JPH0254153A - ウェーハ外観検査装置 - Google Patents

ウェーハ外観検査装置

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Publication number
JPH0254153A
JPH0254153A JP63205355A JP20535588A JPH0254153A JP H0254153 A JPH0254153 A JP H0254153A JP 63205355 A JP63205355 A JP 63205355A JP 20535588 A JP20535588 A JP 20535588A JP H0254153 A JPH0254153 A JP H0254153A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
chuck
cassette
wafers
rotating shaft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63205355A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Ueda
裕二 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP63205355A priority Critical patent/JPH0254153A/ja
Publication of JPH0254153A publication Critical patent/JPH0254153A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェーハの外観検査に用いられるウェー
ハ外観検査装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、この半導体ウェーハの外観検査、特に、ウェーハ
表面の欠陥があるか否かを検査する場合は、通常、ウェ
ーハを収納するカセットから一枚ずつピンセットで取り
出し、目視でウェーハの表面を検査を行なっていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上述の方法では、ウェーハをカセットよ
り取り出すときや、ウェーハをカセットに収納するとき
に、ウェーハの表面を傷を付けたり、または、ウェーハ
を落したりしてウェーハを割るという問題が起きる。特
に、最近のウェーハは大口径化し、その直径が200m
mのものがあり、その重量もかなり重くなっている。こ
のため、ウェーハの取り扱いが益々難しくなり、ウェー
ハの表面に傷を付けたり、ウェーハを割る確率が高くな
るという問題がある。
本発明の目的は、ウェーハの表面に傷を付けることがな
いとともにウェーハを割ることのないつェーハ外観検査
装置を提供するこにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のウェーハ外観検査装置は、−主面に多数の穴を
有するとともに6他面に前記多数の穴と通する排気孔を
もちウェーハを載置する平板状のチャックと、前記チャ
ックを任意に傾斜させて固定する支持板と、前記支持板
に連結され前記チャックを回転するとともに上下駆動す
る回転軸と、前記チャックの前記排気孔と排気装置とを
連結する可撓性のある排気管と、前記チャックに前記ウ
ェーハを載置する機構部とを備え構成される。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示すウェーハ外観装置の側
面図、第2図は第1図に示す回転軸を含めたチャックを
部分拡大した部分断面図である。
このウェーハ外観検査装置は、ウェーハ1が載置される
表面に多数の穴が設けられた板状の部材でなるチャック
2と、このチャック2を固定保持している支持板4a及
び4bがある。この支持板4a及び4bは、回転軸3の
一端に設けられたフランジ部18にある固定用のビン1
4とボルト及びナツトでなるクランプ6により取り付け
られている。また、回転軸3の他端には、チャック1を
この回転軸3を介して回転させる駆動機構部(図示せず
)と、この回転軸3を矢印14の方向、すなわち上下方
向に昇降させる機構部(図示せず)が取り付けられてい
る。
ここで、チャック2に取り付けられた支持板4bにはめ
込まれた固定用のビンを中心にして、回転軸3のフラン
ジ部18に取り付けられたボルトが支持板4aの満5に
沿って摺動させることが出来るので、チャック1を任意
の角度に傾斜させてクランプ6により固定出来るように
なっている。
なお、この傾斜角度は平面に対して、例えば、8〜30
°程度傾斜出来るようになっている。また、チャック1
の裏面には、表面の多数の穴と連なるニップル16が設
けられており、このニップル16の先にフレキシブルな
ホース15が継なげられている。このフレキシブルなホ
ースの他端には排気装置(図示せず)が接続されている
。勿論、このホースの途中には、公知であるチャックの
回転に伴なうホース15の捩じれ防、止機構(図示せず
)が取り付けられている。一方、このウェーハを載置し
回転させるチャック機構部を取り囲むように、一対のベ
ルト17とプーリー7とでなるベルトコンベアが配置さ
れ、更に、その前段には、エレベータ9に乗せられたウ
ェーハ1を収納するカセッ1−8及びウェーハ1を押し
出すブツシャ−10とが配置されている。
次に、ウェーハ外観検査装置の動作を説明する。
第1図で示すように、まず、エレベータ9が矢印12の
方向に−ステップ上昇する。次に、プッシャー10が前
進しカセットの棚11に載置されたウェーハ1の側面を
押し、ウェーハ1をベルト17に移載する。次に、ブリ
ーフの回転によりベルト17が矢印の方向に走行してウ
ェーハ1を所定の位置に送り、そしてウェーハ1を停止
し位置決めする。
引続き、チャックを含めた機構部の動作を説明する。第
1図ではチャック2は上昇した位置にあるが、前述まで
の動作では、チャック2の表面はまだベルト17の送り
面より下に位置している。
まず、チャック2が上昇し、チャック2の表面にウェー
ハ1を乗せるとともに排気装置を働かせて吸着する。次
に、あらかじめ所定の傾斜角度に設定されたチャック2
をゆっくり、例えばに、0゜2〜2rpm程度の範囲で
回転数で回転し、ウェーハ1の表面を目3で観察しウェ
ーハ1の表面に欠陥があるか否かをチエツクする 検査終了したら、チャック2は再び下降し、ウェーハ1
をベルト17の上に乗せ、別のハンドラー(図示せず)
により良品のウェーハは良品のウェーハ収納するカセッ
トに、不良品は不良品を収納するカセットに移載する。
このような動作を繰返して前述のカセット8に収納され
た全数のウェーハ1の検査を完了する。
また、この実施例では、ウェーハを載置する機構を、ベ
ルトコン−ベアとエレベータに乗せたカセットとの組み
合せた機構で説明したが、他の公知であるウェーハ1を
チャック2に載置するハンドラーを用いてもよい。
この装置を使用した結果、従来のビンセットでウェーハ
1を掴んでウェーハの外観検査を行なっていたときのウ
ェーハの損傷数を比べると、はとんど皆無に近かった。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、直接ウェーハをビンセッ
トで掴んで外観検査を行なうことがなくなったので、ウ
ェーハの表面に傷を付けることがないとともにウェーハ
を割ることのなくウェーハの外観検査が出来るようにな
った。従って、本発明によれば、ウェーハの表面に傷を
生じさせたり、ウェーハを割ることのないウェーハ外観
検査装置が得られるという効果がある。
る。
■・・・ウェーハ、2・・・チャック、3・・・回転軸
、4a、4b・・・支持板、5・・・溝、6・・・クラ
ンプ、7・・・プーリー、8・・・カセッ!・、9・・
・エレベータ、1゜・・・プッシャー 11・・・棚、
12.13.14・・・矢印、15・・・ホース、16
・・・ニップル、17・・・ベルト、18・・・フラン
ジ部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一主面に多数の穴を有するとともに他面に前記多数の穴
    と通する排気孔をもちウェーハを載置する平板状のチャ
    ックと、前記チャックを任意に傾斜させて固定する支持
    板と、前記支持板に連結され前記チャックを回転すると
    ともに上下駆動する回転軸と、前記チャックの前記排気
    孔と排気装置とを連結する可撓性のある排気管と、前記
    チャックに前記ウェーハを載置する機構部とを備えたこ
    とを特徴とするウェーハ外観検査装置。
JP63205355A 1988-08-17 1988-08-17 ウェーハ外観検査装置 Pending JPH0254153A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63205355A JPH0254153A (ja) 1988-08-17 1988-08-17 ウェーハ外観検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63205355A JPH0254153A (ja) 1988-08-17 1988-08-17 ウェーハ外観検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0254153A true JPH0254153A (ja) 1990-02-23

Family

ID=16505495

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63205355A Pending JPH0254153A (ja) 1988-08-17 1988-08-17 ウェーハ外観検査装置

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JP (1) JPH0254153A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61179549A (ja) * 1985-02-04 1986-08-12 Olympus Optical Co Ltd ウエハ検査顕微鏡装置
JPS62205637A (ja) * 1986-03-05 1987-09-10 Nippon Maikuronikusu:Kk 半導体ウエハプロ−バ
JPS62247233A (ja) * 1986-04-21 1987-10-28 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 面板回転機構

Patent Citations (3)

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JPS62205637A (ja) * 1986-03-05 1987-09-10 Nippon Maikuronikusu:Kk 半導体ウエハプロ−バ
JPS62247233A (ja) * 1986-04-21 1987-10-28 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 面板回転機構

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