JPS63259435A - 粒度分布測定方法 - Google Patents

粒度分布測定方法

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JPS63259435A
JPS63259435A JP62093580A JP9358087A JPS63259435A JP S63259435 A JPS63259435 A JP S63259435A JP 62093580 A JP62093580 A JP 62093580A JP 9358087 A JP9358087 A JP 9358087A JP S63259435 A JPS63259435 A JP S63259435A
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JP
Japan
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scattered light
particle size
size distribution
light intensity
range
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JP62093580A
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English (en)
Inventor
Haruo Shimaoka
治夫 島岡
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/02Investigating particle size or size distribution
    • G01N15/0205Investigating particle size or size distribution by optical means
    • G01N15/0211Investigating a scatter or diffraction pattern

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、微小粒子の分布を精度良く測定することがで
きる粒度分布測定方法に関する。
(ロ)従来技術とその問題点 一般に、金属微粒子やファインセラミックスの分野では
、その物理的、化学的性質や製造プロセス条件を知るた
めに微小粒子の粒度分布状態を測定することが必要とな
る。特に、近年は粒子径がますます微小になる傾向にあ
るため、このような微小粒子の粒度分布を実時間で測定
したい要求が高まっている。
従来、微小粒子の粒度分布の測定方法として、前方微小
角散乱法がある。この前方微小角散乱法を用いて微小粒
子の粒度分布を求めるには、たとえば、微小粒子にレー
ザ光を照射し、各微小粒子による散乱光を検出器で受光
して散乱光強度分布を測定する一方、F raunho
fer回折理論あるいはMie散乱理論に基づいて粒子
径ごとに散乱光強度を設定し、それらの各粒子の散乱光
強度と実測された散乱光強度分布のデータからマトリッ
クス演算によって粒度分布を算出する。
その場合、粒子径が極めて小さくなると、一つの粒子の
散乱光強度は粒子径に依存しなくなって単調な一定の分
布パターンを示す。したがって、上記の理論をそのまま
適用して分布状態を算出しようとすると、その測定範囲
には自ずから下限が存在することになる。これに対して
、測定対象とする粒子が第2図(a)に示す下限Dbを
越えた広い範囲(Da−Dc)に渡って存在する場合に
は、それらの測定範囲外(Da−Db)の微小粒子の存
在が測定範囲内(Db−Dc)の粒度分布の測定に影響
を及ぼし、第2図(b)に示すように、測定結果の下限
Db付近で誤差を生じる原因となっていた。
しかし、従来では、かかる点について十分考慮されてい
なかったために、誤差を含んだままで粒度分布の測定を
行なっていた。
゛また、現状では、極めて微小な粒子から比較的粗大な
粒子までの広範囲に渡る粒度分布を一度の測定で得るこ
とはできない。したがって、粒子径の大きさに適応した
各範囲内で独自の測定法によって粒度分布を得た後、こ
れらの粒度分布のデータを繋ぎ合わせて全範囲に渡る粒
度分布を求めることになるが、その場合に、測定結果に
誤差を含むと個々の測定方法により得られた粒度分布を
スムーズに結合することができなくなる。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、前方微小角散乱法に基づいて粒度分布のデータを得
る場合に、測定範囲外の微小粒子の存在に起因する誤差
を除去できるようにすることを第1の目的とし、また、
これに基づいて、前方微小角散乱法と動的光散乱法によ
り個々に測定された粒度分布のデータをスムーズに結合
できるようにして両領域にまたがる広範囲の粒度分布が
得られるようにすることを第2の目的とする。
(ハ)問題点を解決するための手段 粒子径が極めて小さい場合には、一つの粒子の散乱光の
強度は粒子径により変化するものの、その散乱光強度の
分布パターンは粒子径に依存しなくなって単調な一定の
分布パターンを示す。したがって、Rayleigh理
論に基づく散乱光強度の分布パターンによって測定対象
範囲外の微小粒子の散乱光を代表させることができる。
本発明は、かかる点に着目したもので、上記の目的を達
成するために、第1の発明では、F raunhofe
r回折理論とMie散乱理論に基づいて、測定対象範囲
内の各粒子の散乱光強度ベクトルを求めて、この散乱光
強度ベクトルを列とする演算マトリックスを構成し、 次に、R3yleigh理論に基づいて測定対象範囲外
に存在する微小粒子の散乱光パターンベクトルを求め、 前記測定対象範囲内の各粒子の散乱光強度ベクトルから
構成される演算マトリックスに対して測定対象範囲外の
微小粒子の散乱光パターンベクトルを前記演算マトリッ
クスの新しい一列として増設し、 前方微小角散乱法に基づいて実測された散乱光強度分布
のデータを前記演算マトリックスで演算処理して測定範
囲外の微小粒子の影響を除去した粒度分布を求めるもの
である。
第2の発明では、第1の発明に基づいて粒度分布を求め
る一方、動的光散乱法ならびにc onstraine
d Regularfzation Methodを用
いて測定対象範囲外にある粗大粒子の影響を除去した粒
度分布を求め、次に、前方微小角散乱法と動的光散乱法
の両測定対象範囲が重なる区間内に存在する両粒度分布
のデータを重み付けして両粒度分布を結合するようにし
ている。
(ニ)実施例 第1図は前方微小角散乱法により粒子径を測定するため
の粒子径測定器の構成図である。同図において、符号1
はレーザ光源、2a、2b、2cはレンズ、4は測定対
象となる粒子が入れられた試料セル、6はStフォトダ
イオードが同心円状に配置されてなる光検出器、8は光
検出器6で検出された散乱光強度を示す信号をデジタル
化するA/D変換器、10は測定された散乱光強度のデ
ータに基づいて粒度分布を算出するマイクロコンピュー
タ、12は演算結果を打ち出すプリンタである。
次に、上記の粒子径測定器を用いて前方微小角散乱法に
基づく粒度分布を測定する方法について説明する。
まず、試料セル4内の微小粒子に光レーザ源1からのレ
ーザ光を照射し、試料セル4内の散乱光を検出器6で受
光して散乱光の強度分布を測定する。その測定結果は、
A/D変換器8を介してマイクロコンピュータ10に入
力される。そして、マイクロコンピュータ10で次の演
算処理を行なわせる。
いま、前方微小角散乱法に基づいて光検出器6となる。
ここに、θは散乱角、Dは粒子径、i(D 。
θ)はF’ raunhofer回折理論およびMie
散乱理論に基づいて計算される各粒子径に対応する散乱
光強度、y(D )は粒度分布である。
極めて微小な粒子の散乱光強度i(D 、θ)は、Ra
yleigh理論によれば、 i(D 、θ)=D8・ir(θ)       (2
)と表わされる。ここに、ir(θ)は一つの粒子の散
乱光パターンである。(2)式によれば、粒子径が極め
て小さい場合には、その分布パターンir(θ)は散乱
角θだけの関数であって粒子径りに依存しない。
いま、粒子の粒度分布か第2図(a)に示すようにDa
−Dcの範囲に渡って存在するものとし、Raylei
gh理論による散乱光強度i(D 、θ)によって測定
対象範囲外(Da−Db)の微小粒子の散乱光をである
(3)式において、散乱光の強度分布I(θ)は、実測
値として得られ、また、第2項の測定対象範囲外(Da
=Db)の散乱光パターンir(θ)はrtayxei
gh理論により、第1項の測定対象範囲内(Db〜Dc
)の散乱光強度t(D、θ)はF raunhofer
回折理論とMie散乱理論によりそれぞれ求め得る。し
たがって、(3)式の積分方程式を粒度分布y(D )
について解けば、第2図(C)に示すように、測定対象
範囲外の成分をyrとして粒度分布から除くことができ
る。
すなわち、積分方程式を解くために、測定対象範囲内(
Db−Dc)をm分割する。また、m分割した各微小区
間(Di、、Di)では、y(D )は変化しないもの
として(3)式を離散化すると、次式が得られる。
ここで、[(DIll+q θ)=ir(θ)、y(D
a+ +)=yrとみなしてm+1番目の項とするなら
ば、上記の(4)式は、 と表わされる。
また、実測される散乱光強度分布のサンプリング点を0
1、θ1、・・・、θnとして(6)式をマトリックス
表現すれば、 I−〇−Y              (7)となる
。ここに、 (8a) (8b) (8C) である。
そこで、F raunhofer回折理論とMie散乱
理論に基づいて、測定対象範囲内(Db−Dc)の各粒
子の散乱光強度ベクトルを列とする演算マトリックス、
すなわち(8b)式における1(DI% θ、)〜i(
Dm、θn)を求め、次に、Rayleigh理論に基
づいて、測定対象範囲外(Da−Db)に存在する微小
粒子の散乱光パターンベクトルすなわち(8b)式にお
けるir(θ1)〜ir(θn)を求める。そして、i
r(θυ〜ir(θn)を1(DI% θ、)〜i(D
m、θn)の演算マトリックスの一列に増設し、(8b
)式を得る。一方、前方微小角散乱法に基づく散乱光強
度分布のデータすなわち(8a)式の■(θ1)〜■(
θn)は実測されているので、(7)式において、Yに
関する最小自乗解を求めれば、(8c)式のy(D+)
、・・・、y(D m)、yrの各位が求まる。したが
って、測定対象範囲内(Db−Dc)の粒度分布y(D
 +)〜y(D n)と測定対象範囲外(Da−Db)
の成分yrを決定できる。
すなわち、測定対象範囲内の粒度分布y(Dυ〜y(D
−)からは測定対象範囲外の成分yrの影響が除かれて
いる。
次に、前方微小角散乱法と動的光散乱法によって個々に
測定した粒度分布を結合することにより広範囲の粒度分
布を求める方法について説明する。
上述のようにして前方微小角散乱法に基づいて測定範囲
外(第3図のDa−Db)の微小粒子の存在に起因する
誤差を除去した粒度分布(Db−Dd)が求まると、次
に、動的光散乱法ならびにc onstrained 
Regularization Methodを用いて
、前方微小角散乱法による測定対象範囲(Db−Dd)
よりも粒子径が小さい範囲を測定対象範囲(Da−Dc
)として、それよりも粒子径の大きい範囲(Dc−Dd
)に存在する粒子の影響を除去した粒度分布を求める。
なお、動的光散乱法およびConstrained R
egularization Methodは周知の技
術であって、たとえば、次の文献1゛こ開示されている
。したがって、ここでは説明を省略する。
Dynamic L ight S catterin
g;P lenum P ress。
NewYork and Londn J urnal  of  Polymer  5ci
ence  Polymer  Physics  E
dition、Vol、23.1393−1447(1
985); I nterpretation of 
 Photon  Correratton  5pe
ctroscopy、Data:A  Compari
son of  An’alysis  Method
s;R、S 、S tok  and  W、H、Ra
yこうして、個々に測定対象範囲外の成分を除去した粒
度分布データ(D a −D c、 D b −D d
)が得られると、両粒度分布データを結合した広範囲の
粒度分布を求めるために次の処理を行なう。
いま、前方微小角散乱法に基づいて得られる測定対象区
間(Db−Dd)の粒度分布をy+(D)、動的光散乱
法に基づいて得られる測定対象区間(Da〜DC)の粒
度分布をyt(D )の関数として表わすと、測定対象
範囲が重なる区間(Db−Dc)では前方微小角散乱法
と動的光散乱法とでは粒度分布を求める理論的背景が異
なるためy+(D)≠yt(D )である。
そこで、この測定対象範囲が重なる共通区間(D続いて
、結合部分で粒度分布の不連続が生じないように、次式
を満足する単調増加の重み付は関数w(D )を定義す
る。
w(Db)=0、w(Dc)= 1        (
10)さらに、両粒度分布データを結合した一つの粒の
係数Aを決定する。すると、両測定対象範囲(Da−D
d)に渡る一つの粒度分布ys(D)は次式で与えられ
る。
したがって、上記の(I2)式を用いれば、第3図(c
)に示すように、前方微小角散乱法と動的光散乱法によ
り個々に測定された粒度分布のデータをスムーズに結合
でき、これによって2つの測定ることか可能となる。
(ホ)効果 以上のように本発明によれば、前方微小角散乱法に基づ
いて粒度分布データを得る場合に、測定範囲外の微小粒
子の存在に起因する誤差を除去できる。このため測定精
度が向上する。また、これに基づいて前方微小角散乱法
と動的光散乱法により個々に測定された粒度分布のデー
タをスムーズに結合できる。したがって、両領域にまた
がる広範囲の粒度分布が得られる等の優れた効果が発揮
される。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示し、第1図は前方微小角散乱
法により粒子径を測定するための粒子径測定器の構成図
、第2図は前方微小角散乱法に基づき測定範囲外の微小
粒子の影響を除去した粒度分布を求めるための説明図、
第3図は前方微小角散乱法に基づく粒度分布と動的光散
乱法に基づく粒度分布とを結合して広範囲の粒度分布を
求めるための説明図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Fraunhofer回折理論とMie散乱理論
    に基づいて、測定対象範囲内の各粒子の散乱光強度ベク
    トルを求めて、この散乱光強度ベクトルを列とする演算
    マトリックスを構成し、 次に、Rayleigh理論に基づいて測定対象範囲外
    に存在する微小粒子の散乱光パターンベクトルを求め、 前記測定対象範囲内の各粒子の散乱光強度ベクトルから
    構成される演算マトリックスに対して測定対象範囲外の
    微小粒子の散乱光パターンベクトルを前記演算マトリッ
    クスの新しい一列として増設し、 前方微小角散乱法に基づいて実測された散乱光強度分布
    のデータを前記演算マトリックスで演算処理して測定範
    囲外の微小粒子の影響を除去した粒度分布を求めること
    を特徴とする粒度分布測定方法。
  2. (2)Fraunhorer回折理論とMie散乱理論
    に基づいて、測定対象範囲内の各粒子の散乱光強度ベク
    トルを求めて、この散乱光強度ベクトルを列とする演算
    マトリックスを構成し、 次に、Rayleigh理論に基づいて測定対象範囲外
    に存在する微小粒子の散乱光パターンベクトルを求め、 前記測定対象範囲内の各粒子の散乱光強度ベクトルから
    構成される演算マトリックスに対して測定対象範囲外の
    微小粒子の散乱光パターンベクトルを前記演算マトリッ
    クスの新しい一列として増設し、 前方微小角散乱法に基づいて実測された散乱光強度分布
    のデータを前記演算マトリックスで演算処理して測定範
    囲外の微小粒子の影響を除去した粒度分布を求める一方
    、 動的光散乱法ならびにConstrained Reg
    ularization Methodを用いて測定対
    象範囲外にある粗大粒子の影響を除去した粒度分布を求
    めた後、前記前方微小角散乱法と動的光散乱法の両測定
    対象範囲が重なる区間内に存在する両粒度分布のデータ
    を重み付けして両粒度分布を結合することを特徴とする
    粒度分布測定方法。
JP62093580A 1987-04-15 1987-04-15 粒度分布測定方法 Pending JPS63259435A (ja)

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