JP2000266682A - 画像取込み装置 - Google Patents
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- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
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- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、操作が簡単で、良質な画像の取込
みができ、しかも装置の小型化を図ることができる画像
取込み装置を提供する。 【解決手段】ステージ３に載置された被検査基板２に対
し、入射角度を調整可能にしていてライン照明光の入射
角度を任意に設定できるライン照明ユニット４を配置す
るとともに、ミラー５１、結像レンズ５３およびライン
センサカメラ５４を有し、ライン照明された被検査基板
２面のライン状領域の反射光を一定の反射角度で取り込
む撮像光学系５を配置し、ライン照明ユニット４により
照明された被検査基板２面のライン状領域の反射光を撮
像光学系５のミラー５１で反射させた後、結像レンズ５
３を介してラインセンサカメラ５４に取り込む。
みができ、しかも装置の小型化を図ることができる画像
取込み装置を提供する。 【解決手段】ステージ３に載置された被検査基板２に対
し、入射角度を調整可能にしていてライン照明光の入射
角度を任意に設定できるライン照明ユニット４を配置す
るとともに、ミラー５１、結像レンズ５３およびライン
センサカメラ５４を有し、ライン照明された被検査基板
２面のライン状領域の反射光を一定の反射角度で取り込
む撮像光学系５を配置し、ライン照明ユニット４により
照明された被検査基板２面のライン状領域の反射光を撮
像光学系５のミラー５１で反射させた後、結像レンズ５
３を介してラインセンサカメラ５４に取り込む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットパネルデ
ィスプレイ（ＦＰＤ）のガラス基板などの表面画像を取
り込むための画像取込み装置に関するものである。
ィスプレイ（ＦＰＤ）のガラス基板などの表面画像を取
り込むための画像取込み装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＦＰＤに用いられるガラス基板の欠陥検
査には、ガラス基板表面に照明光を当て、その反射光の
光学的変化に応じた基板表面の画像を取込み、これを画
像処理することで、膜厚ムラや傷などの欠陥部分を検出
するものがある。
査には、ガラス基板表面に照明光を当て、その反射光の
光学的変化に応じた基板表面の画像を取込み、これを画
像処理することで、膜厚ムラや傷などの欠陥部分を検出
するものがある。
【０００３】具体的には、特開平９−６１３６５号公報
に開示されるように、固定されたライン状光源からの照
明光を所定角度で被検体表面に照射し、被検体表面から
の反射光を、照明光の入射角度と相対的に反射角度を変
化させて、撮像部により回折光を用いた欠陥画像や干渉
を利用した欠陥画像を撮像するようにしたものがある。
に開示されるように、固定されたライン状光源からの照
明光を所定角度で被検体表面に照射し、被検体表面から
の反射光を、照明光の入射角度と相対的に反射角度を変
化させて、撮像部により回折光を用いた欠陥画像や干渉
を利用した欠陥画像を撮像するようにしたものがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近、ＦＰ
Ｄの大型化にともないガラス基板などの被検体サイズ
は、ますます大型化の傾向にあるが、このように被検体
サイズが大型化すると、これにともない被検体と撮像部
との距離も大きくなることが知られている。
Ｄの大型化にともないガラス基板などの被検体サイズ
は、ますます大型化の傾向にあるが、このように被検体
サイズが大型化すると、これにともない被検体と撮像部
との距離も大きくなることが知られている。
【０００５】ところが、このような被検体サイズの大型
化に、上述の特開平９−６１３６５号公報に開示された
ものを対応させようとすると、構造的に被検体と撮像部
との距離が大きくなるだけでなく、この状態で、撮像部
の撮像位置を適宜移動させなければならないため、装置
が大掛かりになるとともに、操作面でも扱いずらく、さ
らに撮像部の位置決め精度が低下するため、欠陥画像の
撮像が難しくなるという問題があった。
化に、上述の特開平９−６１３６５号公報に開示された
ものを対応させようとすると、構造的に被検体と撮像部
との距離が大きくなるだけでなく、この状態で、撮像部
の撮像位置を適宜移動させなければならないため、装置
が大掛かりになるとともに、操作面でも扱いずらく、さ
らに撮像部の位置決め精度が低下するため、欠陥画像の
撮像が難しくなるという問題があった。
【０００６】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、操作が簡単で、良質な画像の取込みができ、しかも
装置の小型化を図ることができる画像取込み装置を提供
することを目的とする。
で、操作が簡単で、良質な画像の取込みができ、しかも
装置の小型化を図ることができる画像取込み装置を提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
標本を載置するステージと、このステージと相対的に移
動可能に設けられ、前記被検査基板の相対移動方向と直
交する方向のライン照明を、該被検査基板面の相対移動
方向に対して所定の入射角度で照射させるライン照明手
段と、少なくとも反射部材と撮像手段を有し、前記ライ
ン照明手段のライン照明の照射領域からの反射光を一定
の反射角度で取り込むとともに、該反射光を前記反射部
材で偏向させ、前記撮像手段で撮像する撮像光学手段と
を具備したことを特徴としている。
標本を載置するステージと、このステージと相対的に移
動可能に設けられ、前記被検査基板の相対移動方向と直
交する方向のライン照明を、該被検査基板面の相対移動
方向に対して所定の入射角度で照射させるライン照明手
段と、少なくとも反射部材と撮像手段を有し、前記ライ
ン照明手段のライン照明の照射領域からの反射光を一定
の反射角度で取り込むとともに、該反射光を前記反射部
材で偏向させ、前記撮像手段で撮像する撮像光学手段と
を具備したことを特徴としている。
【０００８】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、ライン照明手段は、被検査基板面に対する
ライン照明の入射角度を可変可能にしたことを特徴とし
ている。
明において、ライン照明手段は、被検査基板面に対する
ライン照明の入射角度を可変可能にしたことを特徴とし
ている。
【０００９】請求項３記載の発明は、請求項１記載の発
明において、撮像光学手段は、前記ステージと対峙しほ
ぼ平行に配置したことを特徴としている。
明において、撮像光学手段は、前記ステージと対峙しほ
ぼ平行に配置したことを特徴としている。
【００１０】この結果、本発明によれば、標本の大型に
ともなって標本と撮像手段との距離が長くなっても、撮
像光学手段の光路を反射部材で折り返すことで、スペー
スを小さくでき、装置の小型化を実現できる。
ともなって標本と撮像手段との距離が長くなっても、撮
像光学手段の光路を反射部材で折り返すことで、スペー
スを小さくでき、装置の小型化を実現できる。
【００１１】本発明によれば、標本ごとに最適な欠陥画
像を得るためのライン照明の入射角度を簡単に設定で
き、良質な画像の取込みができるとともに、取り扱い操
作を簡単にできる。
像を得るためのライン照明の入射角度を簡単に設定で
き、良質な画像の取込みができるとともに、取り扱い操
作を簡単にできる。
【００１２】本発明によれば、装置の上部空スペースに
撮像光学手段をコンパクトに支持でき、さらに装置の小
型化に寄与できる。
撮像光学手段をコンパクトに支持でき、さらに装置の小
型化に寄与できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に従い説明する。
面に従い説明する。
【００１４】図１は、本発明が適用される画像取込み装
置の概略構成を示している。図において、１は装置本体
で、この装置本体１は、ベース１ａを有し、この水平面
１ａ上に直立して門型の支柱１ｂを一体に設けるととも
に、この支柱１ｂ先端にベース１ａと平行方向に延出さ
れた支持アーム１ｃを設けている。
置の概略構成を示している。図において、１は装置本体
で、この装置本体１は、ベース１ａを有し、この水平面
１ａ上に直立して門型の支柱１ｂを一体に設けるととも
に、この支柱１ｂ先端にベース１ａと平行方向に延出さ
れた支持アーム１ｃを設けている。
【００１５】また、装置本体１のベース１ａ上に、標本
として被検査基板２を載置するステージ３を設けてい
る。このステージ３は、ベース１ａ上に沿って１軸方
向、つまり図示矢印方向に直線往復移動可能にしてい
る。
として被検査基板２を載置するステージ３を設けてい
る。このステージ３は、ベース１ａ上に沿って１軸方
向、つまり図示矢印方向に直線往復移動可能にしてい
る。
【００１６】装置本体１の支柱１ｂの空間には、ステー
ジ３上の被検査基板２面に対向した上方位置にライン照
明ユニット４を配置している。
ジ３上の被検査基板２面に対向した上方位置にライン照
明ユニット４を配置している。
【００１７】このライン照明ユニット４は、例えばファ
イバ束を被検査基板２の移動方向と直交する方向に沿っ
て規則正しく整列させたもので、平行に近い光束からな
るライン照明光を被検査基板２面に対して入射角度θ２
で照射するようにしている。この場合、ライン照明ユニ
ット４は、被検査基板２面に対する入射角θ２を任意に
設定できるように回転可能になっており、照射点（反射
点）が移動しないように照射点を回動中心として回動す
る。支持アーム１ｃは、支柱１ａの上部にリブなどによ
り補強し、一体化構造にしたものである。この支持アー
ム１ｃには、ミラー５１、干渉フィルタ５２、結像レン
ズ５３およびラインセンサカメラ５４よりなる撮像光学
系５が配置され、ライン照明ユニット４により照明され
た被検査基板２面のライン状領域の反射光をほぼ水平方
向に偏向させるようにミラー５１で反射させ、干渉フィ
ルタ５２、結像レンズ５３を介してラインセンサカメラ
５４で取り込むようになっている。この場合、被検査基
板２面のライン状領域から反射角度θ１の反射光が撮像
光学系５のミラー５１に入射するようにしている。
イバ束を被検査基板２の移動方向と直交する方向に沿っ
て規則正しく整列させたもので、平行に近い光束からな
るライン照明光を被検査基板２面に対して入射角度θ２
で照射するようにしている。この場合、ライン照明ユニ
ット４は、被検査基板２面に対する入射角θ２を任意に
設定できるように回転可能になっており、照射点（反射
点）が移動しないように照射点を回動中心として回動す
る。支持アーム１ｃは、支柱１ａの上部にリブなどによ
り補強し、一体化構造にしたものである。この支持アー
ム１ｃには、ミラー５１、干渉フィルタ５２、結像レン
ズ５３およびラインセンサカメラ５４よりなる撮像光学
系５が配置され、ライン照明ユニット４により照明され
た被検査基板２面のライン状領域の反射光をほぼ水平方
向に偏向させるようにミラー５１で反射させ、干渉フィ
ルタ５２、結像レンズ５３を介してラインセンサカメラ
５４で取り込むようになっている。この場合、被検査基
板２面のライン状領域から反射角度θ１の反射光が撮像
光学系５のミラー５１に入射するようにしている。
【００１８】なお、干渉フィルタ５２については、図示
しない切換ユニットにより光路に対して出し入れ可能に
なっており、ここでは、ラインセンサカメラ５４により
干渉を利用した欠陥画像（以下、干渉像と呼ぶ）を撮像
する干渉像取込み条件の設定時のみ光路中に挿入され
る。
しない切換ユニットにより光路に対して出し入れ可能に
なっており、ここでは、ラインセンサカメラ５４により
干渉を利用した欠陥画像（以下、干渉像と呼ぶ）を撮像
する干渉像取込み条件の設定時のみ光路中に挿入され
る。
【００１９】また、ラインセンサカメラ５４に取り込ま
れる被検査基板２面の１ラインごとの反射光は、電気的
な画像データに変換され、被検査基板２全面の走査を完
了すると、図示しないモニターに表示されるとともに、
画像処理装置に転送され欠陥検出が行なわれる。
れる被検査基板２面の１ラインごとの反射光は、電気的
な画像データに変換され、被検査基板２全面の走査を完
了すると、図示しないモニターに表示されるとともに、
画像処理装置に転送され欠陥検出が行なわれる。
【００２０】次に、このように構成した実施の形態の動
作を説明する。
作を説明する。
【００２１】まず、ステージ３を被検査基板２の受け渡
し位置まで移動し、この位置でステージ３上に、図示し
ない基板搬送手段または手置きにより被検査基板２を載
置させる。
し位置まで移動し、この位置でステージ３上に、図示し
ない基板搬送手段または手置きにより被検査基板２を載
置させる。
【００２２】次に、干渉像取込み条件を設定する。この
場合、最初に、ライン照明ユニット４の入射角度を調整
し、被検査基板２面に対するライン照明光の入射角度θ
２がθ２＝θ１となるように設定する。この際、ライン
照明ユニット４のライン照明光は、被検査基板２に対し
最適な光量になるように調整される。また、撮像光学系
５の光路中には、干渉フィルタ５２が挿入されている。
場合、最初に、ライン照明ユニット４の入射角度を調整
し、被検査基板２面に対するライン照明光の入射角度θ
２がθ２＝θ１となるように設定する。この際、ライン
照明ユニット４のライン照明光は、被検査基板２に対し
最適な光量になるように調整される。また、撮像光学系
５の光路中には、干渉フィルタ５２が挿入されている。
【００２３】この状態から、ステージ３を一定速度で一
方向に直線移動させると、ステージ３の移動と同期して
被検査基板２上の１ラインごとのライン状領域からの反
射光がミラー５１に入射し、ここで反射され干渉フィル
タ５２および結像レンズ５３を介してラインセンサカメ
ラ５４に取り込まれる。この場合、ライン照明ユニット
４のライン照明光の入射角度θ２がθ２＝θ１に設定さ
れているので、ラインセンサカメラ５４により干渉画像
が取り込まれ、その後、ラインセンサカメラ５４で、電
気的な画像データに変換されるとともに、被検査基板２
の全面走査を完了したところで、図示しないモニターに
表示されるとともに、画像処理装置に転送され被検査基
板２面の膜厚ムラなどの干渉光による欠陥が検出され
る。
方向に直線移動させると、ステージ３の移動と同期して
被検査基板２上の１ラインごとのライン状領域からの反
射光がミラー５１に入射し、ここで反射され干渉フィル
タ５２および結像レンズ５３を介してラインセンサカメ
ラ５４に取り込まれる。この場合、ライン照明ユニット
４のライン照明光の入射角度θ２がθ２＝θ１に設定さ
れているので、ラインセンサカメラ５４により干渉画像
が取り込まれ、その後、ラインセンサカメラ５４で、電
気的な画像データに変換されるとともに、被検査基板２
の全面走査を完了したところで、図示しないモニターに
表示されるとともに、画像処理装置に転送され被検査基
板２面の膜厚ムラなどの干渉光による欠陥が検出され
る。
【００２４】その後、被検査基板２全面の干渉像の取込
みを終了すると、次に、回折光を用いた欠陥画像（以
下、回折像と呼ぶ）を撮像する回折像取込み条件を設定
する。この場合も、ライン照明ユニット４の煽り方向の
角度を調整し、被検査基板２面に対するライン照明光の
入射角度θ２がθ２≠θ１となるように設定する。ま
た、この際も、ライン照明ユニット４のライン照明光
は、被検査基板２に対し最適な光量になるように調整さ
れる。この場合は、撮像光学系５の光路中の干渉フィル
タ５２は、取り外すものとする。
みを終了すると、次に、回折光を用いた欠陥画像（以
下、回折像と呼ぶ）を撮像する回折像取込み条件を設定
する。この場合も、ライン照明ユニット４の煽り方向の
角度を調整し、被検査基板２面に対するライン照明光の
入射角度θ２がθ２≠θ１となるように設定する。ま
た、この際も、ライン照明ユニット４のライン照明光
は、被検査基板２に対し最適な光量になるように調整さ
れる。この場合は、撮像光学系５の光路中の干渉フィル
タ５２は、取り外すものとする。
【００２５】この状態から、ステージ３を一定速度で一
方向に直線移動させると、ステージ３の移動と同期して
被検査基板２上の１ラインごとのライン状領域からの反
射光がミラー５１に入射し、ここで反射され結像レンズ
５３を介してラインセンサカメラ５４に取り込まれる。
この場合、ライン照明ユニット４のライン照明光の入射
角度θ２がθ２≠θ１に設定されているので、ラインセ
ンサカメラ５４により回折画像が取り込まれ、その後、
ラインセンサカメラ５４で、電気的な画像データに変換
されるとともに、被検査基板２の全面走査を完了したと
ころで、図示しないモニターに表示されるとともに、画
像処理装置に転送され被検査基板２面の異物や傷などの
回折光による欠陥が検出される。
方向に直線移動させると、ステージ３の移動と同期して
被検査基板２上の１ラインごとのライン状領域からの反
射光がミラー５１に入射し、ここで反射され結像レンズ
５３を介してラインセンサカメラ５４に取り込まれる。
この場合、ライン照明ユニット４のライン照明光の入射
角度θ２がθ２≠θ１に設定されているので、ラインセ
ンサカメラ５４により回折画像が取り込まれ、その後、
ラインセンサカメラ５４で、電気的な画像データに変換
されるとともに、被検査基板２の全面走査を完了したと
ころで、図示しないモニターに表示されるとともに、画
像処理装置に転送され被検査基板２面の異物や傷などの
回折光による欠陥が検出される。
【００２６】そして、被検査基板２全面の回折光による
欠陥画像の取込みを終了すると、ステージ３を被検査基
板２の受け渡し位置まで移動し、この位置でステージ３
上の検査済みの被検査基板２を図示しない基板搬送手段
または手置きにより排除し、新たな被検査基板２に対す
る画像取込みが行なわれる。
欠陥画像の取込みを終了すると、ステージ３を被検査基
板２の受け渡し位置まで移動し、この位置でステージ３
上の検査済みの被検査基板２を図示しない基板搬送手段
または手置きにより排除し、新たな被検査基板２に対す
る画像取込みが行なわれる。
【００２７】従って、このようにすれば、撮像光学系５
にミラー５１を配置し、被検査基板２からの反射光をミ
ラー５１で折り返して後方に反射させ、干渉光または回
折光による欠陥画像をラインセンサカメラ５４に取り込
むようにしたので、被検査基板２の大型にともなって被
検査基板２とラインセンサカメラ５４との距離が長くな
っても、撮像光学系５を折り返して光路が占めるスペー
スを小さくでき、さらに装置上部の空間を有効に利用す
ることで、装置の小型化を実現できる。
にミラー５１を配置し、被検査基板２からの反射光をミ
ラー５１で折り返して後方に反射させ、干渉光または回
折光による欠陥画像をラインセンサカメラ５４に取り込
むようにしたので、被検査基板２の大型にともなって被
検査基板２とラインセンサカメラ５４との距離が長くな
っても、撮像光学系５を折り返して光路が占めるスペー
スを小さくでき、さらに装置上部の空間を有効に利用す
ることで、装置の小型化を実現できる。
【００２８】また、被検査基板２とラインセンサカメラ
５４との距離を大きく取れることから、被検査基板２の
大型になっても１台のラインセンサカメラ５４で対応で
きるので、複数台のカメラを使用するもののように取込
み画像に繋ぎ目ができてしまい、モニターによる目視検
査や画像処理による自動検査に障害を与える恐れのある
ものと比べ、良質の取込み画像を得られ、モニターによ
る目視検査や画像処理による自動検査を精度良く行なう
ことができる。
５４との距離を大きく取れることから、被検査基板２の
大型になっても１台のラインセンサカメラ５４で対応で
きるので、複数台のカメラを使用するもののように取込
み画像に繋ぎ目ができてしまい、モニターによる目視検
査や画像処理による自動検査に障害を与える恐れのある
ものと比べ、良質の取込み画像を得られ、モニターによ
る目視検査や画像処理による自動検査を精度良く行なう
ことができる。
【００２９】さらに、撮像光学系５側を固定して、ライ
ン照明ユニット４からのライン照明光の入射角度θ２を
任意に設定できるようにしたので、被検査基板２ごとに
最適な干渉光や回折光による欠陥画像を得るための角度
設定を簡単にでき、良質な画像の取込みができるととも
に、取り扱い操作を簡単にできる。
ン照明ユニット４からのライン照明光の入射角度θ２を
任意に設定できるようにしたので、被検査基板２ごとに
最適な干渉光や回折光による欠陥画像を得るための角度
設定を簡単にでき、良質な画像の取込みができるととも
に、取り扱い操作を簡単にできる。
【００３０】さらにまた、装置本体１に一体に形成され
た支柱１ｂの支持アーム１ｃに支持される撮像光学系５
は、ミラー５１、干渉フィルタ５２、結像レンズ５３お
よびラインセンサカメラ５４を一体化構造にしているの
で、支持アーム１ｃにコンパクトに支持でき、さらに装
置の小型化に寄与できる。また、装置本体１に支柱１ｂ
と支持アーム１ｃを一体に形成し、ライン照明ユニット
４と撮像光学系５を取付けているので、ライン照明ユニ
ット４と撮像光学系５を独立して設ける場合と比べ、ラ
イン照明ユニット４と撮像光学系５に対する振動の同期
が取れ、振動による撮像画像の乱れを最小限に抑制する
ことができる。また、重量物である撮像光学系５を支持
アーム１ｃの基部（支柱１ｂ）の上部に配置すること
で、振動の発生を抑制することができる。
た支柱１ｂの支持アーム１ｃに支持される撮像光学系５
は、ミラー５１、干渉フィルタ５２、結像レンズ５３お
よびラインセンサカメラ５４を一体化構造にしているの
で、支持アーム１ｃにコンパクトに支持でき、さらに装
置の小型化に寄与できる。また、装置本体１に支柱１ｂ
と支持アーム１ｃを一体に形成し、ライン照明ユニット
４と撮像光学系５を取付けているので、ライン照明ユニ
ット４と撮像光学系５を独立して設ける場合と比べ、ラ
イン照明ユニット４と撮像光学系５に対する振動の同期
が取れ、振動による撮像画像の乱れを最小限に抑制する
ことができる。また、重量物である撮像光学系５を支持
アーム１ｃの基部（支柱１ｂ）の上部に配置すること
で、振動の発生を抑制することができる。
【００３１】なお、上述した実施の形態では、撮像光学
系５に対してステージ３を一定速度で一方向に直線移動
させるようにしたが、ステージ３を固定して、撮像光学
系５を有する支持アーム１ｃを支柱１ｂとともに、一定
速度で一方向に直線移動させるようにしてもよい。
系５に対してステージ３を一定速度で一方向に直線移動
させるようにしたが、ステージ３を固定して、撮像光学
系５を有する支持アーム１ｃを支柱１ｂとともに、一定
速度で一方向に直線移動させるようにしてもよい。
【００３２】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、標本
の大型にともなって標本と撮像手段との距離が大きくな
っても、撮像光学手段の光路が占めるスペースを小さく
でき、装置の小型化を実現できる。
の大型にともなって標本と撮像手段との距離が大きくな
っても、撮像光学手段の光路が占めるスペースを小さく
でき、装置の小型化を実現できる。
【００３３】また、標本ごとに最適な欠陥像を得るため
のライン照明入射角度を簡単に設定できるので、良質な
画像の取込みができるとともに、取り扱い操作を簡単に
できる。
のライン照明入射角度を簡単に設定できるので、良質な
画像の取込みができるとともに、取り扱い操作を簡単に
できる。
【００３４】さらに、撮像光学手段をコンパクトに支持
できるので、装置の小型化に寄与できる。
できるので、装置の小型化に寄与できる。
【図１】本発明の一実施の形態の概略構成を示す図。
１…装置本体 １ａ…ベース １ｂ…支柱 １ｃ…支持アーム ２…被検査基板 ３…ステージ ４…ライン照明ユニット ５…撮像光学系 ５１…ミラー ５２…干渉フィルタ ５３…結像レンズ ５４…ラインセンサカメラ
Claims (3)
- 【請求項１】 標本を載置するステージと、 このステージと相対的に移動可能に設けられ、前記被検
査基板の相対移動方向と直交する方向のライン照明を、
該被検査基板面の相対移動方向に対して所定の入射角度
で照射させるライン照明手段と、 少なくとも反射部材と撮像手段を有し、前記ライン照明
手段のライン照明の照射領域からの反射光を一定の反射
角度で取り込むとともに、該反射光を前記反射部材で偏
向させ、前記撮像手段で撮像する撮像光学手段とを具備
したことを特徴とする画像取込み装置。 - 【請求項２】 ライン照明手段は、被検査基板面に対す
るライン照明の入射角度を可変可能にしたことを特徴と
する請求項１記載の画像取込み装置。 - 【請求項３】撮像光学手段は、前記ステージと対峙しほ
ぼ平行に配置したことを特徴とする請求項１記載の画像
取込み装置。
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP07172399A JP4331306B2 (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 画像取込み装置 |
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