JP2002541522A - 書き込みできるブルー・レーザー用の光記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のための光記録材料、その製造法及びその波長約４００ｎｍにおける記憶材料としての使用法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 （技術分野） 本発明は、２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のた
めの光記録材料、その製造法及びその波長約４００ｎｍにおける記憶材料として
の使用法に関する。

【０００２】 （背景の技術） アゾ染料を化学光に対するアンテナとして有する２及び／または多ビット及び
／またはボリュームデータの記憶のための材料は過去の技術においてすでに存在
している。特に、アゾ染料に加えて、形態異方性（ｆｏｒｍ ａｎｉｓｏｔｒｏ
ｐｙ）を有する成分も側鎖として使用されている側鎖ポリマ−種は、光で誘導で
きる複屈折の程度によって識別される。これらの材料において、染料は形態異方
性を有する成分と組合わさって、適当な波長の偏光が照射された時に化学光（ａ
ｃｔｉｎｉｃ ｌｉｇｈｔ）の場で配向し、光で誘導された複屈折が構築される
。

【０００３】 米国特許第５３８４２２１号は、偏光された電磁照射線の照射時に空間的配置
を変える少くとも１つのポリマ−及び／またはオリゴマ−アゾ染料、及び随時形
態異方性を有する少くとも１つのグル−ピング（ｇｒｏｕｐｉｎｇ）を含んでな
る２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のための光記録
材料を記述している。

【０００４】 しかしながら、これらの材料はすべての必要条件に適合せず、特にその４００
ｎｍにおける吸収性（高すぎる光学濃度（ｏｐｔｉｃａｌ ｄｅｎｓｉｔｙ））
のために、データの記憶に使用できない。反射構造では、化学光が原子の数層後
の記録層にすでに顕著に吸収されており、化学光が記録材料の全厚さに作用でき
ない。一方これは、光情報の記憶中に、光の吸収のためにかなりの温度上昇が起
こることを意味する。試料温度のかなりの上昇は、少くとも２０℃、更に正確に
は少くとも５０℃、特に１００℃以上、殊に特に少くとも１４０℃の温度上昇を
意味するものとして理解される。この温度上昇は、例えばＩＲサ−マルヘッド
（ｔｈｅｒｍａｌ ｈｅａｄ）［インフラメトリクス・サ−モカム（Ｉｎｆｒａ
ｍｅｔｒｉｃｓ Ｔｈｅｒｍｏｃａｍ）ＰＭ２９０］で測定できる。

【０００５】 一方高吸収は、書き込みのために使用された波長を用いる、光で誘導された情
報の読取りを妨害する。記録材料から検知構造に達する光は弱すぎて、適切な信
号／ノイズ比を持たない。検知される光の強度が大程度に散乱バックグランドか
ら際立っている時に、適切な信号／ノイズ比は存在する。

【０００６】 これらの公知の材料は、再書き込みに適切な性能を示さない。線形偏光された
光を照射した場合、先に誘導された複屈折は、化学光の偏光方向を例えば９０°
回転させることにより削除できることがすでに示されている。他に、複屈折は、
例えば円偏光された光によって減じることができる。しかしながら、円偏光され
た光の照射による再書き込み操作中、過去の技術では等方性試料への書き込みで
達成されたような複屈折値は形成されない。

【０００７】 上述した理由（高すぎる光学濃度）のために、再書き込みは、特に約４００ｎ
ｍにおいて可能でなかった。

【０００８】 しかしながら、４００ｎｍにおける書き込み性能は、青色レーザーダイオード
（ＮＩＣＨＩＡ）が高記憶密度を発生させうるから、丁度商業的に得られるよう
になったこのレーザーダイオードを使用するのに非常に重要である。

【０００９】 従って青色レーザーダイオードの波長範囲において光データを記憶するために
使用できる記録材料が必要とされる。この材料は青色スペクトル領域（約４００
ｎｍ）に露呈した時、緑色スペクトル領域（約５１５ｎｍ）に露呈した時に匹敵
する値の光で誘導された複屈折をプンクト（ｐｕｎｃｔｏ）に達成すべきである
。更にそれは再書き込みできる性能を有すべきである。

【００１０】 驚くべきことに今回、本明細書に記述される記録材料は上述した必要条件に適
合することが発見された。

【００１１】 （発明の説明） 本発明は、２及び／または多ビット及び／またはボリュームデータの記憶のた
めに使用でき、照射時に空間的配列を変える少くとも１つのポリマ−及び／また
はオリゴマ−アゾ染料、及び随時少くとも１つの形態異方性を有するグル−ピン
グを含んでなる、光記録材料を提供する。本記録材料は、 −染料の吸収最大が４００ｎｍから少くとも３０ｎｍ、好ましくは４０ｎｍ異な
り、 −染料が、４００ｎｍにおいてその最大吸収の高々６０％の光学濃度に達し、 −化学光の偏光状態を変えることによって再書き込みの能力があり、削除／再書
き込みサイクル後に元の値の少くとも８０％の強度が達成され、そして −その他の条件が同じで４００ｎｍにおいて、書き込み操作が５００ｎｍにおけ
るものと同程度に遅く進行し、またここに誘導された複屈折値が５００ｎｍで誘
導された複屈折値と１０％以上異ならない、 ということが特徴である。

【００１２】 これは、例えば染料の最大吸収（ＡＭ）が３７０ｎｍ以下、好ましくは３６０
ｎｍ以下であるポリマ−によって達成される。

【００１３】 しかしながら、染料の最大吸収が４５０ｎｍ以上であるポリマ−及び／または
オリゴマ−を使用することもできる。

【００１４】 非常に良好な結果は、記録材料が、少くとも１つの成分のＡＭが４５０ｎｍ以
上であり且つ少くとも１つの成分のＡＭが３６０ｎｍ以下であるものを含んでな
るコポリマ−を含んでなる場合に達成された。

【００１５】 特に有利な効果は最大吸収を持つ吸収帯が特に狭い場合に達成できる。

【００１６】 更に、本発明による記録材料が、厚さ２５０ｎｍの固体状態において、３８０
−４２０ｎｍ、好ましくは３９０−４１０ｎｍ、特に好ましくは３９５−４０５
ｎｍの波長範囲の波長で、≦１、好ましくは０．５以下またはそれに同じ、特に
好ましくは０．３以下またはそれに同じ光学濃度を有することは、特に特記すべ
きことである。

【００１７】 光学濃度は、市販のＵＶ／ＶＩＳ分光計［例えば、カリ−（ＣＡＲＹ）４Ｇ型
ＵＶ／ＶＩＳ分光計］で決定できる。

【００１８】 このことが保証されるならば、記録材料を好ましくは３８０−４２０ｎｍ、特
に好ましくは３９０−４１０ｎｍ、殊に好ましくは３９５−４０５ｎｍのレーザ
ー波長範囲の電磁照射（光）で処理することにより、本発明による効果は有利な
具合に達成できる。

【００１９】 最も有利な場合には、読取り過程が同一の波長の光で行えるべきである。これ
がいくつかの場合に可能でないならば、その波長はより長くなるが、好ましくは
僅かだけより長くなるべきである。

【００２０】 化学光への露呈後の染料の再配列は、例えば偏光された吸収分光学的研究で分
かる。化学光に予め露呈した試料を、染料の吸収スペクトル領域において、ＵＶ
／ＶＩＳ分光計［例えば、カリ−（ＣＡＲＹ）４Ｇ型ＵＶ／ＶＩＳ分光計］によ
り２つの偏光子（ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）間で検討する。試料をそれに垂直な方向
で回転させた時並びに偏光子を、例えば交差状態の適当な位置で用いた場合、染
料の再配列は試料の角度の関数として吸光強度過程から引き続き起こり、結果と
してそれが明白に決定できる。

【００２１】 以下において、よりしばしば重要となる重要な因子は、分子の長軸の配向であ
る。分子の長軸は、例えば分子模型（例えばセリウス（ＣＥＲＩＵＳ² ））によ
る分子の形の助けを借りて決定することができる。

【００２２】 本発明による染料の重要な因子は、書き込み操作後の化学光への感度である。

【００２３】 例えばホログラフィ−記録の感度は、化学光に対する分子の感度の尺度である
。それは、例えばホログラフィー生長曲線から、即ち書き込み光線により付与さ
れたエネルギーの関数としての、回折効率（＝読取りレーザーの入射強度に関す
る回折された強度）の発生から計算される。この強度は付与されたエネルギーに
よる回折効率の平方根の増加として定義され、記憶媒体の厚さに対して規格化さ
れる。

【００２４】 顕微鏡的レベルにおいて、感度はフォトンが分子を電子の基底状態から、概し
てシス型で記述される励起状態へ変える確率を意味する。

【００２５】 染料は、例えば化学光の偏光の方向に対して垂直な方向で折重なることにより
、また長軸が化学光の偏光の方向に対して１０−９０°、好ましくは５０−９０
°、特に好ましくは７５−９０°、殊に好ましくは８５−９０°の角度で存在す
るようになることにより、その吸収性、特にその化学光に対する感度を減じる。
この時そのような染料は偏光性（ｐｏｌａｒｉｚａｂｉｌｉｔｙ）テンソルの成
分がもはや化学光と反応しないならばもはや書き込み操作には関与せず、そして
削除操作後の再新の書き込み時に、前の書き込み中に達成された複屈折がもはや
達成されない。そのような染料は例えばその偏光性テンソルが長軸を有するとい
うことで特徴付けられる。

【００２６】 誘導された複屈折が書き込まれた後の本発明による染料の化学光に対する感度
が最終値に保持され、そしてこの感度が分子の長軸が化学光の偏光方向に対して
垂直であるとき元の値の少くとも５％、好ましくは１０％、好ましくは１５％、
好ましくは２０％であるということは、本発明にとって必須である。

【００２７】 記録材料への数回の再書き込みはこのようにして可能である。削除操作後に達
成される光で誘導された複屈折値は、先の値から、高々２０％、好ましくは１０
％、特に好ましくは５％、殊に好ましくは高々１％しか違わない値を達成する。

【００２８】 数回再書き込みできる性能とは、少くとも２回、好ましくは少くとも１０回、
特に好ましくは少くとも１００回、殊に好ましくは少くとも１０００回の書き込
み／削除サイクルが行えることを意味すると理解される。

【００２９】 電磁照射と相互作用する基は、アゾ染料である。結果として本発明による材料
は少くとも１つのアゾ染料を含んでなる。

【００３０】 アゾ染料は、例えば次の式（Ｉ）

【００３１】

【化６】

【００３２】 ［式中、Ｒ¹ 及びＲ² は互いに独立に水素または非イオン性置換基を表し、そ して ｍ及びｎは互いに独立に０−４、好ましくは０−２の整数を表し、但し Ｘ¹ 及びＸ² はＸ¹´−Ｒ³ またはＸ²´−Ｒ⁴ を示し、 Ｘ¹´及びＸ²´は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ⁵ ）−、−Ｃ（Ｒ ⁶Ｒ⁷ ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ⁵ ）−、 −（ＳＯ₂ ）−、−（ＳＯ₂ −Ｏ）−、−（ＳＯ₂ −ＮＲ⁵ ）−、−（Ｃ＝ ＮＲ⁸ ）−、または−（ＣＮＲ⁸ −ＮＲ⁵ ）−を表し、 Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 及びＲ⁸ は互いに独立に水素、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル−（Ｃ＝Ｏ）− 、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ） −、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（ＳＯ₂ ）−、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル−（Ｓ Ｏ₂ ）−、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル−（ＳＯ₂ ）−、またはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ− ル−（ＳＯ₂ ）−を表し、或いは Ｘ¹´−Ｒ³ 及びＸ²´−Ｒ⁴ は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ＣＦ₃ 、 またはＣＣｌ₃ を表すことができ、 Ｒ⁶ 及びＲ⁷ は互いに独立に水素、ハロゲン、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₁ − Ｃ₂₀アルコキシ、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル、また はＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ルを表す］ の構造を有する。

【００３３】 非イオン性置換基は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₁
−Ｃ₂₀アルコキシ、フェノキシ、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケ
ニルまたはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₆ −Ｃ ₁₀ アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（ＳＯ₂ ）−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀ア
ルキル−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ₆ −
Ｃ₁₀アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、
Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−またはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−ＮＨ−
（Ｃ＝Ｏ）−を意味するものとして理解すべきである。

【００３４】 アルキル、シクロアルキル、アルケニル及びアリ−ル基は、順次ハロゲン、シ
アノ、ニトロ、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルコキシ、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロ
アルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニルまたはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ルからなる群からの３
つまでの基で置換されていてもよく、このアルキル及びアルケニル基は直鎖また
は分岐鎖であってよい。

【００３５】 ハロゲンはフッ素、塩素、臭素及びヨウ素、特にフッ素及び塩素を意味するも
のと理解すべきである。

【００３６】 本発明による記録材料は、好ましくはポリマ−またはオリゴマ−の有機非晶性
材料、特に好ましくは側鎖ポリマ−である。

【００３７】 側鎖ポリマ−の主鎖は、次の基本的構造に由来する：ポリアクリレ−ト、ポリ
メタクリレ−ト、ポリシロキサン、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステルま
たはセルロース。ポリアクリレ−ト及びポリメタクリレ−トは好適である。

【００３８】 染料、特に式（Ｉ）のアゾ染料は、概してスペ−サ−を介してこれらのポリマ
−マトリックスに共有結合している。例えばこの時Ｘ¹ （またはＸ² ）は、特に
式 Ｘ¹´−（Ｑ¹ ）_i −Ｔ¹ −Ｓ¹ − ［式中、Ｘ¹´は上述した意味を有し、 Ｑ¹ は−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ⁵ ）−、−Ｃ（Ｒ⁶ Ｒ⁷ ）−、−（Ｃ＝ Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ⁵ ）−、−（ＳＯ₂ ）−、− （ＳＯ₂ −Ｏ）−、−（ＳＯ₂ −ＮＲ⁵ ）−、−（Ｃ＝ＮＲ⁸ ）−、または −（ＣＮＲ⁸ −ＮＲ⁵ ）−、−（ＣＨ₂）_p −、ｐ−またはｍ−Ｃ₆ Ｈ₄ − 或いは式

【００３９】

【化７】

【００４０】 の２価の基を表し、 ｉは０−４の整数を表し、但しｉ＞１の時各Ｑ¹ は異なる意味を有すること ができ、 Ｔ¹ は−（ＣＨ₂）_p −を表し、但しこの鎖は−Ｏ−、−ＮＲ⁹ −または− ＯＳｉＲ¹⁰ ₂ Ｏ−が介在していてよく、 Ｓ¹ は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ⁹ −を表し、 ｐは２−１２、好ましくは２−８、特に２−４の整数を表し、 Ｒ⁹ は水素、メチル、エチルまたはプロピルを表し、 Ｒ¹⁰はメチルまたはエチルを表し、そして Ｒ⁵ −Ｒ⁸ は上述した意味を有する］ を意味する場合、そのようなスペ−サ−を表す。

【００４１】 ポリアクリレ−トまたはメタクリレ−トに対する好適な染料モノマ−は、式
（II）

【００４２】

【化８】

【００４３】 ［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして 他の基は上述した意味を有する］ を持つ。

【００４４】 特に好適な染料モノマ−は式（IIａ）

【００４５】

【化９】

【００４６】 ［式中、Ｘ³ はＣＮ及び他のすべての公知の電子吸引性置換基を示し、またそ の時Ｒ¹ も好ましくはＣＮであり、そして 基Ｒ、Ｓ¹ 、Ｔ¹ 、Ｑ¹ 、Ｘ¹´、及びＲ² 、並びにｉ、ｍ、及びｎは上述 の意味を有する］ のものである。

【００４７】 本発明によるポリマ−またはオリゴマ−の有機非晶性材料は、例えば式（Ｉ）
の染料の他に、形態異方性を有するグル−ピングを持つことができる。これらも
、概してスペ−サ−を通してポリマ−マトリックスに共有結合している。

【００４８】 形態異方性を有する基は、例えば式（III）

【００４９】

【化１０】

【００５０】 ［式中、Ｚは式

【００５１】

【化１１】

【００５２】 の基を表し、但し Ａは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−を表し、 Ｘ³ は−Ｘ³´−（Ｑ² ）_j −Ｔ² −Ｓ² −を表し、 Ｘ⁴ はＸ⁴´−Ｒ¹³を表し、 Ｘ³´及びＸ⁴´は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ⁵ ）−、−Ｃ（Ｒ ⁶Ｒ⁷）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ⁵ ）−、− （ＳＯ₂）−、−（ＳＯ₂ −Ｏ）−、−（ＳＯ₂ −ＮＲ⁵ ）−、−（Ｃ＝Ｎ Ｒ⁸ ）−、または−（ＣＮＲ⁸ −ＮＲ⁵ ）−を表し、 Ｒ⁵ 、Ｒ⁸ 及びＲ¹³は互いに独立にＣ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロ アルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキ ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₂ −Ｃ₂₀ アルケニル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₁ −Ｃ ₂₀アルキル−（ＳＯ₂ ）−、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル−（ＳＯ₂ ）−、Ｃ ₂ −Ｃ₂₀アルケニル−（ＳＯ₂ ）−、またはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−（ＳＯ₂ ）−を表し、或いは Ｘ⁴´−Ｒ¹³は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ＣＦ₃ 、またはＣＣｌ₃ を表すことができ、 Ｒ⁶ 及びＲ⁷ は互いに独立に水素、ハロゲン、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₁ − Ｃ₂₀アルコキシ、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル、また はＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ルを表し、 Ｙは単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ ＯＮ（ＣＨ₃ ）−、−Ｎ（ＣＨ₃ ）ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、または−Ｎ （ＣＨ₃ ）−を表し、 Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹⁵は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル 、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルコキシ、フェノキシ、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル、Ｃ₂ − Ｃ₂₀アルケニルまたはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（Ｃ＝Ｏ ）−、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（ＳＯ₂ ）−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（Ｃ ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀ア ルキル−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−また はＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−ＮＨ−（Ｃ＝Ｏ）−を表し、 ｑ、ｒ及びｓは互いに独立に０−４、好ましくは０−２の整数を表し、 Ｑ² は−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ⁵ ）−、−Ｃ（Ｒ⁶ Ｒ⁷ ）−、−（Ｃ＝ Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ⁵ ）−、−（ＳＯ₂ ）−、− （ＳＯ₂ −Ｏ）−、−（ＳＯ₂ −ＮＲ⁵ ）−、−（Ｃ＝ＮＲ⁸ ）−、−（Ｃ ＮＲ⁸ −ＮＲ⁵ ）−、−（ＣＨ₂ ）_p −、ｐ−またはｍ−Ｃ₆ Ｈ₄ −或いは 式

【００５３】

【化１２】

【００５４】 の基を表し、 ｊは０−４の整数を表し、但しｊ＞１の時各Ｑ¹ は異なる意味を有していて よく、 Ｔ² は−（ＣＨ₂ ）_p −を表し、但しこの鎖には−Ｏ−、−ＮＲ⁹ −、また は−ＯＳｉＲ¹⁰ ₂ Ｏ−が介在してよく、 Ｓ² は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ⁹ −を表し、 ｐは２−１２、好ましくは２−８、特に２−４の整数を表し、 Ｒ⁹ は水素、メチル、エチル、またはプロピルを表し、そして Ｒ¹⁰メチルまたはエチルを表す］ の構造を有する。

【００５５】 ポリアクリレ−トまたはメタクリレ−トに好適な形態異方性を有するそのよう
なグル−ピングを持つモノマ−は、式（IV）

【００５６】

【化１３】

【００５７】 ［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして 他の基は上述した基を有する］ を有する。

【００５８】 式（IV）の形態異方性を持つ特に好適なモノマ−は、例えば

【００５９】

【化１４】

【００６０】 である。

【００６１】 アルキル、シクロアルキル、アルケニル及びアリ−ル基は、順次ハロゲン、シ
アノ、ニトロ、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルコキシ、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロ
アルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル、またはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ルからなる群からの
基で３つまで置換されていてもよい。但しこのアルキル及びアルケニル基は直鎖
でも分岐鎖でもよい。

【００６２】 ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素、特にフッ素及び塩素を意味す
るものと理解すべきである。

【００６３】 本発明によるオリゴマ−またはポリマ−は、これらの機能性単位の他に、主に
機能性単位、特に染料単位のパーセント含量を低下させるのに役立つ単位を含ん
でいてもよい。それらは、この役割に加えて、オリゴマ−またはポリマ−の他の
性質、例えばガラス転移イオン度、液晶性、フィルム形成性に関わる機能があっ
てよい。

【００６４】 ポリアクリレ−トまたはポリメタクリレ−トの場合、そのようなモノマ−は式
（Ｖ）

【００６５】

【化１５】

【００６６】 ［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして Ｒ¹⁴は随時分岐していてもよいＣ₁ −Ｃ₂₀アルキルを表し、または少くとも １つの更なるアクリル単位を含む基を表す］ のアクリル酸またはメタクリル酸エステルである。

【００６７】 しかしながら、他のコポリマ−も存在しうる。

【００６８】 この時、本発明によるポリアクリレ−トまたはポリメタクリレートは、反復単
位として、好ましくは式（VI）のもの、好ましくは（VI）及び（VII）または式
（VI）及び（VIII）のもの或いは式（VI）、（VII）及び（VIII）のものを含
んでなる：

【００６９】

【化１６】

【００７０】 ［式中、基は上述した意味を有する］。

【００７１】 式（VI）の反復単位及び／または式（VII）及び／または（VIII）の反復単位
のいくつかが存在することも可能である。

【００７２】 VI、VII、及びVIII間の量比は所望の通りであってよい。好ましくはVIの濃度
は、VIの吸光係数に依存して、その混合物に基づいて０．１−１００％である。
VII及びVIII間の比は１００：０−１：９９、好ましくは１００：０−３０：７
０、特に好ましくは１００：０−５０：５０である。

【００７３】 本発明によるポリマ−及びオリゴマ−は、好ましくは少くとも４０℃のガラス
転移温度Ｔ_g を有する。このガラス転移温度は、例えばＢ．ボルマ−（Ｖｏｌｌ
ｍｅｒ）、「高分子化学の基本」、４０６−４１０ページ、スプリンガ−出版
（Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ，Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ）、１９６２年の方
法で決定できる。

【００７４】 本発明によるポリマ−及びオリゴマ−は、ゲルパ−ミエ−ションクロマトグラ
フィ−（ポリスチレンで較正）により重量平均として決定して、５０００−２０
０００００、好ましくは８０００−１５０００００の分子量を有する。

【００７５】 ポリマ−及びオリゴマ−の構造の結果として、式（VI）の構造要素の相互の或
いは式（VII）及び（VIII）の相互の分子間相互作用は、整然とした液晶状態の
形成が抑制され、また光学的に等方性で、透明な、非散乱性フィルム、ホイル、
シート、または平行六面体ができるように形成される。一方それにもかかわらず
分子間相互作用は、フォトクロミック及び非フォトクロミック側鎖基の光化学的
に誘導された、協同的な、方向の向いた再配列過程が光の照射時に行えるのに十
分強い。

【００７６】 好ましくは式（VI）の反復単位の側鎖基間または式（VI）及び（VII）のそれ
の間で起こる相互作用力は、式（VI）の側鎖基の光誘導された立体配座変化が、
他の側鎖基（（VI）及び／または（VII））の同一方向での再配列、即ちいわゆ
る協同性を引き起こすのに十分である。

【００７７】 光学的異方性の非常に高い値は、光学的等方性の非晶性フォトクロミックポリ
マ−中に誘導することができる（０．４までのΔｎ）。

【００７８】 配列の状態は、化学光の作用により、ポリマ−またはオリゴマ−中に生じ、改
変され、かくしてその光学的性質が変調される。

【００７９】 用いる光は偏光であり、その波長は吸収帯の領域、好ましくは式（VI）の反復
単位の長波長ｎ−π* 帯の領域にある。

【００８０】 ポリマ−及びオリゴマ−は、文献から、例えばＤＤ第２７６２９７号、独国特
許第３８０８４３０号、マクロモレキュラレ・ヘミ−（Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕ
ｌａｒｅ Ｃｈｅｍｉｅ）、１８７、１３２７−１３３４（１９８４）、ＳＵ第
８８７５７４号、ヨ−ロプ・ポリム（Ｅｕｒｏｐ．Ｐｏｌｙｍ．）、１８、５６
１（１９８２）、及びリク・クリスト（Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．）、２、１９５
（１９８７）から公知の方法で製造できる。

【００８１】 本発明による記録材料またはポリマ−の他の製造法は、少くとも１つのモノマ
−を更なる溶媒なしに重合させる方法を含んでなる。この場合、それは好ましく
は遊離基で重合せしめられ、また重合は特に好ましくは遊離基開始剤及び／また
はＵＶ光及び／または熱で開始される。

【００８２】 反応は２０−２００℃、好ましくは４０−１５０℃、特に好ましくは５０−１
００℃、殊に好ましくは約６０℃の温度で行われる。

【００８３】 特別な具体例において、ＡＩＢＮは遊離基開始剤として使用される。

【００８４】 他の、好ましくは液体のモノマ−を一緒に使用することはしばしば好ましいと
判明した。これは反応温度において液体であり且つ好ましくはオレフィン性不飽
和モノマ−であるモノマ−、特に好ましくはアクリル酸及びメタクリル酸に基づ
くもの、殊に好ましくはメタクリル酸メチルを意味するものと理解される。

【００８５】 コポリマ−中の式（II）のモノマ−の含量は、好ましくは０．１−９９．９重
量％、特に好ましくは０．１−５０重量％、殊に好ましくは０．１−５重量％、
最も好ましくは０．５−２重量％である。

【００８６】 特に適当な材料は、式ＸIII−ＸＸのポリマ−の少くとも１つを含んでなる。

【００８７】

【化１７】

【００８８】

【化１８】

【００８９】

【化１９】

【００９０】 本発明は、実施例１．２に示す式に類似の適当なモノマ−に対する製造法も提
供する。

【００９１】 この方法は、テレフタル酸ジクロリドを、不活性な溶媒、例えばジオキサン中
、室温−１１０℃の温度で、アミノベンゼンまたは置換アミノベンゼンと少くと
も等モル量で撹拌し、非対称の部分的アミドを定量的に生成させ、これを直ぐに
吸引濾別することが特徴である。同業者は、置換アミノベンゼンも勿論適当であ
ることが直ぐに分る。そして生成物を随時溶媒で再び洗浄する。随時置換された
４−（カルボキシクロリド）−安息香酸（４´−フェニルアゾ）−ベンズアミド
が得られる。

【００９２】 更に本発明は、そのような方法で製造される非対称テレフタルアミド、及び実
施例１．２に従って製造できる随時置換された非対称テレフタルアミド及びその
アクリレ−ト及びメタクリレートも提供する。

【００９３】

【化２０】

【００９４】 本発明は、本明細書の実施例１．３によるモノマ−も提供する。勿論それは置
換形でも製造できる。

【００９５】

【化２１】

【００９６】 フィルム、ホイル、シート及び平行六面体は、外部での場を使用する及び／ま
たは表面効果が必要である経費のかかる配向工程なしに製造できる。それらは、
スピンコーティング、ディッピング、注入または技術的に容易に行える他のコー
ティング法で基板に適用でき、プレスまたは流入により２つのシート間に導入で
き、或いはキャストまたは押出しにより自己支持材料として単に製造することが
できる。そのようなフィルム、ホイル、シート及び平行六面体は、急速冷却によ
り、即ち＞１００Ｋ／分の冷却速度により製造でき、或いは溶媒の迅速除去によ
って記述される意味において構造要素を含む液晶ポリマ−またはオリゴマ−から
も製造できる。

【００９７】 ２及び／または多ビット及び／またはボリュ−ムのデータ記憶のための記録材
料の好適な製造法は、記憶媒体をスピンコーティングで適用する工程を含んでな
る。

【００９８】 ホログラフィ−ボリュ−ム記憶系の好適な製造法は、３００℃まで、好ましく
は２２０℃まで、特に好ましくは１８０℃までの範囲の、通常の成形法による工
程を含んでなる。

【００９９】 層の厚さは、≧０．１ｍｍ、好ましくは≧０．５ｍｍ、特に好ましくは≧１ｍ
ｍである。ｍｍ範囲の層の、特に好適な製造法は、射出成形法である。この場合
には、ポリマ−溶融物をノズルを通して成形ホルダー中へ圧入し、それから冷却
後に取り出す。 実施例 実施例１ モノマ−の製造 １．１

【０１００】

【化２２】

【０１０１】 ジオキサン２００ｍｌ中４−アミノジフェニルエ−テル８５．９ｇを、ジオキ
サン２００ｍｌ中４−（２−メタクリロイロキシ）−エトキシ−安息香酸クロリ
ド１２５ｇの溶液に添加し、この混合物を２時間撹拌し、この溶液を２リットル
の水に注ぐことによって生成物を沈殿させた。沈殿を吸引濾別し、乾燥し、イソ
プロパノ−ルから２回再結晶させることにより精製した。収率は理論量の８０％
であった。融点＝１２３℃。 １．２

【０１０２】

【化２３】

【０１０３】 ジオキサン４００ｍｌ中４−アミノアゾベンゼン５９ｇを、ジオキサン１００
０ｍｌ中テレフタル酸ジクロリド２０３ｇの溶液に添加し、この混合物を１時間
撹拌した。沈殿を吸引濾別し、ジオキサンで洗浄し、高真空下に１１０℃で８時
間乾燥した。４−（カルボキシクロリド）−安息香酸（４´−フェニルアゾ）−
ベンズアミドの収量は９２．８ｇであった。融点＝１２３℃。 元素分析： Ｃ₂₀Ｈ₁₄ＣｌＮ₃Ｏ₂ （３６３．８１） 計算値：Ｃ６６．０３；Ｈ３．８８；Ｃｌ１９．７５；Ｎ１１．５５ 分析値：Ｃ６６．１０；Ｈ４．００；Ｃｌ１９．７０；Ｎ１１．７０ ピリジン２５ｍｌ中２−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト２６ｇを、ＤＭＦ２
００ｍｌ中の、上で得た物質３６．４ｇの溶液に添加し、この混合物を１００℃
で２時間撹拌し、この溶液を１リットルの水に注ぐことによって生成物を沈殿さ
せた。沈殿を吸引濾別し、乾燥し、トルエン／酢酸エチル（１：１）を用いるシ
リカゲルでのクロマトグラフィ−で精製した。収率は理論量の４０％であった。 元素分析： Ｃ₂₆Ｈ₂₃Ｎ₃Ｏ₅ （４５７．４９） 計算値：Ｃ６８．２６；Ｈ５．０７；Ｎ９．１８ 分析値：Ｃ６８．００；Ｈ５．１０；Ｎ９．２０ １．３

【０１０４】

【化２４】

【０１０５】 ４−ヒドロキシ−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン ４−シアノアニリン１８．８ｇを水１００ｍｌ中で６０℃に加熱した。固体を
溶解させるために、濃塩酸１０ｍｌを添加した。ついで更に塩酸１１５ｍｌを添
加し、溶液の温度を０℃に持っていき、ニトロシル硫酸５２ｇをゆっくりと滴下
し、混合物を１時間撹拌した。この溶液を、２−ブロモフェノ−ル２７．５ｇ、
メタノール１００ｍｌ、及び水１００ｍｌの溶液に、１０℃でゆっくりと滴下し
た。同時に１０％水酸化ナトリウム溶液を添加してｐＨ６−６．５を維持した。
添加の完了後、撹拌物を更に１時間反応させ、沈殿を吸引濾別した。ついで生成
物を水洗し、乾燥した。４−ヒドロキシ−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼ
ンの収量は６８ｇであった。 ４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン ４−ヒドロキシ−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン６５ｇを、約２００
℃で４−メチル−２−ペンタノン２００ｍｌに溶解した。この溶液に２−ブロモ
エタノ−ル４０ｇ、炭酸カリウム４５ｇ、及びヨウ化カリウム０．５ｇを添加し
、混合物を１２０℃で２４時間撹拌した。生成物をクロロホルム中に入れ、水洗
した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を回転蒸発器で留去し、残渣を、トルエ
ン／酢酸エチル（４／１）を用いるシリカゲルのクロマトグラフィ−で精製した
。

【０１０６】 ４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン
の収量は３０．７ｇであった。融点＝１５３℃；λ_max ＝３６５ｎｍ（ＤＭＦ）
。 元素分析： Ｃ₁₅Ｈ₁₂ＢｒＮ₃Ｏ₂ （３４６．１９） 計算値：Ｃ５２．０４；Ｈ３．４９；Ｂｒ２３．０８；Ｎ１２．１４ 分析値：Ｃ５２．３０；Ｈ３．３０；Ｂｒ２２．９０；Ｎ１２．１０ ４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３、４´−ジシアノアゾベンゼン ４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３−ブロモ−４´−シアノアゾベンゼン
１５ｇを熱ＤＭＦ２５ｍｌに溶解した。ついでシアン化銅４．３ｇを添加し、反
応混合物を１４０℃で５−６時間撹拌した。この溶液を１３％水性アンモニア溶
液約５００ｍｌに添加し、沈殿を濾別した。この沈殿を熱ジオキサンに溶解した
。溶液を未溶解の残渣から濾別し、ジオキサンを回転蒸発器で除去し、生成物を
、トルエン／ＴＨＦ（１／２）を用いるシリカゲルでのクロマトグラフィ−によ
り精製し、エタノールから１度再結晶した。４−（２−ヒドロキシエチロキシ）
−３、４´−ジシアノアゾベンゼンの収量は４．５ｇであった。融点＝１３８℃
；λ_max ＝３５６ｎｍ（ＤＭＦ）。 ４−（２−メタクリロイロキシエチロキシ）３、４´−ジシアノベンゼン ４−（２−ヒドロキシエチロキシ）−３、４´−ジシアノアゾベンゼン５．８
ｇを６５℃でジオキサン１５ｍｌに溶解し、トリエチルアミン２．４ｇを添加し
た。ついでジオキサン３ｍｌ中メタクリル酸クロリド３．１ｇの溶液を添加し、
反応混合物を６５℃で２時間撹拌し、そして氷水３５０ｍｌ中に導入した。沈殿
を吸引濾別し、乾燥した。ついでトルエン／ＴＨＦ（１／２）を用いるシリカゲ
ルでのクロマトグラフィ−により精製した。４−（２−メタクリロイロキシエチ
ロキシ）３、４´−ジシアノベンゼンの収量は５．９ｇであった。融点＝１１０
℃；λ_max ＝３５２ｎｍ（ＤＭＦ）。 実施例２ ポリマ−の製造 モノマ−１．２の３ｇ及び２、２´−アゾイソ酪酸ジニトリル０．１５ｇを、
アルゴン雰囲気下に７０℃で２４時間ＤＭＦ３０ｍｌ中で撹拌した。ポリマ−を
、溶液を水２００ｍｌに注ぐことによって沈殿させ、メタノール中で煮沸するこ
とによって精製した。 実施例３

【０１０７】

【化２５】

【０１０８】 厚さ１ｍｍのガラス基板に、ポリマ−（実施例３の上を参照）の薄層を付与し
た。これはスピンコーティングで行った。この方法では、ポリマ−を５０ｇ／ｌ
の濃度でテトラヒドロフランに溶解し、溶液を、２０００分^-1の回転速度で回転
している基板上にたらした。形成されたポリマ−フィルムは、典型的には２００
ｎｍの厚さを有した。溶媒の残りは、塗布したガラス支持体を真空炉中に６０℃
で２時間貯蔵することにより、フィルムから除去した。

【０１０９】 このように製造した試料に、ポリマ−側から、偏光レーザー光を垂直に入射さ
せて照射した（書き込み操作）。波長５１４ｎｍのアルゴンイオンレーザー（コ
ンチナム（Ｃｏｎｔｉｎｕｍ））を光源として使用した。このいわゆる書き込み
レーザーの強度は５００ｍＷ／ｃｍ² であった。トランス−シス−トランス異性
化サイクルは、ポリマ−の側鎖基分子中で誘導され、Ａｒレーザーの偏光の方向
から離れた該分子の真の配向を形成させた。これらの分子のダイナミクスは、ポ
リマ−フィルム平面内での複屈折Δｎ＝ｎ_y −ｎ_x の発現が肉眼的に明白である
ことを示す。レーザー光の偏光方向における屈折率（ｎ_x ）はこの過程中減少し
、一方偏光方向に垂直な屈折率（ｎ_y ）は増加する。上述の露光条件の場合、ダ
イナミクスは分の範囲で進行した。

【０１１０】 波長６３３ｎｍで誘導される複屈折の時間に関する過程は、ヘリウム−ネオン
レーザー（典型的には強度：１０ｍＷ／ｃｍ² ）で実験的に決定される。この操
作は複屈折の読取りといわれる。このいわゆる読取りレーザーの、ポリマ−層へ
の入射光は、層の垂直に対して１５−３５°の固定角を占める。この読取り及び
書き込み光は、ポリマ−層上で重複する。読取り光の偏光の方向は書き込み光の
偏光に対して４５°のポリマ−フィルム面内の角度を占める。層が複屈折である
ならば、それはポリマ−層を通過する時に回転する。この回転には、試料後の光
路にあり且つ偏光の元の方向に垂直な光を通すアナライザ−の後、読取り光強度
Ｉ_s の増加が付随する。強度Ｉ_p はＩ_s が増加するにつれて同一の程度まで減少
する。Ｉ_p は、同様に位置するが、読取りレーザーの偏光の元の方向を選択する
アナライザ−後の透過強度として定義される。元の方向に平行な及び垂直な偏光
の方向の２つの量は、偏光線分割器を通して及び２つのＳｉフォトダイオードを
用いて、実験により別々に検知される。複屈折Δｎは、次の関係

【０１１１】

【数１】

【０１１２】 により測定された強度から計算できる。但し、この式において、ｄはポリマ−層
の厚さを示し、そしてλ＝６３３ｎｍ、読取りレーザーの光波長。また式からは
、読取りがポリマ−層に対して垂直に行われるということがおよそ推定される。

【０１１３】 図１は実施例３からのポリマ−層の複屈折Δｎの、書き込み／削除実験中の単
調な経時的増加を示す。高複屈折値は、フィルム面における発色団の配向分布に
おける高異方性を示す。試料を２分間書き込みレーザー光に露呈した後、第１の
書き込み操作を終える。この及び続く書き込み操作中に得られる移相Δφ＝２π
Δｎｄ／λはΔφ＝πの値を超えない。ポリマ−層の複屈折ｎは、２分後にΔｎ
＝０．２１３±０．００２の最大値に実質的に到達した。

【０１１４】 Δｎは書き込み光の偏光の方向を９０°回転することによって削除できる。こ
の削除操作は、直ぐに完了する：Δｎ＝０。これは、ダイオードを通して検知さ
れる値Ｉ_p ＝０に同等である。ここに削除は書き込みよりかなり速く行われる。

【０１１５】 更なる書き込み／削除操作はこの第１の状態と同一のパターンで起こり、ダイ
オードの信号を記録して、複屈折が計算される。図１において、複屈折の秒単位
での形成及びすべての続く書き込み操作が測定精度という状況において速度及び
程度に関し類似していることが理解できる。

【０１１６】 それゆえに、このポリマ−は複屈折の連続的減少から推定される劣化がない。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施例３からのポリマ−層の複屈折Δｎの、書き込み／削除実験中の単調な経
時的増加を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ， ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，Ｃ Ｎ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ， ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，Ｋ Ｐ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ， ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ Ｇ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ハゲン，ライナー ドイツ・デー−51375レーフエルクーゼ ン・フエリクス−フオン−ロル−シユトラ ーセ35 (72)発明者 コストロミン，セルゲイ ドイツ・デー−53913シユビストタール・ カタリネンシユトラーセ28 Ｆターム(参考） 2H123 AA00 AA02 AA30 BA00 BA41 BA62 BC00 BC05 CA00 CA22 5D029 JA04 JB18 JB47 JC03 JC05 5D121 EE22

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偏光された電磁照射で空間的配列を変える少くとも１つのポ
   リマ−及び／またはオリゴマ−アゾ染料、及び随時形態異方性を有する少くとも
   １つのグル−ピングを含んでなる、２及び／または多ビット及び／またはボリュ
   ームデータの記憶のための光記録材料であって、 −染料の吸収最大が４００ｎｍから少くとも３０ｎｍ、好ましくは４０ｎｍ異な
   り、 −染料が、４００ｎｍにおいてその最大吸収の高々６０％の光学濃度に達し、 −化学光の偏光状態を変えることによって再書き込みの能力があり、削除／再書
   き込みサイクル後に元の値の少くとも８０％の強度が達成され、そして −その他の条件が同じで４００ｎｍにおいて、書き込み操作が５００ｎｍにおけ
   るものと同程度に遅く進行し、またここに誘導される複屈折値が５００ｎｍで誘
   導される複屈折値と１０％以上異ならない、 該光記録材料。
2. 【請求項２】 染料の最大吸収（ＡＭ）が３７０ｎｍ以下、好ましくは３６
   ０ｎｍ以下である、請求項１の記録材料。
3. 【請求項３】 染料の最大吸収が４５０ｎｍ以上である、請求項１の記録材
   料。
4. 【請求項４】 少くとも１つの成分のＡＭが４５０ｎｍ以上であり且つ少く
   とも１つの成分のＡＭが３６０ｎｍ以下であるものを含んでなるコポリマ−を含
   んでなる、請求項１の記録材料。
5. 【請求項５】 厚さ２５０ｎｍの固体状態において、３８０−４２０ｎｍ、
   好ましくは３９０−４１０ｎｍ、特に好ましくは３９５−４０５ｎｍの波長範囲
   の波長で、≦１、好ましくは０．５以下またはそれに同じ、特に好ましくは０．
   ３以下またはそれに同じ光学濃度を有する、請求項１−４の１つまたはそれ以上
   の記録材料。
6. 【請求項６】 電磁照射が３８０−４２０ｎｍ、好ましくは３９０−４１０
   ｎｍ、特に好ましくは３９５−４０５ｎｍの波長範囲のレーザー光である、請求
   項１−５の１つまたはそれ以上の記録材料。
7. 【請求項７】 化学結合した染料が式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ¹ 及びＲ² は互いに独立に水素または非イオン性置換基を表し、そ して ｍ及びｎは互いに独立に０−４、好ましくは０−２の整数を表し、但し Ｘ¹ 及びＸ² はＸ¹´−Ｒ³ またはＸ²´−Ｒ⁴ を示し、 Ｘ¹´及びＸ²´は直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−（Ｎ−Ｒ⁵ ）−、−Ｃ（Ｒ ⁶Ｒ⁷ ）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ⁵ ）−、 −（ＳＯ₂）−、−（ＳＯ₂ −Ｏ）−、−（ＳＯ₂ −ＮＲ⁵ ）−、−（Ｃ＝ ＮＲ⁸）−、または−（ＣＮＲ⁸ −ＮＲ⁵ ）−を表し、 Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 及びＲ⁸ は互いに独立に水素、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル−（Ｃ＝Ｏ）− 、Ｃ₂−Ｃ₂₀アルケニル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ−ル−（Ｃ＝Ｏ） −、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル−（ＳＯ₂ ）−、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル−（Ｓ Ｏ₂ ）−、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル−（ＳＯ₂ ）−、またはＣ₆ −Ｃ₁₀アリ− ル−（ＳＯ₂ ）−を表し、或いは Ｘ¹´−Ｒ³ 及びＸ²´−Ｒ⁴ は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ＣＦ₃ 、 またはＣＣｌ₃ を表すことができ、 Ｒ⁶ 及びＲ⁷ は互いに独立に水素、ハロゲン、Ｃ₁ −Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₁ − Ｃ₂₀アルコキシ、Ｃ₃ −Ｃ₁₀シクロアルキル、Ｃ₂ −Ｃ₂₀アルケニル、また はＣ₆ −Ｃ₁₀アリ−ルを表す］ に相当し、 誘導された複屈折が書き込まれた後の、染料の化学光に対する感度が最終値に保
   持され、そして この感度が、分子の長軸が化学光の偏光の方向に垂直にある時、元の値の少くと
   も５％、好ましくは１０％、特に好ましくは１５％、殊に好ましくは２０％であ
   る、 請求項１−６のいずれか１つの記録材料。
8. 【請求項８】 式（II） 【化２】 ［式中、Ｒは水素またはメチルを表し、そして 他の基は上述した意味を有する］ の少くとも１つのモノマ−を製造に使用する、請求項１−７のいずれか１つの記
   録材料。
9. 【請求項９】 式ＸIII−ＸＸ 【化３】 【化４】 【化５】 のポリマ−の少くとも１つを含んでなり、コ及びタ−ポリマ−の組成が、ｘ＋ｙ
   が合計で１００モル％までまたはｘ＋ｙ＋ｚが合計で１００モル％までの条件下
   に、変化できる、請求項１−８のいずれか１つの記録材料。
10. 【請求項１０】 ｐが１０−１０００であり及び／またはコポリマ−の場合
    ｘ：ｙが１０：９０−９０：１０、好ましくは３０：７０−７０：３０、特に好
    ましくは４０：６０−６０：４０、殊に好ましくは５０：５０であり及び／また
    はタ−ポリマ−の場合ｘ＋ｙが１０モル％以上、好ましくは２０モル％以上、特
    に好ましくは３０モル％以上である、請求項９の記録材料。
11. 【請求項１１】 請求項１−１０のいずれかの記録材料を含んでなる、記憶
    システム。
12. 【請求項１２】 記録材料がいずれか所望の形、好ましくは支持体のない平
    らな構造、特に好ましくは支持体のないフィルム、という１つまたはそれ以上の
    支持体のないもの、少くとも１つの基板層を含んでなる多層積層物を含む、請求
    項１１の記憶システム。
13. 【請求項１３】 更に反射層を含んでなる、請求項１１の記憶システム。
14. 【請求項１４】 記憶媒体がスピンコーティングで適用される工程を含んで
    なる、請求項１１または１２、或いは１３の少くとも１つの記憶システムの製造
    法。