JP2001091474A - 欠陥検査システム - Google Patents
欠陥検査システムInfo
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Abstract
よい欠陥検査を可能にした欠陥検査システムを提供す
る。 【解決手段】 被検査体5を複数収納するキャリア3
3、キャリア33から取り出された被検査体5面を撮像
し欠陥を検出する欠陥検出部A、欠陥検出部Aにより欠
陥検出された被検査体5を目視観察する目視観察部Cお
よび顕微鏡観察する顕微鏡観察部Cを有し、これらキャ
リア33、欠陥検出部A、目視観察部Bおよび顕微鏡観
察部Cの間でロボット35により被検体5を搬送する。
Description
液晶ガラス基板等の表面の欠陥を検査する欠陥検査シス
テムに関するものである。
板の製造工程の途中には、シリコン又はガラス板から成
る基板上に成膜層を介してパターン化したレジストを設
けたものが形成される。
ィ・プロセスにおいて、基板表面に塗布したレジストに
膜ムラあるいは塵埃の付着などがあると、エッチング後
のパターンの線幅不良やパターン内のピンホール等とい
った欠陥の生じる原因となってしまう。
は欠陥の有無を全数検査することが通常行われており、
このような全数検査の方法としては、作業者が基板を目
視で観察する方法が多く行われている。
検査体表面の欠陥を自動検査するための欠陥検出装置が
開示されている。図6に示すように、照明用の光源及び
光学系を有する照明部101は、照明用の光源にハロゲ
ンランプと熱線吸収フィルタとコンデンサレンズとを内
部に備えたランプハウスを用い、また照明用の光学系に
はランプハウスからの光束を収束させる収光レンズとフ
ァイバ束とを用いている。
入射角θ0で照明光を照明するもので、照明部101と
被検査体105との間には光束を収束させるシリンドリ
カルレンズ103を配置している。また、照明部101
に対向した位置には撮像手段であるラインセンサカメラ
104を配置し、照明された被検査体105の直線状の
領域を結像するようにしている。そして、被検査体10
5の図示矢印方向の移動に同期してラインセンサカメラ
104で撮像された画像を画像取込み回路102に送り
込み、二次元画像を構築して図示していないホストコン
ピュータに送出するようにしている。また、ラインセン
サカメラ104は、被検査体105表面に対する角度を
変えることができる構造となっており、反射角θ1で被
検査体105表面を撮像できるようにもなっている。
撮像された反射角θ0’(=θ0)及びθ1に応じた被
検査体画像は、図示していないホストコンピュータの画
像処理によって膜厚ムラや塵埃などの欠陥が抽出され、
それらの結果から検査条件に含まれている合格基準と照
合して被検査体の良否が判定される。
欠陥検出装置を用いて欠陥検出を行なった場合も、欠陥
原因の早期解明を図るために、画像処理により検出され
た欠陥を目視や顕微鏡により再確認することが行なわれ
ている。つまり、欠陥の早期発見と原因の早期解明は、
基板などの不良率の低減を実現する上で欠かせないこと
であり、上述した欠陥検出装置での画像処理により欠陥
が発見された場合は、別の場所に設置された目視による
マクロ検査装置や顕微鏡を用いたミクロ検査装置に搬送
して欠陥発生原因究明のための観察が行なわれている。
ところが、欠陥検出装置、マクロ検査装置、ミクロ検査
装置が別体となり配置されているため、欠陥検出装置で
の被検査体画像の取込みの際は勿論、マクロ観察やミク
ロ観察の際に被検査体を各装置ごとに位置決めする必要
がある。この時、被検体の位置決めが正しく行なわれて
いないと、欠陥部の特定が難しくなるなど、マクロ観察
やミクロ観察に手間取っることとなり、欠陥検査全体に
多大な時間がかかってしまうとともに、作業者が各装置
間を移動しながらマクロ観察やミクロ観察を行なわなけ
ればならないため、作業能率の低下を招くという問題が
あった。また、欠陥検出装置、マクロ検査装置、ミクロ
検査装置が別体になっているので、各装置ごとに被検査
体を収納するカセットの設置スペースと搬送ロボットの
設置スペースが必要になる。設備コストの高価なクリー
ンルームでは、省スペース化が重要とされているが、こ
の要望を満すことができない。
ので、省スペース化を図り、かつ能率のよい欠陥検査を
可能にした欠陥検査システムを提供することを目的とす
る。
被検査体を複数収納する被検査体収納手段と、この被検
査体収納手段からの被検査体面を撮像手段で撮像し欠陥
を検出する欠陥検出手段と、この欠陥検出手段により欠
陥検出された被検査体を目視観察可能にする目視観察手
段と、前記欠陥検出手段により欠陥検出された被検査体
を顕微鏡観察可能にする顕微鏡観察手段と、これら被検
査体収納手段、欠陥検出手段、目視観察手段および顕微
鏡観察手段を同一ステーションに配置し、これらの各手
段の間で前記被検体を搬送する搬送手段とを具備したこ
とを特徴としている。
明において、さらに、前記搬送手段の搬送経路に配置さ
れ、前記被検体の位置や方向を検出する位置検出手段
と、この位置検出手段の検出出力に基づいて、少なくと
も前記欠陥検出手段に対する前記被検体の位置決めを行
なう制御手段とを具備したことを特徴としている。
明において、さらに前記撮像手段により撮像した被検査
体の特徴部分をあらかじめ記憶する特徴記憶手段と、前
記撮像手段により撮像した前記被検査体の画像と前記特
徴記憶手段に記憶された特徴部分を比較するとともに、
この比較結果に応じて前記被検査体の画像位置を補正す
る画像位置補正手段とを具備したことを特徴としてい
る。
で欠陥検出が行なわれると、搬送手段により速やかに目
視観察手段または顕微鏡観察手段に搬送され、欠陥部を
目視や顕微鏡により再確認することができるので、欠陥
発生原因の究明を手際よく行なうことができ、欠陥原因
の早期解明を図ることができる。
方向を検出し、この検出に基づいて搬送手段への搬送命
令が生成され、欠陥検出手段での受け取り位置に対し常
に被検査体を同じ方向で、同じ位置に置くことができる
ので、その後の目視観察手段または顕微鏡観察手段につ
いても、常に被検査体が同じ位置関係に置かれ、安定し
た観察を行うことができるとともに、目視観察手段また
は顕微鏡観察手段での位置決めも手際よく行なうことが
できる。
像した被検査体の特徴部分をあらかじめ記憶しておき、
この被検査体の特徴部分を用いて被検査体の画像位置を
補正するようにしたので、被検査体の搬送精度によって
生じる被検査体の位置ずれに原因する欠陥検出のファク
タである座標を特定の妨げを除去できる。
に従い説明する。
用される表面欠陥検査システムの欠陥撮像部の概略構成
を示している。図において、1は照明部で、この照明部
1は、照明用の光源及び光学系を有しており、照明用の
光源にはハロゲンランプと熱線吸収フィルタとコンデン
サレンズとを内部に備えたランプハウスを用い、また照
明用の光学系にはランプハウスからの光束を収束させる
収光レンズとファイバ束とを用いている。
0で照明光を照明するもので、被検査体5との間には光
束を収束させるシリンドリカルレンズ3及びスリット6
を配置している。この場合、照明部1、シリンドリカル
レンズ3及びスリット6は、一体に構成され、被検査体
5表面に対する角度を任意に変えることができる構造に
なっており、入射角θ1で被検査体5表面を照明可能に
している。
タ7を介して撮像手段であるラインセンサカメラ4を配
置し、照明された被検査体5の直線状の領域を結像する
ようにしている。そして、1軸ステージ36の図示矢印
方向の移動に同期してラインセンサカメラ4で撮像され
た画像がメインコンピュータ12の画像取込み回路2に
送られる。フィルタ7は、照明光の波長帯域を制限して
干渉像を得るための狭帯域フィルタからなるもので、ラ
インセンサカメラ4の前方に配置されるとともに、光学
経路に対し挿抜できるようになっている。
は、外来光の影響を受けないように図示しない暗箱状の
筐体に収容されるとともに、被検査体へのパーティクル
付着を防止するため上部から空気清浄用のフィルタを通
してダウンフローが流れるようになっている。
た画像を処理するメインコンピュータ12と、その周辺
の各種ユニットを示すものである。
インセンサカメラ4で撮像された1ラインのデータを画
像取り込み回路2で垂直につなぎ合わせることにより、
被検査体全体を1枚の二次元画像として取り込むように
している。
接続し、この画像記憶部8には、欠陥抽出アルゴリズム
40及び41を接続している。画像記憶部8は画像取り
込み回路2で作成された複数の画像を記憶するもので、
任意の画像を読み書きできるようになっている。
のアルゴリズムを有するもので、上述した照明部1の被
検査体5に対する入射角θ0、θ1及びフィルタ7の挿
抜とを組み合わせた異なる画像データを並行処理できる
ようにしている。
41は、それぞれ画像ムラ除去部11、特徴部分抽出部
17、画像位置補正部20、欠陥抽出部24、欠陥座標
抽出部28を有し、画像記憶部8からの画像データを受
け取り、この画像中から欠陥を抽出するようになってい
る。
画像ムラ記憶部16に記憶された画像ムラのデータを用
いて画像記憶部8から読み込んだ画像の内のムラを除去
し被検査体からのみ反射される本来の画像に修正する。
部21に記憶された画像と画像ムラ除去部11で修正さ
れた画像と部分比較を行い、画像中の被検査体の複数部
分の座標が上下若しくは回転方向にズレを生じていない
かを検出する。
7によって検出されたズレを補正するため被検査体画像
をXY方向若しくは回転方向に移動させる画像処理を行
う。これにより、被検査体は常に画像データの同じ座標
上に表示されることになる。
処理された画像から、被検査体固有の画像である被検査
体外形画像や特定パターン画像等を除去し、欠陥部分を
抽出する。
より抽出された欠陥の座標、大きさ、濃淡等の特徴を検
出する。そして、この情報は、後述する駆動制御部13
に伝えられるようになっている。
ラ除去部11の間には、画像ムラ記憶部16を、特徴部
分抽出部17の間には、特徴記憶部21を、欠陥抽出部
24には、画像記憶部240を接続している。
場合、若しくは理想的な鏡面の被検査体5を撮像した時
のラインセンサカメラ4のデータを記憶させるもので、
照明部1の照明ムラやラインセンサカメラ4での撮像素
子の特性のバラツキなどに原因する画像ムラのデータを
画素毎に保存している。特徴記憶部21は、画像の一部
分を記憶させるもので、特定範囲の画像を読み書き可能
にしている。この部分には被検査体5の座標を特定する
ような複数の特徴部分の画像及びその座標を記憶してい
る。画像記憶部240は、理想とする被検査体5の画像
を記憶している。
および41により抽出された欠陥情報は、欠陥判定部3
2に送られ、欠陥辞書31に蓄えられたデータを用いて
欠陥の種類の特定及びその欠陥が被検査体5に存在する
か否かを判断するとともに、被検査体5を生産ラインの
下流に流して良いか否かの判定結果として表示器29に
表示するようにしている。表示器29は、上述の画像位
置補正部20によって修正された画像と、その上に色な
どをつけて欠陥の位置とその座標および判定の結果など
を表示する。
検査体5を移動するための制御や上述の光学系の各種駆
動部を制御する駆動制御部13を備えている。この場
合、駆動制御部13には、フィルタ7の挿抜を駆動する
フィルタ駆動部10、被検査体5の載置した1軸ステー
ジ36を駆動するステージ駆動部15、照明部1の被検
査体5に対する角度を駆動する照明角度駆動部18の他
に、後述する試料搬送駆動部22、試料方向合わせ検出
部25、顕微鏡ステージ駆動部26、マクロ観察駆動部
30などを接続している。
ける被検査体5の搬送工程を示す図で、この搬送工程
は、メインコンピュータ12によって制御されている。
被検査体5はキャリア(枠は省略して示す)33に複数
枚装填されていて、図2に示す駆動制御部13からの指
令により試料搬送駆動部22によってキャリア33から
特定の被検査体5を取り出し、後述する各ステージ等に
被検査体5を搬送する。また、各ステージで検査が終了
した後、被検査体5をキャリア33へ戻すことができる
ようになっている。
ジ36を有しており、搬送ロボット35がキャリア33
からの被検査体5を一軸ステージ36上に搬送すると、
図2の駆動制御部13からの指令でステージ駆動部15
によって一軸に被検査体5を移動させながらラインセン
サカメラ4によって被検査体5を撮像し欠陥検出を行う
ようにしている。
動ステージ38を有しており、揺動ステージ38上に搬
送された被検査体5面を作業者が見ながら、自由にその
角度を変えられるようになっている。また、この揺動ス
テージ38の上部にはマクロ照明装置42が設けられ、
このマクロ照明装置42によって被検査体5を照らしな
がら作業者が目視で被検査体5の傷や埃や欠陥をマクロ
観察できるようにしている。この揺動ステージ38は図
2の駆動制御部13からの指令によりマクロ観察駆動部
30によって制御される。
しており、この二軸ステージ39の上部には、欠陥検出
部Aや目視観察部Bで抽出された欠陥原因を解析するた
めの顕微鏡37(図では、対物レンズのみを示す。)を
設置している。そして、二軸ステージ39によって被検
査体5を2次元方向に移動させて検査部位(指定した欠
陥)を顕微鏡37の光学系の位置に合わせることによ
り、被検査体5の任意の位置を拡大して作業者がミクロ
観察することができる。この二軸ステージ39は図2の
駆動制御部13からの指令により顕微鏡ステージ駆動部
26によって制御される。
ましくは欠陥検出部A、目視検出部B、顕微鏡観察部C
の各搬入路上には位置センサ34を配置する。この位置
センサ34は、ロボット35が被検査体5を搬送する途
中で、被検査体5の位置や方向により基準位置に対する
ずれ量を検出できるようにしている。そして、この位置
センサ34からの情報は、図2の試料方向合わせ検出部
25から駆動制御部13に伝えられ、試料搬送駆動部2
2を通してロボット35を制御するようにしている。こ
れによって被検査体5が載置されるステージまでの移動
量および被検査体5のずれ量を調整し、常に被検査体5
が各ステージの基準位置に置くように制御している。
れる一軸ステージ36、揺動ステージ38、二軸ステー
ジ39には、常に被検査体5が同じ位置関係に置かれる
こととなり、安定した観察を行うことができる。
作について説明する。
査体5は人の手或いは生産ラインの搬送装置により、図
3に示すキャリア33に複数枚装填されて本システムに
設置される。その後、人の手或いは生産ラインの搬送装
置からの信号によって図2の操作入力部43に検査開始
が入力されることにより、本システムが動作を開始す
る。
れると、駆動制御部13によって試料搬送駆動部22に
被検査体の移動命令が出され、図3のロボット35はキ
ャリア33から特定の被検査体5を取り出し位置センサ
34の下に被検査体5が来るように移動する。
向を検出し、図2の試料方向合わせ検出部25を通して
駆動制御部13に伝えられる。駆動制御部13では現在
の被検査体5の位置から次に移動させる欠陥検出部Aの
一軸ステージ36までの距離と基準位置とのずれ量を計
算し、図2の試料搬送駆動部22に移動命令を出力す
る。これによりロボット35は、被検査体5のずれを補
正し、一軸ステージ36の受け取り位置に対し常に被検
査体を同じ方向で且つ同じ位置に置くことができる。
れると、図2の駆動制御部13はステージ駆動部15に
命令を出し、被検査体5を載置した一軸ステージ36を
一軸に移動する。被検査体5が一軸に移動していくと図
1の照明部1及びシリンドリカルレンズ3によって収束
された光によって入射角θ0の角度で照明される。
分から反射した光束は、その光学系に挿入された狭帯域
フィルタ7によって光線の特定の波長のみがラインセン
サカメラ4に結像する。この時、被検査体5の表面に膜
厚の変化などがある場合は狭帯域フィルタ7を通過する
波長同士の干渉が発生しており、膜厚変化を光量変化と
して検出する事ができる。
に変換し、1ライン毎、画像取り込み回路2に伝える。
画像取り込み回路2では被検査体が移動するのに応じて
各ラインの電気信号をデータに変換し二次元の画像デー
タを構築する。こうして被検査体全体の画像データを構
築した後、そのデータを画像記憶部8に記憶する。
動部10に命令を出し、図1の狭帯域フィルタ7を光学
系から抜き取るとともに、図2の照明角度駆動部18に
命令を出し、図1の照明部1を被検査体に入射角θ1の
角度で照明するようにその角度を変更する。
駆動部15に命令を出し、図1の被検査体5を逆方向に
一軸に移動する。すると先ほどと同じ様に被検査体5は
照明されるが、照明部1から出た光束の内、入射角θ0
の光束はスリット6によって遮られ入射角θ1の角度で
入射する光だけが被検査体5に当たる様になる。この
時、ラインセンサカメラ4はやはり被検査体5に対し角
度θ0の位置に配置されているため、被検査体5に全く
凹凸が無く正反射された光束はラインセンサカメラ4に
は結像しないことになる。しかし、被検査体5に傷や埃
や欠陥又はパターンなどが有った場合は入射角θ1の角
度で入射する光束の中に反射角θ0’(=θ0)となる
光束が発生するためラインセンサカメラ4に像を結ぶこ
とになる。ラインセンサカメラ4に入射した光は画像取
り込み回路2によって被検査体5全体の二次元画像デー
タを構築した後、その画像データを図2の画像記憶部8
に記憶する。
タは欠陥抽出アルゴリズム40及び41によって画像処
理される。
には、照明部1の照明ムラやラインセンサカメラ4での
撮像素子の特性のバラツキなどに原因する画像ムラ情報
が記憶され、特徴記憶部21には、被検査体5の特徴が
記憶され、さらに画像記憶部240には、理想とする被
検査体5の画像が記憶されるが、これら画像ムラや特徴
の設定などは、以下の方法により行なわれる。
しくは全面が均一な反射率のサンプルを入射角θ0の照
明系の下でラインセンサカメラ4により撮像し、画像記
憶部8に記憶する。この場合、本来であれば全面が均一
な反射率をもつ物を撮像したため二次元の画像データも
全面が均一のはずであるが、照明のムラや撮像系の特性
のバラツキにより縦縞が発生するので、このような縦縞
のうち、最も輝度の低い画素を“0”とした一次元のデ
ータを画像ムラ情報として画像ムラ記憶部16に記憶す
る。この処理は図示していない画像処理アルゴリズムで
行う。
もつサンプルを入手することは、困難であり、且つその
状態で保管することも難しい。そこで、現実には、ライ
ンセンサカメラ4により撮像された二次元の画像の縦方
向の各ラインについて画素の輝度の平均値を求め、この
うち最も小さい値を”0”とした一次元のデータを作成
し、このデータを画像ムラ情報として画像ムラ記憶部1
6に記憶するようにしても、微小な汚れや埃などがあっ
てもその影響を無視することができる。
0の光学系で撮像した画像、及び狭帯域フィルタ7を光
学系から抜き取り入射角θ1で撮像した画像を画像記憶
部8に記憶する。そして、これら2枚の画像から、それ
ぞれ被検査体5の方向や位置を特定するのに適した特徴
部分を作業者が指定し、その特徴画像を特徴記憶部21
に記憶させる。この場合、特徴部分とは、例えば四角形
の被検査体5の四隅の画像や被検査体5に付された認識
マーク及び半導体ウェーハのノッチやオリフラといった
部分である。入射角θ0及びθ1の画像各々について複
数の位置にある特徴画像を記憶させることで、より画像
座標の位置決め精度を向上させることもできる。
良品の被検査体5の画像を複数記憶している。
16、特徴記憶部21および画像記憶部240にデータ
が設定されている事を前提にした欠陥抽出アルゴリズム
の動作について説明する。
角θ0及びθ1の画像は、それぞれ欠陥抽出アルゴリズ
ム40及び41によって並列に処理される。欠陥抽出ア
ルゴリズム41に渡された画像データは先ず、画像ムラ
除去部11により、画像ムラ記憶部16のデータを画像
全面にわたって加算する事により照明や光学系のムラを
除去する。次に特徴部分抽出部17によりあらかじめ作
業者によって指定された部分の画像と特徴記憶部21に
記憶された画像とを比較し、被検査体の画像中の座標が
上下或いは回転方向にズレていないかを検出する。ズレ
が生じていた場合は次の画像位置補正部20によりズレ
を補正する。こうして補正されたデータは、表示器29
に表示され作業者が被検査体の画像を観察することがで
きる。
正された画像は欠陥抽出部24に送られ、画像記憶部2
40に記憶された理想とする良品の被検査体5の画像と
比較し、被検査体固有の画像である被検査体外形画像、
露光範囲の外形画像や特定パターン画像等を除去し、欠
陥部分のみを抽出する。
された欠陥の画像中の座標を抽出し、その座標データを
駆動制御部13に送る。
どのデータは欠陥判定部32に送られる。同様にして欠
陥抽出アルゴリズム40においても、異なる画像から欠
陥抽出を行い、欠陥判定部32に送られる。
ルゴリズムから送られた濃淡や大きさや座標などのデー
タから、あらかじめ蓄えられた欠陥の情報を欠陥辞書3
1から読み込んで比較し、その欠陥の種類や名前を付け
ると共に、被検査体を生産ラインの下流に流して良いか
否かの判定を行い、表示器29に表示する。表示器29
には上述の画像位置補正部20によって修正された画像
とその上に色などをつけて欠陥の位置とその座標、及び
判定の結果などを表示する。
2の駆動制御部13は試料搬送駆動部22に命令を出
し、図3に示すようにロボット35によって、欠陥検出
部Aの一軸ステージ36から被検査体をとり除き、次の
目視観察部Bの揺動ステージ38に被検査体5を搬送す
る。
と、マクロ照明装置42によって被検査体は全面照明さ
れ作業者が被検査体5を目視によりマクロ観察する事が
できる。この時、図2の駆動制御部13は操作入力部4
3の入力待ちとなる。この状態で作業者が操作入力部4
3を操作すると駆動制御部13はマクロ観察駆動部30
に命令を出し、図3の矢印で示すように揺動ステージ3
8を制御し、被検査体5を前後左右方向に揺動させ作業
者の見やすい角度に被検査体5を移動することができ
る。これによって作業者は欠陥が見やすい角度に被検査
体5を設定した状態で、欠陥をマクロ観察する事ができ
る。この目視観察によって、新たに欠陥の種類や名前を
登録したい場合も操作入力部43を操作することで図2
の欠陥辞書31に登録する事ができる。
合若しくはあらかじめ設定された時間が経過した場合
は、図2の駆動制御部13は試料搬送駆動部22に命令
を出しロボット35によって目視観察部Bの揺動ステー
ジ38から被検査体5をとり除き、次の顕微鏡観察部C
の二軸ステージ39に搬送する。
査体5が置かれると、図2の駆動制御部13は顕微鏡ス
テージ駆動部26に命令を出し、二軸ステージ39によ
り、図2の欠陥座標抽出部28によって抽出された欠陥
の座標に顕微鏡37の光学系がくるように被検査体5を
移動する。すると、顕微鏡37によって被検査体5の一
部が拡大され作業者が被検査体5の欠陥部を接眼鏡筒に
より目視もしくは顕微鏡37のCCDカメラで撮像され
た欠陥画像を表示器9に表示させてミクロ観察する事が
できる。この時、図2の駆動制御部13は操作入力部4
3の入力待ちとなる。この状態で作業者が操作入力部4
3を操作すると駆動制御部13は顕微鏡ステージ駆動部
26に命令を出し、二軸ステージ39をXY方向に移動
させ作業者の見やすい位置に被検査体5を移動すること
ができる。これによって作業者は欠陥が見やすい位置に
被検査体5を設定する事ができ、接眼鏡筒またはCCD
カメラによって取込まれた欠陥画像を表示器29で表示
して欠陥を更に詳しく観察する事ができる。このミクロ
観察によって、新たに欠陥の種類や名前を登録したい場
合も操作入力部43を操作することで図2の欠陥辞書3
1に登録する事ができる。
合若しくはあらかじめ設定された時間が経過した場合
は、図2の駆動制御部13は試料搬送駆動部22に命令
を出し、ロボット35によって二軸ステージ39から被
検査体5をとり除き、キャリア33に被検査体を収納す
る。またキャリア33にまだ検査が完了していない被検
査体5が有る場合は、これらを搬送し次の被検査体の検
査を始める。こうしてキャリア33に収納されている被
検査体全ての検査を完了すると一連の作業を終了し、次
のキャリア33が搭載されるまで待機する。
での撮像により欠陥検出が行なわれると、ロボット35
により、速やかに目視観察部Bまたは顕微鏡観察部Cに
搬送され、同一ステーション上で欠陥部を目視や顕微鏡
により再確認することができるので、欠陥発生原因の究
明を手際よく行なうことができ、欠陥原因の早期解明を
図ることができる。しかも、欠陥検出部A、目視観察部
Bおよび顕微鏡観察部Cを同一ステーションに配置する
ことで、カセットとロボットを共用できるので、欠陥検
査システムを従来の別体タイプと比べて非常にコンパク
ト化でき、効果なクリーンルーム内での省スペース化を
容易に図ることができるとともに、カセットとロポット
で構成されるオートローダ1つで済むのでシステム全体
のコストダウンを図ることができる。
定の被検査体5を取り出すと、位置センサ34により被
検査体5の位置や方向により基準位置に対応するずれ量
を検出し、この検出に基づいてロボット35の搬送命令
が生成され、欠陥検出部Aでの受け取り位置に対し常に
被検査体を同じ方向で且つ同じ位置に置くことができる
ので、この位置決めを基準とすれば、その後の目視観察
部Bまたは顕微鏡観察部Cについても、常に被検査体5
が同じ位置関係に置かれることとなり、安定した観察を
行うことができるとともに、目視観察部Bまたは顕微鏡
観察部Cでの位置決めも手際よく行なうことができ、欠
陥検査に要する時間を短縮でき、作業能率の向上を期待
できる。
た被検査体5の特徴部分をあらかじめ特徴記憶部21に
記憶しておき、この特徴情報を用いてラインセンサカメ
ラ4により撮像した被検査体5の画像位置を補正するよ
うにしたので、被検査体の搬送精度によって生じる被検
査体の位置ずれに原因する欠陥検出のファクタである座
標を特定の妨げを除去でき、精度の高い欠陥検査を実現
できる。
一例であって、例えば、図4乃至図6に示すように構成
したものを採用することもできる。
する顕微鏡観察部Cに一体に設けたもので、ロボット3
5によりキャリア33から取り出した被検査体5を、ま
ず、欠陥検出部Aに搬送し、顕微鏡観察部Cのステージ
移動により被検査体5を移動させながらラインセンサカ
メラ4によって撮像し欠陥検出を行い、続けて顕微鏡観
察部Cにおいて、被検査体5を顕微鏡37の光学系の位
置に合わせして任意の位置を拡大したミクロ観察を行な
うようにしている。また、ロボット35により被検査体
5を目視観察部Bに搬送して照明の下で被検査体5を揺
動させ、観察面の角度を任意に変えながら傷や埃などの
欠陥のマクロ観察を行なうようにしている。
5を一体に構成たもので、ロボット35によりキャリア
33から取り出し、被検査体5を搬送させながらライン
センサカメラ4により被検査体5を撮像して欠陥検出を
行い、欠陥検査が終了したところで、被検査体5を目視
観察部Bに搬送し、照明の下で被検査体5を回動させ、
観察面の角度を任意に変えながら傷や埃などの欠陥のマ
クロ観察を行ない、その後、ロボット35により被検査
体5を顕微鏡観察部Cに搬送して被検査体5を顕微鏡3
7の光学系の位置に合わせし任意の位置を拡大したミク
ロ観察を行なうようにしている。
ペース化を図り、かつ能率のよい欠陥検査を可能にした
欠陥検査システムを提供できる。
の概略構成を示す図。
ュータとその周辺の各種ユニットを示す図。
送工程を示す図。
検査体の搬送工程を示す図。
れる被検査体の搬送工程を示す図。
を示す図。
Claims (3)
- 【請求項1】 被検査体を複数収納する被検査体収納手
段と、 この被検査体収納手段からの被検査体面を撮像手段で撮
像し欠陥を検出する欠陥検出手段と、 この欠陥検出手段により欠陥検出された被検査体を目視
観察可能にする目視観察手段と、 前記欠陥検出手段により欠陥検出された被検査体を顕微
鏡観察可能にする顕微鏡観察手段と、 これら被検査体収納手段、欠陥検出手段、目視観察手段
および顕微鏡観察手段を同一ステーションに配置し、こ
れらの各手段の間で前記被検体を搬送する搬送手段とを
具備したことを特徴とする欠陥検査システム。 - 【請求項2】 さらに、前記搬送手段の搬送経路に配置
され、前記被検体の位置や方向を検出する位置検出手段
と、 この位置検出手段の検出出力に基づいて、少なくとも前
記欠陥検出手段に対する前記被検体の位置決めを行なう
制御手段とを具備したことを特徴とする請求項1記載の
欠陥検査システム。 - 【請求項3】 さらに前記撮像手段により撮像した被検
査体の特徴部分をあらかじめ記憶する特徴記憶手段と、 前記撮像手段により撮像した前記被検査体の画像と前記
特徴記憶手段に記憶された特徴部分を比較するととも
に、この比較結果に応じて前記被検査体の画像位置を補
正する画像位置補正手段とを具備したことを特徴とする
請求項1記載の欠陥検査システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26875399A JP2001091474A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 欠陥検査システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26875399A JP2001091474A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 欠陥検査システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001091474A true JP2001091474A (ja) | 2001-04-06 |
JP2001091474A5 JP2001091474A5 (ja) | 2006-11-09 |
Family
ID=17462863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26875399A Pending JP2001091474A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 欠陥検査システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001091474A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004258035A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Leica Microsystems Jena Gmbh | 薄層測定装置及び方法 |
JP2005218379A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Olympus Corp | 培養細胞の状態計測方法及び計測装置 |
JP2007107945A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
JP2008224371A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Micronics Japan Co Ltd | インライン自動検査装置及びインライン自動検査システム |
KR101529260B1 (ko) * | 2013-11-29 | 2015-06-29 | (주) 루켄테크놀러지스 | 자동 셀 검사 장치 |
-
1999
- 1999-09-22 JP JP26875399A patent/JP2001091474A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004258035A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Leica Microsystems Jena Gmbh | 薄層測定装置及び方法 |
JP2005218379A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Olympus Corp | 培養細胞の状態計測方法及び計測装置 |
JP4689171B2 (ja) * | 2004-02-06 | 2011-05-25 | オリンパス株式会社 | 培養細胞の状態計測方法及び計測装置 |
JP2007107945A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
KR101305262B1 (ko) * | 2005-10-12 | 2013-09-09 | 올림푸스 가부시키가이샤 | 기판 검사 장치 |
JP2008224371A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Micronics Japan Co Ltd | インライン自動検査装置及びインライン自動検査システム |
KR101529260B1 (ko) * | 2013-11-29 | 2015-06-29 | (주) 루켄테크놀러지스 | 자동 셀 검사 장치 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060921 |
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