JP4331306B2 - 画像取込み装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラットパネルディスプレイ(FPD)のガラス基板などの表面画像を取り込むための画像取込み装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
FPDに用いられるガラス基板の欠陥検査には、ガラス基板表面に照明光を当て、その反射光の光学的変化に応じた基板表面の画像を取込み、これを画像処理することで、膜厚ムラや傷などの欠陥部分を検出するものがある。
【0003】
具体的には、特開平9−61365号公報に開示されるように、固定されたライン状光源からの照明光を所定角度で被検体表面に照射し、被検体表面からの反射光を、照明光の入射角度と相対的に反射角度を変化させて、撮像部により回折光を用いた欠陥画像や干渉を利用した欠陥画像を撮像するようにしたものがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近、FPDの大型化にともないガラス基板などの被検体サイズは、ますます大型化の傾向にあるが、このように被検体サイズが大型化すると、これにともない被検体と撮像部との距離も大きくなることが知られている。
【0005】
ところが、このような被検体サイズの大型化に、上述の特開平9−61365号公報に開示されたものを対応させようとすると、構造的に被検体と撮像部との距離が大きくなるだけでなく、この状態で、撮像部の撮像位置を適宜移動させなければならないため、装置が大掛かりになるとともに、操作面でも扱いずらく、さらに撮像部の位置決め精度が低下するため、欠陥画像の撮像が難しくなるという問題があった。
【0006】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、操作が簡単で、良質な画像の取込みができ、しかも装置の小型化を図ることができる画像取込み装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、ベースに対して直立して設けられた門型の支柱と、前記ベース上に設けられ被検査基板を載置するステージと、前記門型の支柱又は前記ステージを移動させる駆動手段と、前記門型の支柱又は前記ステージの移動方向と直交する前記門型の支柱の空間に配置され、前記被検体に対して所定の入射角度でライン照明光を照射するライン照明手段と、前記門型の支柱の先端より前記移動方向に延出された支持アームと、この支持アームの先端に設けられ、前記ライン照明手段により前記被検体上に照射されたライン照明の照射点から所定の反射角度で反射した反射光を前記支持アームの基部側となる後方に向けてほぼ水平に偏向させる偏向手段と、この偏向手段でほぼ水平方向に偏向された光路上に配置され、前記ライン照明の照射点からの反射光を撮像する撮像手段と、を具備したことを特徴とする画像取込み装置である。
【0008】
この結果、本発明によれば、被検体である被検査基板の大型化に伴って被検体と撮像手段との光路長が長くなっても光路を偏向手段で偏向することで、光路が占めるスペースを小さくでき、小型な画像取込み装置を実現できる。
【0009】
また、請求項2記載の発明は、前記ライン照明手段を、前記被検査基板面に対して入射角度を任意に設定できるように前記ライン照明の照射点を回転中心にして前記門型の支柱の空間に回転可能に設けることを特徴とする請求項1記載の画像取込み装置である。
【0010】
また、請求項3記載の発明は、ライン照明手段を、前記被検査基板に対する入射角θ2及び反射角θ1がθ2=θ1の関係を持つように設定し、干渉光を前記撮像手段に取込むことを特徴とする請求項2記載の画像取込み装置である。
また、請求項4記載の発明は、ライン照明手段を、前記被検査基板に対する入射角θ2及び反射角θ1がθ2≠θ1の関係を持つように設定し、回折光を前記撮像手段に取込むことを特徴とする請求項2記載の画像取込み装置である。
【0012】
これらの結果、本発明によれば、被検体ごとに最適な欠陥画像を得るための光学条件を任意に設定でき、良質な画像の取り込みができるとともに、取り扱い操作を簡単にできる。また、装置の上部スペースに光学系をコンパクトに支持できるので、さらに装置の小型化に寄与できる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態を図面に従い説明する。
【0014】
図1は、本発明が適用される画像取込み装置の概略構成を示している。図において、1は装置本体で、この装置本体1は、ベース1aを有し、この水平面1a上に直立して門型の支柱1bを一体に設けるとともに、この支柱1b先端にベース1aと平行方向に延出された支持アーム1cを設けている。
【0015】
また、装置本体1のベース1a上に、標本として被検査基板2を載置するステージ3を設けている。このステージ3は、ベース1a上に沿って1軸方向、つまり図示矢印方向に直線往復移動可能にしている。
【0016】
装置本体1の支柱1bの空間には、ステージ3上の被検査基板2面に対向した上方位置にライン照明ユニット4を配置している。
【0017】
このライン照明ユニット4は、例えばファイバ束を被検査基板2の移動方向と直交する方向に沿って規則正しく整列させたもので、平行に近い光束からなるライン照明光を被検査基板2面に対して入射角度θ2で照射するようにしている。この場合、ライン照明ユニット4は、被検査基板2面に対する入射角θ2を任意に設定できるように回転可能になっており、照射点(反射点)が移動しないように照射点を回動中心として回動する。支持アーム1cは、支柱1aの上部にリブなどにより補強し、一体化構造にしたものである。この支持アーム1cには、ミラー51、干渉フィルタ52、結像レンズ53およびラインセンサカメラ54よりなる撮像光学系5が配置され、ライン照明ユニット4により照明された被検査基板2面のライン状領域の反射光をほぼ水平方向に偏向させるようにミラー51で反射させ、干渉フィルタ52、結像レンズ53を介してラインセンサカメラ54で取り込むようになっている。この場合、被検査基板2面のライン状領域から反射角度θ1の反射光が撮像光学系5のミラー51に入射するようにしている。
【0018】
なお、干渉フィルタ52については、図示しない切換ユニットにより光路に対して出し入れ可能になっており、ここでは、ラインセンサカメラ54により干渉を利用した欠陥画像(以下、干渉像と呼ぶ)を撮像する干渉像取込み条件の設定時のみ光路中に挿入される。
【0019】
また、ラインセンサカメラ54に取り込まれる被検査基板2面の1ラインごとの反射光は、電気的な画像データに変換され、被検査基板2全面の走査を完了すると、図示しないモニターに表示されるとともに、画像処理装置に転送され欠陥検出が行なわれる。
【0020】
次に、このように構成した実施の形態の動作を説明する。
【0021】
まず、ステージ3を被検査基板2の受け渡し位置まで移動し、この位置でステージ3上に、図示しない基板搬送手段または手置きにより被検査基板2を載置させる。
【0022】
次に、干渉像取込み条件を設定する。この場合、最初に、ライン照明ユニット4の入射角度を調整し、被検査基板2面に対するライン照明光の入射角度θ2がθ2=θ1となるように設定する。この際、ライン照明ユニット4のライン照明光は、被検査基板2に対し最適な光量になるように調整される。また、撮像光学系5の光路中には、干渉フィルタ52が挿入されている。
【0023】
この状態から、ステージ3を一定速度で一方向に直線移動させると、ステージ3の移動と同期して被検査基板2上の1ラインごとのライン状領域からの反射光がミラー51に入射し、ここで反射され干渉フィルタ52および結像レンズ53を介してラインセンサカメラ54に取り込まれる。この場合、ライン照明ユニット4のライン照明光の入射角度θ2がθ2=θ1に設定されているので、ラインセンサカメラ54により干渉画像が取り込まれ、その後、ラインセンサカメラ54で、電気的な画像データに変換されるとともに、被検査基板2の全面走査を完了したところで、図示しないモニターに表示されるとともに、画像処理装置に転送され被検査基板2面の膜厚ムラなどの干渉光による欠陥が検出される。
【0024】
その後、被検査基板2全面の干渉像の取込みを終了すると、次に、回折光を用いた欠陥画像(以下、回折像と呼ぶ)を撮像する回折像取込み条件を設定する。この場合も、ライン照明ユニット4の煽り方向の角度を調整し、被検査基板2面に対するライン照明光の入射角度θ2がθ2≠θ1となるように設定する。また、この際も、ライン照明ユニット4のライン照明光は、被検査基板2に対し最適な光量になるように調整される。この場合は、撮像光学系5の光路中の干渉フィルタ52は、取り外すものとする。
【0025】
この状態から、ステージ3を一定速度で一方向に直線移動させると、ステージ3の移動と同期して被検査基板2上の1ラインごとのライン状領域からの反射光がミラー51に入射し、ここで反射され結像レンズ53を介してラインセンサカメラ54に取り込まれる。この場合、ライン照明ユニット4のライン照明光の入射角度θ2がθ2≠θ1に設定されているので、ラインセンサカメラ54により回折画像が取り込まれ、その後、ラインセンサカメラ54で、電気的な画像データに変換されるとともに、被検査基板2の全面走査を完了したところで、図示しないモニターに表示されるとともに、画像処理装置に転送され被検査基板2面の異物や傷などの回折光による欠陥が検出される。
【0026】
そして、被検査基板2全面の回折光による欠陥画像の取込みを終了すると、ステージ3を被検査基板2の受け渡し位置まで移動し、この位置でステージ3上の検査済みの被検査基板2を図示しない基板搬送手段または手置きにより排除し、新たな被検査基板2に対する画像取込みが行なわれる。
【0027】
従って、このようにすれば、撮像光学系5にミラー51を配置し、被検査基板2からの反射光をミラー51で折り返して後方に反射させ、干渉光または回折光による欠陥画像をラインセンサカメラ54に取り込むようにしたので、被検査基板2の大型にともなって被検査基板2とラインセンサカメラ54との距離が長くなっても、撮像光学系5を折り返して光路が占めるスペースを小さくでき、さらに装置上部の空間を有効に利用することで、装置の小型化を実現できる。
【0028】
また、被検査基板2とラインセンサカメラ54との距離を大きく取れることから、被検査基板2の大型になっても1台のラインセンサカメラ54で対応できるので、複数台のカメラを使用するもののように取込み画像に繋ぎ目ができてしまい、モニターによる目視検査や画像処理による自動検査に障害を与える恐れのあるものと比べ、良質の取込み画像を得られ、モニターによる目視検査や画像処理による自動検査を精度良く行なうことができる。
【0029】
さらに、撮像光学系5側を固定して、ライン照明ユニット4からのライン照明光の入射角度θ2を任意に設定できるようにしたので、被検査基板2ごとに最適な干渉光や回折光による欠陥画像を得るための角度設定を簡単にでき、良質な画像の取込みができるとともに、取り扱い操作を簡単にできる。
【0030】
さらにまた、装置本体1に一体に形成された支柱1bの支持アーム1cに支持される撮像光学系5は、ミラー51、干渉フィルタ52、結像レンズ53およびラインセンサカメラ54を一体化構造にしているので、支持アーム1cにコンパクトに支持でき、さらに装置の小型化に寄与できる。また、装置本体1に支柱1bと支持アーム1cを一体に形成し、ライン照明ユニット4と撮像光学系5を取付けているので、ライン照明ユニット4と撮像光学系5を独立して設ける場合と比べ、ライン照明ユニット4と撮像光学系5に対する振動の同期が取れ、振動による撮像画像の乱れを最小限に抑制することができる。また、重量物である撮像光学系5を支持アーム1cの基部(支柱1b)の上部に配置することで、振動の発生を抑制することができる。
【0031】
なお、上述した実施の形態では、撮像光学系5に対してステージ3を一定速度で一方向に直線移動させるようにしたが、ステージ3を固定して、撮像光学系5を有する支持アーム1cを支柱1bとともに、一定速度で一方向に直線移動させるようにしてもよい。
【0032】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、標本の大型にともなって標本と撮像手段との距離が大きくなっても、撮像光学手段の光路が占めるスペースを小さくでき、装置の小型化を実現できる。
【0033】
また、標本ごとに最適な欠陥像を得るためのライン照明入射角度を簡単に設定できるので、良質な画像の取込みができるとともに、取り扱い操作を簡単にできる。
【0034】
さらに、撮像光学手段をコンパクトに支持できるので、装置の小型化に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の概略構成を示す図。
【符号の説明】
1…装置本体
1a…ベース
1b…支柱
1c…支持アーム
2…被検査基板
3…ステージ
4…ライン照明ユニット
5…撮像光学系
51…ミラー
52…干渉フィルタ
53…結像レンズ
54…ラインセンサカメラ
Claims (4)
- ベースに対して直立して設けられた門型の支柱と、
前記ベース上に設けられ被検査基板を載置するステージと、
前記門型の支柱又は前記ステージを移動させる駆動手段と、
前記門型の支柱又は前記ステージの移動方向と直交する前記門型の支柱の空間に配置され、前記被検体に対して所定の入射角度でライン照明光を照射するライン照明手段と、
前記門型の支柱の先端より前記移動方向に延出された支持アームと、
この支持アームの先端に設けられ、前記ライン照明手段により前記被検体上に照射されたライン照明の照射点から所定の反射角度で反射した反射光を前記支持アームの基部側となる後方に向けてほぼ水平に偏向させる偏向手段と、
この偏向手段でほぼ水平方向に偏向された光路上に配置され、前記ライン照明の照射点からの反射光を撮像する撮像手段と、
を具備したことを特徴とする画像取込み装置。 - 前記ライン照明手段を、前記被検査基板面に対して入射角度を任意に設定できるように前記ライン照明の照射点を回転中心にして前記門型の支柱の空間に回転可能に設けることを特徴とする請求項1記載の画像取込み装置。
- 前記ライン照明手段を、前記被検査基板に対する入射角θ2及び反射角θ1がθ2=θ1の関係を持つように設定し、干渉光を前記撮像手段に取込むことを特徴とする請求項2記載の画像取込み装置。
- 前記ライン照明手段を、前記被検査基板に対する入射角θ2及び反射角θ1がθ2≠θ1の関係を持つように設定し、回折光を前記撮像手段に取込むことを特徴とする請求項2記載の画像取込み装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07172399A JP4331306B2 (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 画像取込み装置 |
TW089104625A TW440689B (en) | 1999-03-17 | 2000-03-14 | Image fetching apparatus |
KR10-2000-0013369A KR100370608B1 (ko) | 1999-03-17 | 2000-03-16 | 화상 포착 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07172399A JP4331306B2 (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 画像取込み装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000266682A JP2000266682A (ja) | 2000-09-29 |
JP2000266682A5 JP2000266682A5 (ja) | 2006-04-06 |
JP4331306B2 true JP4331306B2 (ja) | 2009-09-16 |
Family
ID=13468737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07172399A Expired - Fee Related JP4331306B2 (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 画像取込み装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4331306B2 (ja) |
KR (1) | KR100370608B1 (ja) |
TW (1) | TW440689B (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6871684B2 (en) * | 2002-08-13 | 2005-03-29 | The Boeing Company | System for identifying defects in a composite structure |
JP2006058170A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 目視確認装置および検査システム |
JP4675120B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2011-04-20 | 株式会社クボタ | 粒状体選別装置 |
KR100803042B1 (ko) * | 2006-01-06 | 2008-02-18 | 주식회사 매크론 | 영상취득장치 및 방법 |
JP4813294B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2011-11-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学式検査装置 |
KR100783618B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2007-12-07 | (주)오엘케이 | 매크로 검사장치 |
JP2010019639A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Lasertec Corp | ムラ検出装置及びパターン検査装置 |
JP5789436B2 (ja) | 2011-07-13 | 2015-10-07 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダ |
-
1999
- 1999-03-17 JP JP07172399A patent/JP4331306B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-14 TW TW089104625A patent/TW440689B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-03-16 KR KR10-2000-0013369A patent/KR100370608B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000266682A (ja) | 2000-09-29 |
KR100370608B1 (ko) | 2003-01-29 |
KR20000062919A (ko) | 2000-10-25 |
TW440689B (en) | 2001-06-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060125 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080722 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090317 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090422 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090526 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090618 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130626 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |