JPH08109226A - 新規な側基ポリマー類および光学構成要素のためのそれらの使用 - Google Patents

新規な側基ポリマー類および光学構成要素のためのそれらの使用

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JPH08109226A
JPH08109226A JP7268005A JP26800595A JPH08109226A JP H08109226 A JPH08109226 A JP H08109226A JP 7268005 A JP7268005 A JP 7268005A JP 26800595 A JP26800595 A JP 26800595A JP H08109226 A JPH08109226 A JP H08109226A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規な側基ポリマー類および光学構成要素の
ためのそれらの使用。 【解決手段】 側置換基を持っている永久形状異方性側
基を有する側基ポリマー類は優れた特性を有しているこ
とから、これらは特に光学データの記憶と転送で利用で
きる光学構成要素に特に適切である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、光で誘発されて変化し得る形態
を有する側基と永久形状異方性側基（ｐｅｒｍａｎｅｎ
ｔｌｙ ｓｈａｐｅ−ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｓｉｄ
ｅｇｒｏｕｐｓ）を含んでいる側基ポリマー類、並びに
特に光学データの記憶と転送における光学構成要素のた
めの上記側基ポリマー類の使用に関する。この新規な側
基ポリマー類は、照射を行う前、このポリマー類のガラ
ス状態において、光学等方性を示し、非晶質であり、透
明であり、光を拡散させない。ガラス状態で照射を行う
と、光で誘発されてその側基が整列し、それが原因で、
この側基ポリマー類は、その透明性を失うことなく複屈
折性と二色性を示すようになり、それに加えてその光拡
散特性が変化する。この光で誘発された光学異方性は、
熱または再照射で可逆的に変化するか或は消失し得る。
【０００２】この側基ポリマー類は、光学情報の記憶で
用いるに適切であると共に、受動または光学切り換え可
能（ｓｗｉｔｃｈａｂｌｅ）構成要素を製造するに適切
である。
【０００３】光で誘発される物理的および／または化学
的過程で可逆的に変化する光学特性、例えば吸収、発
光、反射、複屈折または拡散などを示すフォトクロミッ
ク（ｐｈｏｔｏｃｈｒｏｍｉｃ）基を含んでいる種々の
ポリマー類が文献に開示されている。ポリマー類が示す
光学特性を可逆的に変化させるにとって興味の持たれる
新規な方法は、種々の過程を用いて光誘発してそのポリ
マー類が示す配列度、整列方向および整列分布または形
態を変化させる方法である。このポリマー類の配列を光
誘発で変化させることは、情報の記憶で用いられる。
【０００４】このように、ＥｉｃｈおよびＷｅｎｄｏｒ
ｆｆ（Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．、Ｒａｐｉｄ Ｃ
ｏｍｍｕｎ．（１９８７）８、４６７）はアゾベンゼン
基を含んでいる液体−結晶性ポリマー類を記述してい
る。これらは液体−結晶性ドメインを形成しており、こ
こで、以前に異性化反応を受けた基を再編成させるのは
光の作用のみである（Ａｎｄｅｒｌｅ、Ｂｉｒｅｎｈｅ
ｉｄｅ、Ｗｅｎｄｏｒｆｆ、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．４４、１１−２２
（１９９１））。この記憶効果は、そうでない場合硬い
マトリックス内のフォトクロミック側基を再編成させる
ことによってモノドメイン（ｍｏｎｏｄｏｍａｉｎｓ）
の配列状態を妨害することを基にしている。
【０００５】加うるに、液体−結晶性ポリマー類が最近
開示され、ここでもまた、フォトクロミック基の光化学
再編成で非フォトクロミック基の協調的再編成が引き起
こされ、その結果として、モノドメインの光学軸が回転
する（Ｉｖａｎｏｖ、Ｙａｋｏｖｌｅｖ、Ｋｏｓｔｒｏ
ｍｉｎ、Ｓｈｉｂａｅｖ、Ｌａｅｓｋｅｒ、Ｓｔｕｍｐ
ｅ、Ｋｒｅｙｓｉｇ、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．、
Ｒａｐｉｄ Ｃｏｍｍｕｎ．１２、７０９−７１５（１
９９１））。
【０００６】この液体−結晶系が示す実用上の大きな欠
点は、それらを使用する時一般にモノドメインを与える
外場および／または表面効果を用いて巨視的に均一な完
全な整列を生じさせる必要がある点である。
【０００７】電場および磁場を用いそして機械的力と表
面効果を用いて液体−結晶性ポリマー類を整列させるの
は技術的に極めて複雑であり、その結果として、このよ
うな液体−結晶性ポリマー類を幅広く用いるのは今まで
不可能であった。
【０００８】更に、原則的に複屈折を非晶質系の中に誘
導することができることも確認されている（Ａｎｄｅｒ
ｌｅ、Ｂｉｒｅｎｈｅｉｄｅ、Ｅｉｃｈ、Ｗｅｎｄｏｒ
ｆｆ、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．、Ｒａｐｉｄ，Ｃ
ｏｍｍ．（１９８９）１０、４７７ｆｆおよびヨーロッ
パ特許第３３５ ３０２号）。しかしながら、この効果
は、液体−結晶性モノドメインで得られる効果よりも数
桁低く、この理由でこれを産業的に用いることは不可能
である。
【０００９】更に、特定のホモポリマー類は光照射で異
方性を示すようになり得ることも知られている（Ｎａｔ
ａｎｓｏｈｎ、Ｒｏｃｈｏｎ、Ｇｏｓｓｅｌｉｎ、Ｘｉ
ｅ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ ２５、２２６８−
２２７３（１９９２））。
【００１０】この種類の系は構造的に一様であり、長期
の安定性を示さず、その特性は幅広い範囲内に固定され
ている。ホモポリマー類に比べてコポリマー類が特に有
利である点は、的確には、それらが示す構造的な柔軟性
であり、このことから、情報記憶特性の保持を伴う個々
の用途にその特性を適合させることができる。
【００１１】光アドレス可能（ｐｈｏｔｏａｄｄｒｅｓ
ｓａｂｌｅ）材料を産業で用いるに有利な系は、一方で
は光学的に等方性を示し非晶質でありそして均一である
が他方では液体−結晶性ポリマーが示す優れた二色性と
複屈折性を有していると共にこの材料が示す他の特性を
個々の技術的要求に合致させることを可能にする構造変
化が特定の帯域幅を有している系であろう。
【００１２】本発明の目的は、一方では光学的等方性を
示す二次元構造を与えそして他方では非常に良好な液体
−結晶系で知られている如き度合にまで光暴露で二色性
と複屈折性を示すようになる系を提供することであっ
た。
【００１３】特定のフォトクロミック側基を含んでいる
と共に分子分極率に関して高い異方性を示す特定の永久
形状異方性側基を含んでいる側基ポリマー類を用いるこ
とによって上記目的を達成し、このポリマー類は、技術
的にいろいろな様式で容易に、光学等方性を示し、透明
であり、光を拡散しない非晶質状態に変化する能力を有
しており、これは、今まで知られていたフォトクロミッ
ク液体−結晶性ポリマー類および記述された溶液変形と
は対照的である。
【００１４】従って、本発明は、バックボーンとして作
用するポリ（メタ）アクリレート主鎖と、それから分枝
していて共有結合している、下記の式：
【００１５】
【化３】
【００１６】［式中、Ｓ1およびＳ2は、互いに独立し
て、ＯもしくはＳ原子またはＮＲ1基であり、Ｒ1は、水
素、Ｃ1−Ｃ6−アルキルまたはフェニルであり、Ｔ1お
よびＴ2は、互いに独立して、任意に−Ｏ−、−Ｓ−、
ＮＲ1−または−ＯＳｉＲ1 2Ｏ−が割り込んでいてもよ
い（ＣＲ1，Ｒ12）n基であり、ｎは、２から１２の整数
であり、Ｑ1およびＱ2は、互いに独立して、−Ｏ−、−
ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ1−、−ＮＲ1ＣＯ
−、−ＮＲ1−、−Ｏ−Ｃ6Ｈ4−ＣＯＯ−または−Ｏ−
Ｃ6Ｈ4−ＣＯＮＲ1−であり、それによって追加的に、
組み合わせＳ1Ｒ1Ｑ1およびＳ2Ｔ2Ｑ2は、互いに独立し
て、
【００１７】
【化４】
【００１８】であってもよく、Ｒ2からＲ6は、互いに独
立して、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−
Ｃ4−アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ、ＳＯ2ＣＨ3、ＳＯ2
ＮＨ2またはシアノであり、ここで、置換基Ｒ2からＲ6
の少なくとも１つは水素以外である必要があり、Ｒ7か
らＲ9は、互いに独立して、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキ
ル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、フェノキ
シ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、フェニルチオ、ハロゲ
ン、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3、ニトロ、シアン、Ｃ1−
Ｃ6−アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、ＣＯ
ＯＲ1、アミノスルホニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノ
スルホニル、フェニルアミノスルホニル、アミノカルボ
ニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノカルボニル、フェニル
アミノカルボニルであり、Ｒ10は、水素、ハロゲン、Ｃ
1−Ｃ6−アルキル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキ
シ、フェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アシルアミノ、Ｃ1−Ｃ4−
アルキルスルホニルアミノであり、Ｒ11は、水素、ハロ
ゲン、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−
アルコキシ、フェノキシであり、Ｙは、直接結合、−Ｃ
ＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−
Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）または−Ｎ＝Ｎ−であ
り、そしてＸ1およびＸ2は、互いに独立して、水素、ヒ
ドロキシル、メルカプト、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3、
ハロゲン、シアン、ニトロ、ＣＯＯＲ1、Ｃ1−Ｃ6−ア
ルキル、Ｃ5−Ｃ12シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ12−アルコ
キシ、Ｃ1−Ｃ12−アルキルチオ、Ｃ6−Ｃ12−アリー
ル、Ｃ6−Ｃ12−アリールオキシ、Ｃ6−Ｃ12−アリール
チオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルホニル、Ｃ6−Ｃ12−ア
リールスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1−Ｃ6−アル
キルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、ア
ミノカルボニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノカルボニ
ル、フェニルアミノカルボニル、ＮＲ12、Ｒ13、ＮＨ−
ＣＯ−Ｒ12、ＮＨ−ＳＯ2−Ｒ12、ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ1、
Ｒ2、ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ12またはＳＯ2−ＣＦ3であ
り、ここで、Ｒ12およびＲ13は、互いに独立して、水
素、Ｃ1−Ｃ4−アルキルまたはフェニルであるが、但し
Ｒ7からＲ11が水素を表しそして環ＢがＣ1−Ｃ4−アル
キル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、ニトロまたはシアノで置
換されている場合少なくとも１つの２番目の置換基もま
た環Ａ−Ｙ−環Ｂ系内に存在していることを条件とす
る］に従う少なくとも１つの構造で表される側基を有す
るポリマー類に関する。
【００１９】好適な新規ポリマー類は、側基ＩおよびＩ
Ｉ、好適には式
【００２０】
【化５】
【００２１】［式中、Ｒは、Ｈまたはメチルである］で
表される側基を有する繰り返し単位を排他的に含んでい
る。
【００２２】基Ｔ1およびＴ2の好適な例は、互いに独立
して−(−ＣＨ2−)n−、−(−ＣＨ2−)m−ＣＨ(ＣＨ3)
−(−ＣＨ2−)o−、−(−ＣＨ2)m−Ｃ(ＣＨ3)2−(−Ｃ
Ｈ2−)o−、−(−ＣＨ2−)m−Ｏ−(−ＣＨ2−)o−およ
び−（−ＣＨ2−)m−Ｎ(ＣＨ3）−(−ＣＨ2−)o−であ
り、ここで、ｎは２から６の整数であり、そしてｍおよ
びｏは互いに独立してゼロから２の整数であってこれの
合計は少なくとも１である。
【００２３】側基Ｉを導入するに好適なモノマー類は式
【００２４】
【化６】
【００２５】［式中、Ｘ1およびＲ7からＲ11は、上で定
義したのと同じであり、そしてｎは、２から１０、好適
には４から６の整数である］に従う。
【００２６】上記モノマー類の例は、
【００２７】
【化７】
【００２８】である。
【００２９】側基Ｉを導入するに好適な他のモノマー類
は式
【００３０】
【化８】
【００３１】［式中、Ｒ1、Ｘ1およびＲ7からＲ11は、
上述した意味を有し、そしてｎは、２から１０、好適に
は４から６の整数を表す］に従う。
【００３２】上記モノマー類の例は、
【００３３】
【化９】
【００３４】
【化１０】
【００３５】
【化１１】
【００３６】である。
【００３７】特に好適な側基ＩＩは、式
【００３８】
【化１２】
【００３９】［式中、Ｘ2、Ｔ2、Ｑ2およびＲ2からＲ6
は、上で定義したのと同じである］で表される側基であ
る。
【００４０】側基ＩＩを導入するに好適なモノマー類は
式
【００４１】
【化１３】
【００４２】［式中、ｎは、２から６の整数であり、Ｒ
2およびＲ6は、互いに独立して、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
ＯＨ、ＯＣＨ3、ＣＨ3、ＣＦ3、ＮＯ2またはＣＨであ
り、置換基Ｒ2およびＲ6の少なくとも１つはＨ以外であ
る必要があり、そしてＸ2は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｃ
Ｎ、ＮＯ2、ＣＯＯＲ1、Ｃ6−Ｃ12−シクロアルキル、
Ｃ1−Ｃ12−アルコキシまたはＣ6−Ｃ12−アリールであ
る］に従う。
【００４３】上記モノマー類の例は、
【００４４】
【化１４】
【００４５】である。
【００４６】好適には、側基（Ｉ）を持っているモノマ
ー類と、側基（ＩＩ）を持っているモノマー類と、任意
にさらなるモノマー類を用いて、この側基ポリマー類の
主鎖を生じさせ、ここでは特に、各場合ともその組み込
む全モノマー単位の総計を基準にして、側基（Ｉ）を持
っているモノマー類の比率を２５から８０モル％、好適
には３０から７０モル％にし、側基（ＩＩ）を持ってい
るモノマー類の比率を２０から７５モル％、好適には３
０から７０モル％にし、そしてさらなるモノマー類の比
率を０から５０モル％にする。
【００４７】適切な「さらなる」繰り返し単位は、この
側基ポリマーの中に化学的に組み込み可能な全ての単位
である。これらは、必須的に、このポリマー内の側基Ｉ
およびＩＩの濃度を単に低くする働きをしており、従っ
て、「希釈」効果の如き効果を引き起こす。ポリ（メ
タ）アクリレート類の場合の「さらなる」モノマー類に
は、好適にはα−置換ビニル基またはβ−置換アリル基
を持っていて共重合し得るエチレン系不飽和モノマー
類、好適にはスチレンが含まれるが、また例えば、環塩
素化および環アルキル化または環アルケニル化されてい
るスチレン類（これらのアルキル基は炭素原子を１から
４個含んでいてもよい）、例えばビニルトルエン、ジビ
ニルベンゼン、α−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレ
ン類およびクロロスチレン類など；２から６個の炭素原
子を有するカルボン酸のビニルエステル類、好適には酢
酸ビニルなど；ビニルピリジン、ビニルナフタレン、ビ
ニルシクロヘキサン、アクリル酸およびメタアクリル酸
および／またはそれらのエステル類、好適にはアルコー
ル成分が１から４個の炭素原子を有するビニル、アリル
およびメタアリルエステル類、並びにそれらのアミド類
およびニトリル類など、無水マレイン酸、マレイン酸の
モノエステル類、アルコール成分が１から４個の炭素原
子を有するマレイン酸ジエステル類、マレイン酸のモノ
アミド類およびジアミド類および環状イミド類、例えば
Ｎ−メチルマレイミドまたはＮ−シクロヘキシルマレイ
ミドなど；アリル化合物、例えばアリルベンゼンおよび
アリルエステル類、例えば酢酸アリル、フタル酸ジアリ
ル、イソフタル酸ジアリル、フマル酸ジアリル、アリル
カーボネート類、ジアリルカーボネート類、トリアリル
ホスフェートおよびトリアリルシアヌレートなどが含ま
れる。
【００４８】好適な「さらなる」モノマー類は、式
【００４９】
【化１５】
【００５０】［式中、Ｒ12は、任意に分枝していてもよ
いＣ1−Ｃ6−アルキル基であるか或はアクリル基を更に
少なくとも１個含んでいる基である］に従う。
【００５１】この新規なポリマー類はまた、（Ｉ）の定
義の下に入る側基を２個以上含んでいてもよく、或は
（ＩＩ）の定義の下に入る側基を２個以上含んでいても
よく、或は（ＩＩ）の定義で表される側基に加えて
（Ｉ）の定義で表される側基を数個含んでいてもよい。
構造（Ｉ）および（ＩＩ）で表される側鎖を存在させる
場合、有利な様式で、基Ｑ1およびＱ2の少なくとも１つ
はそれぞれ−Ｏ−Ｃ6Ｈ4−ＣＯＯ−または−Ｏ−Ｃ6Ｈ4
−ＣＯＮＲ1−の意味を有する。
【００５２】この新規なポリマー類が示すガラス転移温
度Ｔｇは好適には低くとも４０℃である。このガラス転
移温度は、例えばＢ．Ｖｏｌｌｍｅｒ、Ｇｒｕｎｄｒｉ
βｄｅｒ Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅｎ Ｃｈｅ
ｍｉｅ、４０６から４１０頁、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅ
ｒｌａｇ、Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ、１９６２の方法を用
いることで測定可能である。
【００５３】この新規なポリマー類の重量平均分子量
は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ポリスチレンを用い
た較正を行った）で測定して一般に５０００から２，０
００，０００、好適には８０００から１，５００，００
０である。
【００５４】光学異方性に関して高い値を得るには、高
い形状異方性を示すと共に分子分極率に関して高い異方
性を示す構造単位を用いることが前提条件である。液状
−結晶配列状態の生成を抑え、そして光を拡散しない光
学等方性を示す透明なフィルムを製造することができる
ように、このポリマー類の構造を通して構造単位（Ｉ）
と（ＩＩ）の分子内相互作用を調節する。他方、それに
も拘らず、偏光を用いた照射を受けると光化学的に誘発
されてそのフォトクロミック側基と非フォトクロミック
側基が協調的に目標とする再編成過程を起こすに充分な
ほど、その分子内相互作用を強くする。
【００５５】この相互作用を側基（Ｉ）と（ＩＩ）の間
で起こさせるのが好適であり、そしてこれは、光で誘発
されて側基（Ｉ）の形態が変化することが原因で側基
（ＩＩ）が同じ方向に再編成する（協調的再編成として
認識される）に充分な程の相互作用であるのが好適であ
る。
【００５６】光学等方性を示す非晶質のフォトクロミッ
クポリマー類の場合極めて高い光学異方性値が誘発され
得る（Δｎ＝０．０１から０．２、好適には０．０１か
ら０．１）。この値は、液体−結晶性ポリマー類のモノ
ドメインで得られる値に匹敵しているか或はそれ以上の
値である。この値は、このような構造単位を含んでいな
い非晶質ポリマー類に比べて有意に高い。
【００５７】化学光の作用を通してこの側基ポリマーに
配列状態を生じさせると共に変化させることでこれらの
光学特性を調節する。
【００５８】この使用する光は、好適には、光で誘発さ
れて変化し得る構造を有する側基（Ｉ）が示す吸収帯領
域内に波長を有する直線偏光である。
【００５９】この側基モノマー類は文献で知られている
方法を用いて調製して重合させることができる（例えば
ＤＤ ２７６ ２９７、ドイツ特許第３ ８０８ ４３
０号、Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅ Ｃｈｅｍｉｅ
１８７、１３２７−１３３４（１９８４）、ソ連特許
第８８７ ５７４号、Ｅｕｒｏｐ．Ｐｏｌｙｍ．１８、
５６１（１９８２）およびＬｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．２、１
９５（１９８７）)。
【００６０】等方性フィルムは、外場および／または表
面効果を利用した複雑な整列方法を用いることなく製造
される。スピンコーティング、浸漬、キャスティングま
たはその他産業的に調節が容易なコーティング方法を用
いてこのフィルムを基質に取り付けることができるか、
或はプレス加工を行うか或は流入させることによって２
枚の透明なプレートの間にこのフィルムを導入すること
ができるか、或は簡単に、キャスティングまたは押し出
しで自己支持型フィルムとしてこのフィルムを製造する
ことができる。上記フィルムはまた、急激冷却で記述さ
れる意味で、即ち＞１００Ｋ／分の冷却速度でか或は急
速脱溶媒することによって、この構造単位を含んでいる
液体−結晶性ポリマー類から製造可能である。
【００６１】このフィルム厚は好適には０．１μｍから
１ｍｍであり、特に０．５から１００μｍである。
【００６２】光で誘発されて変化し得る形態を有する基
に適切な化学光を用いた照射を受けさせることによっ
て、この側基の光誘発整列または情報書き込みを実施す
る。その結果として角依存光選択がもたらされ、それに
よって、そのフォトクロミック基が再編成すると共に協
調効果を通してその永久形状異方性側基が同じ方向に連
続再編成するが、これは最大で、その励起光が示す電気
ベクトルに対して垂直な方向にまでである。
【００６３】この光暴露は、光で誘発されて変化し得る
形態を有する側基が示す吸収領域内に波長を有する干渉
性もしくは非干渉性の単色直線偏光を用いて領域全体に
渡ってか或は局所的に実施可能である。
【００６４】この情報は、レーザーを用いてドット形態
で書き込み可能であるか、或はレーザーまたはランプを
用いてその領域全体に渡って未構造化形態で書き込み可
能であるか、或はマスクを用いて書き込みを行うことも
可能であり、或はホログラフィー屈折率格子の書き込み
を０．１から５０００ｍＷ／ｃｍ2の強度で０．１から
６０００秒の時間行うことによって情報の書き込みを行
うことができる。
【００６５】この再編成過程は極めて有効である。Ｔｇ
未満で達成可能な複屈折変化Δｎは、好適には０．０１
から０．２０、好ましくは０．０５から０．１０であ
る。
【００６６】この光化学的に誘発された複屈折性および
光化学的に誘発された二色性の値が高いことは、この側
基が示す分子構造の結果であると共に、永久形状異方性
側基を除きフォトクロミック基と非フォトクロミック基
を同じ巨視的整列状態にする協調的な光誘発編成機構の
結果である。
【００６７】優先整列を自由に選択することができ、こ
れは単に、このポリマー品に関してその励起光の電気ベ
クトルが示す方向を選択することに依存している。温度
および波長を一定にした場合、この整列の度合は、単
に、その入射エネルギーに依存しており、このエネルギ
ーは、時間によって変化させることができるか、或は特
定の範囲内で、その光源の出力を通して変化させること
ができる。このように、この整列、複屈折性および二色
性は自由に選択可能なパラメーターであり、これらのパ
ラメーターは、一定の境界条件下で書き込みと消去を繰
り返すならば正確に再現可能である。
【００６８】この側鎖ポリマー類では、連続的に変化さ
せることができる再現性のある明確な長期安定性複屈折
を生じさせることができる。これは、明確なコントラス
トとして透過偏光内に表れ得る。二色性を示す側基を有
するポリマー類を用いると、相当して、連続的に変化し
得る再現性のある明確な二色性を示す吸収または発光を
生じさせることができる。照射条件を一定にすると、全
体としてそのポリマーフィルムの整列が一定になる。こ
の照射条件を局所的に変えると、例えばエネルギー量お
よび偏光方向などを変えると、その側基の優先整列に関
して構造化したフィルムが生じ、その結果として、異な
る光学異方性を示すピクセルがもたらされる。
【００６９】偏光していない化学光を用いた暴露を行う
ことによって、この光学異方性を示すフィルムの整列分
布の優先方向を消滅させることができ、そしてその表面
常態が復元するに沿って光学等方性が復元する。同じ源
を用いるが、そのポリマーフィルムに関して変化させた
電気ベクトルの位置を用いて再び照射すると、その結果
として、その光学異方性の方向および大きさが変化す
る。このようにして、この光学異方性の方向および大き
さに関して、異なる状態間の切り換えを繰り返して行う
ことができる。
【００７０】このような効果を基にして、この記述する
ポリマー類は、原則として、可逆的に光学データを記憶
させるための媒体になる。このフィルムを製造する時と
同様に、その情報を消した後再びそのモノドメインを復
元させるための方策は全く不必要である。
【００７１】このポリマー類は、最も幅広い意味でデジ
タルまたはアナログデータ記憶で使用可能であり、例え
ば光学信号の処理、フーリエ変換およびたたきこみ、或
は可干渉性光学相関関係技術などで使用可能である。読
み取り光の波長を用いてラテラル分解能を制限する。こ
れにより、ピクセルサイズを１から１００μｍにするこ
とができる。
【００７２】このポリマー類は、このような特性を示す
ことから特に画像処理を行うに適切であると共にホログ
ラムを用いた情報処理を行うに適切であり、これは、基
準ビームに暴露することを通して再現実行可能である。
一定の相比を有する２つの可干渉性単色光源が示す干渉
パターンをアナログ的に記憶させることができ、そして
その光が示す電気ベクトルとその記憶媒体における関連
した優先方向との間の相関関係を通して、最も高い記憶
密度を得ることができる。相当して、三次元ホログラフ
ィー画像を記憶させることができる。可干渉性単色光で
そのホログラムを照らすことによって読み取りを行う。
アナログ記憶の場合、局所的分解能でもって連続的にグ
レースケール値を確立することができる。アナログ形態
で記憶されている情報の読み取りを偏光内で実施し、そ
れによって、偏光子の位置に応じてポジ画像またはネガ
画像が得られる。この場合、１つの可能性は、通常ビー
ムと異常ビームを２個の偏光子の間で相シフトさせるこ
とによって生じさせたフィルムのコントラストを利用す
ることの可能性であり、ここでは、この偏光子の面とそ
の書き込み光の偏光面とが生じる角度を有利に４５°に
し、そして分析器の偏光面をその偏光子の面に対して垂
直にするか或は平行にする。別の可能性は、誘発させた
複屈折によって引き起こされる読み取り光の偏角を検出
することの可能性である。
【００７３】このポリマー類は、受動的または光学的に
切り換え可能な光学構成要素として使用可能である。従
って、この光で誘発される高い光学異方性を用いること
で、光の強度および／または偏光状態を調節することが
できる。相当して、ポリマーフィルムをホログラフィー
的に組み立てることによって、レンズまたは格子に匹敵
する画像特性を示す構成要素を製造することができる。
このポリマー類は更に偏光子の製造で使用可能である。
【００７４】従って、本発明は更に光学構成要素でこれ
らのポリマー類を用いることに関する。偏光子もそのよ
うな光学構成要素であると見なすことができる。
【００７５】この新規なポリマー類は、フリーラジカル
を与える重合開始剤、例えばアゾビスイソブチロニトリ
ルまたはベンゾイルパーオキサイドなどの存在下、可能
ならば水および空気を排除して、高温、一般に３０から
１３０℃、好適には４０から７０℃の適切な溶媒、例え
ば芳香族炭化水素、例えばトルエンまたはキシレンな
ど、ハロゲン化芳香族炭化水素、例えばクロロベンゼン
など、エーテル類、例えばテトラヒドロフランおよびジ
オキサンなど、ケトン類、例えばアセトンおよびシクロ
ヘキサンなど、および／またはジメチルホルムアミドな
どの中でそのモノマー類をフリーラジカルで共重合させ
ることによる通常様式で製造可能である。適切な薬剤、
例えばメタノールなどを用いて沈澱を生じさせることで
これらを単離することができる。例えば、クロロホルム
／メタノールを用いて再沈を行うことによって、この生
成物を精製することができる。
【００７６】この新規なポリマー類は自己支持型フィル
ムを生じ得る。しかしながら、好適には、これらを支持
材料に取り付ける。これは、本質的に知られている種々
の技術を用いて実施可能であり、そして望まれている被
覆材が厚いか或は薄いかに応じてこの方法を選択する。
薄い被覆材の場合、例えば溶液または溶融物を用いてス
ピンコーティングまたはナイフコーティングなどを行う
ことによってこれらを生じさせることができる一方、厚
い被覆材の場合、予め製造したセルを用いるか、溶融プ
レス加工を行うか或は押し出しを行うことによってこれ
らを生じさせることができる。
【００７７】以下に示す実施例におけるパーセントは各
場合とも特に明記しない限り重量に関係している。
【００７８】
【実施例】モノマー１ ３−ブロモ−４−［６−（２−メチルプロペノイル）ヘ
キソキシ］安息香酸の製造
【００７９】
【化１６】
【００８０】３５０ｍＬのエタノールの中に３−ブロモ
−４−ヒドロキシ安息香酸を２１７ｇ（１モル）入れた
後、１５０ｇの水酸化ナトリウムと１５０ｍＬの水が入
っている溶液を滴下しながらこの混合物を５２℃に温め
る。この透明な溶液にヨウ化カリウムを約０．２ｇ加え
た後、１時間かけてクロロヘキサノールを１５０．２ｇ
（１．１モル）滴下する。その後、この混合物を１５時
間還流させる。この溶液は暗褐色になってくる。結晶が
堆積する。ロータリーエバポレーターを用いてその混合
物を蒸発させる。その残渣に水を１．５リットル加え
る。この時点で透明な溶液を２００ｍＬのエーテルと一
緒に振とうすることによる洗浄を３回行う。この水相を
塩酸で酸性にすると生成物が沈澱し、これを長期間放置
すると結晶化して来る。吸引濾過を行い、各場合とも５
００ｍＬの水を用いて３回洗浄した後、空気中で乾燥さ
せることにより、粗生成物として３−ブロモ−［４−
（６−ヒドロキシ）ヘキソキシ］安息香酸が２７１ｇ得
られる。１．５リットルのエタノール／１．５リットル
の水（Ａｌ2Ｏ3を用いて濾過）から再結晶化させた後、
薄層クロマトグラフィーにより、融点が１０５から１０
８℃の純粋な酸が得られる。２００ｍＬのクロロホルム
の中にこの酸を１０１．５ｇ（０．２８モル）、メタア
クリル酸を２４１ｇ（２．８モル）、ヒドロキノンを５
ｇおよびｐ−トルエンスルホン酸を５ｇ入れ、撹拌しな
がら沸騰まで加熱する。反応水をクロロホルムとの共沸
物としてその反応混合物から除去する。４時間後、この
反応混合物から除去された水の量は約１０ｍＬである。
【００８１】この反応溶液を３００ｍＬの水を用いて３
回洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥させる。次に、
クロロホルムを１２ｍｍＨｇで４０℃になるまで除去す
る。冷却すると粗生成物が結晶化して来る。この生成物
を１．２５リットルのシクロヘキサン（Ａｌ2Ｏ3を通し
て濾過）から再結晶化させることによって、残存してい
るメタアクリル酸を除去する。薄層クロマトグラフィー
で分析して純粋な生成物を得るには、１．２リットルの
シクロヘキサン（Ａｌ2Ｏ3を通して濾過）を用いて、最
初の精製段階で得られた生成物７０ｇを更に再結晶化さ
せる必要がある。最終的に３−ブロモ−４−［６−（２
−メチルプロペノイル）ヘキソキシ］安息香酸が４０ｇ
得られる。
【００８２】融点：９９．３℃モノマー２ ３−ブロモ−４−［６−（２−メチルプロペノイル）ヘ
キソキシ］安息香酸４’−シアノ−２，’６’−ジブロ
モフェニルの製造
【００８３】
【化１７】
【００８４】９．２５ｇ（０．０２４モル）の上記酸
（モノマー１）にジ−ｔ−ブチルフェノールをスパチュ
ラ先端量、塩化チオニルを１６ｍＬおよびジメチルホル
ムアミドを１滴加える。この混合物を室温で３０分間撹
拌すると透明な溶液が生じ、この溶液から、最初に水流
ポンプ真空を用いた後オイルポンプ真空を用いた蒸留を
行うことによって過剰量の塩化チオニルを除去する。次
に、この残渣を４０ｍＬの無水エーテルの中に取り上
げ、そして濾過でフレーク状物を数個取り出す。このエ
ーテル溶液を、ブロモキシニル（＝３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシベンゾニトリル）が６．６５ｇ（０．０
２４モル）と無水テトラヒドロフランが１０ｍＬとトリ
エチルアミンが４ｍＬ入っていて０から５℃に保持され
ている混合物に３０分かけて滴下する。この混合物を室
温で５時間撹拌しそして１２時間放置した後、真空蒸留
で溶媒を除去する。その残渣をクロロホルムの中に取り
上げ、水で３回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、
濾過した後、蒸発乾固させる。この粗生成物を少量の塩
化メチレンに溶解させる。この溶液をシリカゲルカラム
の上に移す。溶離剤として塩化メチレンを用いることで
７画分得る。これらの画分から得られる残渣をｎ−ヘプ
タン／Ａｌ2Ｏ3から再結晶化させる。この時点で、この
モノマーは薄層クロマトグラフィーで分析して純粋であ
る。
【００８５】収量：６．９ｇ 融点：１１１．６から１１２．３℃ポリマー１ （比較） モノマー２の重合 磁気撹拌機が備わっている二重ジャケット付きフラスコ
の中に入っている、新しく蒸留したテトラヒドロフラン
２０ｍＬに、モノマー２を２ｇおよびアゾビスイソブチ
ロニトリルを０．００５２ｇ（１モル％）溶解させる。
この溶液を窒素で６０分間フラッシュ洗浄した後、５５
℃に温める。重合を窒素下で実施する。２４時間後、そ
の溶液を２００ｍＬのエタノールの中に注ぎ込むことに
よって重合を停止させる。その沈澱物を吸引濾別した
後、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させる。２５
０ｍＬのエタノールの中に注ぎ込むと精製されたポリマ
ーが沈澱し、これを吸引濾別した後、一定重量になるま
で減圧下４０℃で乾燥させる。
【００８６】収量：１．６ｇ このポリマーは液体−結晶性を示さない。これの融点は
１２８℃であるとして測定される。ＤＳＣ分析により８
３℃のガラス転移温度が得られる。オスモメトリーおよ
びクロマトグラフィーで測定した分子量はＭｗ＝４．６
・１０5ｇ／モル、Ｍｎ＝１．１・１０5ｇ／モルであ
る。
【００８７】モノマー３ ３−ブロモ−４−［６−（２−メチルプロペノイルオキ
シ）ヘキソキシ］安息香酸４’−メトキシフェニルの製
造
【００８８】
【化１８】
【００８９】２８ｇ（０．０７３モル）の上記酸（＝モ
ノマー１）にジ−ｔ−ブチルフェノールを約０．０５
ｇ、塩化チオニルを５０ｍＬおよびＤＭＦを２滴加え
る。この混合物を室温で３０分間撹拌する。室温で真空
蒸留を行うことによってその透明な溶液から過剰量の塩
化チオニルを除去し、その残渣を１００ｍＬのトルエン
に溶解させた後、沈澱して来た全てのフレークを濾過で
除去する。この溶液を、３００ｍＬのトルエンの中にｐ
−メトキシフェノールが９．０３ｇ（０．０７３モル）
およびトリエチルアミンが１２ｍＬ入っている混合物に
５５℃で３０分かけて滴下する。この混合物を５５℃で
約３時間撹拌する。この反応を薄層クロマトグラフィー
で監視する。沈澱して来た塩を吸引濾別し、そしてその
トルエン溶液を水で多数回洗浄した後、硫酸ナトリウム
上で乾燥させる。減圧下約３０℃で蒸留を行ってトルエ
ンを除去することによって粗生成物を単離する。この粗
生成物をメタノールから多数回再結晶化させる。
【００９０】収量：３６．１ｇ（８６．４％） 融点：８６．６から８７．３℃モノマー４ ４−［６−（２−メチルプロペノイルオキシ）ヘキソキ
シ］安息香酸の製造
【００９１】
【化１９】
【００９２】モノマー１の製造と同様に合成を実施する
ことで、この必要な４−（６−ヒドロキシヘキシル）安
息香酸を４−ヒドロキシ安息香酸とクロロヘキサノール
から製造する。
【００９３】収率：７６％モノマー５ ４−［６−（２−メチルプロペノイルオキシ）ヘキソキ
シ］安息香酸３’，４’−ジメトキシフェニルの製造
【００９４】
【化２０】
【００９５】前駆体としてモノマー４と３，４−ジメト
キシフェニルを用いて、モノマー３の製造と同様に合成
を実施する。
【００９６】最初にメタノールから再結晶化させること
によって処理を実施する。これで充分な純度が得られな
い場合、この生成物をシリカゲルカラムの上に移す。使
用する溶離剤は塩化メチレンである。この生成物が入っ
ている画分を減圧下で蒸発させた後、撹拌しながらｎ−
ヘキサンに滴下すると、滴下中に生成物が純粋な形態で
沈澱して来る。
【００９７】収率：４２．４％ 融点：７７．５から７８℃モノマー６ ｐ−（６−ブロモヘキソキシ）アゾベンゼンの製造 ４６０ｍＬのアセトンの中にジブロモヘキサンが４５４
ｇ（１．８６モル）、炭酸カリウムが１２８．５ｇおよ
びヨウ化カリウムが約０．２ｇ入っている混合物を沸騰
するまで加熱する。次に、３３０ｍＬのアセトンの中に
ｐ−ヒドロキシアゾベンゼンが３６．９ｇ（０．１８６
モル）入っている溶液を数回に分けて加える。沸騰中の
遅れを防止する目的でこの混合物を常に撹拌する。約
４．５時間後、反応を停止させ、まだ熱いままの溶液を
濾過し、そしてアセトンを少量用いて、その濾別した無
機塩から染色物を若干洗い流す。若干減圧下でアセトン
をその溶液から除去する。その後、オイルポンプ真空下
で過剰量のジブロモヘキサンを除去する。
【００９８】各場合とも２リットルの熱メタノールから
そのオレンジ色の粗生成物を２回再結晶化させる。最終
の高純度生成物は黄色である。
【００９９】収量：４９．２ｇ（６３．８％） 融点：７１．５℃モノマー７ ４−［６−（２−メチルプロペノイルオキシ）ヘキソキ
シ］アゾベンゼンの製造
【０１００】
【化２１】
【０１０１】２５０ｍＬのＤＭＦにメタアクリル酸カリ
ウムを４．３４ｇ（０．０３５モル）入れた後、７０℃
に温める。反応が起こって初めて塩が全部溶解する。こ
の飽和している熱塩溶液にモノマー６（７．２３ｇ、
０．０２モル）を数回に分けて加える。この反応物を氷
水の中に注ぎ込むことによって反応を停止させる。この
混合物を一晩放置した後、濾過し、そして減圧下塩化カ
ルシウム上で乾燥させる。この生成物を５００ｍＬのｎ
−ヘキサンから再結晶化させる。
【０１０２】収量：５．１ｇ（６９．６％） 融点：８６．５℃ポリマー２から４ モノマー３および７のホモ重合または共重合操作 個々のモノマーまたは相当するコモノマー類が入ってい
る１０％濃度溶液を、１モル％量のアゾビスイソブチロ
ニトリルの存在下、ベンゼンまたはＴＨＦ中６５℃で２
４時間かけて重合させる。フリーラジカル重合に通常の
方法を用いて酸素を排除する。この溶液を１０倍量のメ
タノールに注ぎ込むことによって反応を停止させる。
【０１０３】一晩放置した後、その沈澱物を濾別し、そ
してＴＨＦを用いてエタノール中で沈澱させることによ
る精製を少なくとも２回行う。この純度基準は、ゲル浸
透クロマトグラフィーで立証されるようにモノマー類が
入っていないことである。このポリマーを真空下３０か
ら４０℃で乾燥させる。
【０１０４】このポリマー類の特性を表１および２に示
す。
【０１０５】表１ ポリマー モノマー／量 モノマー／量 収率＊（％） ２ ３ − ８２.５ １００％ ３ ７ − ７６.４ １００％ ４ ７ ３ ７６,８ ４０％ ６０％ ＊）再沈を２回行った後表２ ポリマー Ｍｗ Ｅ＊＊ 相順＊＊＊ ２ １９０,０００ ２.１ ｇ５０.− ３ １１０,０００ ２.０ ｇ４９ＳA６５.− ４ １７０,０００ ２.１ ｇ４８ｉ ＊＊）均等度Ｅ＝Ｍｗ／Ｍｎ ＊＊＊）ＤＳＣ、Ｘ線回折、偏光顕微鏡による相モノマー８ ４−（６−ヒドロキシヘキソキシ）−３−メトキシ安息
香酸の製造
【０１０６】
【化２２】
【０１０７】撹拌機、還流コンデンサ、内部温度計およ
び滴下漏斗が備わっている７５０ｍＬのスルホン化用フ
ラスコの中に入っている１００ｍＬのエタノールと１０
０ｍＬの水の混合物に、４−ヒドロキシ−３−メトキシ
安息香酸を５０ｇ（０.３モル）懸濁させる。４５ｍＬ
の水の中に水酸化カリウムが４５ｇ（０.８モル）入っ
ている溶液を撹拌しながら滴下する。この溶液を沸騰す
るまで加熱した後、ヨウ化カリウムを約０.１ｇ加え
る。次に、還流下で４５分かけて６−クロロヘキサノー
ルを４５.１ｇ（０.３３モル）滴下する。この混合物を
更に２４時間還流させる。２４時間後、薄層クロマトグ
ラフィーで出発材料が検出されなくなる。この反応溶液
を冷却して酢酸で酸性にした後、ロータリーエバポレー
ターを用いて蒸発させる。その赤褐色結晶に、４００ｍ
Ｌの水の中に水酸化カリウムが５ｇ入っている溶液を加
え、この混合物を穏やかに温めた後、各場合とも６０ｍ
Ｌのエーテルと一緒に振とうすることによる洗浄を４回
行う。酢酸を用いて酸性にすると、生成物がその水相か
ら沈澱して来る。濾過し、水で洗浄した後、６０℃で乾
燥させることにより、粗生成物が６３．２ｇ得られる。
６００ｍＬのメタノールから再沈させることでベージュ
色の結晶が得られ、これは、薄層クロマトグラフィーに
従って高純度である。
【０１０８】収量：５０．４ｇ（６２．２％） 融点：１３３℃モノマー９ ３−メトキシ−４−（６−メタアクリロイルオキシヘキ
ソキシ）安息香酸４−メトキシフェニルの製造
【０１０９】
【化２３】
【０１１０】真空下で加熱することによって乾燥させた
２５０ｍＬの丸底フラスコに窒素下３−メトキシ−４−
（６−メタアクリロイルオキシヘキソキシ）安息香酸を
２９．６ｇ（０．０８８モル）、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ルフェノールを約０．５ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドを５滴入れる。
【０１１１】撹拌しながら１５分かけて塩化チオニルを
１０５．６ｇ（０．８８８モル）滴下する。更に撹拌す
ることによって透明な溶液が得られ、４０℃で３０分
後、ロータリーエバポレーターを用いて蒸留を行うこと
によって過剰量の塩化チオニルをその溶液から除去す
る。乾燥テトラヒドロフランを５０ｍＬ加えた後その混
合物を蒸発させる操作を繰り返す。この粗生成物を、精
製を行うことなしに次の反応で用いる。
【０１１２】５０ｍＬの丸底フラスコの中に入っている
１００ｍＬの乾燥トルエンに４−メトキシフェノールを
５．１６ｇ（０．０４４モル）およびトリエチルアミン
を６．６８ｇ（０．０６６モル）入れる。５０ｍＬのト
ルエンの中にその酸クロライドが１５．５ｇ（０．０４
４モル）入っている溶液を２５℃で撹拌しながら４５分
かけて滴下する。この混合物を５５℃で３時間そして室
温で更に１６時間撹拌した後、ロータリーエバポレータ
ーを用いて４０℃で蒸発させ、そしてその固体状残渣を
１００ｍＬのクロロホルムの中に取り上げる。この有機
相を１００ｍＬの水と一緒に振とうすることによる洗浄
を４回行う。硫酸ナトリウム上で乾燥させた後、その混
合物を真空中で蒸発させる。この残渣を各場合とも３０
０ｍＬの沸騰ｎ−ヘキサンと一緒に振とうすることによ
る洗浄を５回行った後、冷凍庫の中で結晶化させること
によって、粗生成物が９．６ｇ得られる。溶離剤として
塩化メチレンを用いてシリカゲルカラムに通すことによ
り、この結晶を精製する。最終的にメタノールから再沈
させることによって不純物を除去する。
【０１１３】収量：５．３ｇ（２７．６％） 融点：８３．７から８４．５℃モノマー１０ ３−メトキシ−４−（６−メタアクリロイルオキシヘキ
ソキシ）安息香酸ビフェニリルの製造
【０１１４】
【化２４】
【０１１５】モノマー９で記述した操作と同様にしてベ
ンゾイルクロライドを製造する。
【０１１６】５０ｍＬの乾燥トルエンに３−メトキシ−
４−（６−メタアクリロイルオキシヘキソキシ）ベンゾ
イルクロライドを１５．６ｇ（０．０４４モル）入れ
る。７．４９ｇ（０．０４４モル）の４−ヒドロキシビ
フェニルと６．６８ｇ（０．０６６モル）のトリエチル
アミンと１００ｍＬのトルエンが入っている溶液を滴下
する。５５℃で３時間後、微かに光る白色針状物の形態
で粗生成物が１６．３ｇ存在する。カラムクロマトグラ
フィーを用いてこの生成物の精製を行う。
【０１１７】収量：１０．８ｇ（５０．３％） 融点：９８．５から９９．５℃ポリマー５から１２ モノマー７、９および１０のホモ重合および共重合 この重合はポリマー２から４の製造で用いた操作に従
う。このホモポリマー類およびコポリマー類の特性を表
３および４に要約する。
【０１１８】表３ 実施例 モノマー／比率(モル％) モノマー／比率(モル％) 収率(％) ５ ９ − ７８.５ １００ ６ ９ ７ ７６.４ ７５ ２５ ７ ９ ７ ７２.６ ５０ ５０ ８ ９ ７ ７４.５ ２５ ７５ ９ １０ − ８２.２ １００ １０ １０ ７ ７９.９ ７５ ２５ １１ １０ ７ ８１.１ ５０ ５０ １２ １０ ７ ７９.６ ２５ ７５表４ 実施例 Ｍｗ Ｅ 相順／℃ ５ ２２０,０００ ２.５ ｇ４９ｉ ６ １７０,０００ ２.４ ｇ４２ｉ ７ ２６０,０００ ２.５ Ｇ４３ｉ ８ １００,０００ １.８ ｇ４５ｉ ９ ２００,０００ ２.２ ｇ６５ｎ８３ｉ １０ １９０,０００ ２.５ ｇ６０ｉ １１ １９０,０００ ２.５ ｇ５４ｉ １２ １１０,０００ ２.０ ｇ５０ｉ 同様な様式で、上述した側基（Ｉ）を有する好適なモノ
マー類をモノマー類１−５、９および１０そして上述し
た側基（ＩＩ）を有する好適なモノマー類と一緒にして
コポリマー類を生じさせることができる。
【０１１９】本発明の特徴および態様は以下のとおりで
ある。
【０１２０】１． バックボーンとして作用するポリ
（メタ）アクリレート主鎖と、それから分枝していて共
有結合している、下記の式：
【０１２１】
【化２５】
【０１２２】［式中、Ｓ1およびＳ2は、互いに独立し
て、ＯもしくはＳ原子またはＮＲ1基であり、Ｒ1は、水
素、Ｃ1−Ｃ6−アルキルまたはフェニルであり、Ｔ1お
よびＴ2は、互いに独立して、任意に−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＮＲ1−または−ＯＳｉＲ1 2Ｏ−が割り込んでいても
よい（ＣＲ1，Ｒ12）n基であり、ｎは、２から１２の整
数であり、Ｑ1およびＱ2は、互いに独立して、−Ｏ−、
−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ1−、−ＮＲ1ＣＯ
−、−ＮＲ1−、−Ｏ−Ｃ6Ｈ4−ＣＯＯ−または−Ｏ−
Ｃ6Ｈ4−ＣＯＮＲ1−であり、それによって追加的に、
組み合わせＳ1Ｒ1Ｑ1およびＳ2Ｔ2Ｑ2は、互いに独立し
て、
【０１２３】
【化２６】
【０１２４】であってもよく、Ｒ2からＲ6は、互いに独
立して、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−
Ｃ4−アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ、ＳＯ2ＣＨ3、ＳＯ2
ＮＨ2またはシアノであり、ここで、置換基Ｒ2からＲ6
の少なくとも１つは水素以外である必要があり、Ｒ7か
らＲ9は、互いに独立して、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキ
ル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、フェノキ
シ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルチオ、フェニルチオ、ハロゲ
ン、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3、ニトロ、シアン、Ｃ1−
Ｃ6−アルキルスルホニル、フェニルスルホニル、ＣＯ
ＯＲ1、アミノスルホニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノ
スルホニル、フェニルアミノスルホニル、アミノカルボ
ニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノカルボニル、フェニル
アミノカルボニルであり、Ｒ10は、水素、ハロゲン、Ｃ
1−Ｃ6−アルキル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキ
シ、フェノキシ、Ｃ1−Ｃ4−アシルアミノ、Ｃ1−Ｃ4−
アルキルスルホニルアミノであり、Ｒ11は、水素、ハロ
ゲン、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−
アルコキシ、フェノキシであり、Ｙは、直接結合、−Ｃ
ＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−
Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）または−Ｎ＝Ｎ−であ
り、そしてＸ1およびＸ2は、互いに独立して、水素、ヒ
ドロキシル、メルカプト、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3、
ハロゲン、シアン、ニトロ、ＣＯＯＲ1、Ｃ1−Ｃ6−ア
ルキル、Ｃ5−Ｃ12シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ12−アルコ
キシ、Ｃ1−Ｃ12−アルキルチオ、Ｃ6−Ｃ12−アリー
ル、Ｃ6−Ｃ12−アリールオキシ、Ｃ6−Ｃ12−アリール
チオ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルホニル、Ｃ6−Ｃ12−ア
リールスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1−Ｃ6−アル
キルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、ア
ミノカルボニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノカルボニ
ル、フェニルアミノカルボニル、Ｎ（Ｒ12，Ｒ13）、Ｎ
Ｈ−ＣＯ−Ｒ12、ＮＨ−ＳＯ2−Ｒ12、ＮＨ−ＣＯ−Ｎ
（Ｒ1，Ｒ2）、ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ12またはＳＯ2−Ｃ
Ｆ3であり、ここで、Ｒ12およびＲ13は、互いに独立し
て、水素、Ｃ1−Ｃ4−アルキルまたはフェニルである
が、但しＲ7からＲ11が水素を表しそして環ＢがＣ1−Ｃ
4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、ニトロまたはシ
アノで置換されている場合少なくとも１つの２番目の置
換基もまた環Ａ−Ｙ−環Ｂ系内に存在していることを条
件とする］に従う少なくとも１つの構造で表される側基
を有するポリマー類。
【０１２５】２． ｎが４から８の整数である第１項記
載のポリマー類。
【０１２６】３． ｎが６である第１項記載のポリマー
類。
【０１２７】４． その繰り返し単位が式
【０１２８】
【化２７】
【０１２９】［式中、Ｒは、Ｈまたはメチルであり、そ
してＳ1、Ｓ2、Ｔ1、Ｔ2、Ｑ1、Ｑ2、Ｘ1、Ｘ2、Ｙおよ
びＲ2からＲ11は、第１項で定義したのと同じである］
に従う第１項記載のポリマー類。
【０１３０】５． 構造（Ｉ）および（ＩＩ）で表され
る側鎖の存在下、基Ｑ1およびＱ2の少なくとも１つが−
Ｏ−Ｃ6Ｈ4−ＣＯＯ−または−Ｏ−Ｃ6Ｈ4−ＣＯＮＲ1
−の意味を有する第１項記載のポリマー類。
【０１３１】６． 基Ｔ1およびＴ2が互いに独立して−
(−ＣＨ2−)n−、−(−ＣＨ2−)m−ＣＨ(ＣＨ3)−(−Ｃ
Ｈ2−)o−、−(−ＣＨ2−)m−Ｃ(ＣＨ3)2−(−ＣＨ2−)
o−、−(−ＣＨ2−)m−Ｏ−(−ＣＨ2−)o−および−(−
ＣＨ2−)m−Ｎ(ＣＨ3)−(−ＣＨ2−)o−、を表し、ここ
で、ｎが２から６の整数であり、そしてｍおよびｏが互
いに独立してゼロから２の整数であってこれの合計が少
なくとも１である第１項記載のポリマー類。
【０１３２】７． 光学構成要素のための第１から４項
記載ポリマー類の使用。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５１６ 7215−5Ｄ (72)発明者 デイートリヒ・ハーラー ドイツ95448バイロイト・ハングベーク30 (72)発明者 ヨアヒム・リユブナー ドイツ10409ベルリン・シユトルコバーシ ユトラーセ30 (72)発明者 ローラント・ブトケ ドイツ95448バイロイト・シユテユツクベ ルクシユトラーセ11ツエー (72)発明者 ウベ・クラウセン ドイツ51379レーフエルクーゼン・アムバ ツサートウルム15ベー (72)発明者 ラルフ・ルーマン ドイツ12618ベルリン・トレンゼーシユト ラーセ13 (72)発明者 ホルスト・ベルネト ドイツ51373レーフエルクーゼン・エルフ ルターシヨトラーセ１ (72)発明者 セルゲイ・コストロミン ドイツ53913スビストタールーブツシユホ ーフエン・カテリネンシユトラーセ28 (72)発明者 ラルフ・ナイクル ドイツ51515キユルテンーアイヒホフ・リ ンドララーシユトラーセ４

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 バックボーンとして作用するポリ（メ
    タ）アクリレート主鎖と、それから分枝していて共有結
    合している、下記の式： 【化１】 ［式中、Ｓ1およびＳ2は、互いに独立して、Ｏもしくは
    Ｓ原子またはＮＲ1基であり、Ｒ1は、水素、Ｃ1−Ｃ6−
    アルキルまたはフェニルであり、Ｔ1およびＴ2は、互い
    に独立して、任意に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ1−または
    −ＯＳｉＲ1 2Ｏ−が割り込んでいてもよい（ＣＲ1，Ｒ
    12）n基であり、ｎは、２から１２の整数であり、Ｑ1お
    よびＱ2は、互いに独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−
    ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ1−、−ＮＲ1ＣＯ−、−ＮＲ
    1−、−Ｏ−Ｃ6Ｈ4−ＣＯＯ−または−Ｏ−Ｃ6Ｈ4−Ｃ
    ＯＮＲ1−であり、それによって追加的に、組み合わせ
    Ｓ1Ｒ1Ｑ1およびＳ2Ｔ2Ｑ2は、互いに独立して、 【化２】 であってもよく、Ｒ2からＲ6は、互いに独立して、水
    素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコ
    キシ、ＣＦ3、ニトロ、ＳＯ2ＣＨ3、ＳＯ2ＮＨ2または
    シアノであり、ここで、置換基Ｒ2からＲ6の少なくとも
    １つは水素以外である必要があり、Ｒ7からＲ9は、互い
    に独立して、水素、Ｃ1−Ｃ6−アルキル、ヒドロキシ
    ル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、フェノキシ、Ｃ1−Ｃ6−ア
    ルキルチオ、フェニルチオ、ハロゲン、ＣＦ3、ＣＣ
    ｌ3、ＣＢｒ3、ニトロ、シアン、Ｃ1−Ｃ6−アルキルス
    ルホニル、フェニルスルホニル、ＣＯＯＲ1、アミノス
    ルホニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノスルホニル、フェ
    ニルアミノスルホニル、アミノカルボニル、Ｃ1−Ｃ6−
    アルキルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル
    であり、Ｒ10は、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6−アルキ
    ル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキシ、フェノキ
    シ、Ｃ1−Ｃ4−アシルアミノ、Ｃ1−Ｃ4−アルキルスル
    ホニルアミノであり、Ｒ11は、水素、ハロゲン、Ｃ1−
    Ｃ6−アルキル、ヒドロキシル、Ｃ1−Ｃ6−アルコキ
    シ、フェノキシであり、Ｙは、直接結合、−ＣＯＯ−、
    −ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｏ−、−
    ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）または−Ｎ＝Ｎ−であり、そし
    てＸ1およびＸ2は、互いに独立して、水素、ヒドロキシ
    ル、メルカプト、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3、ハロゲ
    ン、シアン、ニトロ、ＣＯＯＲ1、Ｃ1−Ｃ6−アルキ
    ル、Ｃ5−Ｃ12シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ12−アルコキ
    シ、Ｃ1−Ｃ12−アルキルチオ、Ｃ6−Ｃ12−アリール、
    Ｃ6−Ｃ12−アリールオキシ、Ｃ6−Ｃ12−アリールチ
    オ、Ｃ1−Ｃ6−アルキルスルホニル、Ｃ6−Ｃ12−アリ
    ールスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキ
    ルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、アミ
    ノカルボニル、Ｃ1−Ｃ6−アルキルアミノカルボニル、
    フェニルアミノカルボニル、Ｎ（Ｒ12，Ｒ13）、ＮＨ−
    ＣＯ−Ｒ12、ＮＨ−ＳＯ2−Ｒ12、ＮＨ−ＣＯ−Ｎ
    （Ｒ1，Ｒ2）、ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ12またはＳＯ2−Ｃ
    Ｆ3であり、ここで、Ｒ12およびＲ13は、互いに独立し
    て、水素、Ｃ1−Ｃ4−アルキルまたはフェニルである
    が、但しＲ7からＲ11が水素を表しそして環ＢがＣ1−Ｃ
    4−アルキル、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、ニトロまたはシ
    アノで置換されている場合少なくとも１つの２番目の置
    換基もまた環Ａ−Ｙ−環Ｂ系内に存在していることを条
    件とする］に従う少なくとも１つの構造で表される側基
    を有するポリマー類。
  2. 【請求項２】 構造（Ｉ）および（ＩＩ）で表される側
    鎖の存在下、基Ｑ1およびＱ2の少なくとも１つが−Ｏ−
    Ｃ6Ｈ4−ＣＯＯ−または−Ｏ−Ｃ6Ｈ4−ＣＯＮＲ1−の
    意味を有する請求項１記載のポリマー類。
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