
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- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims abstract description 218
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 185
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 44
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 31
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000013480 data collection Methods 0.000 claims description 3
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 5
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】被測定粒子群Pの屈折率として複数の屈折率を設定し、その複数の屈折率に基づく係数行列を算出し、その各係数行列を用いて回折・散乱光の空間強度分布を粒度分布に変換し、その各粒度分布を該当の係数行列を用いて回折・散乱光の空間強度分布に逆変換し、その逆変換結果と実測された回折・散乱光の空間強度分布との一致度を算出し、最も一致どの高い逆変換結果に基づく粒度分布を計測結果とするに当たり、屈折率の範囲を設定する設定手段を設け、粒度分布への変換に供する屈折率を、その設定された屈折率範囲内に限定する。
【選択図】図2
Description
この種の測定装置においては、被測定粒子群による回折・散乱光の空間強度分布を測定するための光学系としては、図6に模式的に示すものが多用されている(例えば特許文献1参照)。
図1は本発明の実施の形態の構成図であり、光学的構成を表す模式図とシステム構成を表すブロック図とを併記して示す図である。
2 照射光学系
3 集光レンズ
4 リングディテクタ
5 側方散乱光センサ
6 後方散乱光センサ
7 データサンプリング回路
8 コンピュータ
8a 操作部
8b 表示器
P 被測定粒子群
S 懸濁液
Claims (8)
- 分散状態の被測定粒子群にレーザ光を照射して得られる回折・散乱光の空間強度分布を測定する測定手段と、その測定された回折・散乱光の空間強度分布の測定結果を、被測定粒子群の屈折率を加味した係数行列を用いて当該被測定粒子群の粒度分布に変換する変換演算手段を備えた粒度分布測定装置において、
上記変換演算手段は、複数の屈折率にそれぞれ対応する複数の係数行列を用いて、上記回折・散乱光の測定結果をそれぞれ粒度分布に変換し、
上記各係数行列を用いて変換された粒度分布を、変換に用いたものと同じ係数行列を用いて回折・散乱光の空間強度分布に逆変換する逆変換演算手段と、その逆変換された各回折・散乱光の空間強度分布と、上記測定手段により測定された回折・散乱光の空間強度分布との一致度を評価関数を用いて算出し、測定された回折・散乱光の空間強度分布に対する一致度の最も高い回折・散乱光の空間強度分布を選択し、その選択された回折・散乱光の空間強度分布に対応する粒度分布を、被測定粒子群の粒度分布の計測結果として確定する評価手段を備えるとともに、
上記変換演算手段による粒度分布の変換に供される複数の係数行列を決定するための屈折率の範囲を設定する設定手段を備えていることを特徴とする粒度分布測定装置。 - 上記設定手段による屈折率の範囲の設定に当たり、被測定粒子群の材質の入力により、その材質の物性定数に基づく屈折率に係る情報を表示する物性定数表示手段を備えていることを特徴とする請求項1に記載の粒度分布測定装置。
- 上記設定手段による屈折率の範囲の設定に当たり、表示器に実軸と虚軸とからなる複素平面の2次元座標が表示され、その複素平面上で実部と虚部とからなる複素屈折率の範囲を設定するように構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の粒度分布測定装置。
- 上記変換演算手段による粒度分布の変換演算に供される複数の係数行列を決定するための屈折率は、上記設定手段により設定された範囲のなかから、あらかじめ設定されている間隔のもとに自動的に抽出されることを特徴とする請求項1、2または3のいずれか1項に記載の粒度分布測定装置。
- 上記逆変換演算手段により逆変換された各回折・散乱光の空間強度分布の上記評価手段による一致度の算出結果と、上記屈折率の設定範囲との関係を表示器にグラフィカルに表示する一致度表示手段を備えていることを特徴とする請求項1、2、3または4に記載の粒度分布測定装置。
- 分散状態の被測定粒子群にレーザ光を照射して得られる回折・散乱光の空間強度分布を測定し、その測定された回折・散乱光の空間強度分布の測定結果を、被測定粒子群の屈折率を加味した係数行列を用いて当該被測定粒子群の粒度分布に変換する粒度分布測測定装置における各種処理を実行するためのコンピュータに用いられる粒度分布測定プログラムであって、
上記コンピュータを、被測定粒子群にレーザ光を照射したときに得られる回折・散乱光の空間強度分布データを収集するデータ収集手段、その収集された回折・散乱光の空間強度分布を、複数の係数行列を用いてそれぞれ被測定粒子群の粒度分布に変換する変換演算手段、変換された各粒度分布を、それぞれの変換に用いた係数行列を用いて回折・散乱光の空間強度分布に逆変換する逆変換演算手段、逆変換された各回折・散乱光の空間強度分布と、上記データ収集手段により収集された回折・散乱光の空間強度分布との一致度を評価関数を用いて算出し、上記データ収集手段により収集された回折・散乱光の空間強度分布に対する一致度が最も高い回折・散乱光の空間強度分布に対応する粒度分布を、被測定粒子群の粒度分布の計測結果として確定する評価手段、上記変換演算手段による粒度分布の変換に供される係数行列を決定するための屈折率の範囲を設定する設定手段、
として機能させることを特徴とする粒度分布測定プログラム。 - 請求項6に記載の粒度分布測定プログラムにおいて、上記設定手段は、表示器に実軸と虚軸とからなる複素平面の2次元座標を表示する複素平面座標表示手段と、入力装置によりその座標上で指定された実部と虚部の範囲を、複素屈折率の設定範囲として認識する設定範囲認識手段を含むことを特徴とする粒度分布測定プログラム。
- 請求項6または7に記載の粒度分布測定プログラムにおいて、上記コンピュータを、上記逆変換演算手段により逆変換された各回折・散乱光の空間強度分布の上記評価手段による一致度の算出結果と、上記屈折率の設定範囲との関係を表示器にグラフィカルに表示する一致度表示手段としても機能させることを特徴とする粒度分布測定プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008271266A JP5088288B2 (ja) | 2008-10-21 | 2008-10-21 | 粒度分布測定装置および粒度分布測定プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008271266A JP5088288B2 (ja) | 2008-10-21 | 2008-10-21 | 粒度分布測定装置および粒度分布測定プログラム |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010101653A true JP2010101653A (ja) | 2010-05-06 |
JP5088288B2 JP5088288B2 (ja) | 2012-12-05 |
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JP2008271266A Active JP5088288B2 (ja) | 2008-10-21 | 2008-10-21 | 粒度分布測定装置および粒度分布測定プログラム |
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JP (1) | JP5088288B2 (ja) |
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