JPH08139182A - 多層配線構造 - Google Patents
多層配線構造Info
- Publication number
- JPH08139182A JPH08139182A JP6272302A JP27230294A JPH08139182A JP H08139182 A JPH08139182 A JP H08139182A JP 6272302 A JP6272302 A JP 6272302A JP 27230294 A JP27230294 A JP 27230294A JP H08139182 A JPH08139182 A JP H08139182A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- contact
- layer wiring
- contact portion
- wiring
- contact portions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、下層配線と上層配線とを複数のコ
ンタクト部で接続する多層配線構造におけるコンタクト
部のジュール発熱による破壊を無くすことで配線信頼性
の向上を図る。 【構成】 上層配線31と下層配線21との一つの接続を複
数のコンタクト部41〜44で接続する多層配線構造1 にお
いて、各コンタクト部41〜44を通る電流経路のうち、最
短の電流経路となるコンタクト部42の抵抗値を他のコン
タクト部41,43,44の抵抗値よりも小さくしたものであ
る。例えば、最短の電流経路となるコンタクト部42の断
面積を他のコンタクト部41,43,44の断面積よりも大きく
形成することで、コンタクト部42の抵抗値を他のコンタ
クト部41,43,44の抵抗値よりも小さくする。
ンタクト部で接続する多層配線構造におけるコンタクト
部のジュール発熱による破壊を無くすことで配線信頼性
の向上を図る。 【構成】 上層配線31と下層配線21との一つの接続を複
数のコンタクト部41〜44で接続する多層配線構造1 にお
いて、各コンタクト部41〜44を通る電流経路のうち、最
短の電流経路となるコンタクト部42の抵抗値を他のコン
タクト部41,43,44の抵抗値よりも小さくしたものであ
る。例えば、最短の電流経路となるコンタクト部42の断
面積を他のコンタクト部41,43,44の断面積よりも大きく
形成することで、コンタクト部42の抵抗値を他のコンタ
クト部41,43,44の抵抗値よりも小さくする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置に用いられ
る多層配線構造において、複数のコンタクト部で上層配
線と下層配線とを接続する多層配線構造に関するもので
ある。
る多層配線構造において、複数のコンタクト部で上層配
線と下層配線とを接続する多層配線構造に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】半導体装置に用いられる多層配線構造で
は、上層配線と下層配線との一つの接続は、一つのコン
タクト部またはコンタクト径が等しい複数のコンタクト
部によって構成されていた。
は、上層配線と下層配線との一つの接続は、一つのコン
タクト部またはコンタクト径が等しい複数のコンタクト
部によって構成されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一つの
コンタクト部で接続した構造では、コンタクト部の段差
部におけるカバリッジ性が良くないために断線を引き起
こす。さらに一つのコンタクト部で接続した構造ではコ
ンタクト部の形状が方形に形成される。そのため、この
コンタクト部の角部に電流が集中しやすくなるので、角
部でジュール発熱を起こし、コンタクト部が破壊され
る。またコンタクト径が等しい複数のコンタクト部によ
って接続した構造では、各コンタクト部を流れる電流経
路のうち最短となる電流経路にあたるコンタクト部に電
流が集中して、その部分がジュール発熱を起こす。その
ため、そのコンタクト部が破壊される。その破壊は他の
コンタクト部にも影響を及ぼして、コンタクト部全体を
破壊するため断線を起こすことになる。
コンタクト部で接続した構造では、コンタクト部の段差
部におけるカバリッジ性が良くないために断線を引き起
こす。さらに一つのコンタクト部で接続した構造ではコ
ンタクト部の形状が方形に形成される。そのため、この
コンタクト部の角部に電流が集中しやすくなるので、角
部でジュール発熱を起こし、コンタクト部が破壊され
る。またコンタクト径が等しい複数のコンタクト部によ
って接続した構造では、各コンタクト部を流れる電流経
路のうち最短となる電流経路にあたるコンタクト部に電
流が集中して、その部分がジュール発熱を起こす。その
ため、そのコンタクト部が破壊される。その破壊は他の
コンタクト部にも影響を及ぼして、コンタクト部全体を
破壊するため断線を起こすことになる。
【0004】本発明は、特定のコンタクト部に電流が集
中するのを防いでコンタクト部の破壊を防止した複数コ
ンタクト部での接続を有する多層配線構造を提供するこ
とを目的とする。
中するのを防いでコンタクト部の破壊を防止した複数コ
ンタクト部での接続を有する多層配線構造を提供するこ
とを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされた多層配線構造である。すなわち、
上層配線と下層配線との一つの接続を複数のコンタクト
部で接続する多層配線構造において、各コンタクト部を
通る電流経路のうち、最短の電流経路となるコンタクト
部の抵抗値を他のコンタクト部の抵抗値よりも小さくし
たものである。コンタクト部の抵抗値を小さくする構造
としては、最短の電流経路となるコンタクト部の断面積
を大きく形成することで該コンタクト部のコンタクト抵
抗を他のコンタクト部のコンタクト抵抗よりも小さくし
たものである。
成するためになされた多層配線構造である。すなわち、
上層配線と下層配線との一つの接続を複数のコンタクト
部で接続する多層配線構造において、各コンタクト部を
通る電流経路のうち、最短の電流経路となるコンタクト
部の抵抗値を他のコンタクト部の抵抗値よりも小さくし
たものである。コンタクト部の抵抗値を小さくする構造
としては、最短の電流経路となるコンタクト部の断面積
を大きく形成することで該コンタクト部のコンタクト抵
抗を他のコンタクト部のコンタクト抵抗よりも小さくし
たものである。
【0006】
【作用】上記多層配線構造では、上層配線と下層配線と
の一つの接続を複数のコンタクト部で形成し、かつ各コ
ンタクト部を通る電流経路のうち、最短の電流経路とな
るコンタクト部の抵抗値を他のコンタクト部の抵抗値よ
りも小さくすることから、最短の電流経路となるコンタ
クト部の電流が流れやすくなる。すなわち、電流密度が
低くなる。このため、各コンタクト部の電流密度が均等
化される方向に向かい、少なくとも各コンタクト部は破
壊を起こさないレベル以下の電流密度になる。したがっ
て、コンタクト部でジュール発熱が起きても、そのコン
タクト部は破壊に到るような発熱量を発する状態には到
らない。また最短の電流経路となるコンタクト部の抵抗
値を小さくする構造として、そのコンタクト部の断面積
を大きく形成することから、抵抗と導体の断面積とが反
比例する関係によって、そのコンタクト部の抵抗は小さ
くなる。したがって、オームの法則によって、一定電圧
ではそのコンタクト部に流れる電流が小さくなるので、
ジュールの法則によって、ジュール発熱が少なくなる。
の一つの接続を複数のコンタクト部で形成し、かつ各コ
ンタクト部を通る電流経路のうち、最短の電流経路とな
るコンタクト部の抵抗値を他のコンタクト部の抵抗値よ
りも小さくすることから、最短の電流経路となるコンタ
クト部の電流が流れやすくなる。すなわち、電流密度が
低くなる。このため、各コンタクト部の電流密度が均等
化される方向に向かい、少なくとも各コンタクト部は破
壊を起こさないレベル以下の電流密度になる。したがっ
て、コンタクト部でジュール発熱が起きても、そのコン
タクト部は破壊に到るような発熱量を発する状態には到
らない。また最短の電流経路となるコンタクト部の抵抗
値を小さくする構造として、そのコンタクト部の断面積
を大きく形成することから、抵抗と導体の断面積とが反
比例する関係によって、そのコンタクト部の抵抗は小さ
くなる。したがって、オームの法則によって、一定電圧
ではそのコンタクト部に流れる電流が小さくなるので、
ジュールの法則によって、ジュール発熱が少なくなる。
【0007】
【実施例】本発明の第1実施例を図1の概略構成図によ
って説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した
斜視図を示し、(2)に断面図を示した。
って説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した
斜視図を示し、(2)に断面図を示した。
【0008】図1に示すように、基板11上には下層配
線21が設けられている。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜12が形成されてい
る。その層間絶縁膜12の上面には上記下層配線21に
対してほぼ直角に上層配線31が設けられている。すな
わち、平面レイアウトでみると、下層配線21と上層配
線31とがほぼL字形に配置されている。上記下層配線
21は、例えば幅が3.0μm,長さが7.5μm,厚
さ0.6μmに形成されていて、上記上層配線31は、
例えば幅が2.5μm,長さが7.5μm,厚さ0.7
μmに形成されている。そして下層配線21と上層配線
31とを接続する複数のコンタクト部41,42,4
3,44が上記層間絶縁膜12に設けられている。各コ
ンタクト部41〜44は各中心間距離が等しくなる状態
に配置されている。
線21が設けられている。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜12が形成されてい
る。その層間絶縁膜12の上面には上記下層配線21に
対してほぼ直角に上層配線31が設けられている。すな
わち、平面レイアウトでみると、下層配線21と上層配
線31とがほぼL字形に配置されている。上記下層配線
21は、例えば幅が3.0μm,長さが7.5μm,厚
さ0.6μmに形成されていて、上記上層配線31は、
例えば幅が2.5μm,長さが7.5μm,厚さ0.7
μmに形成されている。そして下層配線21と上層配線
31とを接続する複数のコンタクト部41,42,4
3,44が上記層間絶縁膜12に設けられている。各コ
ンタクト部41〜44は各中心間距離が等しくなる状態
に配置されている。
【0009】上記多層配線構造1では、例えば電流が上
層配線31の矢印ア方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42を通る経路イが最短の電流経路
になる。そしてコンタクト部41,44を通る経路ウ,
エ、コンタクト部43を通る経路オの順で電流経路が長
くなる。電流は最短の電流経路に集中しやすいので、こ
こではコンタクト部42の抵抗値を他のコンタクト部4
1,43,44の抵抗値よりも小さくする。その際 各
コンタクト部41〜44の電流密度がほぼ均等になるよ
うに、各コンタクト部41〜44の抵抗値を設定する。
電流密度を均等化する状態に近づけることによって、各
コンタクト部41〜44での単位体積当たりの発熱量は
均等化する状態に近づく。当然のことながら、各コンタ
クト部41〜44の電流密度は、それぞれのコンタクト
部41〜44に流れる電流によるジュール発熱によって
破壊を起こさない値に設定される。
層配線31の矢印ア方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42を通る経路イが最短の電流経路
になる。そしてコンタクト部41,44を通る経路ウ,
エ、コンタクト部43を通る経路オの順で電流経路が長
くなる。電流は最短の電流経路に集中しやすいので、こ
こではコンタクト部42の抵抗値を他のコンタクト部4
1,43,44の抵抗値よりも小さくする。その際 各
コンタクト部41〜44の電流密度がほぼ均等になるよ
うに、各コンタクト部41〜44の抵抗値を設定する。
電流密度を均等化する状態に近づけることによって、各
コンタクト部41〜44での単位体積当たりの発熱量は
均等化する状態に近づく。当然のことながら、各コンタ
クト部41〜44の電流密度は、それぞれのコンタクト
部41〜44に流れる電流によるジュール発熱によって
破壊を起こさない値に設定される。
【0010】コンタクト部42の抵抗値を小さくする構
造としては、コンタクト部42の径を他のコンタクト部
41,43,44よりも大きくする。例えば、下層配線
21,上層配線31,各コンタクト部41〜44をアル
ミニウムで形成し、コンタクト部42の径を0.35μ
m、コンタクト部41,44の径を0.30μm,0.
28μm、コンタクト部43の径を0.25μmに形成
し、下層配線21と上層配線31との間に1Vの電位差
が生じるように電圧を印加した場合には、表1のような
結果を得た。また表1では、比較例1としてコンタクト
部41〜44の各径が0.29μmの場合も示す。さら
に各径における各コンタクト部41〜44が使えるか否
かの判定を○および×で示し、使える場合には○と判定
し、使えない場合には×と判定する。
造としては、コンタクト部42の径を他のコンタクト部
41,43,44よりも大きくする。例えば、下層配線
21,上層配線31,各コンタクト部41〜44をアル
ミニウムで形成し、コンタクト部42の径を0.35μ
m、コンタクト部41,44の径を0.30μm,0.
28μm、コンタクト部43の径を0.25μmに形成
し、下層配線21と上層配線31との間に1Vの電位差
が生じるように電圧を印加した場合には、表1のような
結果を得た。また表1では、比較例1としてコンタクト
部41〜44の各径が0.29μmの場合も示す。さら
に各径における各コンタクト部41〜44が使えるか否
かの判定を○および×で示し、使える場合には○と判定
し、使えない場合には×と判定する。
【0011】
【表1】
【0012】上記表1から明らかなように、電流経路が
最短になるコンタクト部の42の径を0.29μmから
0.35μmに大きくすることによって、このコンタク
ト部42の発熱量を破壊を生じないレベルにまで減少さ
せることができる。すなわち、コンタクト部42の径が
0.29μmの場合にはその発熱量が10.38J/
(μm3 ・s)になるため、アルミニウムの溶融される
ような発熱量になる。このため、コンタクト部42が膨
張して破壊される。したがって、コンタクト部42の判
定は×になる。一方、本案のコンタクト部42では、発
熱量が7.058J/(μm3 ・s)に留まる。また他
のコンタクト部41,43,44の発熱量は、4.79
6J/(μm3 ・s),2.873J/(μm3 ・
s),4.049J/(μm3 ・s)になる。このた
め、許容される発熱量〔例えば8.9J/(μm3 ・
s)〕以下に収まるので、各コンタクト部41〜44は
破壊されない。したがって、判定は○になる。
最短になるコンタクト部の42の径を0.29μmから
0.35μmに大きくすることによって、このコンタク
ト部42の発熱量を破壊を生じないレベルにまで減少さ
せることができる。すなわち、コンタクト部42の径が
0.29μmの場合にはその発熱量が10.38J/
(μm3 ・s)になるため、アルミニウムの溶融される
ような発熱量になる。このため、コンタクト部42が膨
張して破壊される。したがって、コンタクト部42の判
定は×になる。一方、本案のコンタクト部42では、発
熱量が7.058J/(μm3 ・s)に留まる。また他
のコンタクト部41,43,44の発熱量は、4.79
6J/(μm3 ・s),2.873J/(μm3 ・
s),4.049J/(μm3 ・s)になる。このた
め、許容される発熱量〔例えば8.9J/(μm3 ・
s)〕以下に収まるので、各コンタクト部41〜44は
破壊されない。したがって、判定は○になる。
【0013】また図2に示すように、下層配線21はL
字形状に形成され、上層配線31は下層配線21のL字
形状の一方の配線21aにほぼ平行にされている。そし
て下層配線21と上層配線31とを接続する複数のコン
タクト部41,42,43,44が下層,上層配線2
1,31間に形成した層間絶縁膜(図示省略)に設けら
れている。上記多層配線構造2では、上層配線31から
下層配線21に電流が流れる場合には、上層配線31を
流れる電流方向と同方向に延びている下層配線21の配
線21aに流れる電流経路の長さは、どのコンタクト部
41〜44を通る電流経路も同等である。したがって、
平面レイアウト上で上層配線31に対して直角方向に延
びる下層配線21b方向に流れる電流に着目すればよ
い。その結果、上記第1実施例と同様の位置のコンタク
ト部42を大きく形成すればよい。
字形状に形成され、上層配線31は下層配線21のL字
形状の一方の配線21aにほぼ平行にされている。そし
て下層配線21と上層配線31とを接続する複数のコン
タクト部41,42,43,44が下層,上層配線2
1,31間に形成した層間絶縁膜(図示省略)に設けら
れている。上記多層配線構造2では、上層配線31から
下層配線21に電流が流れる場合には、上層配線31を
流れる電流方向と同方向に延びている下層配線21の配
線21aに流れる電流経路の長さは、どのコンタクト部
41〜44を通る電流経路も同等である。したがって、
平面レイアウト上で上層配線31に対して直角方向に延
びる下層配線21b方向に流れる電流に着目すればよ
い。その結果、上記第1実施例と同様の位置のコンタク
ト部42を大きく形成すればよい。
【0014】次に第2実施例を図3の概略構成図によっ
て説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した斜
視図を示し、(2)に断面図を示した。また上記図1で
説明したのと同様の構成部品には同一符号を付した。
て説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した斜
視図を示し、(2)に断面図を示した。また上記図1で
説明したのと同様の構成部品には同一符号を付した。
【0015】図3に示すように、基板11上には下層配
線21が設けられている。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜12が形成されてい
る。その層間絶縁膜12の上面には上記下層配線21と
ほぼ平行に上層配線31が設けられている。すなわち、
平面レイアウトでみると、下層配線21と上層配線31
とがほぼ重なる状態に配置されている。上記下層配線2
1は、例えば幅が3.0μm,長さが7.5μm,厚さ
0.6μmに形成されていて、上記上層配線31は、例
えば幅が3.0μm,長さが7.5μm,厚さ0.7μ
mに形成されている。そして下層配線21と上層配線3
1とを接続する複数のコンタクト部41,42,43,
44が上記層間絶縁膜12に設けられている。各コンタ
クト部41〜44は各中心間距離が等しくなる状態に配
置されている。
線21が設けられている。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜12が形成されてい
る。その層間絶縁膜12の上面には上記下層配線21と
ほぼ平行に上層配線31が設けられている。すなわち、
平面レイアウトでみると、下層配線21と上層配線31
とがほぼ重なる状態に配置されている。上記下層配線2
1は、例えば幅が3.0μm,長さが7.5μm,厚さ
0.6μmに形成されていて、上記上層配線31は、例
えば幅が3.0μm,長さが7.5μm,厚さ0.7μ
mに形成されている。そして下層配線21と上層配線3
1とを接続する複数のコンタクト部41,42,43,
44が上記層間絶縁膜12に設けられている。各コンタ
クト部41〜44は各中心間距離が等しくなる状態に配
置されている。
【0016】上記多層配線構造3では、例えば電流が上
層配線31の矢印カ方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42,44を通る経路キ,クが最短
の電流経路になる。そしてコンタクト部41,43を通
る経路ケ,コは電流経路が長くなる。電流は最短の電流
経路に集中しやすいので、ここではコンタクト部42,
44の抵抗値を他のコンタクト部41,43の抵抗値よ
りも小さくする。
層配線31の矢印カ方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42,44を通る経路キ,クが最短
の電流経路になる。そしてコンタクト部41,43を通
る経路ケ,コは電流経路が長くなる。電流は最短の電流
経路に集中しやすいので、ここではコンタクト部42,
44の抵抗値を他のコンタクト部41,43の抵抗値よ
りも小さくする。
【0017】コンタクト部42,44の抵抗値を小さく
する構造として、コンタクト部42,44の径を大きく
する。例えば、下層配線21,上層配線31,各コンタ
クト部41〜44をアルミニウムで形成し、コンタクト
部42,44の径を0.35μm、コンタクト部41,
43の径を0.25μmに形成し、下層配線21と上層
配線31との間に1Vの電位差が生じるように電圧を印
加した場合には、表2のようになった。また表2には、
比較例2としてコンタクト部41〜44の各径を0.3
0μmの場合を示す。さらに各径における各コンタクト
部41〜44が使えるか否かの判定を○×で示し、使え
る場合には○と判定し、使えない場合には×と判定す
る。
する構造として、コンタクト部42,44の径を大きく
する。例えば、下層配線21,上層配線31,各コンタ
クト部41〜44をアルミニウムで形成し、コンタクト
部42,44の径を0.35μm、コンタクト部41,
43の径を0.25μmに形成し、下層配線21と上層
配線31との間に1Vの電位差が生じるように電圧を印
加した場合には、表2のようになった。また表2には、
比較例2としてコンタクト部41〜44の各径を0.3
0μmの場合を示す。さらに各径における各コンタクト
部41〜44が使えるか否かの判定を○×で示し、使え
る場合には○と判定し、使えない場合には×と判定す
る。
【0018】
【表2】
【0019】上記表2から明らかなように、電流経路が
最短になるコンタクト部の42,44の径を0.30μ
mから0.35μmに大きくすることによって、このコ
ンタクト部42,44の発熱量を破壊を生じないレベル
にまで減少させることができる。すなわち、コンタクト
部42,44の径が0.30μmの場合には9.253
J/(μm3 ・s)の発熱量になるため、コンタクト部
42,44は溶融される。このため、コンタクト部4
2,44が膨張して破壊される。したがって、判定は×
になる。一方、本案のコンタクト部42,44では、発
熱量が6.447J/(μm3 ・s)に留まる。また他
のコンタクト部41,43の発熱量は、2.856J/
(μm3 ・s)になる。このため、許容される発熱量
〔例えば8.9J/(μm3 ・s)〕以下に収まるの
で、各コンタクト部41〜44は破壊されない。したが
って、判定は○になる。
最短になるコンタクト部の42,44の径を0.30μ
mから0.35μmに大きくすることによって、このコ
ンタクト部42,44の発熱量を破壊を生じないレベル
にまで減少させることができる。すなわち、コンタクト
部42,44の径が0.30μmの場合には9.253
J/(μm3 ・s)の発熱量になるため、コンタクト部
42,44は溶融される。このため、コンタクト部4
2,44が膨張して破壊される。したがって、判定は×
になる。一方、本案のコンタクト部42,44では、発
熱量が6.447J/(μm3 ・s)に留まる。また他
のコンタクト部41,43の発熱量は、2.856J/
(μm3 ・s)になる。このため、許容される発熱量
〔例えば8.9J/(μm3 ・s)〕以下に収まるの
で、各コンタクト部41〜44は破壊されない。したが
って、判定は○になる。
【0020】次に第3実施例を図4の概略構成図によっ
て説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した斜
視図を示し、(2)に断面図を示した。また上記図1で
説明したのと同様の構成部品には同一符号を付した。
て説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した斜
視図を示し、(2)に断面図を示した。また上記図1で
説明したのと同様の構成部品には同一符号を付した。
【0021】図4に示すように、基板11上には下層配
線21が設けられている。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜12が形成されてい
る。その層間絶縁膜12の上面には上記下層配線21に
対してほぼ直角に上層配線31が設けられている。すな
わち、平面レイアウトでみると、下層配線21と上層配
線31とでほぼ逆T字形を形成する状態に配置されてい
る。そして下層配線21と上層配線31とを接続する複
数のコンタクト部41,42,43,44が上記層間絶
縁膜12に設けられている。
線21が設けられている。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜12が形成されてい
る。その層間絶縁膜12の上面には上記下層配線21に
対してほぼ直角に上層配線31が設けられている。すな
わち、平面レイアウトでみると、下層配線21と上層配
線31とでほぼ逆T字形を形成する状態に配置されてい
る。そして下層配線21と上層配線31とを接続する複
数のコンタクト部41,42,43,44が上記層間絶
縁膜12に設けられている。
【0022】上記多層配線構造4では、例えば電流が上
層配線31の矢印サ方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42,44を通る経路シ,スが最短
の電流経路になる。そしてコンタクト部41,43を通
る経路セ,ソは電流経路が長くなる。電流は最短の電流
経路に集中しやすいので、ここではコンタクト部42,
44の抵抗値を他のコンタクト部41,43の抵抗値よ
りも小さくする。なお、下層配線21の一方側にのみ電
流が流れる場合は、上記第1実施例の場合と同様にな
る。
層配線31の矢印サ方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42,44を通る経路シ,スが最短
の電流経路になる。そしてコンタクト部41,43を通
る経路セ,ソは電流経路が長くなる。電流は最短の電流
経路に集中しやすいので、ここではコンタクト部42,
44の抵抗値を他のコンタクト部41,43の抵抗値よ
りも小さくする。なお、下層配線21の一方側にのみ電
流が流れる場合は、上記第1実施例の場合と同様にな
る。
【0023】コンタクト部42,44の抵抗値を小さく
する構造として、コンタクト部42,44の径を大きく
する。例えば、下層配線21,上層配線31,各コンタ
クト部41〜44をアルミニウムで形成し、コンタクト
部42,44の径を0.35μm、コンタクト部41,
43の径を0.25μmに形成する。
する構造として、コンタクト部42,44の径を大きく
する。例えば、下層配線21,上層配線31,各コンタ
クト部41〜44をアルミニウムで形成し、コンタクト
部42,44の径を0.35μm、コンタクト部41,
43の径を0.25μmに形成する。
【0024】このように、電流経路が最短になるコンタ
クト部の42,44の径を大きく形成することによっ
て、このコンタクト部42,44の発熱量を破壊を生じ
ないレベルにまで減少させることができる。
クト部の42,44の径を大きく形成することによっ
て、このコンタクト部42,44の発熱量を破壊を生じ
ないレベルにまで減少させることができる。
【0025】また、図5の(1),(2)に示すよう
に、下層配線21が折れ曲がった状態に形成されている
場合も、上記第3実施例とほぼ同様になるので、コンタ
クト部42,44の抵抗値を小さくするようにその径を
他のコンタクト部41,43よりも大きく形成すればよ
い。
に、下層配線21が折れ曲がった状態に形成されている
場合も、上記第3実施例とほぼ同様になるので、コンタ
クト部42,44の抵抗値を小さくするようにその径を
他のコンタクト部41,43よりも大きく形成すればよ
い。
【0026】次に第4実施例を図6の概略構成図によっ
て説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した斜
視図を示し、(2)に断面図を示した。また上記図1で
説明したのと同様の構成部品には同一符号を付した。
て説明する。図では、(1)に層間絶縁膜を省略した斜
視図を示し、(2)に断面図を示した。また上記図1で
説明したのと同様の構成部品には同一符号を付した。
【0027】図6に示すように、基板11上には下層配
線21が設けられている。この下層配線21は、配線2
1aと配線21cが一直線状に形成され、それに直交す
る状態に配線21b,21dが形成されて、+字形状の
配線21を構成している。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜(図示省略)が形成さ
れている。その層間絶縁膜(図示省略)の上面には上記
下層配線21の配線21aに対してほぼ平行に上層配線
31が設けられている。すなわち、平面レイアウトでみ
ると、上記配線21aと上層配線31とがほぼ重なる状
態に配置されている。そして下層配線21の各配線21
a〜21dの交差部21oと上層配線31とを接続する
複数のコンタクト部41,42,43,44が上記層間
絶縁膜(図示省略)に設けられている。
線21が設けられている。この下層配線21は、配線2
1aと配線21cが一直線状に形成され、それに直交す
る状態に配線21b,21dが形成されて、+字形状の
配線21を構成している。その下層配線21を覆う状態
に上記基板11上には層間絶縁膜(図示省略)が形成さ
れている。その層間絶縁膜(図示省略)の上面には上記
下層配線21の配線21aに対してほぼ平行に上層配線
31が設けられている。すなわち、平面レイアウトでみ
ると、上記配線21aと上層配線31とがほぼ重なる状
態に配置されている。そして下層配線21の各配線21
a〜21dの交差部21oと上層配線31とを接続する
複数のコンタクト部41,42,43,44が上記層間
絶縁膜(図示省略)に設けられている。
【0028】上記多層配線構造5では、例えば電流が上
層配線31の矢印タ方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42,44を通る経路チ,ツが最短
の電流経路になる。そしてコンタクト部41,43を通
る経路テ,トは電流経路が長くなる。電流は最短の電流
経路に集中しやすいので、ここではコンタクト部42,
44の抵抗値を他のコンタクト部41,43の抵抗値よ
りも小さくする。
層配線31の矢印タ方向から下層配線21に流れる場合
には、コンタクト部42,44を通る経路チ,ツが最短
の電流経路になる。そしてコンタクト部41,43を通
る経路テ,トは電流経路が長くなる。電流は最短の電流
経路に集中しやすいので、ここではコンタクト部42,
44の抵抗値を他のコンタクト部41,43の抵抗値よ
りも小さくする。
【0029】コンタクト部42,44の抵抗値を小さく
する構造として、コンタクト部42,44の径を大きく
する。例えば、下層配線21,上層配線31,各コンタ
クト部41〜44をアルミニウムで形成し、コンタクト
部42,44の径を0.35μm、コンタクト部41,
43の径を0.25μmに形成する。
する構造として、コンタクト部42,44の径を大きく
する。例えば、下層配線21,上層配線31,各コンタ
クト部41〜44をアルミニウムで形成し、コンタクト
部42,44の径を0.35μm、コンタクト部41,
43の径を0.25μmに形成する。
【0030】このように、電流経路が最短になるコンタ
クト部の42,44の径を大きく形成することによっ
て、このコンタクト部42,44の発熱量を破壊を生じ
ないレベルにまで減少させることができる。
クト部の42,44の径を大きく形成することによっ
て、このコンタクト部42,44の発熱量を破壊を生じ
ないレベルにまで減少させることができる。
【0031】なお上記第4実施例において、下層配線2
1の配線21aにのみ電流が流れる場合は上記第2実施
例と同様になり、下層配線21の配線21b,21dに
のみ電流が流れる場合は上記第3実施例と同様になる。
また、配線21aと配線21bのみに電流が流れる場
合、および配線21cと配線22dが形成されていない
場合には、上記第1実施例と第2実施例とを組み合わせ
た状態になるので、コンタクト部44を通る電流経路の
最短経路になる。そのためコンタクト部44(42)の
径を他のコンタクト部の径よりも大きく形成する。一
方、配線21aと配線21dのみに電流が流れる場合、
および配線21cと配線22bが形成されていない場合
にも、第1実施例と第2実施例とを組み合わせた状態に
なるので、コンタクト部42を通る電流経路の最短経路
になる。そのためコンタクト部42の径を他のコンタク
ト部の径よりも大きく形成する。さらに、配線21cに
電流が流れない場合、および配線21cが形成されてい
ない場合は、上記第2実施例と第3実施例とを組み合わ
せた状態になるので、コンタクト部42,44を通る電
流が最短の電流経路になる。そのため、コンタクト部4
2,44の径を他のコンタクト部の径よりも大きく形成
する。
1の配線21aにのみ電流が流れる場合は上記第2実施
例と同様になり、下層配線21の配線21b,21dに
のみ電流が流れる場合は上記第3実施例と同様になる。
また、配線21aと配線21bのみに電流が流れる場
合、および配線21cと配線22dが形成されていない
場合には、上記第1実施例と第2実施例とを組み合わせ
た状態になるので、コンタクト部44を通る電流経路の
最短経路になる。そのためコンタクト部44(42)の
径を他のコンタクト部の径よりも大きく形成する。一
方、配線21aと配線21dのみに電流が流れる場合、
および配線21cと配線22bが形成されていない場合
にも、第1実施例と第2実施例とを組み合わせた状態に
なるので、コンタクト部42を通る電流経路の最短経路
になる。そのためコンタクト部42の径を他のコンタク
ト部の径よりも大きく形成する。さらに、配線21cに
電流が流れない場合、および配線21cが形成されてい
ない場合は、上記第2実施例と第3実施例とを組み合わ
せた状態になるので、コンタクト部42,44を通る電
流が最短の電流経路になる。そのため、コンタクト部4
2,44の径を他のコンタクト部の径よりも大きく形成
する。
【0032】なお、上記各実施例で示した数値は一例で
あって、配線形状、配線の大きさ、配線の厚さ、コンタ
クト部の大きさ、コンタクト部の深さ等によって変わる
ものであり、上記示した数値に限定されることはない。
あって、配線形状、配線の大きさ、配線の厚さ、コンタ
クト部の大きさ、コンタクト部の深さ等によって変わる
ものであり、上記示した数値に限定されることはない。
【0033】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
上層配線と下層配線との一つの接続を複数のコンタクト
部で形成し、かつ各コンタクト部を通る電流経路のう
ち、最短の電流経路となるコンタクト部の抵抗値を他の
コンタクト部の抵抗値よりも小さくするので、最短の電
流経路となるコンタクト部の電流が流れやすくなる。こ
のため、各コンタクト部の電流密度がほぼ均等化され、
各コンタクト部は少なくとも破壊を起こさないレベル以
下の電流密度になる。そのため、ジュール発熱によるコ
ンタクト部の破壊がなくなるので、配線の信頼性の向上
が図れる。またコンタクト部の抵抗値を小さくする構造
として、最短の電流経路となるコンタクト部の断面積を
大きく形成するので、そのコンタクト部を流れる電流が
小さくなる。したがって、電流密度も小さくなるので、
ジュール発熱が抑えることができる。
上層配線と下層配線との一つの接続を複数のコンタクト
部で形成し、かつ各コンタクト部を通る電流経路のう
ち、最短の電流経路となるコンタクト部の抵抗値を他の
コンタクト部の抵抗値よりも小さくするので、最短の電
流経路となるコンタクト部の電流が流れやすくなる。こ
のため、各コンタクト部の電流密度がほぼ均等化され、
各コンタクト部は少なくとも破壊を起こさないレベル以
下の電流密度になる。そのため、ジュール発熱によるコ
ンタクト部の破壊がなくなるので、配線の信頼性の向上
が図れる。またコンタクト部の抵抗値を小さくする構造
として、最短の電流経路となるコンタクト部の断面積を
大きく形成するので、そのコンタクト部を流れる電流が
小さくなる。したがって、電流密度も小さくなるので、
ジュール発熱が抑えることができる。
【図1】本発明の第1実施例の概略構成図である。
【図2】第1実施例の別の配線構成図である。
【図3】本発明の第2実施例の概略構成図である。
【図4】本発明の第3実施例の概略構成図である。
【図5】第3実施例の別の配線構成図である。
【図6】本発明の第4実施例の概略構成図である。
1,3〜5 多層配線構造 21 下層配線 31 上層配線 41〜44 コンタクト部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年2月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】
【作用】上記多層配線構造では、上層配線と下層配線と
の一つの接続を複数のコンタクト部で形成し、かつ各コ
ンタクト部を通る電流経路のうち、最短の電流経路とな
るコンタクト部の抵抗値を他のコンタクト部の抵抗値よ
りも小さくすることから、最短の電流経路となるコンタ
クト部の電流が流れやすくなる。このため、各コンタク
ト部の電流密度が均等化される方向に向かい、少なくと
も各コンタクト部は破壊を起こさないレベル以下の電流
密度になる。したがって、コンタクト部でジュール発熱
が起きても、そのコンタクト部は破壊に到るような発熱
量を発する状態には到らない。また最短の電流経路とな
るコンタクト部の抵抗値を小さくする構造として、その
コンタクト部の断面積を大きく形成することから、抵抗
と導体の断面積とが反比例する関係によって、そのコン
タクト部の抵抗は小さくなる。したがって、オームの法
則によって、一定電圧ではそのコンタクト部に流れる電
流が大きくなるが、全体としては電流密度は小さくなる
ので、ジュール発熱は少なくなる。
の一つの接続を複数のコンタクト部で形成し、かつ各コ
ンタクト部を通る電流経路のうち、最短の電流経路とな
るコンタクト部の抵抗値を他のコンタクト部の抵抗値よ
りも小さくすることから、最短の電流経路となるコンタ
クト部の電流が流れやすくなる。このため、各コンタク
ト部の電流密度が均等化される方向に向かい、少なくと
も各コンタクト部は破壊を起こさないレベル以下の電流
密度になる。したがって、コンタクト部でジュール発熱
が起きても、そのコンタクト部は破壊に到るような発熱
量を発する状態には到らない。また最短の電流経路とな
るコンタクト部の抵抗値を小さくする構造として、その
コンタクト部の断面積を大きく形成することから、抵抗
と導体の断面積とが反比例する関係によって、そのコン
タクト部の抵抗は小さくなる。したがって、オームの法
則によって、一定電圧ではそのコンタクト部に流れる電
流が大きくなるが、全体としては電流密度は小さくなる
ので、ジュール発熱は少なくなる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】なお上記第4実施例において、下層配線2
1の配線21aにのみ電流が流れる場合は上記第2実施
例と同様になり、下層配線21の配線21b,21dに
のみ電流が流れる場合は上記第3実施例と同様になる。
また、配線21aと配線21bのみに電流が流れる場
合、および配線21cと配線21dが形成されていない
場合には、上記第1実施例と第2実施例とを組み合わせ
た状態になるので、コンタクト部44を通る電流経路が
最短経路になる。そのためコンタクト部44の径を他の
コンタクト部の径よりも大きく形成する。一方、配線2
1aと配線21dのみに電流が流れる場合、および配線
21cと配線21bが形成されていない場合にも、第1
実施例と第2実施例とを組み合わせた状態になるので、
コンタクト部42を通る電流経路の最短経路になる。そ
のためコンタクト部42の径を他のコンタクト部の径よ
りも大きく形成する。さらに、配線21cに電流が流れ
ない場合、および配線21cが形成されていない場合
は、上記第2実施例と第3実施例とを組み合わせた状態
になるので、コンタクト部42,44を通る電流が最短
の電流経路になる。そのため、コンタクト部42,44
の径を他のコンタクト部の径よりも大きく形成する。
1の配線21aにのみ電流が流れる場合は上記第2実施
例と同様になり、下層配線21の配線21b,21dに
のみ電流が流れる場合は上記第3実施例と同様になる。
また、配線21aと配線21bのみに電流が流れる場
合、および配線21cと配線21dが形成されていない
場合には、上記第1実施例と第2実施例とを組み合わせ
た状態になるので、コンタクト部44を通る電流経路が
最短経路になる。そのためコンタクト部44の径を他の
コンタクト部の径よりも大きく形成する。一方、配線2
1aと配線21dのみに電流が流れる場合、および配線
21cと配線21bが形成されていない場合にも、第1
実施例と第2実施例とを組み合わせた状態になるので、
コンタクト部42を通る電流経路の最短経路になる。そ
のためコンタクト部42の径を他のコンタクト部の径よ
りも大きく形成する。さらに、配線21cに電流が流れ
ない場合、および配線21cが形成されていない場合
は、上記第2実施例と第3実施例とを組み合わせた状態
になるので、コンタクト部42,44を通る電流が最短
の電流経路になる。そのため、コンタクト部42,44
の径を他のコンタクト部の径よりも大きく形成する。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
上層配線と下層配線との一つの接続を複数のコンタクト
部で形成し、かつ各コンタクト部を通る電流経路のう
ち、最短の電流経路となるコンタクト部の抵抗値を他の
コンタクト部の抵抗値よりも小さくするので、最短の電
流経路となるコンタクト部の電流が流れやすくなる。こ
のため、各コンタクト部の電流密度がほぼ均等化され、
各コンタクト部は少なくとも破壊を起こさないレベル以
下の電流密度になる。そのため、ジュール発熱によるコ
ンタクト部の破壊がなくなるので、配線の信頼性の向上
が図れる。またコンタクト部の抵抗値を小さくする構造
として、最短の電流経路となるコンタクト部の断面積を
大きく形成するので、そのコンタクト部を流れる電流密
度が小さくなる。したがって、ジュール発熱を抑えるこ
とができる。
上層配線と下層配線との一つの接続を複数のコンタクト
部で形成し、かつ各コンタクト部を通る電流経路のう
ち、最短の電流経路となるコンタクト部の抵抗値を他の
コンタクト部の抵抗値よりも小さくするので、最短の電
流経路となるコンタクト部の電流が流れやすくなる。こ
のため、各コンタクト部の電流密度がほぼ均等化され、
各コンタクト部は少なくとも破壊を起こさないレベル以
下の電流密度になる。そのため、ジュール発熱によるコ
ンタクト部の破壊がなくなるので、配線の信頼性の向上
が図れる。またコンタクト部の抵抗値を小さくする構造
として、最短の電流経路となるコンタクト部の断面積を
大きく形成するので、そのコンタクト部を流れる電流密
度が小さくなる。したがって、ジュール発熱を抑えるこ
とができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 上層配線と下層配線との一つの接続を複
数のコンタクト部で構成した多層配線構造において、 前記各コンタクト部を通る電流経路のうち、最短の電流
経路となるコンタクト部の抵抗値を他のコンタクト部の
抵抗値よりも小さくしたことを特徴とする多層配線構
造。 - 【請求項2】 請求項1記載の多層配線構造において、 前記各コンタクト部を通る電流経路のうち、最短の電流
経路となるコンタクト部の断面積を他のコンタクト部の
断面積よりも大きく形成することで該コンタクト部の抵
抗値を他のコンタクト部の抵抗値よりも小さくしたこと
を特徴とする多層配線構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27230294A JP3341496B2 (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | 多層配線構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27230294A JP3341496B2 (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | 多層配線構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08139182A true JPH08139182A (ja) | 1996-05-31 |
JP3341496B2 JP3341496B2 (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=17511984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27230294A Expired - Fee Related JP3341496B2 (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | 多層配線構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3341496B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001077203A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-03-23 | Infineon Technologies Ag | 集積半導体チップ |
KR100303917B1 (ko) * | 1999-07-20 | 2001-11-01 | 김영환 | 반도체장치의 배선 콘택부 레이아웃 |
KR20030050788A (ko) * | 2001-12-19 | 2003-06-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 금속 배선 |
KR100483600B1 (ko) * | 2002-07-18 | 2005-04-15 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 반도체 소자의 금속 배선 형성 방법 |
WO2009147768A1 (ja) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | パナソニック株式会社 | 半導体装置 |
JP2012039108A (ja) * | 2010-07-16 | 2012-02-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 太陽電池用集電シート及び太陽電池用集電シートの製造方法 |
JP2013251391A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Canon Inc | 半導体装置の製造方法 |
JP2015130516A (ja) * | 2009-10-30 | 2015-07-16 | ヴィシェイ−シリコニックス | 半導体素子 |
CN112599521A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-02 | 海光信息技术股份有限公司 | 优化电流分布的方法、装置、集成电路芯片及电子设备 |
-
1994
- 1994-11-07 JP JP27230294A patent/JP3341496B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100303917B1 (ko) * | 1999-07-20 | 2001-11-01 | 김영환 | 반도체장치의 배선 콘택부 레이아웃 |
JP2001077203A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-03-23 | Infineon Technologies Ag | 集積半導体チップ |
JP4629837B2 (ja) * | 1999-08-05 | 2011-02-09 | インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト | 集積半導体チップ |
KR20030050788A (ko) * | 2001-12-19 | 2003-06-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 금속 배선 |
KR100483600B1 (ko) * | 2002-07-18 | 2005-04-15 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 반도체 소자의 금속 배선 형성 방법 |
WO2009147768A1 (ja) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | パナソニック株式会社 | 半導体装置 |
US8143725B2 (en) | 2008-06-06 | 2012-03-27 | Panasonic Corporation | Semiconductor device |
JP2015130516A (ja) * | 2009-10-30 | 2015-07-16 | ヴィシェイ−シリコニックス | 半導体素子 |
JP2012039108A (ja) * | 2010-07-16 | 2012-02-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 太陽電池用集電シート及び太陽電池用集電シートの製造方法 |
JP2013251391A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Canon Inc | 半導体装置の製造方法 |
CN112599521A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-02 | 海光信息技术股份有限公司 | 优化电流分布的方法、装置、集成电路芯片及电子设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3341496B2 (ja) | 2002-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4795631B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS58119664A (ja) | チツプ・キヤリア | |
JPH08139182A (ja) | 多層配線構造 | |
TW454310B (en) | Semiconductor device | |
US20030138610A1 (en) | Printed circuit board incorporating enchanced conductive ink | |
JP3515868B2 (ja) | 大電流用プリント基板 | |
TW523873B (en) | Semiconductor device provided with fuse and method of disconnecting fuse | |
JP2913768B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH10294553A (ja) | 回路基板 | |
JP3406865B2 (ja) | 接続構造 | |
JPH04340795A (ja) | プリント配線板 | |
JP2664485B2 (ja) | セラミック多層配線板 | |
KR970063036A (ko) | 서멀헤드 및 그 제조방법 | |
JP3682231B2 (ja) | エネルギ作用によって分離可能な電気的接続箇所を備えた集積回路 | |
JP2019201070A (ja) | 多層基板及び多層基板を用いて素子に電流を供給する方法 | |
KR102191249B1 (ko) | 칩 저항 소자 어셈블리 | |
JPH02186660A (ja) | 多層配線半導体装置 | |
JPH11220020A (ja) | 多層配線構造体および半導体集積回路装置 | |
JP2695917B2 (ja) | 多層配線装置 | |
KR100303917B1 (ko) | 반도체장치의 배선 콘택부 레이아웃 | |
JPH05243216A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH10242145A (ja) | 多層配線構造 | |
JP2017199744A (ja) | 回路基板 | |
JPH04299895A (ja) | 多層回路基板 | |
JP2697345B2 (ja) | 混成集積回路 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |