JPH08137091A - マスク外観検査装置 - Google Patents

マスク外観検査装置

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JPH08137091A
JPH08137091A JP27326194A JP27326194A JPH08137091A JP H08137091 A JPH08137091 A JP H08137091A JP 27326194 A JP27326194 A JP 27326194A JP 27326194 A JP27326194 A JP 27326194A JP H08137091 A JPH08137091 A JP H08137091A
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JP
Japan
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mask
inspection
arm
inspection stage
case
Prior art date
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Application number
JP27326194A
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English (en)
Inventor
Naoto Yoshitaka
直人 吉高
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Oki Electric Industry Co Ltd
Miyazaki Oki Electric Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Miyazaki Oki Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 マスク外観検査において、作業者の手による
ペリクル上のキズ、異物付着を防止するとともに、最適
な姿勢での迅速な検査を可能にする。 【構成】 箱状本体11にマスクケース台13に設け
る。チルトアーム25を介して任意な姿勢に設定可能な
検査ステージ23を、マスクケース台13の近傍に設け
る。マスクケース台13にセットされたマスクケースに
対し、マスク15の取り出し及び収納を行うとともに、
マスクケース台13と検査ステージ23との間における
マスク15の搬送を行う搬送アーム21を、マスクケー
ス台13の近傍に設ける。検査ステージ23上に保持さ
れたマスク15の表裏を反転する反転アーム41を、検
査ステージ23の近傍に設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路の製造
工程(リソグラフィ工程)で用いられるフォトマスク、
レチクル(以下、「マスク」という)の外観検査装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路を製造するリソグラフィ
工程では、原画を直接ウエハ上に縮小投影して露光する
とともに、ウエハを載置した移動台を小刻みに動かし、
自動焦点機構とコンピュータによる位置決めによって、
順次に同じパターンを焼き付けていく。この際、パター
ン原板であるマスク上にキズや異物が存在すると、これ
らがウエハ上の全ての回路に転写され、回路の短絡、断
線等を引き起こす原因となる。
【0003】このような問題を解消するため、マスクの
片面又は両面には保護、防塵を目的としたペリクルが設
けられる。図2はペリクルが設けられたマスクの斜視図
である。ペリクル1は、例えばアルミ製の支持枠3の一
側面に透明な薄膜5を張設してなり、他面側に塗布され
た粘着剤によりマスク7上に装着される。
【0004】ペリクル1が装着されることにより、異物
がマスク表面に直接付着することが防止でき、仮にペリ
クル1上に異物が付着しても露光装置の光学系の焦点か
らずれるため、異物はウエハ上には結像されにくくな
る。しかし、上述したように、転写時の欠陥はウエハ上
のすべての回路に及ぶものであるため、集積回路の歩留
りを向上させるためにも、光路上に配置されるペリクル
のキズや異物は極力さけなければならない。
【0005】一般に、ペリクル表面の外観検査方法とし
ては、ペリクル1の劣化によるくもり(白濁)、キズ、
汚れ、異物等のすべてが検査できる、ハロゲン光を使用
した斜光による目視検査が好適となる。従来、この種の
検査では、被検査対象となるマスク7の取り扱いを、す
べて作業者の手により行っていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マスク
7の取り扱い、即ち、マスクケースからの取り出しか
ら、検査、収納までが作業者の手により行われると、作
業者の手又は手袋によってペリクル上にキズ、汚れ、異
物を付けてしまう問題が発生した。そしてこの問題は、
マスクの寸法が大きくなるにしたがって、作業者がマス
クを扱いづらくなるため、一層顕著となった。近年は、
半導体ウエハの直径の拡大に伴ってマスクの寸法も次第
に大きくなる傾向にあることから、この問題はますます
重要なものとなってきた。また、従来の検査装置では、
作業者から見た照明に対するマスクの姿勢が、作業者の
把持操作により定められていたため、最適な観察姿勢が
迅速に見つけられないとともに、観察姿勢がマスクごと
にバラツクこともあり、常に一定した状態での斜光目視
検査が行われず、検査条件が安定しない問題もあった。
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、作業者の手
によるペリクル上のキズ、汚れ、異物付着が防止できる
とともに、最適な姿勢での検査が迅速且つ安定して行え
るマスク外観検査装置を提供し、検査の信頼性向上を図
ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係るマスク外観検査装置の構成は、ペリクル
が張設されたマスクを自動搬送するとともに、ペリクル
の斜光目視検査のためにマスクを任意の姿勢に設定可能
とするマスク外観検査装置であって、上面が開口した箱
状本体にマスクケース台を設け、XYZ軸方向の枢軸部
で構成されたチルトアームを介して任意な姿勢に設定可
能な検査ステージをマスクケース台の近傍に設け、マス
クケース台にセットされたマスクケースに対してマスク
の取り出し及び収納を行うとともにマスクケース台と検
査ステージとの間におけるマスクの搬送を行う搬送アー
ムをマスクケース台の近傍に設け、検査ステージ上に保
持されたマスクの表裏を反転する反転アームを検査ステ
ージの近傍に設けたことを特徴とするものである。
【0008】
【作用】マスクケース台にマスクケースがセットされる
と、搬送アームがマスクケース台上へ移動され、マスク
ケース内よりマスクを取り出し、検査ステージ上へ搬送
する。操作パネルで「検査」が指定されると、チルトア
ームが動作し、検査ステージが予め教示されている姿勢
に設定される。これにより、照明に対して、最もペリク
ル上の汚れ、異物等の観察し易い姿勢に検査ステージが
迅速に自動設定される。反対面(裏面)の検査を行う必
要があるときは、操作パネルで「反転」が指定され、反
転アームによって検査ステージ上にあるマスクの表裏が
反転される。検査が終了した後、操作パネルで「収納」
が指定されると、搬送アームによって検査済みマスクが
マスクケース内へ収納され、マスクケースからのマスク
の取り出し、検査、反転、収納までの動作がすべて装置
で行われることになる。
【0009】
【実施例】以下、本発明に係るマスク外観検査装置の好
適な実施例を図面を参照して詳細に説明する。図1は本
発明によるマスク外観検査装置の斜視図である。上面が
開口した箱状本体11の隅部にはマスクケース台13が
設けられている。マスクケース台13にはマスク15を
収容したケースが作業者によりセットされる。マスクケ
ース台13には二個の近接センサ17とフォトセンサ1
9が設けられ、マスクケース台13ではこれらのセンサ
17、19によってケースの種類が自動的に識別され
る。
【0010】マスクケース台13の近傍には搬送アーム
21が設けられ、搬送アーム21はマスクケースに対す
るマスク15の取り出し及び収納、マスクケース台13
と後述する検査ステージとの間の搬送を行う。また、搬
送アーム21は、ケースの種類に対応して把持、移動量
等が自動制御され、搬送動作が行えるようになってい
る。
【0011】箱状本体11にはマスクケース台13と隣
接して検査ステージ23が設けられ、検査ステージ23
はマスク15を保持する吸着プレートで、チルトアーム
25によって支えられている。チルトアーム25はX軸
方向の枢軸部27と、X軸方向と直交するY軸方向の枢
軸部29と、X軸方向及びY軸方向に直交するZ軸方向
の枢軸部31とを有している。そして、チルトアーム2
5は、X軸回転用サーボモータ33とY軸回転用サーボ
モータ35とZ軸回転用パルスモータ37によって、検
査ステージ23を任意な姿勢に動作させることが可能と
なっている。
【0012】検査ステージ23の上方には照明39が設
置され、照明39は検査ステージ23上のマスク15を
ハロゲンスポット光にて照射する。検査ステージ23の
斜め後方(図1の上方)には反転アーム41が設けら
れ、反転アーム41は検査ステージ23上のマスク15
の表裏を反転することができる。
【0013】本体11の外部には操作パネル43が設置
され、操作パネル43は記憶手段45、制御手段47に
対して各動作の指定を行うためのスイッチ類を備えてい
る。記憶手段45は、チルトアーム25の移動量を記憶
することによって検査ステージ23の任意の姿勢を登録
することが可能となっている。また、制御手段47は、
検査ステージ23が登録された姿勢となるように操作パ
ネル43からの動作指定によって、チルトアーム25を
駆動制御するようになっている。
【0014】本体11、マスクケース台13、搬送アー
ム21、検査ステージ23、チルトアーム25、照明3
9、反転アーム41、操作パネル43を主な要素とし
て、マスク外観検査装置49が構成されている。
【0015】このように構成されたマスク外観検査装置
49の動作を説明する。検査にあたっては、先ず、マス
クケース台13にマスクケースをセットする。操作パネ
ル43で「スタート」を指定すると、検査ステージ23
上にあった搬送アーム21はマスクケース台13上へ移
動し、マスクケース内よりマスク15を取り出し、検査
ステージ23上へ搬送する。
【0016】検査ステージ23上にマスク15の吸着保
持が行われた後、搬送アーム21はマスクケース台13
上へ移動し待機する。次に、操作パネル43で「検査」
を指定すると、チルトアーム25が動作し、検査ステー
ジ23は予め教示されている姿勢に移動する。
【0017】ここで、作業者は、マスク15の斜光によ
る目視検査を開始する。この際、作業者は、検査ステー
ジ23の姿勢を照明39に対して、最もペリクル上のく
もり(白濁)、汚れ、キズ、異物等が観察し易いように
予め教示しておく。この検査ステージ23の姿勢は、何
ポイントでも登録可能であり、一枚のマスク15に対し
て複数の姿勢で検査を行うことができるようになってい
る。
【0018】また、マスク外観検査装置49は、作業者
がマスクケースをセットする前に自分のパスワードを装
置に入力しておくことにより、その作業者が登録した固
有の姿勢を再現させて検査を行うことも可能である。
【0019】次に、反対面(裏面)の検査を行う必要が
あるときは、操作パネル43で「反転」を指定し、反転
アーム41によって検査ステージ23上にあるマスク1
5の表裏反転を行う。表裏反転終了後、再び前述した内
容と同様の斜光による目視検査を作業者は行う。すべて
の検査が終了した後、操作パネル43で「収納」を指定
し、搬送アーム21によって検査済みマスク15をマス
クケース内へ収納させる。マスク15の収納後、搬送ア
ーム21は検査ステージ23上へ移動し、次の検査に備
えて待機する。
【0020】上述のマスク外観検査装置49によれば、
マスクケースからのマスク15の取り出しから、検査、
反転、収納までの動作がすべて装置で行われるので、作
業者の手又は手袋によってペリクル面にキズ、汚れ、異
物を付けてしまうことが皆無となる。また、検査ステー
ジ23を任意な姿勢に動作させるチルトアーム25を設
けたので、検査を行う作業者から見たマスク15の照明
に対しての姿勢が常に最適な状態となり、確実で迅速な
斜光目視検査を行うことが可能となる。
【0021】なお、上述の実施例に係るマスク外観検査
装置49は、三種類のマスクケースがセット可能である
とともに、セットされたマスクケースの種類を自動的に
識別し、マスクの搬送を行うことができるので、この機
能を応用することにより、マスクを取り出したマスクケ
ースとは別のマスクケースを収納動作の前にセットすれ
ば、取り出し時のケースとは別ケースにマスクが収納さ
れることになり、異種ケース間のマスク移載装置として
も適用することができる。
【0022】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
るマスク外観検査装置によれば、マスクケースからのマ
スクの取り出しから、検査、反転、収納までの動作をす
べて装置で行うことができるので、作業者の手又は手袋
によるペリクル上へのキズ、汚れ、異物付着を確実に防
止することができる。また、検査ステージを任意な姿勢
に設定することができるチルトアームを設けたので、マ
スクの姿勢を検査ごとに最適な状態とすることができ、
迅速且つ安定した斜光目視検査を行うことができる。こ
の結果、検査の信頼性を著しく向上させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるマスク外観検査装置の斜視図であ
る。
【図2】ペリクルが設けられたマスクの斜視図である。
【符号の説明】
1 ペリクル 11 箱状本体 13 マスクケース台 15 マスク 17 近接センサ 19 フォトセンサ 21 搬送アーム 23 検査ステージ 25 チルトアーム 27、29、31
枢軸部 41 反転アーム 43 操作パネル 45 記憶手段 47 制御手段 49 マスク外観検査装置

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペリクルが張設されたマスクを自動搬送
    するとともに、前記ペリクルの斜光目視検査のために該
    マスクを任意の姿勢に設定可能とするマスク外観検査装
    置であって、 上面が開口した箱状本体にマスクケース台を設け、XY
    Z軸方向の枢軸部で構成されたチルトアームを介して任
    意な姿勢に設定可能な検査ステージを該マスクケース台
    の近傍に設け、マスクケース台にセットされたマスクケ
    ースに対してマスクの取り出し及び収納を行うとともに
    マスクケース台と該検査ステージとの間におけるマスク
    の搬送を行う搬送アームを前記マスクケース台の近傍に
    設け、前記検査ステージ上に保持されたマスクの表裏を
    反転する反転アームを前記検査ステージの近傍に設けた
    ことを特徴とするマスク外観検査装置。
  2. 【請求項2】 前記マスクケース台にセットされたマス
    クケースの種類を識別する近接センサとフォトセンサと
    が前記マスクケース台に設けられたことを特徴とする請
    求項1記載のマスク外観検査装置。
  3. 【請求項3】 前記チルトアームの移動量を記憶するこ
    とによって前記検査ステージの任意の姿勢を登録する記
    憶手段と、前記検査ステージが前記登録された姿勢とな
    るように操作パネルからの動作指定によって前記チルト
    アームを駆動制御する制御手段とを具備したことを特徴
    とする請求項1記載のマスク外観検査装置。
JP27326194A 1994-11-08 1994-11-08 マスク外観検査装置 Pending JPH08137091A (ja)

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