JP6191426B2 - 粒度分布測定装置及びこれに用いられる表示処理装置並びに粒度分布測定方法 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 15
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
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Description
本発明に係る粒度分布測定方法は、試料セルに試料を供給するステップと、前記試料セルの厚み方向に平行な光軸に沿って測定光を照射するステップと、前記試料セル内の試料からの回折散乱光を複数の受光素子で受光するステップと、多重散乱光の発生の有無を判定するステップとを含む。前記複数の受光素子には、前記試料セルの厚み方向に対して70°〜110°の範囲内における所定角度で回折及び散乱する回折散乱光を受光する側方センサと、前記側方センサよりも前方への回折散乱光を受光する前方センサと、前記側方センサよりも後方への回折散乱光を受光する後方センサとが含まれている。前記受光するステップでは、前記側方センサは、前記前方センサ及び前記後方センサよりも前記試料セル内での光路長が長い回折散乱光を受光する。前記判定するステップでは、前記側方センサにおける受光強度の上昇率が所定の閾値以下になるか否かに基づいて、多重散乱光の発生の有無を判定する。
2 循環式サンプラ
3 A/D変換器
4 通信部
5 データ処理装置
11 光源
12 集光レンズ
13 空間フィルタ
14 コリメータレンズ
15 フローセル
16 集光レンズ
17 フォトダイオードアレイ
18 側方センサ
19 後方センサ
51 制御部
52 操作部
53 表示部
54 記憶部
171 前方センサ
511 受光強度入力受付部
512 グラフ表示処理部
513 判定処理部
514 報知処理部
515 指示表示処理部
531,532 グラフ
531c,531d,531e 棒
Claims (5)
- 試料が供給される試料セルと、
前記試料セルの厚み方向に平行な光軸に沿って測定光を照射する光源と、
前記試料セル内の試料からの回折散乱光を受光する複数の受光素子と、
前記複数の受光素子における受光強度が各受光素子に対応付けられたグラフを表示画面に表示させるグラフ表示処理部と、
多重散乱光の発生の有無を判定する判定処理部とを備え、
前記複数の受光素子には、前記試料セルの厚み方向に対して70°〜110°の範囲内における所定角度で回折及び散乱する回折散乱光を受光する側方センサと、前記側方センサよりも前方への回折散乱光を受光する前方センサと、前記側方センサよりも後方への回折散乱光を受光する後方センサとが含まれており、
前記側方センサは、前記前方センサ及び前記後方センサよりも前記試料セル内での光路長が長い回折散乱光を受光し、
前記グラフ表示処理部は、前記側方センサにそれぞれ対応付けられた受光強度と、前記後方センサに対応付けられた受光強度とで、グラフの表示態様を異ならせるものであり、
前記判定処理部は、試料濃度の上昇に伴う前記側方センサにおける受光強度の上昇率が所定の閾値以下になるか否かに基づいて、多重散乱光の発生の有無を判定することを特徴とする粒度分布測定装置。 - 前記判定処理部により多重散乱光が発生していると判定された場合に、その旨を前記表示画面に対する表示により報知する報知処理部をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の粒度分布測定装置。
- 前記試料セル内に試料を一定量ずつ供給させるための指示を前記表示画面に表示させ、測定が終わったら指示を再度表示させる動作を繰り返す指示表示処理部をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の粒度分布測定装置。
- 試料セル内の試料からの回折散乱光を受光する複数の受光素子における受光強度の入力を受け付ける受光強度入力受付部と、
前記複数の受光素子における受光強度が各受光素子に対応付けられたグラフを表示画面に表示させるグラフ表示処理部と、
多重散乱光の発生の有無を判定する判定処理部とを備え、
前記複数の受光素子には、前記試料セルの厚み方向に対して70°〜110°の範囲内で回折及び散乱する回折散乱光を受光する側方センサと、前記側方センサよりも前方への回折散乱光を受光する前方センサと、前記側方センサよりも後方への回折散乱光を受光する後方センサとが含まれており、
前記側方センサは、前記前方センサ及び前記後方センサよりも前記試料セル内での光路長が長い回折散乱光を受光し、
前記グラフ表示処理部は、前記側方センサにそれぞれ対応付けられた受光強度と、前記後方センサに対応付けられた受光強度とで、グラフの表示態様を異ならせるものであり、
前記判定処理部は、試料濃度の上昇に伴う前記側方センサにおける受光強度の上昇率が所定の閾値以下になるか否かに基づいて、多重散乱光の発生の有無を判定することを特徴とする表示処理装置。 - 試料セルに試料を供給するステップと、
前記試料セルの厚み方向に平行な光軸に沿って測定光を照射するステップと、
前記試料セル内の試料からの回折散乱光を複数の受光素子で受光するステップと、
多重散乱光の発生の有無を判定するステップとを含み、
前記複数の受光素子には、前記試料セルの厚み方向に対して70°〜110°の範囲内における所定角度で回折及び散乱する回折散乱光を受光する側方センサと、前記側方センサよりも前方への回折散乱光を受光する前方センサと、前記側方センサよりも後方への回折散乱光を受光する後方センサとが含まれており、
前記受光するステップでは、前記側方センサは、前記前方センサ及び前記後方センサよりも前記試料セル内での光路長が長い回折散乱光を受光し、
前記判定するステップでは、試料濃度の上昇に伴う前記側方センサにおける受光強度の上昇率が所定の閾値以下になるか否かに基づいて、多重散乱光の発生の有無を判定することを特徴とする粒度分布測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013251674A JP6191426B2 (ja) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 粒度分布測定装置及びこれに用いられる表示処理装置並びに粒度分布測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013251674A JP6191426B2 (ja) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 粒度分布測定装置及びこれに用いられる表示処理装置並びに粒度分布測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015108560A JP2015108560A (ja) | 2015-06-11 |
JP6191426B2 true JP6191426B2 (ja) | 2017-09-06 |
Family
ID=53439013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013251674A Active JP6191426B2 (ja) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 粒度分布測定装置及びこれに用いられる表示処理装置並びに粒度分布測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6191426B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3446410B2 (ja) * | 1995-07-24 | 2003-09-16 | 株式会社島津製作所 | レーザ回折式粒度分布測定装置 |
JPH10132727A (ja) * | 1996-11-05 | 1998-05-22 | Nikkiso Co Ltd | 遠隔操作機能付き測定装置 |
JP3938745B2 (ja) * | 2002-11-29 | 2007-06-27 | 花王株式会社 | 皮膚性状の評価方法 |
US7738099B2 (en) * | 2005-07-15 | 2010-06-15 | Biovigilant Systems, Inc. | Pathogen and particle detector system and method |
JP2008032548A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Shimadzu Corp | 光散乱検出装置 |
JP4716055B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2011-07-06 | 株式会社島津製作所 | レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置 |
JP5109988B2 (ja) * | 2009-01-21 | 2012-12-26 | 株式会社島津製作所 | 粒子径測定装置及び粒子径測定方法 |
CN103025859A (zh) * | 2010-05-25 | 2013-04-03 | 阿尔利克斯公司 | 用于检测生物学和化学分析中的颗粒的位置自由度的方法和装置以及在免疫诊断学中的应用 |
-
2013
- 2013-12-05 JP JP2013251674A patent/JP6191426B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015108560A (ja) | 2015-06-11 |
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