JPH0794446B2 - ２−フエニルピリミジン誘導体 - Google Patents
２−フエニルピリミジン誘導体Info
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- JPH0794446B2 JPH0794446B2 JP61148650A JP14865086A JPH0794446B2 JP H0794446 B2 JPH0794446 B2 JP H0794446B2 JP 61148650 A JP61148650 A JP 61148650A JP 14865086 A JP14865086 A JP 14865086A JP H0794446 B2 JPH0794446 B2 JP H0794446B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、液晶化合物とりわけ強誘電性カイラルスメク
チック液晶化合物に関するものであって、新規な該化合
物を提供するものである。従って、液晶化合物の電気光
学的効果を利用した表示素子乃至は表示装置に利用され
るものである。
チック液晶化合物に関するものであって、新規な該化合
物を提供するものである。従って、液晶化合物の電気光
学的効果を利用した表示素子乃至は表示装置に利用され
るものである。
（従来の技術） 強誘電性を示す液晶化合物として、（Ｓ）−２−メチル
ブチルｐ−（ｐ−ｎ−デシロキシヘンジリデンアミノ）
シンナメート（DOBAMBC）が知られている。このシッフ
塩基系列の液晶化合物が、強誘電液晶の研究対象とさ
れ、種々の化合物が合成された。その一例として ［式中ＸはＨ、C1、CN、ＹはC1、C2H5、＊は不斉炭素原
子を示す］ の一般式で示される化合物が知られている。
ブチルｐ−（ｐ−ｎ−デシロキシヘンジリデンアミノ）
シンナメート（DOBAMBC）が知られている。このシッフ
塩基系列の液晶化合物が、強誘電液晶の研究対象とさ
れ、種々の化合物が合成された。その一例として ［式中ＸはＨ、C1、CN、ＹはC1、C2H5、＊は不斉炭素原
子を示す］ の一般式で示される化合物が知られている。
しかし、この系列の化合物はカイラルスメクチック相を
呈する温度が室温より高いこと、シッフ塩基を含んでい
るため化学的安定性に欠けることの故に使用に際し制限
を受けている。これら欠点を改良した化合物として、 なる構造式で示される化合物が創製され注目を集めた。
呈する温度が室温より高いこと、シッフ塩基を含んでい
るため化学的安定性に欠けることの故に使用に際し制限
を受けている。これら欠点を改良した化合物として、 なる構造式で示される化合物が創製され注目を集めた。
更に、Zaschke Horst, Stolle,Reinhardらによって式 ［式中ｍは１〜11、ｎは５〜８を示す］ で示されるいくつかの化合物が紹介されている（Z.Che
m.1975 15（11）441〜３）。しかし、これらの中に、強
誘電性カイラルスメクチック液晶化合物は記載されてい
ないし、それを示唆する記載もなされていない。
m.1975 15（11）441〜３）。しかし、これらの中に、強
誘電性カイラルスメクチック液晶化合物は記載されてい
ないし、それを示唆する記載もなされていない。
（本発明が解決しようとする問題点） 本発明者らは、新規な強誘電性液晶化合物の開発のた
め、既に数多く創製し、特許出願を行っている（特開昭
61−22072、同61−24567、特願昭59−215367、同59−25
0171、同59−250172、同60−42116、同60−42117、同60
−56652など）。
め、既に数多く創製し、特許出願を行っている（特開昭
61−22072、同61−24567、特願昭59−215367、同59−25
0171、同59−250172、同60−42116、同60−42117、同60
−56652など）。
更に、新規強誘電性液晶化合物の開発のため式 ［式中Ｙはアルキレン中に不斉炭素原子が在るアルコキ
シアルキレン基又は、OH若しくはアルコキシが結合した
不斉炭素原子が在るアルキル基であり、Ｒはアルキル又
はアルコキシ基である］ で示される液晶化合物を提供するものである。
シアルキレン基又は、OH若しくはアルコキシが結合した
不斉炭素原子が在るアルキル基であり、Ｒはアルキル又
はアルコキシ基である］ で示される液晶化合物を提供するものである。
（問題点を解決するための手段） 本発明によって提供される新規な強誘電性カイラルスメ
クチック液晶化合物は次のようにして合成される。即
ち、 式（Ｉ） ［式中Ｒは前記と同じ］ で示される化合物と、式（II） Ｙ−Ｘ （II） ［式中Ｙは前記と同じ、Ｘは反応性残基を示す］で示さ
れる化合物とを適宜溶媒中塩基の存在で反応させること
によって造られる。ここにおいて用いられる溶媒として
は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テ
トラヒドロフラン、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、ジオキサン、アセトアミド、キシレン、トルエ
ン、ベンゼンなどが挙げられる。使用される塩基として
は、フェノラートアニオンを生成させるものであればよ
く、例えば、炭酸カリウム、炭酸ソーダ、金属カリウ
ム、水素化ナトリウムなどが挙げられる。
クチック液晶化合物は次のようにして合成される。即
ち、 式（Ｉ） ［式中Ｒは前記と同じ］ で示される化合物と、式（II） Ｙ−Ｘ （II） ［式中Ｙは前記と同じ、Ｘは反応性残基を示す］で示さ
れる化合物とを適宜溶媒中塩基の存在で反応させること
によって造られる。ここにおいて用いられる溶媒として
は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テ
トラヒドロフラン、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、ジオキサン、アセトアミド、キシレン、トルエ
ン、ベンゼンなどが挙げられる。使用される塩基として
は、フェノラートアニオンを生成させるものであればよ
く、例えば、炭酸カリウム、炭酸ソーダ、金属カリウ
ム、水素化ナトリウムなどが挙げられる。
ここにおいて式（Ｉ）で示される化合物における置換基
Ｒとしては、５〜15の炭素数を持つ直鎖状アルキル基又
は同アルキルオキシ基が挙げられる。また式（Ｉ）で示
される化合物はJourprakt.Chemie 317 617（1975）に記
載の方法に従って造られる。
Ｒとしては、５〜15の炭素数を持つ直鎖状アルキル基又
は同アルキルオキシ基が挙げられる。また式（Ｉ）で示
される化合物はJourprakt.Chemie 317 617（1975）に記
載の方法に従って造られる。
次に、式（II）で示される化合物におけるＹとしてのア
ルキレン中に不斉炭素原子が在るアルコキシアルキレン
基としては、 で示されるものであって、＊印の炭素原子における立体
配置がＲ体又はＳ体であるものであり、 OH若しくはアルコキシ基が結合した不斉炭素原子が在る
アルキル基としては、 （ＢはＨ又はC1〜C4アルキルである） で示されるものであって、＊印の炭素原子における立体
配置がＲ体又はＳ体であるものである。反応性残基Ｘと
しては、ハロゲン原子、ｐ−トルエンスルホニルオキ
シ、ベンゼンスルオニルオキシ、メタンスルホニルオキ
シなどを示す。これらの化合物の一部についてその合成
方法を次に例示する。即ち、 （Ｓ）−２−ヒドロキシプロピオン酸エチルエステル
（▲〔α〕20 D▼＝−120）を2,3−ジヒドロピランと反
応させヒドロキシ基を保護したのちリチウムアルミニウ
ムハイドライドでエステル部分を還元してアルコールに
変える。次いでこれにｐ−トルエンスルホン酸ブチルエ
ステルを塩基（例えば水素化ナトリウム）の存在で反応
させ、３−ブチルオキシプロパン−２−テトラヒドロピ
ラニルエーテルを得る。これをアルコール中、酸（例え
ばｐ−トルエンスルホン酸）と加熱し、得られた化合物
にアルキル又はアリールスルホニルクロリド（例えばメ
タンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロ
リド）を反応させて、（Ｓ）−２−ブトキシ−１−メチ
ルエタン−１−メタンスルホネートを得る。
ルキレン中に不斉炭素原子が在るアルコキシアルキレン
基としては、 で示されるものであって、＊印の炭素原子における立体
配置がＲ体又はＳ体であるものであり、 OH若しくはアルコキシ基が結合した不斉炭素原子が在る
アルキル基としては、 （ＢはＨ又はC1〜C4アルキルである） で示されるものであって、＊印の炭素原子における立体
配置がＲ体又はＳ体であるものである。反応性残基Ｘと
しては、ハロゲン原子、ｐ−トルエンスルホニルオキ
シ、ベンゼンスルオニルオキシ、メタンスルホニルオキ
シなどを示す。これらの化合物の一部についてその合成
方法を次に例示する。即ち、 （Ｓ）−２−ヒドロキシプロピオン酸エチルエステル
（▲〔α〕20 D▼＝−120）を2,3−ジヒドロピランと反
応させヒドロキシ基を保護したのちリチウムアルミニウ
ムハイドライドでエステル部分を還元してアルコールに
変える。次いでこれにｐ−トルエンスルホン酸ブチルエ
ステルを塩基（例えば水素化ナトリウム）の存在で反応
させ、３−ブチルオキシプロパン−２−テトラヒドロピ
ラニルエーテルを得る。これをアルコール中、酸（例え
ばｐ−トルエンスルホン酸）と加熱し、得られた化合物
にアルキル又はアリールスルホニルクロリド（例えばメ
タンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロ
リド）を反応させて、（Ｓ）−２−ブトキシ−１−メチ
ルエタン−１−メタンスルホネートを得る。
（Ｓ）−２−テトラヒドロピラニルオキシ−プロパノー
ル−１を原料とし、アシルハライド（例えば酢酸クロリ
ド、酢酸ブロミド）と反応させてエステルを得、アルコ
ール中、酸（例えばｐ−トルエンスルホン酸）と加熱し
て２−ヒドロキシプロパノールのエステルを得、これに
ｐ−トルエンスルホン酸ブチルエステルを塩基（例えば
水素化ナトリウム）の存在で反応させたのち、加水分解
して一級アルコールとし、アルキル又はアリールスルホ
ニルクロリド（例えばメタンスルホニルクロリド、ｐ−
トルエンスルホニルクロリド）を反応させて、２−ブト
キシ−（Ｓ）−２−メチルエチルメタンスルホネートを
得る。
ル−１を原料とし、アシルハライド（例えば酢酸クロリ
ド、酢酸ブロミド）と反応させてエステルを得、アルコ
ール中、酸（例えばｐ−トルエンスルホン酸）と加熱し
て２−ヒドロキシプロパノールのエステルを得、これに
ｐ−トルエンスルホン酸ブチルエステルを塩基（例えば
水素化ナトリウム）の存在で反応させたのち、加水分解
して一級アルコールとし、アルキル又はアリールスルホ
ニルクロリド（例えばメタンスルホニルクロリド、ｐ−
トルエンスルホニルクロリド）を反応させて、２−ブト
キシ−（Ｓ）−２−メチルエチルメタンスルホネートを
得る。
（Ｒ）−β−ヒドロキシイソ酪酸エステルを2,3−ジヒ
ドロピランと反応させたのち、リチウムアルミニウムハ
イドランドなどの金属水素化物で還元し一級アルコール
を得る。得られたアルコールに、ｐ−トルエンスルホン
酸ブチルエステルをアルカリ金属水素化（例えば水素化
ナトリウム）の存在で反応させたのち、酸（例えばｐ−
トルエンスルホン酸）処理し、次いで、ｐ−トルエンス
ルホニルクロリドを反応させると、（Ｓ）−２−メチル
−３−ブチルオキシプロパノール−１のｐ−トルエンス
ルホン酸エステルを得ることができる。
ドロピランと反応させたのち、リチウムアルミニウムハ
イドランドなどの金属水素化物で還元し一級アルコール
を得る。得られたアルコールに、ｐ−トルエンスルホン
酸ブチルエステルをアルカリ金属水素化（例えば水素化
ナトリウム）の存在で反応させたのち、酸（例えばｐ−
トルエンスルホン酸）処理し、次いで、ｐ−トルエンス
ルホニルクロリドを反応させると、（Ｓ）−２−メチル
−３−ブチルオキシプロパノール−１のｐ−トルエンス
ルホン酸エステルを得ることができる。
以下に、本発明を具体的に説明するために実施例を記述
する。
する。
実施例１ （Ｓ）−５−オクチルオキシ−２−［４′−（２−メチ
ル−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］ピリ
ミジンの合成： （１）（Ｓ）−３−ブチルオキシ−２−メチル−１−
（４′−トルエンスルホニル）オキシプロパンの合成： （Ｒ）−β−ヒドロキシイソ酪酸メチルエステル12g、
2,3−ジヒドロピラン9.4gに濃塩酸１滴を加え１時間撹
拌した。反応混合物にエチルエーテルを加え、水洗、乾
燥した。リチウムアルミニウムハイドライド3.0gをエチ
ルエーテル30mlに懸濁し、撹拌しながら上で得たエーテ
ル溶液を−10〜０℃の温度に保ちつつ滴下した。同温度
で２時間、つづいて室温で15時間放置したのち、反応物
を氷に注ぎ、エチルエーテル層を分取し、水洗乾燥後エ
チルエーテルを留去し、残渣を減圧下に蒸留した。bp10
2〜105℃/4mmHgの留分（２−メチル−３−テトラヒドロ
ピラニルオキシプロパノール）を得た。得量13.22g IRνmaxcm-1:3450、1455、1355、1120、1035 50％水素化ナトリウム1.52gをジメチルホルムアミド15m
lに懸濁し、上に得た２−メチル−３−テトラヒドロピ
ラニルオキシプロパノール5.0gをジメチルホルムアミド
5.0mlに溶かして加え、室温で30分撹拌した。次いで、
ｎ−ブチルアルコールのｐ−トルエンスルホン酸エステ
ル6.55gを加え60℃で15時間反応した。反応混合物を氷
水に注ぎ、エチルエーテルで抽出、エーテル層を水洗乾
燥濃縮し、油状物を得た。この油状物をメタノール70ml
に溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物0.4gを加
え、１時間還流した。反応混合物を濃縮し、エチルエー
テルを加え、エーテル層を水洗乾燥し、エチルエーテル
を留去して油状の（Ｓ）−２−メチル−３−ブチルオキ
シプロパノールを得た。得量4.88g IRνmaxcm-1:3430、1470、1380、1120、1040 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.40 （m,12H） 3.10〜3.85（m,6H） 得られた（Ｓ）−２−メチル−３−ブチルオキシプロパ
ノール4.85gをピリジン18mlに溶かし、氷水冷却して、
ｐ−トルエンスルホニルクロリド6.95gを加え反応し
た。反応混合物を氷水に注ぎ、イソプロピルエーテルに
て抽出し、水洗乾燥濃縮し、（Ｓ）−３−ブチルオキシ
−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ
プロパンを得た。得量8.62g IRνmaxcm-1:1603、1370、1195、1185、1103、980、815 （Ｒ体は出発原料にＳ体を用い同様の操作で造った。） （２）（Ｓ）−５−オクチルオキシ−２−［４′−（２
−メチル−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニ
ル］ピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.452gをジメチルホルムアミド3m
lに懸濁し、５−オクチルオキシ−２−（４′−ヒドロ
キシフェニル）ピリミジン2.57gをジメチルホルムアミ
ド5mlに溶かして加えた。反応混合液を室温で撹拌混合
したのち、実施例１（１）で得た化合物2.83gをジメチ
ルホルムアミド3mlに溶かして加え80℃で９時間反応さ
せた。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽
出し、水洗乾燥ののち、濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製後エタノールで再
結晶し題記化合物を得た。得量1.81g ▲〔α〕25 D▼＝＋6.390（Ｃ＝1.236、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1590、1550、1440、1250、1115、84
5、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.5 （m,26H） 3.1〜3.6 （m,4H） 3.65〜4.15（m,4H） 6.92 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.33 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
ル−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］ピリ
ミジンの合成： （１）（Ｓ）−３−ブチルオキシ−２−メチル−１−
（４′−トルエンスルホニル）オキシプロパンの合成： （Ｒ）−β−ヒドロキシイソ酪酸メチルエステル12g、
2,3−ジヒドロピラン9.4gに濃塩酸１滴を加え１時間撹
拌した。反応混合物にエチルエーテルを加え、水洗、乾
燥した。リチウムアルミニウムハイドライド3.0gをエチ
ルエーテル30mlに懸濁し、撹拌しながら上で得たエーテ
ル溶液を−10〜０℃の温度に保ちつつ滴下した。同温度
で２時間、つづいて室温で15時間放置したのち、反応物
を氷に注ぎ、エチルエーテル層を分取し、水洗乾燥後エ
チルエーテルを留去し、残渣を減圧下に蒸留した。bp10
2〜105℃/4mmHgの留分（２−メチル−３−テトラヒドロ
ピラニルオキシプロパノール）を得た。得量13.22g IRνmaxcm-1:3450、1455、1355、1120、1035 50％水素化ナトリウム1.52gをジメチルホルムアミド15m
lに懸濁し、上に得た２−メチル−３−テトラヒドロピ
ラニルオキシプロパノール5.0gをジメチルホルムアミド
5.0mlに溶かして加え、室温で30分撹拌した。次いで、
ｎ−ブチルアルコールのｐ−トルエンスルホン酸エステ
ル6.55gを加え60℃で15時間反応した。反応混合物を氷
水に注ぎ、エチルエーテルで抽出、エーテル層を水洗乾
燥濃縮し、油状物を得た。この油状物をメタノール70ml
に溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物0.4gを加
え、１時間還流した。反応混合物を濃縮し、エチルエー
テルを加え、エーテル層を水洗乾燥し、エチルエーテル
を留去して油状の（Ｓ）−２−メチル−３−ブチルオキ
シプロパノールを得た。得量4.88g IRνmaxcm-1:3430、1470、1380、1120、1040 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.40 （m,12H） 3.10〜3.85（m,6H） 得られた（Ｓ）−２−メチル−３−ブチルオキシプロパ
ノール4.85gをピリジン18mlに溶かし、氷水冷却して、
ｐ−トルエンスルホニルクロリド6.95gを加え反応し
た。反応混合物を氷水に注ぎ、イソプロピルエーテルに
て抽出し、水洗乾燥濃縮し、（Ｓ）−３−ブチルオキシ
−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ
プロパンを得た。得量8.62g IRνmaxcm-1:1603、1370、1195、1185、1103、980、815 （Ｒ体は出発原料にＳ体を用い同様の操作で造った。） （２）（Ｓ）−５−オクチルオキシ−２−［４′−（２
−メチル−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニ
ル］ピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.452gをジメチルホルムアミド3m
lに懸濁し、５−オクチルオキシ−２−（４′−ヒドロ
キシフェニル）ピリミジン2.57gをジメチルホルムアミ
ド5mlに溶かして加えた。反応混合液を室温で撹拌混合
したのち、実施例１（１）で得た化合物2.83gをジメチ
ルホルムアミド3mlに溶かして加え80℃で９時間反応さ
せた。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽
出し、水洗乾燥ののち、濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製後エタノールで再
結晶し題記化合物を得た。得量1.81g ▲〔α〕25 D▼＝＋6.390（Ｃ＝1.236、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1590、1550、1440、1250、1115、84
5、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.5 （m,26H） 3.1〜3.6 （m,4H） 3.65〜4.15（m,4H） 6.92 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.33 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例２ （Ｒ）−５−オクチルオキシ−２−［４′−（２−メチ
ル−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］ピリ
ミジンの合成： ５−オクチルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ）フェニ
ルピリミジン3gと、（Ｒ）−３−ブチルオキシ−２−メ
チル−１−（４′−トルエンスルホニル）オキシプロパ
ン3.0gを原料とし、実施例１（２）と同様にして、題記
化合物を得た。得量1.4g ▲〔α〕25 D▼＝＋4.890（Ｃ＝1.248、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1590、1550、1440、1250、1115、84
5、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.6 （m,26H） 3.25〜3.70（m,4H） 6.93 （d,2H） 8.27 （d,2H） 8.33 （s,2H） この化合物の転移温度は実施例１の化合物と同じであ
る。
ル−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］ピリ
ミジンの合成： ５−オクチルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ）フェニ
ルピリミジン3gと、（Ｒ）−３−ブチルオキシ−２−メ
チル−１−（４′−トルエンスルホニル）オキシプロパ
ン3.0gを原料とし、実施例１（２）と同様にして、題記
化合物を得た。得量1.4g ▲〔α〕25 D▼＝＋4.890（Ｃ＝1.248、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1590、1550、1440、1250、1115、84
5、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.6 （m,26H） 3.25〜3.70（m,4H） 6.93 （d,2H） 8.27 （d,2H） 8.33 （s,2H） この化合物の転移温度は実施例１の化合物と同じであ
る。
実施例３ （Ｓ）−５−ｎ−ヘキシルオキシ−２−［４′−（３−
ブチルオキシ−２−メチルプロピルオキシ）フェニル］
ピリミジンの合成： ５−ｎ−ヘキシルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ）フ
ェニルピリミジン2.72g及び（Ｓ）−３−ブチルオキシ
−２−メチル−１−（４−トルエンスルホニル）オキシ
プロパン3.0gを原料とし、実施例２と同様にして、題記
化合物を得た。得量2.0g ▲〔α〕25 D▼＝＋6.580（Ｃ＝1.291、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1615、1440、1280、1250、845、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.50 （m,22H） 3.15〜3.67（m,4H） 3.67〜4.81（m,4H） 6.90 （d,2H） 8.20 （d,2H） 8.30 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
ブチルオキシ−２−メチルプロピルオキシ）フェニル］
ピリミジンの合成： ５−ｎ−ヘキシルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ）フ
ェニルピリミジン2.72g及び（Ｓ）−３−ブチルオキシ
−２−メチル−１−（４−トルエンスルホニル）オキシ
プロパン3.0gを原料とし、実施例２と同様にして、題記
化合物を得た。得量2.0g ▲〔α〕25 D▼＝＋6.580（Ｃ＝1.291、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1615、1440、1280、1250、845、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.50 （m,22H） 3.15〜3.67（m,4H） 3.67〜4.81（m,4H） 6.90 （d,2H） 8.20 （d,2H） 8.30 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例４ （Ｒ）−５−ｎ−ヘキシルオキシ−２−［４′−（３−
ブチルオキシ−２−メチルプロピルオキシ）フェニル］
ピリミジンの合成： ５−ｎ−ヘキシルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ）フ
ェニルピリミジン2.0g及び（Ｒ）−３−ブチルオキシ−
２−メチル−１−（４−トルエンスルホニル）オキシプ
ロパン2.2gを原料とし、実施例２と同様にして題記化合
物を得た。得量1.7g ▲〔α〕25 D▼＝−4.620（Ｃ＝1.213、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1435、1275、1250、845、7901 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.5 （m,22H） 3.10〜3.55（m,4H） 3.55〜4.15（m,4H） 6.90 （d,2H） 8.20 （d,2H） 8.30 （s,2H） この化合物の転移温度は実施例３の化合物と同じであ
る。
ブチルオキシ−２−メチルプロピルオキシ）フェニル］
ピリミジンの合成： ５−ｎ−ヘキシルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ）フ
ェニルピリミジン2.0g及び（Ｒ）−３−ブチルオキシ−
２−メチル−１−（４−トルエンスルホニル）オキシプ
ロパン2.2gを原料とし、実施例２と同様にして題記化合
物を得た。得量1.7g ▲〔α〕25 D▼＝−4.620（Ｃ＝1.213、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1435、1275、1250、845、7901 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.5 （m,22H） 3.10〜3.55（m,4H） 3.55〜4.15（m,4H） 6.90 （d,2H） 8.20 （d,2H） 8.30 （s,2H） この化合物の転移温度は実施例３の化合物と同じであ
る。
実施例５ （Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシプロポキシ）フ
ェニル］−５−オクチルピリミジンの合成： ２−（４′−ヒドロキシ）フェニル−５−ｎ−オクチル
ピリミジン2g、50％水素化ナトリウム0.37g、ジメチル
ホルムアミド20mlを室温で１時間撹拌した。（Ｓ）−２
−テトラヒドロピラニルオキシプロパノールｐ−トルエ
ンスルホン酸エステル2.4gを加え80℃で10時間反応させ
た。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽
出し、水洗乾燥したのち、減圧濃縮した。得られた油状
物2.8gをエタノール40mlに溶かし、ｐ−トルエンスルホ
ン酸１水和物0.2gを加え加熱還流した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：クロロホルム）で精製し、題記化合物を得
た。得量1.4g IRνmaxcm-1:1610、1585、1430、1250、1170、1110、80
01 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.63〜1.97（m,18H） 2.58 （t,2H） 2.83 （br,1H） 3.73〜4.50（m,3H） 6.95 （d,2H） 8.35 （d2H） 8.57 （s,2H） 実施例６ （Ｓ）−２−［４′−（２−エトキシプロポキシ）フェ
ニル］−５−ｎ−オクチルピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.15g、無水テトラヒドロフラン1
0ml及び実施例５で得た化合物1.0gを室温で撹拌しなが
ら、ヘキサメチルホスホリックトリアミド0.1gを加え、
１時間経過したのちヨウ化エチル0.55gを加え、５時間
還流した。反応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルエステ
ルで抽出し、水洗乾燥濃縮したのち、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）で精製
し、題記化合物を得た。
ェニル］−５−オクチルピリミジンの合成： ２−（４′−ヒドロキシ）フェニル−５−ｎ−オクチル
ピリミジン2g、50％水素化ナトリウム0.37g、ジメチル
ホルムアミド20mlを室温で１時間撹拌した。（Ｓ）−２
−テトラヒドロピラニルオキシプロパノールｐ−トルエ
ンスルホン酸エステル2.4gを加え80℃で10時間反応させ
た。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽
出し、水洗乾燥したのち、減圧濃縮した。得られた油状
物2.8gをエタノール40mlに溶かし、ｐ−トルエンスルホ
ン酸１水和物0.2gを加え加熱還流した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：クロロホルム）で精製し、題記化合物を得
た。得量1.4g IRνmaxcm-1:1610、1585、1430、1250、1170、1110、80
01 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.63〜1.97（m,18H） 2.58 （t,2H） 2.83 （br,1H） 3.73〜4.50（m,3H） 6.95 （d,2H） 8.35 （d2H） 8.57 （s,2H） 実施例６ （Ｓ）−２−［４′−（２−エトキシプロポキシ）フェ
ニル］−５−ｎ−オクチルピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.15g、無水テトラヒドロフラン1
0ml及び実施例５で得た化合物1.0gを室温で撹拌しなが
ら、ヘキサメチルホスホリックトリアミド0.1gを加え、
１時間経過したのちヨウ化エチル0.55gを加え、５時間
還流した。反応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルエステ
ルで抽出し、水洗乾燥濃縮したのち、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）で精製
し、題記化合物を得た。
得量0.75g IRνmaxcm-1:1610、1585、1430、1250、1170、1105、80
01 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.00 （m,21H） 2.51 （t,2H） 3.58 （q,2H） 3.50〜4.20（m,3H） 6.97 （d,2H） 8.33 （d,2H） 8.52 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
01 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.00 （m,21H） 2.51 （t,2H） 3.58 （q,2H） 3.50〜4.20（m,3H） 6.97 （d,2H） 8.33 （d,2H） 8.52 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例７ 実施例５と同様の方法で、3.15gの２−（４′−ヒドロ
キシ）フェニル−５−ｎ−オクチルオキシピリミジンを
原料として用い、（Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキ
シプロポキシ）フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピ
リミジンを得た。
キシ）フェニル−５−ｎ−オクチルオキシピリミジンを
原料として用い、（Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキ
シプロポキシ）フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピ
リミジンを得た。
得量2.4g IRνmaxcm-1:3450〜3200、1605、1435、1275、1255、79
51 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.7〜2.1 （m,18H） 2.73 （d,1H） 4.3〜3.7 （m,5H） 6.91 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.33 （s,2H） 実施例８ （Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシプロポキシ）フ
ェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジン1.5gを用
い、実施例６と同様の方法で、（Ｓ）−２−［４−（２
−エトキシプロポキシ）フェニル］−５−ｎ−オクチル
オキシピリミジンを得た。得量0.72g IRcm:1610、1435、1280、1250、1110、840、795 Ｈ−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.1 （m,21H） 3.37〜3.73（m,4H） 3.73〜4.20（m,4H） 6.93 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.36 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
51 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.7〜2.1 （m,18H） 2.73 （d,1H） 4.3〜3.7 （m,5H） 6.91 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.33 （s,2H） 実施例８ （Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシプロポキシ）フ
ェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジン1.5gを用
い、実施例６と同様の方法で、（Ｓ）−２−［４−（２
−エトキシプロポキシ）フェニル］−５−ｎ−オクチル
オキシピリミジンを得た。得量0.72g IRcm:1610、1435、1280、1250、1110、840、795 Ｈ−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.1 （m,21H） 3.37〜3.73（m,4H） 3.73〜4.20（m,4H） 6.93 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.36 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例９ （Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシブチロキシ）フ
ェニル］−５−ｎ−ウンデシロキシピリミジンの合成： ２−（４′−ヒドロキシ）フェニル−５−ｎ−ウンデシ
ロキシピリミジン3.5g、50％水素化ナトリウム0.54g、
ジメチルホルムアミド30mlを60℃で１時間撹拌混合し
た。次いで、（Ｓ）−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）ブタノールｐ−トルエンスルホン酸エステル3.5gを
ジメチルホルムアミド5mlに溶かしたものを加えて、80
℃で10時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エ
チルエステルで抽出し、水洗乾燥濃縮し、油状物5.2gを
得た。
ェニル］−５−ｎ−ウンデシロキシピリミジンの合成： ２−（４′−ヒドロキシ）フェニル−５−ｎ−ウンデシ
ロキシピリミジン3.5g、50％水素化ナトリウム0.54g、
ジメチルホルムアミド30mlを60℃で１時間撹拌混合し
た。次いで、（Ｓ）−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）ブタノールｐ−トルエンスルホン酸エステル3.5gを
ジメチルホルムアミド5mlに溶かしたものを加えて、80
℃で10時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エ
チルエステルで抽出し、水洗乾燥濃縮し、油状物5.2gを
得た。
得られた油状物をエタノール100ml中、ｐ−トルエンス
ルホン酸１水和物0.5gを加えて、３時間還流した。溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒:n−ヘキサン：酢酸エチルエステル＝8:1）
により精製し、題記化合物を得た。得量2.52g IRνmaxcm-1:3600、3550〜3250、1610、1440、1280、12
55、7901 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.10 （m,26H） 2.20〜2.50（br,1H） 4.25〜3.70（m,5H） 6.93 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.35 （s,,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
ルホン酸１水和物0.5gを加えて、３時間還流した。溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒:n−ヘキサン：酢酸エチルエステル＝8:1）
により精製し、題記化合物を得た。得量2.52g IRνmaxcm-1:3600、3550〜3250、1610、1440、1280、12
55、7901 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.10 （m,26H） 2.20〜2.50（br,1H） 4.25〜3.70（m,5H） 6.93 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.35 （s,,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例10 （Ｓ）−２−［４′−（２−メトキシブトキシ）フェニ
ル］−５−ｎ−ウンデシロキシピリミジンの合成： 実施例９で得た化合物0.68g、テトラヒドロフラン5ml、
50％水素化ナトリウム0.09gを撹拌しながら、ヘキサメ
チルホスホリックトリアミド0.07gを加え、１時間経過
したのちメチルアイオダイド0.26gを加え、40℃で２時
間30分撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチル
エステルで抽出し、水洗乾燥濃縮したのち、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）
で精製し、エタノールで再結晶して題記化合物を得た。
得量0.22g ▲〔α〕25 D▼＝−13.80（Ｃ＝1.01、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1605、1430、1280、1250、1110、1000、85
0、7901 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.63〜2.17（m,26H） 3.43 （s,3H,0−CH 3） 3.27〜3.67 3.80〜4.23（m,4H） 6.93 （d,2H） 8.25 （d,2H） 8.35 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
ル］−５−ｎ−ウンデシロキシピリミジンの合成： 実施例９で得た化合物0.68g、テトラヒドロフラン5ml、
50％水素化ナトリウム0.09gを撹拌しながら、ヘキサメ
チルホスホリックトリアミド0.07gを加え、１時間経過
したのちメチルアイオダイド0.26gを加え、40℃で２時
間30分撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチル
エステルで抽出し、水洗乾燥濃縮したのち、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）
で精製し、エタノールで再結晶して題記化合物を得た。
得量0.22g ▲〔α〕25 D▼＝−13.80（Ｃ＝1.01、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1605、1430、1280、1250、1110、1000、85
0、7901 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.63〜2.17（m,26H） 3.43 （s,3H,0−CH 3） 3.27〜3.67 3.80〜4.23（m,4H） 6.93 （d,2H） 8.25 （d,2H） 8.35 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例11 （Ｒ）−２−［４′−（２−ブチルオキシ−１−メチル
エチルオキシ）フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピ
リミジンの合成： ジメチルホルムアミド40mlに、50％水素化ナトリウム0.
4gを懸濁し、５−ｎ−オクチルオキシ−２−（４′−ヒ
ドロキシフェニル）ピリミジン2.5gを加えた。室温で30
分撹拌し、ヨウ化カリウム0.2gを加え、次いで、（Ｓ）
−３−ブトキシ−２−メタンスルホニルオキシプロパン
1.92gを加え、100℃で８時間反応させた。反応混合物を
水に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽出し、水洗乾燥した
のち濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製、エタノールで再結晶化して題記化合物を得
た。
エチルオキシ）フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピ
リミジンの合成： ジメチルホルムアミド40mlに、50％水素化ナトリウム0.
4gを懸濁し、５−ｎ−オクチルオキシ−２−（４′−ヒ
ドロキシフェニル）ピリミジン2.5gを加えた。室温で30
分撹拌し、ヨウ化カリウム0.2gを加え、次いで、（Ｓ）
−３−ブトキシ−２−メタンスルホニルオキシプロパン
1.92gを加え、100℃で８時間反応させた。反応混合物を
水に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽出し、水洗乾燥した
のち濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製、エタノールで再結晶化して題記化合物を得
た。
得量1.7g ▲〔α〕25 D▼＝＋14.930（Ｃ＝1.306、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1440、1280、1250、1120、850、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.65〜2.17（m,25H） 3.20〜3.80（m,4） 3.97 （t,2H） 4.53 （m,1H） 6.92 （d,2H） 8.20 （d,2H） 8.30 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例12 （Ｓ）−２−〔４′−（２−ブトキシプロピルオキシ）
フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジンの合
成： ジメチルホルムアミド5ml、50％水素化ナトリウム0.17
g、５−ｎ−オクチルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ
フェニル）ピリミジン0.94g、（Ｓ）−２−ブトキシ−
１−メタンスルホニルオキシプロパン0.66gを用いて実
施例11と同様にして、題記化合物を得た。
フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジンの合
成： ジメチルホルムアミド5ml、50％水素化ナトリウム0.17
g、５−ｎ−オクチルオキシ−２−（４′−ヒドロキシ
フェニル）ピリミジン0.94g、（Ｓ）−２−ブトキシ−
１−メタンスルホニルオキシプロパン0.66gを用いて実
施例11と同様にして、題記化合物を得た。
得量0.7g ▲〔α〕25 D▼＝＋5.380（Ｃ＝1.04、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1440、1280、1250、1120、845、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.65〜2.10（m,25H） 3.20〜3.80（m,4H） 3.97 （t,2H） 4.55 （m,1H） 6.88 （d,2H） 8.18 （d,2H） 8.27 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例13 （Ｓ）−２−［４′−（２−エトキシブチルオキシ）フ
ェニル］−５−ｎ−ウンデシルオキシピリミジンの合
成： （Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシブチルオキシ）
フェニル］−５−ｎ−ウンデシルオキシピリミジン2.0
g、50％水素化ナトリウム0.26g、テトラヒドロフラン20
ml、ヘキサメチルホスホリックトリアミド0.2gを撹拌混
合し、次いでヨウ化エチル0.9gを加えて、実施例６と同
様に処理して題記化合物を得た。
ェニル］−５−ｎ−ウンデシルオキシピリミジンの合
成： （Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシブチルオキシ）
フェニル］−５−ｎ−ウンデシルオキシピリミジン2.0
g、50％水素化ナトリウム0.26g、テトラヒドロフラン20
ml、ヘキサメチルホスホリックトリアミド0.2gを撹拌混
合し、次いでヨウ化エチル0.9gを加えて、実施例６と同
様に処理して題記化合物を得た。
得量0.99g ▲〔α〕25 D▼＝−13.70（Ｃ＝2.15、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1605、1430、12701250、1170、11101005、
7551 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.70〜2.02（m,29H） 3.30〜3.87（m,3H） 3.87〜4.20（m,4H） 6.95 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.37 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
7551 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.70〜2.02（m,29H） 3.30〜3.87（m,3H） 3.87〜4.20（m,4H） 6.95 （d,2H） 8.23 （d,2H） 8.37 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例14 （Ｒ）−５−ｎ−ウンデシルオキシ−２−［４′−（３
−ヒドロキシペンチルオキシ）フェニル］ピリミジンの
合成： 50％水素化ナトリウム0.77gをジメチルホルムアミド10m
lに懸濁し、５−ウンデシルオキシ−２−（４′−ヒド
ロキシフェニル）ピリミジン5.0gをジメチルホルムアミ
ド5mlに溶かして加えた。次いで、（Ｒ）−３−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−１−（４′−トルエンスルホニ
ル）オキシペンタン5.0gをジメチルホルムアミド10mlに
溶かして加えた。80℃で８時間反応させたのち、氷水に
注ぎ、酢酸エチルエステル抽出した。水洗乾燥後、減圧
濃縮して残渣7.66gを得た。これをメタノール100mlに溶
かし、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物0.01gを加えて
１時間還流した。溶媒を留去して残渣に、水及び酢酸エ
チルエステルを加え、有機層を水洗乾燥濃縮し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、題記
化合物を得た。得量5.9g IRνmaxcm-1:1610、1445、1280、1255、1175、1040、10
30、1010、850、8001 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.2 （m,28H） 1.7 （s,1H,重水添加で消失） 3.2〜3.8 （m,1H） 4.01 （t,2H） 4.05 （t,2H） 6.90 （d,2H） 8.20 （d,2H） 8.30 （s,2H） 実施例15 （Ｓ）−５−ｎ−ウンデシルオキシ−２−［４′−（３
−エトキシペンチルオキシ）フェニル］ピリミジンの合
成： 実施例14で得た化合物2.9gをピリジン11mlに溶かし、メ
タンスルホニルクロリド0.85gを加え反応させた。反応
混合物を氷水に注ぎ、イソプロピルエーテルで抽出、希
塩酸、水で洗ったのち乾燥し、濃縮し、残渣2.95gを得
た。これを50％水素化ナトリウム0.278g、ジメチルホル
ムアミド30ml及びエチルアルコール0.27gの混合物の中
へ加えた。100℃で５時間反応した。反応混合物を氷水
に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽出した。水洗乾燥した
のち濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製
し、題記化合物を得た。得量1.8g ▲〔α〕25 D▼＝−2.190（Ｃ＝0.5、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1430、1275、1250、1025、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.20 （m,31H） 3.20〜4.30（m,7H） 6.93 （d,2H） 8.27 （d,2H） 8.40 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
−ヒドロキシペンチルオキシ）フェニル］ピリミジンの
合成： 50％水素化ナトリウム0.77gをジメチルホルムアミド10m
lに懸濁し、５−ウンデシルオキシ−２−（４′−ヒド
ロキシフェニル）ピリミジン5.0gをジメチルホルムアミ
ド5mlに溶かして加えた。次いで、（Ｒ）−３−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−１−（４′−トルエンスルホニ
ル）オキシペンタン5.0gをジメチルホルムアミド10mlに
溶かして加えた。80℃で８時間反応させたのち、氷水に
注ぎ、酢酸エチルエステル抽出した。水洗乾燥後、減圧
濃縮して残渣7.66gを得た。これをメタノール100mlに溶
かし、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物0.01gを加えて
１時間還流した。溶媒を留去して残渣に、水及び酢酸エ
チルエステルを加え、有機層を水洗乾燥濃縮し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、題記
化合物を得た。得量5.9g IRνmaxcm-1:1610、1445、1280、1255、1175、1040、10
30、1010、850、8001 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.2 （m,28H） 1.7 （s,1H,重水添加で消失） 3.2〜3.8 （m,1H） 4.01 （t,2H） 4.05 （t,2H） 6.90 （d,2H） 8.20 （d,2H） 8.30 （s,2H） 実施例15 （Ｓ）−５−ｎ−ウンデシルオキシ−２−［４′−（３
−エトキシペンチルオキシ）フェニル］ピリミジンの合
成： 実施例14で得た化合物2.9gをピリジン11mlに溶かし、メ
タンスルホニルクロリド0.85gを加え反応させた。反応
混合物を氷水に注ぎ、イソプロピルエーテルで抽出、希
塩酸、水で洗ったのち乾燥し、濃縮し、残渣2.95gを得
た。これを50％水素化ナトリウム0.278g、ジメチルホル
ムアミド30ml及びエチルアルコール0.27gの混合物の中
へ加えた。100℃で５時間反応した。反応混合物を氷水
に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽出した。水洗乾燥した
のち濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製
し、題記化合物を得た。得量1.8g ▲〔α〕25 D▼＝−2.190（Ｃ＝0.5、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1430、1275、1250、1025、7951 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.6〜2.20 （m,31H） 3.20〜4.30（m,7H） 6.93 （d,2H） 8.27 （d,2H） 8.40 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例16 （Ｓ）−２−［４′−（２−メトキシプロポキシ）フェ
ニル］−５−ｎ−ウンデシロキシピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.12g、テトラヒドロフラン10ml
を室温で撹拌しながら、（Ｓ）−２−［４′−（２−ヒ
ドロキシプロポキシ）フェニル］−５−ｎ−ウンデシル
キシピリミジン0.9g、ヘキサメチルホスホリックトリア
ミド0.09gを加え、30分撹拌したのち、ヨウ化メチル0.3
8gを加えて30℃で４時間反応した。反応混合物を氷水に
注ぎ、酢酸エチルエステルで抽出し、水洗乾燥濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒、ｎ−ヘキサン：酢酸エチルエステル＝10:1）で精
製し、エタノールで再結晶して題記化合物を得た。
ニル］−５−ｎ−ウンデシロキシピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.12g、テトラヒドロフラン10ml
を室温で撹拌しながら、（Ｓ）−２−［４′−（２−ヒ
ドロキシプロポキシ）フェニル］−５−ｎ−ウンデシル
キシピリミジン0.9g、ヘキサメチルホスホリックトリア
ミド0.09gを加え、30分撹拌したのち、ヨウ化メチル0.3
8gを加えて30℃で４時間反応した。反応混合物を氷水に
注ぎ、酢酸エチルエステルで抽出し、水洗乾燥濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒、ｎ−ヘキサン：酢酸エチルエステル＝10:1）で精
製し、エタノールで再結晶して題記化合物を得た。
得量0.42g ▲〔α〕25 D▼＝−14.830（Ｃ＝2.09、クロロホルム） IRνmaxcm-1:1635、1465、1400、1310、1275、870、8201 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.63〜2.07（m,24H） 3.42 （s,2H） 3.53〜4.23（m,5H） 6.95 （d,2H） 8.24 （d,2H） 8.35 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
実施例17 （Ｓ）−２−［４′−（２−メトキシプロポキシ）フェ
ニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.31g、テトラヒドロフラン20m
l、（Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシプロポキ
シ）フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジン1.
8g、ヘキサメチルホスホリックトリアミド0.2g、ヨウ化
メチル0.92gを用いて実施例16と同様にして題記化合物
を得た。得量0.98g ▲〔α〕25 D▼＝−15.620（Ｃ＝2.01クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1440、1290、1250、1040、845、79
0、6451 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.63〜2.07（m,18H） 3.42 （s,3H） 3.53〜4.23（m,5H） 6.94 （d,2H） 8.24 （d,2H） 8.38 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
ニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジンの合成： 50％水素化ナトリウム0.31g、テトラヒドロフラン20m
l、（Ｓ）−２−［４′−（２−ヒドロキシプロポキ
シ）フェニル］−５−ｎ−オクチルオキシピリミジン1.
8g、ヘキサメチルホスホリックトリアミド0.2g、ヨウ化
メチル0.92gを用いて実施例16と同様にして題記化合物
を得た。得量0.98g ▲〔α〕25 D▼＝−15.620（Ｃ＝2.01クロロホルム） IRνmaxcm-1:1610、1440、1290、1250、1040、845、79
0、6451 H−NMR（60MHz,CDCl3）δ（ppm）： 0.63〜2.07（m,18H） 3.42 （s,3H） 3.53〜4.23（m,5H） 6.94 （d,2H） 8.24 （d,2H） 8.38 （s,2H） この化合物の転移温度は以下の如くである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田口 雅明 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内 (72)発明者 原田 隆正 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】式 ［式中Ｙはアルキレン中に不斉炭素原子が在るアルコキ
シアルキレン基又は、OH若しくはアルコキシが結合した
不斉炭素原子が在るアルキル基であり、Ｒはアルキル又
はアルコキシ基である］ で示される液晶化合物
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61148650A JPH0794446B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ２−フエニルピリミジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61148650A JPH0794446B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ２−フエニルピリミジン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS635084A JPS635084A (ja) | 1988-01-11 |
| JPH0794446B2 true JPH0794446B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=15457547
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61148650A Expired - Fee Related JPH0794446B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | ２−フエニルピリミジン誘導体 |
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| JP (1) | JPH0794446B2 (ja) |
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| JP2594266B2 (ja) * | 1987-02-05 | 1997-03-26 | チッソ株式会社 | 光学活性−２−アルコキシ−プロピルエーテル類および液晶組成物 |
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| JPH0312480A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Canon Inc | 強誘電性カイラルスメクチック液晶組成物およびこれを含む液晶素子 |
| JPH0228289A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-30 | Canon Inc | 液晶組成物およびこれを含む液晶素子 |
| JPH0224387A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Canon Inc | 液晶組成物およびこれを含む液晶素子 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60260564A (ja) * | 1984-06-07 | 1985-12-23 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶化合物 |
| JPS6122072A (ja) * | 1984-07-09 | 1986-01-30 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶化合物 |
| JPS6193170A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-12 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | 液晶化合物 |
| JPS61129170A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-17 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | 液晶化合物 |
| JPS61271279A (ja) * | 1985-05-27 | 1986-12-01 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | 液晶化合物 |
| JPS62292768A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-19 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | ２−フエニルピリミジン誘導体 |
| JPH058707A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-19 | Shin Caterpillar Mitsubishi Ltd | 車両系建設機械における緊急停止装置 |
-
1986
- 1986-06-25 JP JP61148650A patent/JPH0794446B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60260564A (ja) * | 1984-06-07 | 1985-12-23 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶化合物 |
| JPS6122072A (ja) * | 1984-07-09 | 1986-01-30 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶化合物 |
| JPS6193170A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-12 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | 液晶化合物 |
| JPS61129170A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-17 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | 液晶化合物 |
| JPS61271279A (ja) * | 1985-05-27 | 1986-12-01 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | 液晶化合物 |
| JPS62292768A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-19 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | ２−フエニルピリミジン誘導体 |
| JPH058707A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-19 | Shin Caterpillar Mitsubishi Ltd | 車両系建設機械における緊急停止装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS635084A (ja) | 1988-01-11 |
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