JPH0783043B2 - ウエハ検査顕微鏡装置 - Google Patents

ウエハ検査顕微鏡装置

Info

Publication number
JPH0783043B2
JPH0783043B2 JP60018771A JP1877185A JPH0783043B2 JP H0783043 B2 JPH0783043 B2 JP H0783043B2 JP 60018771 A JP60018771 A JP 60018771A JP 1877185 A JP1877185 A JP 1877185A JP H0783043 B2 JPH0783043 B2 JP H0783043B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
inspection
microscope
objective lens
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60018771A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61179549A (ja
Inventor
允 吉永
陽一 井場
則行 宮原
正美 川崎
晃正 森田
隆 長野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optic Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optic Co Ltd filed Critical Olympus Optic Co Ltd
Priority to JP60018771A priority Critical patent/JPH0783043B2/ja
Priority to AT85107775T priority patent/ATE52347T1/de
Priority to DE8585107775T priority patent/DE3577355D1/de
Priority to EP85107775A priority patent/EP0169387B1/en
Priority to EP86101375A priority patent/EP0193001B1/en
Priority to DE8686101375T priority patent/DE3662731D1/de
Priority to AT86101375T priority patent/ATE42004T1/de
Publication of JPS61179549A publication Critical patent/JPS61179549A/ja
Priority to US06/928,682 priority patent/US4744642A/en
Priority to US07/198,642 priority patent/US4832474A/en
Publication of JPH0783043B2 publication Critical patent/JPH0783043B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/24Base structure

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、ウエハ検査顕微鏡装置に関するものである。
従来技術 従来のウエハ検査顕微鏡装置として例えば第6図に示し
た如く、センダー1と、ウエハ搬送部2と、ウエハ搬送
部2の中央部に設けられた回転テーブル3及び非接触プ
リアライメントセンサー4と、アーム5と、ウエハ搬送
部2の側方に別個に設けられた検査部6と、検査部6の
中央部に設けられたXYステージ7と、XYステージ7の上
方に固定配置された顕微鏡対物レンズ8と、レシーバー
9と、センダー1,ウエハ搬送部2,レシーバー9に設けら
れたモータ駆動の搬送ベルト10とから基本的に構成され
た、センダー1にセットされたウエハカセット11内のウ
エハ12をベルト搬送により回転テーブル3上まで送り、
続いて回転テーブル3を回転させ非接触プリアライメン
トセンサー4によりウエハ12のオリエンテーションフラ
ット12aを検出して位置出しを行い、次にアーム5によ
りウエハ12をXYステージ7上に移した後XYステージ7に
よりウエハ12をXY方向に移動させながら対物レンズ8に
より検査し、その後アーム5によりウエハ12を搬送部2
に移しベルト搬送によりレシーバー9にセットされたウ
エハカセット13内に送り込むようになっていた。ところ
が、このウエハ検査顕微鏡装置は、搬送部2の回転テー
ブル3からウエハ12をとり上げてその側方の検査部6の
XYステージ7へ載せ変える工程及びその逆の工程がある
ためウエハ12の移動距離が長くなり、その結果検査工程
時間が長くなるという問題があった。又、アーム5など
搬送部2から検査部6へ又検査部6から搬送部2へとウ
エハ12を載せ変えるための機構が必要となるため、構造
が複雑になるという問題があった。又、検査部6を搬送
部2の側方に別個に設けているため装置に必要な床面積
が大きくなり、その結果装置が大型化してしまうという
問題があった。
目 的 本発明は、上記問題点に鑑み、検査工程時間が大幅に短
縮され、構造が簡単になり、装置が非常にコンパクトに
なるようにしたウエハ検査顕微鏡装置を提供せんとする
ものである。
概 要 本発明によるウエハ検査顕微鏡装置は、ウエハ搬送部に
よって搬送されるウエハを顕微鏡で観察して検査するた
めのウエハ検査顕微鏡装置であって、前記ウエハ搬送部
内中に設けられていて前記ウエハの搬送方向と同一方向
へ走査移動可能で、かつ前記顕微鏡の合焦方向に対応す
る方向へ合焦移動可能な検査ステージと、前記検査ステ
ージに載置される前記ウエハの検査面に対して垂直に配
置される対物レンズと、該対物レンズを含むアフォーカ
ル観察光学系を有し、前記対物レンズの光軸を前記ウエ
ハの検査面に平行に偏向せしめる観察鏡筒と、該観察鏡
筒を前記ウエハの検査面に沿って伸縮または回動させる
観察鏡筒駆動手段とを備え、前記対物レンズを前記検査
ステージの走査移動方向と交差する方向に移動させてウ
エハの全面を二次元的に操作可能にしたことを特徴と
し、これにより、ウエハを搬送しつつ検査し得るように
してウエハを検査のためにわざわざウエハ搬送部の側方
へとり出したり逆に戻したりする必要をなくし、特に、
ウエハ検査部に関しては、顕微鏡に対する合焦方向への
合焦移動を可能にすることにより、顕微鏡の駆動機構部
を格段に簡略化且つ軽量化させた上で、ウエハ搬送部内
に一体的に組み込み、これによって装置全体の小型化を
達成し、且つ装置に必要な床面積が小さくて済むように
したものである。
実施例 以下、第1図乃至第3図に示した一実施例に基づき上記
従来例と同一の部材には同一符号を付して本発明を詳細
に説明すれば、検査用ステージ7はウエハ搬送部2内に
設けられていると共に、吸気管14を介して図示しない真
空ポンプと接続されていて上面に載置されたウエハ12を
吸着保持するようになっている。又、検査用ステージ7
は後述のステージ駆動装置によりウエハ12の搬送方向と
同一の方向(第2図矢印A方向)及び上下方向(顕微鏡
の合焦方向に該当する)に移動せしめられ、更に水平面
内にて回転せしめられるようになっている。15はウエハ
搬送部2内に配設された第一フレーム、16は第一フレー
ム15にローラガイドを介して上下合焦方向に移動可能に
装着され且つモータ17により駆動第二フレーム、18は第
二フレーム16にローラガイド19を介して第2図矢印A方
向に移動可能に装着され且つモータ20により駆動される
と共に上部に検査用ステージ7が枢着された第三フレー
ム、21は検査用ステージ7の中心軸に固着されていてモ
ータ22により回動せしめられることにより検査用ステー
ジ7を水平面内にて回転せしめるギャであって、これら
がステージ駆動装置を構成している。23はウエハ搬送部
2に近接配置さた検査顕微鏡本体、24は本体1に固定さ
れた観察鏡筒、25は観察鏡筒24にアリ・アリ溝係合によ
りウエハ12の搬送方向と直交する方向(第2図矢印B方
向)に移動可能に装着されていて内部に対物レンズ8及
びミラー26が設けられた対物鏡筒、27は本体23内に設け
られたハーフミラー、28は本体23内に設けられた結像レ
ンズ、29は本体23の上に設けられたプリブム、30は接眼
レンズ、31は光源、32はコンデンサーレンズである。こ
こで、対物レンズ8,ミラー26,ハーフミラー27,結像レン
ズ18,プリズム29,接眼レンズ30から成る観察光学系は、
ミラー26とハーフミラー27との間の光路長を変化させて
も合焦位置が変化しない例えばアフォーカルな構成にな
っているものとする。
本発明によるウエハ検査顕微鏡装置は上述の如く構成さ
れているから、センダー1にセットされたウエハカセッ
ト11内のウエハ12は搬送ベルト10により検査用ステージ
7上まで送られ、真空吸着により検査用ステージ7上に
吸着保持される。続いてステージ駆動装置により検査用
ステージ7を回転させ非接触プリアライメントセンサー
4によりウエハ12のオリエンテーションフラット12aを
検出して位置出しを行うと共に、第二フレーム16を上下
に作動して合焦調整させた後、ウエハ検査のためにステ
ージ駆動装置により検査用ステージ7をウエハ搬送方向
(第2図矢印A方向)に移動させる。この時の検査用ス
テージ7の移動距離はウエハ12の直径相当分あれば良
い。そして、これに加えて対物レンズ8をウエハ搬送方
向と直角な方向(第2図矢印B方向)にウエハ12の上面
に沿って移動せしめれば、ウエハ12の全面を検査するこ
とができる。
又、ここで、前記検査用ステージ7につき、これを顕微
鏡の合焦方向に対応する方向へ合焦移動可能にしてある
ために、該顕微鏡の駆動機構部が格段に簡略化され、且
つ観察鏡筒自体の軽量化に伴い、駆動時の慣性モーメン
トを小さくでき、その駆動制御が容易になる。
第4図及び第5図は他の実施例の腰部を示しており、こ
れは接眼部を固定し且つそれ以外の部分即ち光源部及び
観察鏡筒24を結像レンズ28の光軸を中心にして水平面内
にて回動可能にして、対物レンズ8がウエハ搬送方向と
交叉する円周方向(第4図矢印C方向)に移動するよう
にしたものであって、この場合ミラー26とハーフミラー
27との間の光路長を変化させずに済み、顕微鏡光学系の
設計が容易となる利点がある。但し、観察鏡筒24の回動
に伴い像が回転するので、光学系の途中にイメージロー
テータ33を入れる必要がある。
発明の効果 上述の如く本発明によるウエハ検査顕微鏡装置は、ウエ
ハを搬送しつつ検査し得るので、ウエハを検査のために
ウエハ搬送部の側方へとり出したり逆戻したりする必要
はなく、その結果検査工程時間が大幅に短縮される。
又、アーム等の載せ変え機構も不要になるので構造が簡
単になる。又、ウエハ検査部に関し、顕微鏡の合焦方向
への合焦移動を可能にしたので、顕微鏡の駆動機構部が
格段に簡略化且つ軽量化させた上で、ウエハ搬送部内に
一体的に組み込んでいるので、装置に必要な床面積が小
さくて済み、その結果装置が非常にコンパクトになる。
これらの効果は、検査処理速度の向上やウエハの大径化
が求められているこの種技術分野において極めて重要な
高価である。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は夫々本発明によるウエハ検査顕微鏡
装置の一実施例の平面図,斜視図及び側面図、第4図及
び第5図は夫々他の実施例の要部の平面図及び概略断面
図、第6図は従来例の平面図である。 1……センダー、2……ウエハ搬送部、4……非接触プ
リアライメントセンサー、7……検査用ステージ、8…
…対物レンズ、9……レシーバー、10……搬送ベルト、
11,13……ウエハカセット、12……ウエハ、14……吸気
管、15……第一フレーム、15′……ローラガイド、16…
…第二フレーム、18……第三フレーム、19……ローラガ
イド、17,20,22……モータ、21……ギャ、23……検査顕
微鏡本体、24……観察鏡筒、25……対物鏡筒、26……ミ
ラー、27……ハーフミラー、28……結像レンズ、29……
プリズム、30……接眼レンズ、31……光源、32……コン
デンサーレンズ、33……イメージローテータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 晃正 東京都渋谷区幡ケ谷2の43の2 オリンパ ス光学工業株式会社内 (72)発明者 長野 隆 東京都渋谷区幡ケ谷2の43の2 オリンパ ス光学工業株式会社内 審判の合議体 審判長 松村 貞男 審判官 及川 泰嘉 審判官 相田 義明

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ウエハ搬送部によって搬送されるウエハを
    顕微鏡で観察して検査するためのウエハ検査顕微鏡装置
    であって、 前記ウエハ搬送部内中に設けられていて前記ウエハの搬
    送方向と同一方向へ走査移動可能で、かつ前記顕微鏡の
    合焦方向に対応する方向へ合焦移動可能な検査ステージ
    と、 前記検査ステージに載置される前記ウエハの検査面に対
    して垂直に配置される対物レンズと、 該対物レンズを含むアフォーカル観察光学系を有し、前
    記対物レンズの光軸を前記ウエハの検査面に平行に偏向
    せしめる観察鏡筒と、 該観察鏡筒を前記ウエハの検査面に沿って伸縮または回
    動させる観察鏡筒駆動手段とを備え、 前記対物レンズを前記検査ステージの走査移動方向と交
    差する方向に移動させてウエハの全面を二次元的に操作
    可能にしたこと、 を特徴とするウエハ検査顕微鏡装置。
  2. 【請求項2】前記観察鏡筒の観察光学系中にイメージロ
    ーテータが介入されていることを特徴とする特許請求の
    範囲(1)に記載のウエハ検査顕微鏡装置。
JP60018771A 1984-06-25 1985-02-04 ウエハ検査顕微鏡装置 Expired - Lifetime JPH0783043B2 (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60018771A JPH0783043B2 (ja) 1985-02-04 1985-02-04 ウエハ検査顕微鏡装置
AT85107775T ATE52347T1 (de) 1984-06-25 1985-06-23 Mikroskop.
DE8585107775T DE3577355D1 (de) 1984-06-25 1985-06-23 Mikroskop.
EP85107775A EP0169387B1 (en) 1984-06-25 1985-06-23 Microscope
DE8686101375T DE3662731D1 (en) 1985-02-04 1986-02-03 Microscope apparatus for examining wafer
EP86101375A EP0193001B1 (en) 1985-02-04 1986-02-03 Microscope apparatus for examining wafer
AT86101375T ATE42004T1 (de) 1985-02-04 1986-02-03 Mikroskopvorrichtung zum pruefen von wafern.
US06/928,682 US4744642A (en) 1984-06-25 1986-11-07 Microscope
US07/198,642 US4832474A (en) 1985-02-04 1988-05-26 Microscope apparatus for examining wafer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60018771A JPH0783043B2 (ja) 1985-02-04 1985-02-04 ウエハ検査顕微鏡装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61179549A JPS61179549A (ja) 1986-08-12
JPH0783043B2 true JPH0783043B2 (ja) 1995-09-06

Family

ID=11980894

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60018771A Expired - Lifetime JPH0783043B2 (ja) 1984-06-25 1985-02-04 ウエハ検査顕微鏡装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0783043B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2517243B2 (ja) * 1986-09-11 1996-07-24 東京エレクトロン株式会社 プロ−ブ装置
JP2659384B2 (ja) * 1988-02-16 1997-09-30 オリンパス光学工業株式会社 ウエハ検査装置
JPH0254153A (ja) * 1988-08-17 1990-02-23 Nec Kyushu Ltd ウェーハ外観検査装置
JPH02281101A (ja) * 1989-04-21 1990-11-16 Tokyo Electron Ltd 半導体検査装置
JP2517669B2 (ja) * 1989-05-24 1996-07-24 キヤノン株式会社 露光装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5539021A (en) * 1978-09-14 1980-03-18 Hitachi Electronics Eng Co Ltd Automatic plate tester
JPS56130934A (en) * 1980-03-17 1981-10-14 Nec Kyushu Ltd Inspecting device for semiconductor element
JPS5757246A (en) * 1980-09-25 1982-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Detecting and measuring apparatus for flaw
JPS5910231A (ja) * 1982-07-09 1984-01-19 Mitsubishi Electric Corp パタ−ン欠陥解析装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59128557U (ja) * 1983-02-18 1984-08-29 富士通株式会社 試料検査装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5539021A (en) * 1978-09-14 1980-03-18 Hitachi Electronics Eng Co Ltd Automatic plate tester
JPS56130934A (en) * 1980-03-17 1981-10-14 Nec Kyushu Ltd Inspecting device for semiconductor element
JPS5757246A (en) * 1980-09-25 1982-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd Detecting and measuring apparatus for flaw
JPS5910231A (ja) * 1982-07-09 1984-01-19 Mitsubishi Electric Corp パタ−ン欠陥解析装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61179549A (ja) 1986-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4881863A (en) Apparatus for inspecting wafers
US5105147A (en) Wafer inspection system
US4744642A (en) Microscope
EP0193001B1 (en) Microscope apparatus for examining wafer
WO2006118152A1 (ja) 外観検査装置及び外観検査方法並びに外観検査装置に装着可能な周縁部検査ユニット
JPH0783043B2 (ja) ウエハ検査顕微鏡装置
US7400392B2 (en) Apparatus for handling of a disklike member, especially for handling of a wafer
US20030072645A1 (en) Edge gripping pre-aligner
JP4392213B2 (ja) 半導体基板のクラックの有無を検査する表面検査装置
JPH08137091A (ja) マスク外観検査装置
JP2603191B2 (ja) 薄板傾動装置
JP4331306B2 (ja) 画像取込み装置
JPH05109849A (ja) 基板外観検査装置
JP2568488B2 (ja) 顕微鏡
JP6101481B2 (ja) 積層構造を有するワークの内部検査装置
JPS6187351A (ja) ウエハ搬送用ハンドラ
JP2868079B2 (ja) 顕微鏡用の試料走査機構
JP2000266637A (ja) 基板検査用追従装置
JPH0691152B2 (ja) 半導体ウエハ計数装置
JPH08102479A (ja) ウエハ検査装置
JPH0622258B2 (ja) ウエハ表面検査装置
JPH07333160A (ja) 被検査物の表面性状観察装置
JPH07311344A (ja) 顕微鏡
KR20230165653A (ko) 슬라이드 글래스 이송 로봇 및 그 제어 방법
JPH0579423U (ja) 基板用測定装置