TW440689B - Image fetching apparatus - Google Patents
Image fetching apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- TW440689B TW440689B TW089104625A TW89104625A TW440689B TW 440689 B TW440689 B TW 440689B TW 089104625 A TW089104625 A TW 089104625A TW 89104625 A TW89104625 A TW 89104625A TW 440689 B TW440689 B TW 440689B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- aforementioned
- inspected
- substrate
- line
- image
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
- G01N2021/8858—Flaw counting
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
- G01N2021/888—Marking defects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
44 06 b ^ A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7____ 五、發明說明(1 ) 發明背景 本發明係有關用來攝取平板顯示器(F D D )之玻璃 基板等之表面影像之影像攝取裝置。 在用於F D D之玻璃基板之缺陷檢查方面有照射照明 光於玻璃基板表面上,攝取基板表面響應此反射光之光學 變化之影像,藉由對其影像處理,檢測膜厚不均、損傷等 缺陷部份者。 具體而言,有如特開平9 一 6 l· 3 6 5公報所揭露, 以預定角度,將來自固定線狀光源之照明光照射在被檢體 表面上,相對於照明光之入射角度,就來自被檢體表面之 反射光,變化反射角度,藉攝影部,攝取使用繞射光之缺 陷影像,利用干涉之缺陷影像者。 惟,最近,隨著F D D之大型化,玻璃基板等被檢體 之尺寸有越發大型化之傾向,可知若被檢體之尺寸如此大 型化,被檢體與攝影部之距離亦隨之變化。 惟由於,在此種被檢體尺寸之大型化方面,若對應於 上述特開平9 - 6 1 3 6 5公報所揭露者,即不僅在構造 1:,被檢體與攝影部間之距離變大,並於此狀態下’須適 當移動攝影部之攝影位置,故裝置變得龐大,於操作而操 作不便,復由於攝影部之定位精度低下,故有缺陷影像之 攝影困難之問題= 本發明係有鑑於上述事情而作成者’其目的在於提供 操作簡單,可攝取優質影像,並可謀求裝置小型化之影像 攝取裝置。 I ------------^--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用令國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -4- 440689 -----B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 五、發明說明(2 〉 發明摘要 第1發叨之特徵在於具備載置被檢查基板之平台;設 成可相對於此平台移動’沿該被檢查基板面之相對移動方 向,以預定入射角度照射線照明之線照明裝置;配置於此 線照明裝置之反射光路上,以預定反射角度折回來G前述 線照明裝置之線照明領域之反射光之反射裝置;以及配置 在此反射裝置折回之光路上,對前述線照明領域之前述被 檢査基板面攝影之攝影裝置。 如第1發明,第2發明之特徵在於,藉由設定前述線 照明裝置相對於前述被檢查基板之入射角Θ 2與反射角Θ ^ 有正反射關係,以前述攝影裝置攝取干涉影像,藉由設定 前述線照明裝置相對於前述被檢查基板之人射角β 2與反射 角0 ,不具有正反射關係,以前述攝影裝置攝取繞射影像a 如第2發明,第3發明之特徵在於,前述線照明裝置 以前述線照明領域爲轉動中心,可改變前述入射角度。 如第1發明,第4發明之特徵在於,前述線照明裝置 可相對於前述被檢查基板調光1將其調成最適光量… 如第1發明,第5發明之特徵在於,前述攝影裝置具 備干涉濾光器、成像透鏡及線感測攝影機。 如第5發明,第6發明之特徵在於’前述干涉濾光器 可插入退出藉前述反射裝置折回之前述攝影裝置之攝影光 路。 如第1發明,第7發明之特徵在於,藉前述反射裝置 ------------K--------訂---------線. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 440689 五、發明說明(3 ) 折回之前述攝影裝置之攝影光路配置成大致平行於前述¥ 台。 如第1發明,第8發明之特徵在於,前述平台設在本 體之基座上,在跨前述被檢查基板設於此基座t之門型支 柱間配置前述線照明裝置’在藉前述支柱沿水不方向伸出 之支持臂之前端部份配置前述反射裝置,於前述支柱之上 端部份配置前述攝影裝置° 如第7發明,第9發明之特徵在於,前述平台設成可 沿前述基座上直線往復移動 如第7發明,第1 0發明之特徵在於,前述門型支柱 設成可沿前述基座上直線往復移動。 結果,根據本發明,即使隨著樣本大型化,樣本與攝 影裝置間之距離變長。亦可藉由以反射構件折回攝影光學 裝置之光路,縮小空間,實現裝置之小型化。 根據本發明,可簡單設定用來獲得每一樣本最適缺陷 影像之線照明之入射角度,攝取優質影像,同時可使處理 操作簡單化。 根據本發明’可將攝影光學裝置密實支持在裝置之上 部空間,可進一步有肋於裝置之小型化。 丨式之簡單說明 圖1係顯示本發明一實施形態之影像攝取裝置之構造 之圖式。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 表---^------訂--------線. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚) -6 - 440689 Λ7 ------ B7 五、發明說明(4 ) 主耍元件對照 1 裝置本體 1 a 基座 lb 支柱 1 c 支持臂 2 被檢查基板 3 平台 4 線照明裝置 5 攝影光學系統 51 鏡面 5 2 干涉攄光器 5 3 成像透鏡 5 4 線感測攝影機 發明之詳細說明 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .34 *--------—訂----線 _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以下參照圖式說明本發明-實施形態。 圖1顯示本發明適用之影像攝取裝置之槪略構成。於 圖式中,1係裝置本體,此裝置本體1具有基座1 a ,於 此水平面1 a上直立、一體設置跨被檢查基板2之門型支 柱1 b,同時,於此支柱1 b前端設置沿平行於基座1 a 之方向伸出之支持臂1 c。 又,於裝置本體1之基座1 a上設有載置作爲樣本之 被檢查基板2之平台3。此平台3可順著基座1 a上.沿1 軸方向,亦即沿圖示箭頭方向直線往復移動u 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 44 06 8 9 A7 _____B7___________五、發明說明(5 ) 於裝置本體1之支柱1 b之空間內,在對向平台3上 被檢査基板2面之上方位置,配置線照明裝置4。 _此線照明裝置4係例如沿與被檢查基板2移動方向正 交之方向規則、準備排列纖維束者p以接近平行之光束構 成之線照明光,成入射角度Θ 2,對被檢查基板2面照射。 於此情形下,線照明裝置4可旋轉,俾可任意設定相對於 被檢查基板2面之入射角02,在照射點(反射光)不移動 下,以照射點爲轉動中心轉動》支持臂1 c係藉肋等於支 柱1 a之上部被強之一體化構造。於此支持臂1 c上配置 由鏡面5 1、干涉濾光器5 2、成像透鏡5 3及線感測攝 影機5 4構成之攝影光學系統5。以鏡面5 1反射,俾爲 線照明裝置4照明之被檢查基板2面之線狀領域之反射光 大致沿水平方向偏向,經由干涉濾光器5 2、成像透鏡 5 3,於線感測攝影機5 4攝取。於此情形下,入射角度 θ 反射光自被檢查基板2面之線狀領域入射攝影光學系 統5之鏡面5 1。 且,干涉濾光器5 2可藉未圖示之切換開關出入光路 ,僅在藉線感測攝影機5 4攝取利用干涉之缺陷影像(下 稱干涉影像)之干涉影像攝取條件設定時,插入光路中。 又,線感測攝影機5 4所攝取被檢查基板2面之每1 條線之反射光變轉成電氣影像資料,被檢查基板2全面掃 描一結束,即顯示於未圖示之監視器上,轉送至畫像處理 裝置,進行缺陷檢測。 其次說明如此構成之實施形態之.動作。 (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁> 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 * 297公釐) -8 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 440689 A7 __B7__ 五、發明說明(6 ) 首先,將平台3移動至被檢查基板2之交接位置,於 此位置 > 藉未圖示之基板運送裝置或以手置放,將被檢查 基·板2載置在平台3上。 其次,設定干涉影像攝取條件。於此情形下,最初調 整線照明裝置4之入射角度,將線照明光相對於被檢查基 板2內之入射角度61 2設定成β 2 = β 1。此際,相對於被 檢查基板2調整線照明裝置4之線照明光,使其成爲最適 光量。復將干涉濾光器5 2插入攝影光學系統5之光路中 〇 若自此狀態,使平台3以一定速度沿一方向直線移動 ’來自被檢查基板2上每一條線之線狀領域之反射光即與 平台3之移動同步,入射鏡面5 1 ,於此反射,經由干涉 濾光器5 2及成像透鏡5 3,攝入線感測攝影機5 4 =由 於在此情形下,線照明裝置4之線照明光之入射角度Θ 2設 定成0 2 = 0 1,故藉線感測攝影機5 4攝取干涉影像,此 後,以線感測攝影機5 4變換成電氣影像資料,同時在結 束被檢查基板2之全面掃描時,顯示於未圖示之監視器上 ,並轉送至影像處理裝置,檢測被檢查基板2面之膜厚不 均等之千涉光造成之缺陷。 此後,被檢查基板2全面之干涉影像攝取一結束,即 接著設定攝取利用繞射光之缺陷影像(下稱繞射影像)之 繞射影像攝取條件。亦於此情形下,調整線照明裝置4之 斜拍方向之角度。將線照明光相對於被檢查基板2面之入 射角02設定爲i。復於此時,相對於被檢查基板 (請先閱讀背面之泫意事項再填寫本頁) 取---1 — — — — 訂-------- 本紙張尺度適用令國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) · 9 - Λ7 ' 440689 五、發明說明(7 ) 2調繫線照明裝置4之線照明光,將其調成最適光量。於 此情形下’卸除攝影光學系統5之光路中之干涉濾光器5 2。 若自此狀態以一定速度一方向直線移動平台,來G被 檢查基板2上每一條線之線狀領域之反射光即與平台3之 移動同步’入射於鏡面5 1 ,於此反射,經由成像透鏡 5 3 ’攝入線感測攝影機5 4。由於在此情形下,線照明 裝置4之線照明光之入射角度6» 2設定成0 2 # 0 ,,故藉 線感測攝影機5 4攝取繞射影像,此後,以線感測攝影機 5 4變換成電氣影像資料,並在被檢查基板2之全面掃描 結束時’顯示於未圖示之監視器上,同時轉送至影像處理 裝置,檢測被檢查基板2面之異物、損傷等造成之繞射光 〇 並ϋ,一結束被檢查基板2全面之繞射光之缺陷影像 攝取,即移動平台3至被檢查基板2之交接位置,於此位 置藉未圖示之基板運送裝置或以手除去平台3上檢查完的 被檢查基板2,進行對新的被檢查基板2所作的影像攝取 〇 由於配置鏡面5 1於攝影光學系統5,以鏡面5 1折 回來自被檢查基板2之反射光,將其反射至後方’以線感 測攝影機5 4攝取干涉光或繞射光,故即使隨著被檢查基 板2大型化,被檢查基板2與線感測攝影機5 4之距離變 長,亦可以攝影光學系統5折回,縮小光路所佔空問,進 一步有效利用裝置上部之空間,藉此可實現裝置之小翌化 (諳先間讀背面之注意事項再填寫本頁) ---—訂---------' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A-4規格(210 X 297公f ) •10- 4 4 06 8 9 八7 __Β7_____ 五、發明說明(8 ) 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 復由於被檢查基板2與線感測攝影機5 4間所取距離 大,即使被檢查基板2大型,亦可以1台線感測攝影機5 4來應付,故相較於使用複數台攝影機,最後會在攝取影 像上出現接縫,有爲監視器之目視檢查、影像處理之自動 檢查帶來障礙之虞者,可獲得優質攝取影像,高精度進行 監視器之目視檢查,影像處理之自動檢查。 復由於可固定攝影光學系統5側,任意設定來自線照 明裝置4之線照明光之入射角度0 2,故可簡單進行用來獲 得每一被檢查基板2之最適干涉光,繞射光之缺陷影像之 角度設定,攝取優質影像,同時可簡化處理操作。 又由於支持在一體形成於裝置本體1之支柱1 b之支 持臂1 c止之攝影光學系統5將鏡面5 1、干涉濾光器 5 2,成像透鏡5 3及線感測攝影機5 4作成一體構造, 故可密實支持於支持臂1 c,進一步有助於裝置小型化。 復由於在裝置本體1上一體形成支柱1 b及支持臂1 c, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 安裝線照明裝置4及攝影光學系統5,故與獨立設置線照 明裝置4及攝影光學系統5之情形相比,可獲得線照明裝 置4與攝影光學系統5之相對振動之同步,將振動造成的 攝取影像之紊亂抑制於最小限定。又,藉由將本身爲重量 物之攝影光學系統5配置在支持臂1 c之基部(支柱丄b )上部,可抑制振動發生。 且’上述實施形態固然相對於攝影光學系統5,以一 定速度,沿一方向’直線移動平台3,惟亦可固定平台以 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -11 - 44 0689 A7 B7 五、發明說明(9 ) 一定速度,沿一方向,一齊直線移動具有攝影光學系統5 之支持臂1 c及支柱1 b。 根據以上所述本發明,即使隨著樣本大型,樣本與攝 影裝置之距離變大。亦可縮小攝影光學系統之光路所佔空 間,實現裝置之小型化。 復由於可簡單設定用來獲得每一樣本最適缺陷影像之 線照明入射角度,故可攝取優質影像,同時可簡化處理操 作。 進一步由於密實支持攝影光學系統,故可有助於裝置 之小型化。 ------------ V衣-------.--訂---------線— (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -12-
Claims (1)
- 4406 89 醫08 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1 . 一種影像攝取裝置,特徵在於具備: 平台,載置被檢查基板; 線照明裝置,設成可相對於此平台移動,相對於該被 檢查基板面之相對移動方向,以預定入射角度照射線照明 反射裝置,配置於此線照明裝置之反射光路上’或預 定反射角度折回來自前線照明裝置之線照明領域之反射光 ;以及 攝影裝置,配置於藉此反射裝置折回之光路上,對前 述線照明領域之前述被檢查基板面攝影。 2 .如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中藉 由將前述線照明裝置相對於前述被檢查基板之入射角Θ 2與 反射角Θ !設定成具有正反射關係,以前述攝影裝置攝取千 涉影像’藉由將前述線照明裝置相對於前述被檢査基板之 入射角β 2與與反射角0 i設定成不具有正反射關係,以前 述攝影裝置攝取繞射影像。 3 .如申請專利範圍第2項之影像攝取裝置,其中前 述線照明裝置以前述線照明領域爲轉動中心,可改變前述 人射角度。 4 如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中前 述線照明裝置可相對於前述被檢查基板調光,將其調成最 適光量。 5 ·如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中前 述攝影裝置具有干涉濾光器,成像透鏡及線感測攝影機。 II ---II--I ^ 1--II--— — — — I <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -13-六、申請專利範圍 6 .如申請專利範圍第5項之影像攝取裝置,其中前 述干涉濾光器可插入,退出藉前述反射裝置折回之前述攝 影裝置之攝影光路。 7 .如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中藉 如述反射裝置折回之前述攝影裝置之攝影光路配置成大致 平行於前述平台。 8 .如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中前 述平台設於本體之基座上’於此基座上,在跨前述被檢杳 基板而設之門型支柱之間配置前述線照明裝置,於自前述 支柱沿水平方向伸出之支持臂之前端部份配置前述反射_ 置,於前述支柱之上端部份配置前述攝影裝置。 9 .如申請專利範圍第7項之影像攝取裝置,其ψ _ 述平台設成可沿前述平台上直線往復移動。 1 0 .如申請專利範圍第7項之影像攝取裝置,其ψ 前述門型支柱設成可沿前述基座上直線往復移動。 ------------K--------^---------% (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -14 -
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07172399A JP4331306B2 (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 画像取込み装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW440689B true TW440689B (en) | 2001-06-16 |
Family
ID=13468737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW089104625A TW440689B (en) | 1999-03-17 | 2000-03-14 | Image fetching apparatus |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4331306B2 (zh) |
KR (1) | KR100370608B1 (zh) |
TW (1) | TW440689B (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6871684B2 (en) * | 2002-08-13 | 2005-03-29 | The Boeing Company | System for identifying defects in a composite structure |
JP2006058170A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 目視確認装置および検査システム |
JP4675120B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2011-04-20 | 株式会社クボタ | 粒状体選別装置 |
KR100803042B1 (ko) * | 2006-01-06 | 2008-02-18 | 주식회사 매크론 | 영상취득장치 및 방법 |
JP4813294B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2011-11-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学式検査装置 |
KR100783618B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2007-12-07 | (주)오엘케이 | 매크로 검사장치 |
JP2010019639A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Lasertec Corp | ムラ検出装置及びパターン検査装置 |
JP5789436B2 (ja) | 2011-07-13 | 2015-10-07 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダ |
-
1999
- 1999-03-17 JP JP07172399A patent/JP4331306B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-14 TW TW089104625A patent/TW440689B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-03-16 KR KR10-2000-0013369A patent/KR100370608B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000062919A (ko) | 2000-10-25 |
JP4331306B2 (ja) | 2009-09-16 |
JP2000266682A (ja) | 2000-09-29 |
KR100370608B1 (ko) | 2003-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI264532B (en) | Substrate inspection device | |
TW473885B (en) | Bonding apparatus and bonding method | |
TW461963B (en) | Data processing system for defect inspection | |
JP4990630B2 (ja) | 表面検査装置及び表面検査方法 | |
TWI411773B (zh) | 外觀檢查裝置及外觀檢查方法、以及可安裝於外觀檢查裝置之周圍部檢查單元 | |
TW548405B (en) | Apparatus and method for fabricating flat workpieces | |
WO2005103658A1 (ja) | 欠陥検査装置およびそれを用いた基板製造システム | |
TWI408361B (zh) | 外觀檢查裝置 | |
TW200811433A (en) | Surface inspecting apparatus | |
TW440689B (en) | Image fetching apparatus | |
TW544544B (en) | Optical element inspection device and optical element inspection method | |
US7520621B2 (en) | Manufacturing apparatus of optical device, manufacturing method thereof and projector | |
WO2021135044A1 (zh) | 一种缺陷检查的装置和方法 | |
JP3883153B2 (ja) | X線基板検査装置 | |
JP5120233B2 (ja) | 撮像モジュールの検査装置及び撮像モジュールの検査方法及び電子機器モジュールの製造方法 | |
TWI597474B (zh) | Measuring device | |
JP3223483B2 (ja) | 欠陥検査方法とその装置 | |
JP4529108B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP2000315638A (ja) | アライメント方法とその装置 | |
JPH01217445A (ja) | モニタ付写真焼付装置 | |
JPS63134940A (ja) | パターン検査装置 | |
KR100844830B1 (ko) | Lcd패널 검사장치 및 방법 | |
KR20020024655A (ko) | 부품 검사 장치 | |
JP2001264268A (ja) | 基板検査装置 | |
JP2001034743A (ja) | 比較検査方法とその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |