TW440689B - Image fetching apparatus - Google Patents

Image fetching apparatus Download PDF

Info

Publication number
TW440689B
TW440689B TW089104625A TW89104625A TW440689B TW 440689 B TW440689 B TW 440689B TW 089104625 A TW089104625 A TW 089104625A TW 89104625 A TW89104625 A TW 89104625A TW 440689 B TW440689 B TW 440689B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
aforementioned
inspected
substrate
line
image
Prior art date
Application number
TW089104625A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Matsumoto
Original Assignee
Olympus Optical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co filed Critical Olympus Optical Co
Application granted granted Critical
Publication of TW440689B publication Critical patent/TW440689B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/8858Flaw counting
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/888Marking defects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

44 06 b ^ A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7____ 五、發明說明(1 ) 發明背景 本發明係有關用來攝取平板顯示器(F D D )之玻璃 基板等之表面影像之影像攝取裝置。 在用於F D D之玻璃基板之缺陷檢查方面有照射照明 光於玻璃基板表面上,攝取基板表面響應此反射光之光學 變化之影像,藉由對其影像處理,檢測膜厚不均、損傷等 缺陷部份者。 具體而言,有如特開平9 一 6 l· 3 6 5公報所揭露, 以預定角度,將來自固定線狀光源之照明光照射在被檢體 表面上,相對於照明光之入射角度,就來自被檢體表面之 反射光,變化反射角度,藉攝影部,攝取使用繞射光之缺 陷影像,利用干涉之缺陷影像者。 惟,最近,隨著F D D之大型化,玻璃基板等被檢體 之尺寸有越發大型化之傾向,可知若被檢體之尺寸如此大 型化,被檢體與攝影部之距離亦隨之變化。 惟由於,在此種被檢體尺寸之大型化方面,若對應於 上述特開平9 - 6 1 3 6 5公報所揭露者,即不僅在構造 1:,被檢體與攝影部間之距離變大,並於此狀態下’須適 當移動攝影部之攝影位置,故裝置變得龐大,於操作而操 作不便,復由於攝影部之定位精度低下,故有缺陷影像之 攝影困難之問題= 本發明係有鑑於上述事情而作成者’其目的在於提供 操作簡單,可攝取優質影像,並可謀求裝置小型化之影像 攝取裝置。 I ------------^--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用令國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -4- 440689 -----B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 五、發明說明(2 〉 發明摘要 第1發叨之特徵在於具備載置被檢查基板之平台;設 成可相對於此平台移動’沿該被檢查基板面之相對移動方 向,以預定入射角度照射線照明之線照明裝置;配置於此 線照明裝置之反射光路上,以預定反射角度折回來G前述 線照明裝置之線照明領域之反射光之反射裝置;以及配置 在此反射裝置折回之光路上,對前述線照明領域之前述被 檢査基板面攝影之攝影裝置。 如第1發明,第2發明之特徵在於,藉由設定前述線 照明裝置相對於前述被檢查基板之入射角Θ 2與反射角Θ ^ 有正反射關係,以前述攝影裝置攝取干涉影像,藉由設定 前述線照明裝置相對於前述被檢查基板之人射角β 2與反射 角0 ,不具有正反射關係,以前述攝影裝置攝取繞射影像a 如第2發明,第3發明之特徵在於,前述線照明裝置 以前述線照明領域爲轉動中心,可改變前述入射角度。 如第1發明,第4發明之特徵在於,前述線照明裝置 可相對於前述被檢查基板調光1將其調成最適光量… 如第1發明,第5發明之特徵在於,前述攝影裝置具 備干涉濾光器、成像透鏡及線感測攝影機。 如第5發明,第6發明之特徵在於’前述干涉濾光器 可插入退出藉前述反射裝置折回之前述攝影裝置之攝影光 路。 如第1發明,第7發明之特徵在於,藉前述反射裝置 ------------K--------訂---------線. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 440689 五、發明說明(3 ) 折回之前述攝影裝置之攝影光路配置成大致平行於前述¥ 台。 如第1發明,第8發明之特徵在於,前述平台設在本 體之基座上,在跨前述被檢查基板設於此基座t之門型支 柱間配置前述線照明裝置’在藉前述支柱沿水不方向伸出 之支持臂之前端部份配置前述反射裝置,於前述支柱之上 端部份配置前述攝影裝置° 如第7發明,第9發明之特徵在於,前述平台設成可 沿前述基座上直線往復移動 如第7發明,第1 0發明之特徵在於,前述門型支柱 設成可沿前述基座上直線往復移動。 結果,根據本發明,即使隨著樣本大型化,樣本與攝 影裝置間之距離變長。亦可藉由以反射構件折回攝影光學 裝置之光路,縮小空間,實現裝置之小型化。 根據本發明,可簡單設定用來獲得每一樣本最適缺陷 影像之線照明之入射角度,攝取優質影像,同時可使處理 操作簡單化。 根據本發明’可將攝影光學裝置密實支持在裝置之上 部空間,可進一步有肋於裝置之小型化。 丨式之簡單說明 圖1係顯示本發明一實施形態之影像攝取裝置之構造 之圖式。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 表---^------訂--------線. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚) -6 - 440689 Λ7 ------ B7 五、發明說明(4 ) 主耍元件對照 1 裝置本體 1 a 基座 lb 支柱 1 c 支持臂 2 被檢查基板 3 平台 4 線照明裝置 5 攝影光學系統 51 鏡面 5 2 干涉攄光器 5 3 成像透鏡 5 4 線感測攝影機 發明之詳細說明 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .34 *--------—訂----線 _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以下參照圖式說明本發明-實施形態。 圖1顯示本發明適用之影像攝取裝置之槪略構成。於 圖式中,1係裝置本體,此裝置本體1具有基座1 a ,於 此水平面1 a上直立、一體設置跨被檢查基板2之門型支 柱1 b,同時,於此支柱1 b前端設置沿平行於基座1 a 之方向伸出之支持臂1 c。 又,於裝置本體1之基座1 a上設有載置作爲樣本之 被檢查基板2之平台3。此平台3可順著基座1 a上.沿1 軸方向,亦即沿圖示箭頭方向直線往復移動u 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 44 06 8 9 A7 _____B7___________五、發明說明(5 ) 於裝置本體1之支柱1 b之空間內,在對向平台3上 被檢査基板2面之上方位置,配置線照明裝置4。 _此線照明裝置4係例如沿與被檢查基板2移動方向正 交之方向規則、準備排列纖維束者p以接近平行之光束構 成之線照明光,成入射角度Θ 2,對被檢查基板2面照射。 於此情形下,線照明裝置4可旋轉,俾可任意設定相對於 被檢查基板2面之入射角02,在照射點(反射光)不移動 下,以照射點爲轉動中心轉動》支持臂1 c係藉肋等於支 柱1 a之上部被強之一體化構造。於此支持臂1 c上配置 由鏡面5 1、干涉濾光器5 2、成像透鏡5 3及線感測攝 影機5 4構成之攝影光學系統5。以鏡面5 1反射,俾爲 線照明裝置4照明之被檢查基板2面之線狀領域之反射光 大致沿水平方向偏向,經由干涉濾光器5 2、成像透鏡 5 3,於線感測攝影機5 4攝取。於此情形下,入射角度 θ 反射光自被檢查基板2面之線狀領域入射攝影光學系 統5之鏡面5 1。 且,干涉濾光器5 2可藉未圖示之切換開關出入光路 ,僅在藉線感測攝影機5 4攝取利用干涉之缺陷影像(下 稱干涉影像)之干涉影像攝取條件設定時,插入光路中。 又,線感測攝影機5 4所攝取被檢查基板2面之每1 條線之反射光變轉成電氣影像資料,被檢查基板2全面掃 描一結束,即顯示於未圖示之監視器上,轉送至畫像處理 裝置,進行缺陷檢測。 其次說明如此構成之實施形態之.動作。 (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁> 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 * 297公釐) -8 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 440689 A7 __B7__ 五、發明說明(6 ) 首先,將平台3移動至被檢查基板2之交接位置,於 此位置 > 藉未圖示之基板運送裝置或以手置放,將被檢查 基·板2載置在平台3上。 其次,設定干涉影像攝取條件。於此情形下,最初調 整線照明裝置4之入射角度,將線照明光相對於被檢查基 板2內之入射角度61 2設定成β 2 = β 1。此際,相對於被 檢查基板2調整線照明裝置4之線照明光,使其成爲最適 光量。復將干涉濾光器5 2插入攝影光學系統5之光路中 〇 若自此狀態,使平台3以一定速度沿一方向直線移動 ’來自被檢查基板2上每一條線之線狀領域之反射光即與 平台3之移動同步,入射鏡面5 1 ,於此反射,經由干涉 濾光器5 2及成像透鏡5 3,攝入線感測攝影機5 4 =由 於在此情形下,線照明裝置4之線照明光之入射角度Θ 2設 定成0 2 = 0 1,故藉線感測攝影機5 4攝取干涉影像,此 後,以線感測攝影機5 4變換成電氣影像資料,同時在結 束被檢查基板2之全面掃描時,顯示於未圖示之監視器上 ,並轉送至影像處理裝置,檢測被檢查基板2面之膜厚不 均等之千涉光造成之缺陷。 此後,被檢查基板2全面之干涉影像攝取一結束,即 接著設定攝取利用繞射光之缺陷影像(下稱繞射影像)之 繞射影像攝取條件。亦於此情形下,調整線照明裝置4之 斜拍方向之角度。將線照明光相對於被檢查基板2面之入 射角02設定爲i。復於此時,相對於被檢查基板 (請先閱讀背面之泫意事項再填寫本頁) 取---1 — — — — 訂-------- 本紙張尺度適用令國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) · 9 - Λ7 ' 440689 五、發明說明(7 ) 2調繫線照明裝置4之線照明光,將其調成最適光量。於 此情形下’卸除攝影光學系統5之光路中之干涉濾光器5 2。 若自此狀態以一定速度一方向直線移動平台,來G被 檢查基板2上每一條線之線狀領域之反射光即與平台3之 移動同步’入射於鏡面5 1 ,於此反射,經由成像透鏡 5 3 ’攝入線感測攝影機5 4。由於在此情形下,線照明 裝置4之線照明光之入射角度6» 2設定成0 2 # 0 ,,故藉 線感測攝影機5 4攝取繞射影像,此後,以線感測攝影機 5 4變換成電氣影像資料,並在被檢查基板2之全面掃描 結束時’顯示於未圖示之監視器上,同時轉送至影像處理 裝置,檢測被檢查基板2面之異物、損傷等造成之繞射光 〇 並ϋ,一結束被檢查基板2全面之繞射光之缺陷影像 攝取,即移動平台3至被檢查基板2之交接位置,於此位 置藉未圖示之基板運送裝置或以手除去平台3上檢查完的 被檢查基板2,進行對新的被檢查基板2所作的影像攝取 〇 由於配置鏡面5 1於攝影光學系統5,以鏡面5 1折 回來自被檢查基板2之反射光,將其反射至後方’以線感 測攝影機5 4攝取干涉光或繞射光,故即使隨著被檢查基 板2大型化,被檢查基板2與線感測攝影機5 4之距離變 長,亦可以攝影光學系統5折回,縮小光路所佔空問,進 一步有效利用裝置上部之空間,藉此可實現裝置之小翌化 (諳先間讀背面之注意事項再填寫本頁) ---—訂---------' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A-4規格(210 X 297公f ) •10- 4 4 06 8 9 八7 __Β7_____ 五、發明說明(8 ) 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 復由於被檢查基板2與線感測攝影機5 4間所取距離 大,即使被檢查基板2大型,亦可以1台線感測攝影機5 4來應付,故相較於使用複數台攝影機,最後會在攝取影 像上出現接縫,有爲監視器之目視檢查、影像處理之自動 檢查帶來障礙之虞者,可獲得優質攝取影像,高精度進行 監視器之目視檢查,影像處理之自動檢查。 復由於可固定攝影光學系統5側,任意設定來自線照 明裝置4之線照明光之入射角度0 2,故可簡單進行用來獲 得每一被檢查基板2之最適干涉光,繞射光之缺陷影像之 角度設定,攝取優質影像,同時可簡化處理操作。 又由於支持在一體形成於裝置本體1之支柱1 b之支 持臂1 c止之攝影光學系統5將鏡面5 1、干涉濾光器 5 2,成像透鏡5 3及線感測攝影機5 4作成一體構造, 故可密實支持於支持臂1 c,進一步有助於裝置小型化。 復由於在裝置本體1上一體形成支柱1 b及支持臂1 c, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 安裝線照明裝置4及攝影光學系統5,故與獨立設置線照 明裝置4及攝影光學系統5之情形相比,可獲得線照明裝 置4與攝影光學系統5之相對振動之同步,將振動造成的 攝取影像之紊亂抑制於最小限定。又,藉由將本身爲重量 物之攝影光學系統5配置在支持臂1 c之基部(支柱丄b )上部,可抑制振動發生。 且’上述實施形態固然相對於攝影光學系統5,以一 定速度,沿一方向’直線移動平台3,惟亦可固定平台以 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -11 - 44 0689 A7 B7 五、發明說明(9 ) 一定速度,沿一方向,一齊直線移動具有攝影光學系統5 之支持臂1 c及支柱1 b。 根據以上所述本發明,即使隨著樣本大型,樣本與攝 影裝置之距離變大。亦可縮小攝影光學系統之光路所佔空 間,實現裝置之小型化。 復由於可簡單設定用來獲得每一樣本最適缺陷影像之 線照明入射角度,故可攝取優質影像,同時可簡化處理操 作。 進一步由於密實支持攝影光學系統,故可有助於裝置 之小型化。 ------------ V衣-------.--訂---------線— (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -12-

Claims (1)

  1. 4406 89 醫08 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1 . 一種影像攝取裝置,特徵在於具備: 平台,載置被檢查基板; 線照明裝置,設成可相對於此平台移動,相對於該被 檢查基板面之相對移動方向,以預定入射角度照射線照明 反射裝置,配置於此線照明裝置之反射光路上’或預 定反射角度折回來自前線照明裝置之線照明領域之反射光 ;以及 攝影裝置,配置於藉此反射裝置折回之光路上,對前 述線照明領域之前述被檢查基板面攝影。 2 .如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中藉 由將前述線照明裝置相對於前述被檢查基板之入射角Θ 2與 反射角Θ !設定成具有正反射關係,以前述攝影裝置攝取千 涉影像’藉由將前述線照明裝置相對於前述被檢査基板之 入射角β 2與與反射角0 i設定成不具有正反射關係,以前 述攝影裝置攝取繞射影像。 3 .如申請專利範圍第2項之影像攝取裝置,其中前 述線照明裝置以前述線照明領域爲轉動中心,可改變前述 人射角度。 4 如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中前 述線照明裝置可相對於前述被檢查基板調光,將其調成最 適光量。 5 ·如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中前 述攝影裝置具有干涉濾光器,成像透鏡及線感測攝影機。 II ---II--I ^ 1--II--— — — — I <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -13-
    六、申請專利範圍 6 .如申請專利範圍第5項之影像攝取裝置,其中前 述干涉濾光器可插入,退出藉前述反射裝置折回之前述攝 影裝置之攝影光路。 7 .如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中藉 如述反射裝置折回之前述攝影裝置之攝影光路配置成大致 平行於前述平台。 8 .如申請專利範圍第1項之影像攝取裝置,其中前 述平台設於本體之基座上’於此基座上,在跨前述被檢杳 基板而設之門型支柱之間配置前述線照明裝置,於自前述 支柱沿水平方向伸出之支持臂之前端部份配置前述反射_ 置,於前述支柱之上端部份配置前述攝影裝置。 9 .如申請專利範圍第7項之影像攝取裝置,其ψ _ 述平台設成可沿前述平台上直線往復移動。 1 0 .如申請專利範圍第7項之影像攝取裝置,其ψ 前述門型支柱設成可沿前述基座上直線往復移動。 ------------K--------^---------% (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -14 -
TW089104625A 1999-03-17 2000-03-14 Image fetching apparatus TW440689B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07172399A JP4331306B2 (ja) 1999-03-17 1999-03-17 画像取込み装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW440689B true TW440689B (en) 2001-06-16

Family

ID=13468737

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW089104625A TW440689B (en) 1999-03-17 2000-03-14 Image fetching apparatus

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4331306B2 (zh)
KR (1) KR100370608B1 (zh)
TW (1) TW440689B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6871684B2 (en) * 2002-08-13 2005-03-29 The Boeing Company System for identifying defects in a composite structure
JP2006058170A (ja) * 2004-08-20 2006-03-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 目視確認装置および検査システム
JP4675120B2 (ja) * 2005-02-28 2011-04-20 株式会社クボタ 粒状体選別装置
KR100803042B1 (ko) * 2006-01-06 2008-02-18 주식회사 매크론 영상취득장치 및 방법
JP4813294B2 (ja) * 2006-08-29 2011-11-09 浜松ホトニクス株式会社 光学式検査装置
KR100783618B1 (ko) * 2006-10-31 2007-12-07 (주)오엘케이 매크로 검사장치
JP2010019639A (ja) * 2008-07-09 2010-01-28 Lasertec Corp ムラ検出装置及びパターン検査装置
JP5789436B2 (ja) 2011-07-13 2015-10-07 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンダ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000266682A (ja) 2000-09-29
JP4331306B2 (ja) 2009-09-16
KR100370608B1 (ko) 2003-01-29
KR20000062919A (ko) 2000-10-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI264532B (en) Substrate inspection device
TW473885B (en) Bonding apparatus and bonding method
JP4990630B2 (ja) 表面検査装置及び表面検査方法
TW461963B (en) Data processing system for defect inspection
TWI411773B (zh) 外觀檢查裝置及外觀檢查方法、以及可安裝於外觀檢查裝置之周圍部檢查單元
TW548405B (en) Apparatus and method for fabricating flat workpieces
TWI408361B (zh) 外觀檢查裝置
TW200540939A (en) Defect inspection device and substrate manufacturing system using the same
TW200811433A (en) Surface inspecting apparatus
TW440689B (en) Image fetching apparatus
TW544544B (en) Optical element inspection device and optical element inspection method
US7520621B2 (en) Manufacturing apparatus of optical device, manufacturing method thereof and projector
WO2021135044A1 (zh) 一种缺陷检查的装置和方法
JP3883153B2 (ja) X線基板検査装置
KR20020093507A (ko) 부품 검사 장치
TWI597474B (zh) Measuring device
JP5641386B2 (ja) 表面検査装置
JP3223483B2 (ja) 欠陥検査方法とその装置
JP4529108B2 (ja) 欠陥検査装置
JP2000315638A (ja) アライメント方法とその装置
JPH01217445A (ja) モニタ付写真焼付装置
JPS63134940A (ja) パターン検査装置
KR100844830B1 (ko) Lcd패널 검사장치 및 방법
JP2001264268A (ja) 基板検査装置
JP2001034743A (ja) 比較検査方法とその装置

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees